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Description

光罩護膜框體、光罩護膜及光罩護膜框體的使用方法

本發明係有關於一種光罩護膜的構成部件即框體，用於防止LSI(Large Scale Integration，大型積體電路)、構成液晶顯示器(LCD，Liquid Crystal Display)之薄膜電晶體(TFT，Thin Film Transistor)或彩色濾光器(CF，Color Filter)等製造時之微影步驟中所使用之光罩或標線片(reticle)上附著異物，且，本發明尤其關於一種長邊長度超過1400mm之超大型光罩護膜之構成部件即光罩護膜框體、使用光罩護膜框體之光罩護膜及光罩護膜框體之使用方法。

本發明係關於光罩護膜之構成部件即框體及光罩護膜之技術，首先對光罩護膜進行進行說明。

先前以來，半導體電路圖案等之製造中，一般使用被稱作光罩護膜之防塵機構，來防止異物附著於光罩或標線片。光罩護膜，係於例如具有與光罩或者標線片之形狀一致之形狀的厚度為數毫米左右之框體的上面，展開黏著厚度為10μm以下之硝化纖維素或者纖維素衍生物或氟化聚合物等之透明高分子膜(以下稱作光罩護膜)，且於該框體之下面塗敷黏附材，而且以特定之黏著力將保護膜黏附於該黏附材上。

上述黏附材係用於使光罩護膜固著於光罩或者標線片者，又，保護膜係於該黏附材用於上述用途期間，保護該黏附材之黏著面，以維持該黏附材之黏著力者。

一般而言，如此之光罩護膜係由製造光罩護膜之廠商提供給製造光罩或者標線片之廠商，且於光罩護膜黏附於光罩或者標線片之後，再提供給半導體廠商、面板廠商等實施微影處理之廠商。

近年來，隨著各種多媒體之普及，而需要能夠高畫質/高精細顯示之大型彩色TFTLCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜電晶體液晶顯示器)。隨之，需要能適用於光微影步驟中使用之大型光罩或標線片的大型光罩護膜。

作為能適用於大型TFTLCD(薄膜電晶體液晶顯示器)等之光微影步驟中所使用之大型光罩或標線片的光罩護膜之框體，一般而言係具有長邊及短邊之矩形者。若對該框體貼附光罩護膜，則有時會因該光罩護膜之張力而使框體之邊向內側產生變形，且因該變形而導致光罩或標線片之有效曝光區域變小，且隨著光罩護膜之展開面積變大(光罩護膜變大)，該現象會變得顯著。對於上述現象，可藉由於儘可能地維持光罩護膜之框體之內側之面積(以下稱作有效面積)的狀態下提高光罩護膜框體之剛性而解決(例如，參照專利文獻1)。

[先行技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2001-109135號公報

然而，近年來，隨著大型化進一步發展，產生了新問題。

上述新問題係指近年來大型化之進一步發展要求光罩或標線片(以下簡稱為光罩)自身亦大型化，目前為止光罩之大型化中尚無問題的光罩會因自身進一步大型化而引起光罩自身因自重導致彎曲。

亦即，存在如下問題：由於光罩護膜係於密著於光罩上之狀態下使用，故而，當光罩護膜無法追隨光罩彎曲時，光罩與光罩護膜之貼附面將會剝離，導致其間產生空氣路徑，故無法獲得光罩護膜之使用效果。尤其是，黏附於光罩等後之光罩護膜多數情況下係於作業步驟中握持光罩之短邊側對每個光罩護膜進行操作，故而，要求光罩護膜之框體能追隨長邊側之光罩等之彎曲。

如上所述，於目前為止之光罩護膜之大型化中，對於不使光罩護膜自身彎曲之課題而言，係以提高光罩護膜之剛性來作為解決對策，但光罩護膜之進一步大型化(超大型化)不僅要求光罩護膜剛性之提高，亦要求能夠追隨因貼附該光罩護膜之光罩自身之大型化而引起之光罩自身之彎曲，尤其是能夠追隨作業步驟中長邊側之彎曲。換而言之，對於超大型化之光罩護膜，要求剛性及柔性該兩種特性。

如上所述，光罩之超大型化，使得其中所使用之超大型光罩護膜產生新課題。

本發明係用於解決因光罩護膜之超大型化而產生之新課題者，第1發明之光罩護膜框體之解決課題係，光罩護膜框體於展開黏著光罩護膜時框體不會變形，進而，於光罩護膜貼附於光罩之後，光罩護膜框體自身亦能追隨光罩自身因自重而產生之彎曲。

進而，對於超大型光罩護膜，同時亦要求具有當光罩護膜展開黏著於光罩護膜框體之後，直至貼附於光罩為止之操作時框體亦不會產生變形的特性。第2發明之光罩護膜框體之解決課題係，光罩護膜框體於展開黏著光罩護膜時框體不會變形，且將光罩護膜展開黏著於光罩護膜框體之後，直至貼附於光罩為止之操作時框體亦不會變形，進而，於光罩護膜貼附於光罩之後，光罩護膜框體自身亦能追隨光罩自身因自重而產生之彎曲。

為解決上述課題，本發明者等經過銳意研究之後發現，可藉由限定超大型光罩護膜之框體之變形性α、追隨性β來解決上述課題，從而完成本發明之第1發明。

又，本發明者等發現，可藉由以特定之比例使光罩護膜框體之短邊1b之寬度Wb相對長邊1a之寬度Wa變寬來解決上述課題，從而完成本發明之第2發明。

亦即，本發明如下所述。

(1)一種光罩護膜框體，其係矩形之光罩護膜框體，該光罩護膜框體之變形性α為0.06%以下，由下述通式(1)所示之該光罩護膜框體各邊之追隨性β為3mm以上，該光罩護膜框體長邊之追隨性β為32mm以下，且框體之長邊之長度為1400mm以上且2100mm以下，而且該光罩護膜框體之內側之面積為15000cm² 以上，

β=(1/光罩護膜之彎曲量)×厚度×寬度　(1)。

(2)如(1)之光罩護膜框體，其中該光罩護膜框體之短邊之寬度為長邊之寬度之1.05倍以上且1.50倍以下。

(3)一種光罩護膜框體，其係矩形之光罩護膜框體，且該光罩護膜框體之長邊之寬度Wa為13.0mm以上且30.0mm以下，短邊之寬度Wb與長邊之寬度Wa之比Wb/Wa為1.05以上且1.50以下，長邊之長度為1400mm以上且2100mm以下，框體之內側之面積為16000cm² 以上。

(4)如(1)至(3)中任一項之光罩護膜框體，其中構成該光罩護膜框體之材料係鋁或其合金。

(5)如(1)至(4)中任一項之光罩護膜框體，其中光罩護膜框體之表面上由耐酸鋁處理、黑化處理及耐酸鋁處理所形成之微孔之開口部經實施封孔處理，且實質上無微裂痕。

(6)一種光罩護膜，其係藉由使光罩護膜展開於(1)至(5)中任一項之光罩護膜框體上所得者。

(7)一種光罩護膜框體之使用方法，其係握持著(6)中所述之光罩護膜之與光罩護膜框體相對向之一組短邊之各個短邊的至少一處，將光罩護膜貼附於光罩，之後，將貼附有該光罩護膜之光罩用於曝光處理中。

本發明之光罩護膜框體具有適度之剛性及柔性，故而，當使光罩護膜展開黏著於光罩護膜框體時框體不會變形，又，不會減小光罩護膜之內側面積所表示之有效曝光區域。進而，光罩護膜貼附於光罩之後，亦可追隨光罩之彎曲，故而光罩與光罩護膜之黏著面上不會產生空氣路徑。

進而，第2發明中，當使光罩護膜展開黏著於光罩護膜框體之後，直至貼附於光罩為止之操作時框體亦不會變形。

再者，本發明之光罩護膜框體，於超大型光罩護膜之情形下亦效果顯著，具體而言，於有效面積為15000cm² 以上之超大型光罩護膜之情形下，具有顯著之效果。

以下，對用於實施本發明之形態進行說明。以下之實施形態係用於說明本發明之示例，並不表示限於以下內容。

本發明之光罩護膜框體之形狀係與光罩形狀相似之矩形。光罩護膜框體之長邊係指框體之最長邊，光罩護膜框體之短邊係指框體之最短邊。進而具體地進行說明，於長方形時，正交之2邊中較長一邊為長邊，而較短一邊為短邊，於正方形時，4邊均為相等長度。於正方形時，可將任意一邊定義為長邊及短邊。

變形性α由下述通式(2)所示。該變形性α係以下述方法測定。以下，利用圖4A、圖4B、圖4C、圖5對變形性α之測定方法進行說明。

首先，對需要測定變形性α之光罩護膜框體1的一邊之長度(初始狀態之長度)L1(如圖4A所示)進行測定。之後，如圖5所示，由座台20支持光罩護膜框體1之不需要測定變形性α之相對向之2邊之下面(不接觸上面)。此時，自下方支持不需要測定變形性α之整條邊，使光罩護膜框體1之端部起至15mm處為止得到支持。例如，當對光罩護膜框體1之短邊進行測定時，由座台20自下方支持整條長邊，以使長邊不彎曲。當對光罩護膜框體1之長邊進行測定時，由座台20自下方支持整條短邊。於該狀態下保持10分鐘(如圖4B所示)，之後停止支持，將光罩護膜框體筆直地靜置於平坦的座台上，於10分後對需要測定之一邊之長度(支持後(施加自重所產生之力後)之長度)L2(如圖4C所示)再次進行測定，並根據下式計算出支持後之長度L2相對初始狀態之長度L1之伸長率，作為變形性α。測定時之溫度為23.8℃，相對濕度為74%RH，

[(支持後之長度L2/初始狀態之長度L1)-1]×100(%)(2)。

再者，矩形之光罩護膜框體中存在4條邊，故對各邊進行相同之測定，將變形性α最大之數值作為光罩護膜框體之變形性α。又，當上面與底面中邊之寬度不同時，使邊之寬度較寬之面朝下，測定變形性α。光罩護膜框體之變形性α之下限為0%以上即可，而上限為0.06%以下，較好的是0.02%以下，最好的是0.01%以下。

又，表示光罩護膜框體對光罩之追隨性之追隨性β由下述通式(1)表示，光罩護膜框體各邊之β之下限為3mm以上，更好的是4mm以上，該光罩護膜框體之長邊之追隨性之上限為32mm以下，較好的是25mm以下。光罩護膜框體之短邊之追隨性較好的是100mm以下，更好的是80mm以下，特別好的是50mm以下，

β=(1/光罩護膜之彎曲量)×厚度×寬度　(1)。

追隨性β之測定方法如下所述。

首先，如圖5所示，使光罩護膜框體1中不測定追隨性β之相對向之2邊的下面由座台20來支持。此時，自下方支持不測定追隨性β之整條邊，對光罩護膜框體1之端部起至15mm處為止進行支持。例如，當對光罩護膜框體1之短邊進行測定時，由座台20自下方支持整條長邊，以使長邊不彎曲。當對光罩護膜框體1之長邊進行測定時，由座台20自下方支持整條短邊。於該狀態下保持10分鐘後，如圖4B所示，測定出需要測定之邊之最彎曲之部分相對於初始狀態之位置的變化量，將該變化量作為光罩護膜之彎曲量ΔT。接著，將該彎曲量ΔT之倒數乘以需要測定之邊之厚度及寬度，作為追隨性β。該追隨性β之測定係對光罩護膜框體1之所有邊進行。又，當上面與底面中邊之寬度不同時，使邊之寬度更寬之面朝下，測定追隨性β。

追隨性β之測定係與上述變形性α之測定同時進行。

該追隨性β係表示柔性之指標，該柔性表示光罩護膜框體之彎曲可以多大程度追隨光罩之彎曲。故而，可謂數值越小則追隨性越高，但當追隨性過高時，光罩護膜展開時或操作時會產生皺褶，故而追隨性必須處於上述範圍內。

又，光罩護膜框體之厚度之下限較好的是4.0mm以上，更好的是5.0mm以上，特別好的是6.0mm以上。另一方面，上限較好的是10mm以下，更好的是8mm以下，進而更好的是7mm以下，特別好的是6.5mm以下。

光罩護膜框體之寬度較好的是13mm以上，更好的是14mm以上，進而更好的是16mm以上。另一方面，上限較好的是30mm以下，更好的是25mm以下，進而更好的是19mm以下。再者，就寬度而言，長邊及短邊之任一邊之寬度均可相等，亦可為分別獨立之寬度。

再者，光罩護膜框體之邊之寬度如圖2、圖3所示，係指如Wa、Wb般之各邊之最大寬度。

光罩護膜框體各邊之剖面形狀為矩形、H型、T型等，並無特別限定，但最好為矩形形狀。剖面可為中空構造。

本發明之光罩護膜框體越為超大型則越具有顯著之效果，具體而言，當光罩護膜框體之長邊之長度為1400mm以上，尤其是1700mm以上且2100mm以下，且光罩護膜之有效面積為16000cm² 以上、24000cm² 以上，尤其是25000cm² 以上時具有顯著之效果。

再者，本發明之光罩護膜框體若為大型便具有顯著之效果，但根據對TFTLCD之製造中所用之光罩等所要求之尺寸，有效面積之上限為35000cm² 便足夠充分。

就長邊之長度為1400mm以上之大型光罩護膜而言，為提高操作步驟中之自由度，較好的是僅握持著短邊側2邊或長邊側2邊之任一邊進行操作，尤其當考慮到作業效率時，較好的是握持短邊側2邊之握持方法。若光罩護膜框體之短邊之寬度Wb對長邊之寬度Wa之比Wb/Wa為1.05以上，則當利用握持短邊側2邊之握持方法進行操作時，通常可由剛性高之邊進行握持，從而可抑制操作時皺褶之產生。當可自寬度大之短邊方向對光罩護膜進行操作時，握持時的手握部分變大，便利性亦得到提高。自提高操作性之觀點考慮，特別好的是，於光罩護膜框體短邊側形成握持用之凸部、凹部。又，若Wb/Wa為1.50以下，則即便使光罩護膜框體豎立時(使長邊側與地面垂直，並使短邊側與地面平行時)，亦可抑制長邊側之變形，故而可抑制皺褶之產生。於光罩護膜之有效面積達到16000cm² 以上之超大型光罩護膜中，就作業效率而言，較好的是使光罩護膜旋轉，對光罩護膜表面進行異物檢查。此時須實施使光罩護膜框體豎立之步驟，但若Wb/Wa為1.50以下，則可抑制長邊側之變形，且於異物檢查步驟等中可抑制光罩護膜之皺褶產生。

就光罩護膜框體1之短邊1b之寬度Wb而言，具體為短邊1b之寬度Wb對長邊1a之寬度Wa之比例(Wb/Wa)，較好的是1.05以上，更好的是1.1以上，上限較好的是1.50以下，更好的是1.25以下，特別好的是1.2以下。

構成本發明之光罩護膜框體之材料，可列舉例如：機械構造用碳素鋼(SC系列等)，工具鋼(碳素工具鋼SK系列、高速工具鋼SKH系列、合金工具鋼SKS系列、SKD系列、SKT系列等)、麻田散鐵系不鏽鋼系列(SUS403、SUS410、SUS410S、SUS420J1、SUS420J2、SUS429J1、SUS440A、SUS304等)、鋁、鋁合金(5000系、6000系、7000系等)等金屬；陶瓷(SiC、AlN、Al203等)；陶瓷與金屬之複合材料(Al-SiC、Al-AlN、Al-Al203等)，其中，可列舉鋁或其合金，更具體而言，可列舉鋁與鎂之合金、鋁與鎂及矽之合金、鋁與鋅及鎂之合金。

再者，上述各鋼材係磁性材料，故可利用磁鐵進行固定，尤其於大型光罩護膜之框體之情形時，加工作業良好，可較佳地進行使用。亦可對光罩護膜框體之表面進行黑色鍍鉻、黑色耐酸鋁、塗黑等之黑化處理。

其中，進而對黑色耐酸鋁處理進行說明。

作為光罩護膜用之支持框，一般而言大多使用5000系之鋁合金，故而，以鋁合金為例進行說明。

普通之黑色耐酸鋁處理中，利用鋁合金使光罩護膜支持框成形之後，進行耐酸鋁處理，且利用黑化劑對因該處理而產生之微孔進行填充處理，接著，實施封堵該微孔之封孔處理，實施黑色耐酸鋁處理。然而，利用電子顯微鏡對如上所述利用普通方法製作之支持框之表面進行觀察後，確認到細小裂紋(微裂痕)之產生。如此之微裂痕於圖案之微細化進一步發展，配線寬進一步變窄後，進入該裂痕之極小異物之墜落亦將成為問題。故而，作為防止上述微裂痕產生之方法，較好的是採用如下所述之方法。

首先，對光罩護膜框體之表面進行耐酸鋁處理。該耐酸鋁處理係於如下範圍內進行：硫酸濃度為10~20%、電流密度為1~2A/dm² 、電解液溫度為15~30℃、通電時間為10~30分鐘。此時，合金之表面上規則地形成有大量之微孔(直徑50~200，間距500~1500)。之後，使用該孔進行黑化處理。黑化處理係為防止來自框體之光進行反射而實施，故而並不限於黑色，亦包含接近黑色之棕色或深藍色等深色。黑化處理中，可列舉染色、電解著色等。染色係藉由浸漬於溶解有黑色染料之液體中而使該孔吸附染料從而獲得色度之方法，又，電解著色係於該孔中使金屬元素電性沈積從而獲得色度之方法。染色可於例如染料濃度為3~10g/L、染色液溫度為50~65℃之條件下進行。

繼而，實施封堵該孔之封孔處理。該處理中，使用例如添加有被稱作低溫封孔劑之日華化學工業(股)製造之Hard Wall3(商品名)封孔助劑6~12g/L的沸水。

藉由此時之封孔來填充耐酸鋁膜表面的微孔，使耐酸鋁膜不斷變得緻密，但只要於封孔之溫度為略低於100℃之溫度，例如70~95℃，更好的是80~90℃下進行封孔處理，則可製作具有極均勻之表面性且實質上無微裂痕之光罩護膜框體。

又，有無微裂痕之判斷係於利用電子顯微鏡將支持框表面放大至1000倍所得之相片中，描繪10cm(實際尺寸0.1mm)之直線，計算出與該直線交叉之裂痕數。裂痕之寬度列舉可由該電子顯微鏡相片觀察到者，即裂痕寬度為0.1μm以上者。該數值越多則可判斷裂痕之存在密度越高。

亦可根據需要而於光罩護膜框體之內壁面或整個面上塗佈用於捕獲異物之黏附材(丙烯酸系、乙酸乙烯酯系、矽系、橡膠系等)或潤滑油(聚矽氧系、氟系等)。

又，若根據需要而開設使光罩護膜框體之內部與外部貫通之微孔，消除光罩護膜與光罩所形成之空間之內外氣壓差，則可防止膜之膨脹或凹陷。

又，此時，若於微孔之外側安裝異物除去過濾器，則不僅能調整氣壓，而且亦能防止異物侵入至光罩護膜與光罩所形成之空間中，故而較好。

當光罩護膜與光罩所形成之空間容積較大時，若設置複數個該等孔或過濾器，則因氣壓變動而產生之膜之膨脹或凹陷之恢復時間會變短，故而較好。

本發明之光罩護膜框體可藉由滿足上述必要條件而兼具適當之剛性及柔性，故而，不會出現因展開光罩護膜而導致框體產生變形，不僅可追隨單獨操作光罩護膜時之彎曲，而且亦可追隨其後貼附於光罩後之操作中光罩自身之彎曲。其結果，由於光罩護膜上不會產生皺褶，且亦可追隨光罩之彎曲，故而起到亦不會產生空氣路徑之優異效果。

以上對本發明之光罩護膜框體進行了說明，但本發明之光罩護膜框體可藉由具有以下之構造而進一步提高作為光罩護膜框體之可靠性。

例如，當使圖1、圖2及圖3所示之光罩護膜框體1之長邊1a及短邊1b之寬度為相同之Wa、Wb時，可形成光罩護膜2之貼附面1a1、1b1之寬度Wc、Wd之間滿足Wa=Wb>Wc=Wd之關係的構造。如上所述，若使用光罩護膜框體1之寬度Wa、Wb大於貼附面之寬度Wc、Wd之構造，則光罩護膜2與光罩護膜框體1之黏著劑可利用黏著劑塗佈裝置例如X-Y自動點膠機等來定量地進行塗佈，故而，可將黏著劑均勻地塗佈於整個貼附面上。又，可藉由將貼附寬度設定為小於框體1之寬度，來抑制黏著劑之塗佈不均、塗佈殘餘，其結果，可防止塗佈不均、塗佈殘餘部分之空間沈積異物。又，若Wc=Wd，則無需更改長邊及短邊上之塗佈量便可對所有邊進行塗佈，故而較好。

如上所述，作為製造滿足Wa=Wb>Wc=Wd關係之構造的方法，只要於光罩護膜框體1之光罩護膜之貼附面側形成傾斜面，便可無階差地形成傾斜面。再者，該傾斜面亦可為曲面狀。

由於如上所述於光罩護膜框體1之寬度與光罩護膜貼附面之寬度之間設置Wa=Wb>Wc=Wd之差，故亦具有防止黏著劑自框體1之膜貼附面1b1溢出而向框體1之內周部懸滴的效果。再者，已對Wa=Wb之情形進行說明，但即便光罩護膜框體1之長邊1a與短邊1b並非為寬度相同之Wa、Wb，只要Wa>Wc、Wb>Wd，則亦可獲得上述效果，又，若Wc=Wd，則可無需更改長邊及短邊上之塗佈量便能對所有邊進行塗佈，故而較好。

第1發明之光罩護膜框體，尤其可較佳地追隨光罩長邊之長度為光罩護膜框體長邊長度以上且光罩護膜框體長邊長度+150mm以下，光罩短邊之長度為光罩護膜框體短邊長度以上且光罩護膜框體短邊長度+200mm以下之光罩。光罩之厚度只要於貼附光罩護膜框體之後能承受光罩護膜框體之重量(不損壞光罩之程度)即可。又，作為光罩之材質，可考慮鹼石灰玻璃、無鹼玻璃、低鹼玻璃、石英玻璃等，但不論光罩之材質如何，第1發明之光罩護膜框體均可較佳地追隨光罩。

以上，對第1發明之光罩護膜框體之構成進行了說明。

繼而，對本發明之第2發明進行說明。

對第2發明之光罩護膜框體1之寬度進行說明。圖2所示之光罩護膜框體1之長邊1a之寬度Wa之下限為13.0mm以上，較好的是14.0mm以上，最好的是16.0mm以上。另一方面，上限為30.0mm以下，較好的是25.0mm以下，更好的是19.0mm以下。

再者，光罩護膜框體之邊之寬度，例如圖2、圖3所示，係指如寬度Wa、Wb般之各邊的最大寬度。

圖3所示之光罩護膜框體1之短邊1b之寬度Wb必須比至少大於長邊1a之寬度Wa，具體而言，短邊1b之寬度Wb對長邊1a之寬度Wa之比例(Wb/Wa)之下限為1.05以上、較好的是1.1以上，上限為1.50以下、較好的是1.25以下、最好的是1.2以下。故而，光罩護膜框體之短邊之寬度Wb取13.65mm以上45.0mm以下之值。

長邊之長度為1400mm以上之大型光罩護膜，為提高操作步驟之自由度，較好的是僅握持著短邊側2邊或長邊側2邊中任一邊進行操作，尤其當考慮到作業效率之情形時，較好的是握持短邊側2邊之握持方法。若光罩護膜框體之短邊之寬度Wb對長邊之寬度Wa之比Wb/Wa為1.05以上，則當採用握持短邊側2邊之握持方法進行操作時，通常可自剛性高之邊進行握持，從而可抑制操作時之皺褶產生。當可自寬度大之短邊方向對光罩護膜進行操作時，握持時之手握部分寬，便利性亦得到提高。自提高操作性之觀點考慮，特別好的是，於光罩護膜框體短邊側形成握持用之凸部、凹部。又，若Wb/Wa為1.50以下，則即便使光罩護膜框體豎立時(使長邊側與地面垂直，並使短邊側與地面平行時)，亦能抑制長邊側之變形，故而可抑制皺褶之產生。光罩護膜之有效面積達到16000cm² 以上之超大型光罩護膜中，就作業效率而言，較好的是使光罩護膜旋轉，對光罩護膜表面進行異物檢查。此時須實施使光罩護膜框體豎立之步驟，但若Wb/Wa為1.50以下，則可抑制長邊側之變形，且於異物檢查步驟等中可抑制光罩護膜之皺褶產生。

又，框體1之厚度較好的是4.0mm以上，更好的是5.0mm以上，進而更好的是6.0mm以上。又，上限較好的是10.0mm以下，更好的是8.0mm以下，進而更好的是7.0mm以下，最好的是6.5mm以下。

光罩護膜框體各邊之剖面形狀可為矩形、H型、T型等，並無特別限制，但最好為矩形形狀。剖面亦可為中空構造。

本發明之光罩護膜框體1越大型則越具有顯著之效果，具體而言，當光罩護膜框體1之長邊1a之長度La為1400mm以上，尤其是1700mm以上且2100mm以下，此時光罩護膜之有效面積為16000cm² 以上、24000cm² 以上，尤其是25000cm² 以上時具有顯著之效果。再者，本發明之光罩護膜框體1若為大型便具有顯著之效果，但根據對TFTLCD之製造中所用之光罩等所要求之尺寸，有效面積之上限若為35000cm² 便足夠充分。

然而，於長邊之長度為1400mm以上之大型光罩護膜中，對光罩貼附光罩護膜後之操作中，在作業步驟中多數情況下並非僅握持光罩之短邊，而是與光罩一併握持光罩護膜框體1之相對向之一組短邊1b的各個短邊1b之至少一處則，如此便可提高作業效率，此時，光罩因自重產生之彎曲於長邊及短邊中並不相同。具體而言，未握持之相對向之長邊1a方向上的光罩之彎曲變大。故而，要求光罩護膜框體之彎曲追隨長邊方向之彎曲。第2發明之光罩護膜框體亦能充分追隨具有如此特殊性之光罩之彎曲。

本發明之光罩護膜框體可藉由滿足上述要件而兼具適當之剛性及柔性，故而框體不會因展開光罩護膜而產生變形，不僅可追隨單獨操作光罩護膜時之彎曲，而且亦可追隨其後貼附於光罩後之操作中光罩自身之彎曲。

其結果，由於不會因將光罩護膜展開於光罩護膜框體時所產生之光罩護膜框體之變形而導致光罩護膜有效面積減少，亦可追隨光罩之彎曲，故而達到亦不會產生空氣路徑之優異效果。

進而，因短邊側比長邊寬，故操作光罩護膜時易於握持光罩護膜框體之短邊側。其結果，因易於自與操作光罩時之握持部分相同之側對光罩護膜進行操作，故作業效率提高。

本發明之光罩護膜框體1中，使上述框體1之長邊1a及短邊1b之光罩護膜2之貼附面1a1、1b1之寬度Wc、Wd大致相等亦為較佳之形態。此處所述之長邊1a與短邊1b之光罩護膜之貼附面1a1、1b1之寬度Wc、Wd大致相等，係指長邊1a與短邊1b之膜貼附面1a1、1b1之寬度Wc、Wd之差小於長邊1a與短邊1b之寬度Wa、Wb之差。亦即，參照圖2及圖3之剖面圖，則表示Wb-Wa>Wd-Wc。

通常，光罩護膜2與光罩護膜框體1之黏著劑係利用黏著劑塗佈裝置，例如X-Y自動點膠機等進行塗佈。此時，長邊1a與短邊1b上之每一單位長度之黏著劑塗佈量相等，故而若Wc＜Wd，則光罩護膜2貼附於光罩護膜框體1後，有時導致長邊1a中黏著劑量較多，使得黏著劑自框體1之膜貼附面1a1溢出而向框體1之內周部懸滴。

又，短邊1b中黏著劑量不足而無法均勻地擴展至膜貼附面1b1之整個面上，於內側，光罩護膜2與光罩護膜框體1之間形成狹小之間隙，該間隙內有時會夾有異物。

自上述觀點考慮，如上所述，藉由使長邊1a與短邊1b之膜貼附面1a1、1b1之寬度Wc、Wd大致相等，則即便使用先前之簡單的黏著劑塗佈裝置，亦可獲得更佳之光罩護膜。

作為使長邊1a與短邊1b之膜貼附面1a1、1b1之寬度Wc、Wd大致相等之方法，若於光罩護膜框體之至少框體1之長邊1a之光罩護膜2之貼附面側上形成傾斜面，則可無階差地形成傾斜面，從而可防止異物沈積於光罩護膜框體上。又，該傾斜面亦可為曲面狀。

再者，可藉由設置該傾斜面，來防止黏著劑向框體之內周部懸滴。傾斜面之大小較好的是大致不會影響光罩護膜框體之剛性、柔性。

繼而，藉由將光罩護膜展開黏著於上述本發明之第1發明及第2發明之光罩護膜框體之內側之面積為16000cm² 以上的超大型光罩護膜框體上而獲得之超大型光罩護膜可由以下方式製成，故以下予以說明。

作為光罩護膜，可使用纖維素衍生物(硝化纖維素、乙酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素等或者其等中之2種以上之混合物)，氟系聚合物(四氟乙烯-偏二氟乙烯-六氟丙烯之三元共聚物、主鏈具有環狀構造之聚合物即杜邦公司製造之鐵氟龍AF(商品名)、旭硝子公司製造之Cytop(商品名)、Ausimont公司製造之Algoflon(商品名)等)等之聚合物等。

光罩護膜可使用由例如聚合物溶液成膜之薄膜。該薄膜具有張力。另一方面，必須具有該張力，以不使光罩護膜彎曲或產生皺褶。

若光罩護膜彎曲或產生皺褶，則當藉由鼓風機來除去附著於光罩護膜上之異物時，該光罩護膜將產生較大振動而難以除去異物。又，因光罩護膜之高度會隨場所而變，故光罩護膜之異物檢查機無法正常發揮功能。又，會產生對光罩護膜之光學高度測定造成誤差等問題。

就目前所用之一次性曝光液晶曝光機中作為光源的超高壓水銀燈而言，自耐光性及成本方面考慮，可較佳地使用乙酸丙酸纖維素或乙酸丁酸纖維素。

光罩護膜之膜厚較好的是0.5μm~10μm左右，就本發明之大型光罩護膜而言，自光罩護膜之強度及均勻之膜之製造便利性考慮，上述膜厚較好的是2μm~8μm。上述聚合物可藉由各自所適合之溶劑(酮系、酯系、醇系、氟系等)來製成聚合物溶液。

對於上述乙酸丙酸纖維素或乙酸丁酸纖維素而言，較好的是乳酸乙酯等酯系。聚合物溶液可根據需要而由深層過濾器、薄膜過濾器等進行過濾。

聚合物溶液之成膜法有旋塗法、輥塗法、刮刀塗佈法、鑄塗法等，但自均勻性及異物管理方面考慮，較好的是旋塗法。藉由旋塗法成膜於成膜基板上之後，可根據需要利用加熱板、無塵烘箱、(遠)紅外線加熱等使溶劑乾燥，藉此形成均勻之膜。此時之成膜基板可使用合成石英、熔融石英、無鹼玻璃、低鹼玻璃、鹼石灰玻璃等。

本發明之大型光罩護膜之成膜用基板之尺寸較大，故而有時會因乾燥時之溫度不均而導致成膜基板破裂。為防止出現此現象，成膜用基板之熱膨脹係數越小越好。尤其好的是，0℃~300℃之線性膨脹係數為50×10^-7 m/℃以下。

又，成膜用基板之表面上，可藉由聚矽氧系、氟系等材料而預先實施脫模處理。又，可藉由於上述光罩護膜之單側或兩側形成折射率比該光罩護膜低之層(亦即，抗反射層)，來提高對於曝光光線之穿透率，故而較好。

作為抗反射層之材料，可使用氟系聚合物(四氟乙烯-偏二氟乙烯-六氟丙烯之三元共聚物、主鏈具有環狀構造之聚合物即杜邦公司製造之鐵氟龍AF(商品名)、旭硝子公司製造之Cytop(商品名)、Ausimont公司製造之Algoflon(商品名)、聚氟化丙烯酸酯等)、或氟化鈣、氟化鎂、氟化鋇等折射率較低之材料。

抗反射層為聚合物時，可藉由與上述相同之旋塗法而形成，抗反射層為無機物時，可藉由真空蒸鍍或濺鍍等薄膜形成法而形成。自異物方面考慮，較好的是聚合物溶液之旋塗法。杜邦公司製造之鐵氟龍AF(商品名)、Ausimont公司製造之Algoflon(商品名)因折射率較小，故抗反射效果高，因此較佳。

以上述方法形成於成膜基板上之光罩護膜亦可藉由將黏附材貼附於鋁合金、不鏽鋼、樹脂等上所得之模板，而自成膜基板上剝除，並重新貼附於所需之光罩護膜框體上。又，亦可於成膜基板上使所需之光罩護膜框體於黏著之後，自成膜基板上剝除。

以上述方法所得之大型光罩護膜受到張力作用藉由黏著劑而貼附於光罩護膜框體。

若膜之張力處於適當之範圍內，則可抑制大型光罩護膜因其自重或大型光罩護膜內外之氣壓差而朝大型光罩護膜之膜面之鉛垂方向膨脹或凹陷，從而可防止曝光不良。又，可解決當利用鼓風機除去附著於光罩護膜上之異物時該光罩護膜產生較大振動而難以除去異物之問題，進而，可解決因光罩護膜之高度隨場所變化而使該光罩護膜之異物檢查機無法正常發揮功能之問題，又，可解決對光罩護膜之光學高度測定造成誤差之問題。又，能確保對於大型光罩護膜內外之氣壓變動之追隨性能。

用於黏著於光罩護膜及光罩護膜框體之膜黏著劑可根據光罩護膜之材質及光罩護膜框體之材質來適當選擇。例如，可使用環氧系、丙烯酸系、聚矽氧系、氟系等黏著劑。

又，黏著劑之硬化方法可採用適合各個黏著劑之硬化方法(熱硬化、光硬化、厭氧性硬化等)。自起塵性、成本、作業性方面考慮，較好的是丙烯酸系紫外線硬化型黏著劑。

就用於將光罩護膜框體貼附於光罩之光罩黏附材而言，可使用其自身具有黏附力之熱熔系(橡膠系、丙烯酸系)、基材之兩面塗佈有黏附材之膠帶系(基材可使用丙烯酸系、PVC(polyvinyl chloride，聚氯乙烯)系等之片材或橡膠系、聚烯烴系、聚胺酯系等發泡體等，黏附材可使用橡膠系、丙烯酸系、聚矽氧系等黏附材)等。

本發明之大型光罩護膜中，為使光罩護膜能夠以低荷重且均勻地貼附於光罩上，光罩黏附材較好的是使用相對柔軟之熱熔材料或發泡體。當使用發泡體時，可藉由於其剖面覆蓋丙烯酸系或乙酸乙烯酯系之黏附性材料或非黏附性材料，來防止自發泡體起塵。

光罩黏附材之厚度通常為0.2mm以上，但為了均勻地黏附於光罩，較好的是1mm以上。為使上述光罩黏附材之黏附面於貼附於光罩為止之期間得到保護，而可使用經聚矽氧或氟進行脫模處理之聚酯膜。

運送光罩護膜時之盒體係藉由對丙烯酸系、ABS(acrylonitrile-butadiene-styrene，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)系、PVC系、PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)系等材料進行射出成型或真空成型而製成。該等材料為抗靜電，而可捏合抗靜電劑，亦可利用具有抗靜電構造之聚合物(Kureha製造之BAYON(商標)、旭化成製造之ADION(商標))。

本發明之超大型光罩護膜用盒體，較好的是於盒體之盒蓋、托盤或者該兩者上設置凸緣構造，以免運送過程中盒體變形而使盒體內之光罩護膜受損，從而提高對外力之抵抗性。

又，對光罩護膜之框體而言，要求不僅其可切實地進行握持，而且當之後自收納容器取出光罩護膜時框體不會撓曲或扭曲便可取出之方法。而且，尤其對於光罩護膜自身較大且操作亦困難之大型光罩護膜而言，要求不僅收納、搬運、保管時能切實進行握持，而且當自收納容器取出時可自保護膜與黏附材之界面取出而光罩護膜不會變形彎曲，以便取出後可直接貼附於光罩等之方法。

因此，亦可以不受光罩之約束之方式，於光罩護膜之框體之所有邊部均分布形成握持用之凸部或凹部，藉此實現對最長邊之長度為1.4m~2.1m之大型光罩護膜之握持。

尤其第2發明中，因短邊側之寬度大於長邊側，故而易於在短邊側形成握持用之凸部、凹部。

第2發明之光罩護膜框體可尤佳地追隨光罩長邊之長度為光罩護膜框體長邊長度以上且光罩護膜框體長邊長度+150mm以下，光罩短邊之長度為光罩護膜框體短邊長度以上且光罩護膜框體短邊長度+200mm以下之光罩。光罩之厚度只要於貼附光罩護膜框體後能大致承受光罩護膜框體之重量(不損壞光罩之程度)即可。又，光罩之材質可使用鹼石灰玻璃、無鹼玻璃、低鹼玻璃、石英玻璃等，但不論光罩之材質如何，第2發明之光罩護膜框體均可較佳地追隨光罩。

以下，列舉實施例對本發明進行更具體的說明。

[實施例] (第1發明之實施例) [實施例1~99、比較例1~71]

超大型光罩護膜用框體1係使用長邊1a之長度(La)、短邊1b之長度(Lb)、框體之內側之面積(有效面積)、框體之厚度如表1至表9所示者。又，光罩護膜框體之長邊1a之寬度(Wa)、短邊1b之寬度(Wb)係表1至表9所示者。

再者，光罩護膜框體之材質均採用鋁合金，框體之剖面形狀係長方形之形狀。而且，所用之光罩護膜框體係經黑色耐酸鋁處理之無微裂痕者。

因此，使用上述框體，對實際之光罩護膜進行性能評估。

具體內容如下所示。

作為光罩護膜，係將纖維素酯之聚合物溶液塗佈於低鹼玻璃上，且利用旋塗而形成主膜。

繼而，同樣使用藉由旋塗來將氟化聚合物溶液塗佈於該膜上從而成膜有抗反射層之厚度為4μm之光罩護膜。將所得之光罩護膜展開貼附於上述光罩護膜框體上。

此處，對光罩護膜展開黏著於光罩護膜框體上時所產生的皺褶之有無進行評估(膜展開時之皺褶產生結果)。評估結果如表1至表9所示。評估結果之標記中，「○」表示完全無皺褶之狀態，「△」表示仔細觀察下可見膜略微起伏之狀態，「×」表示略微存在皺褶之狀態。

繼而，將展開黏著著光罩護膜之光罩護膜框體貼附於石英玻璃上。此時光罩黏附材均使用厚度為1.2mm之苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯之橡膠系熱熔黏附材，並將該熱熔黏附材塗敷於光罩護膜框體之光罩黏著面上，且貼附於石英玻璃之特定位置上。再者，各部件於使用前已經實施超音波清洗。

又，石英玻璃之尺寸設為貼附石英玻璃之長邊之光罩護膜之長邊長度+50mm、貼附石英玻璃之短邊之光罩護膜之短邊長度+100mm。所使用之石英玻璃之尺寸及厚度如表17所示。

進而，關於光罩護膜框體之柔性，可藉由測定光罩護膜對光罩之追隨性來評估。將貼附於光罩上之光罩以如下狀態放置，從而根據光罩護膜是否一直追隨光罩因自重所產生之彎曲的追隨性進行評估，上述狀態係使貼附有光罩護膜之面朝下，握持著光罩之2個短邊使之懸浮於空中。

評估結果如表1至表9所示。追隨性之評估基準為於光罩貼附後一年以內，如無變化時則評估為「○」，若黏著部分略微產生隆起時評估為「△」，產生空氣路徑則評估為「×」。

再者，另外製作使用具有與上述相同規格之光罩護膜框體，以與上述相同之條件展開黏著光罩護膜之試樣，並使用該試樣握持長邊，以上述測定條件對相同邊之變形性α及追隨性β進行測定，其結果合併示於表1至表9中。

綜合評估中，當「追隨性之評估結果」「膜展開時之皺褶產生結果」均為「○」時記作「◎」，若其中之一出現△則記作「○」，而其中之一出現×則記作「×」。

(第2發明之實施例)

首先，對於本發明之光罩護膜框體之評估方法進行說明。

本發明之光罩護膜框體係兼具適當之剛性及柔性者，其剛性係藉由對光罩護膜展開於光罩護膜框體上時有無產生皺褶、以及隨後之光罩護膜之操作時有無產生皺褶進行目測判斷來進行評估，而柔性係根據貼附於光罩上之光罩護膜以如下狀態放置，並以光罩護膜是否追隨光罩因自重所產生之彎曲之追隨性進行評估，上述狀態係使貼附有光罩護膜之面朝下，握持著光罩之2個短邊使之懸浮於空中。

[實施例100~197、比較例72~141]

實施例及比較例中所用之超大型光罩護膜用框體1中長邊1a之長度(La)、短邊1b之長度(Lb)、框體之內側之面積(有效面積)示於表10至表16中。又，光罩護膜框體之長邊1a之寬度(Wa)、短邊1b之寬度(Wb)、光罩護膜框體之厚度亦示於表10至表16中。

又，光罩護膜框體之材質均可使用鋁合金，框體之剖面形狀為長方形之形狀。而且，所用之光罩護膜框體係經由黑色耐酸鋁處理而無微裂痕者。

因此，使用上述規格之光罩護膜用框體實際進行性能評估。

光罩護膜係將纖維素酯之聚合物溶液塗佈於低鹼玻璃上，利用旋塗形成主膜。

繼而，同樣使用於該膜上利用旋塗來塗佈氟化聚合物溶液從而成膜有抗反射層之厚度為4μm之光罩護膜。將所得之光罩護膜展開貼附於上述光罩護膜框體上。再者，光罩護膜框體之操作係均握持著一組短邊之各個邊的一部分而實施。

此處，對光罩護膜展開黏著於光罩護膜框體上時有無產生皺褶進行評估(膜展開時之皺褶產生結果)。評估結果如表10至表16所示。評估結果之標記中，「○」表示完全無皺褶之狀態，「△」表示仔細觀察下可見膜略微起伏之狀態，「×」表示略微存在皺褶之狀態。

繼而，將展開黏著有光罩護膜之光罩護膜框體貼附於石英玻璃上。此時之光罩黏附材均使用厚度為1.2mm之苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯之橡膠系熱熔黏附材，將該熱熔黏附材塗敷於光罩護膜框體之光罩黏著面，且貼附於石英玻璃之特定位置。又，使用前各部件經實施超音波清洗。

又，石英玻璃之尺寸設為貼附石英玻璃之長邊之光罩護膜之長邊長度+50mm且貼附石英玻璃之短邊之光罩護膜之短邊長度+100mm。所用之石英玻璃之尺寸及厚度如表17所示。

對以上述方式所得之貼附於光罩上之光罩護膜的光罩護膜表面進行觀察，亦對光罩護膜展開、黏著於光罩護膜框體後直至貼附於光罩為止之一系列操作步驟中有無產生皺褶進行評估(操作所產生之皺褶產生結果)。

此處，一系列操作步驟係指包括組裝(光罩護膜之展開、黏著)步驟後之搬送步驟→檢查步驟→捆包步驟→出貨步驟→取出步驟→對光罩之貼附步驟之操作步驟。組裝步驟後之搬送步驟中，使用步驟內搬運用托架，以光罩護膜不會墜落程度之握持力，握持光罩護膜框體短邊側之四個角落附近，將光罩護膜運送至檢查步驟。此時，光罩護膜係以長邊與地面平行而短邊與地面垂直之狀態運送至檢查步驟。檢查步驟中，一面使光罩護膜繞水平軸上下旋轉一周且繞鉛垂軸左右旋轉一周，以光罩護膜中心為軸於光罩護膜平面上90度旋轉一周，一面進行檢查。以光罩護膜之長邊與地面平行而短邊與地面垂直之狀態將光罩護膜運送至捆包步驟。捆包步驟中，將光罩護膜以附帶步驟內搬運用托架之狀態收納於光罩護膜收納容器內。之後，於收納容器內卸除步驟內搬運用托架，僅將光罩護膜收納於收納容器內。出貨步驟中，以假設卡車運送來進行通常之運送。此時，收納容器維持水平。取出步驟中，以光罩護膜框體與地面水平之狀態，將光罩護膜自收納容器中取出。取出時，以光罩護膜不會墜落程度之握持力來握持光罩護膜框體短邊側之四個角落附近。於對光罩之貼附步驟中，於光罩護膜框體與地面水平之狀態下，以光罩護膜不會墜落程度之握持力來握持光罩護膜框體短邊側之四個角落附近，以此狀態介由光罩護膜之光罩黏附劑直接將光罩護膜貼附於光罩上。貼附力係以貼附後光罩護膜之外形亦不會變動之貼附力緊緊地進行貼附。

評估結果示於表10至表16中。再者，評估基準係與展開黏著於光罩護膜框體上時相同。

進而，利用上述光罩護膜對光罩之追隨性之評估條件來對柔性進行評估。評估結果記載於表10至表16中(追隨性之評估結果)。追隨性之評估基準係於光罩護膜貼附於光罩後，將光罩護膜以如下狀態放置，於一年以內，無變化時評估為「○」，黏著部分中略微產生隆起時評估為「△」，產生空氣路徑時評估為「×」，上述狀態係使貼附有光罩護膜之面朝下，握持著光罩之2個短邊使之懸浮於空中。

綜合評估中，「追隨性之評估結果」「膜展開時之皺褶產生結果」「操作所產生之皺褶產生結果」均為「○」時記作「◎」，其中之一存在出現△時記作「○」，其中之一出現×時記作「×」。

[產業上之可利用性]

若使用本發明之光罩護膜框體、光罩護膜、光罩護膜框體之使用方法，則可適用於近年不斷開發之可進行高畫質/高精細顯示之大型彩色TFTLCD(薄膜電晶體液晶顯示器)之光微影步驟中所使用的大型光罩或標線片。

1．．．光罩護膜框體

1a．．．長邊

2a．．．短邊

1a1、1b1．．．貼附面

1a2、1b2．．．平面狀之傾斜面

2．．．光罩護膜

10．．．大型光罩護膜

圖1係表示本發明之光罩護膜框體及使用其之光罩護膜之構成的立體圖；

圖2係圖1之光罩護膜框體之長邊之與其長度方向垂直之面的剖面圖；

圖3係圖1之光罩護膜框體之短邊之與其長度方向垂直之面的剖面圖；

圖4A係表示光罩護膜框體之測定邊之初始長度的說明圖；

圖4B係表示光罩護膜框體得到支持而彎曲之狀態的說明圖；

圖4C係表示光罩護膜框體之測定邊受到支持後之長度的說明圖；及

圖5係表示光罩護膜框體由座台支持之狀態的說明圖。

1．．．光罩護膜框體

1a．．．長邊

1b．．．短邊

1a1、1b1．．．貼附面

1a2、1b2．．．平面狀之傾斜面

2．．．光罩護膜

Claims (7)

1. 一種光罩護膜框體，其係矩形之光罩護膜框體，該光罩護膜框體之變形性α為0.06%以下，由下述通式(1)所示之該光罩護膜框體各邊之追隨性β為3mm以上，該光罩護膜框體長邊之追隨性β為32mm以下，而且框體之長邊之長度為1400mm以上且2100mm以下，而且，該光罩護膜框體之內側之面積為15000cm² 以上，該光罩護膜框體之短邊之寬度為長邊之寬度之1.05倍以上且1.50倍以下，β=(1/光罩護膜之彎曲量)×厚度×寬度 (1)。
2. 一種光罩護膜框體，其係矩形之光罩護膜框體，且該光罩護膜框體之長邊之寬度Wa為13.0mm以上且30.0mm以下，短邊之寬度Wb與長邊之寬度Wa之比Wb/Wa為1.05以上且1.50以下，長邊之長度為1400mm以上且2100mm以下，框體之內側之面積為16000cm² 以上。
3. 如請求項1或2之光罩護膜框體，其中構成該光罩護膜框體之材料係鋁或其合金。
4. 如請求項1或2之光罩護膜框體，其中上述光罩護膜框體之表面上由耐酸鋁處理、黑化處理及耐酸鋁處理而形成之微孔之開口部經實施封孔處理，且實質上無微裂痕。
5. 如請求項3之光罩護膜框體，其中上述光罩護膜框體之表面上由耐酸鋁處理、黑化處理及耐酸鋁處理而形成之微孔之開口部經實施封孔處理，且實質上無微裂痕。
6. 一種光罩護膜，其係使光罩護膜展開於如請求項1至5中 任一項之光罩護膜框體上所得者。
7. 一種光罩護膜框體之使用方法，其係握持著如請求項6所述之光罩護膜之與光罩護膜框體相對向之一組短邊之各個短邊的至少一處，將光罩護膜貼附於光罩，之後，將貼附有該光罩護膜之光罩用於曝光處理中。