本申请是申请日为2009年9月11日、申请号为200980133492.9、发明创造名称为:“表膜构件框体、表膜构件和表膜构件框体的使用方法”的中国专利申请的分案申请。
具体实施方式
下面,说明用于实施本发明的实施方式。下述实施方式是用于说明本发明的例示,并非意指本发明限定于下述内容。
本发明的表膜构件框体的形状是与掩模的形状相似的矩形。表膜构件框体的长边是指框体的最长边,表膜构件框体的短边是指框体的最短边。更详细而言,在表膜构件框体为长方形的情况下,正交的两个边中的相对较长的边是长边,相对较短的边是短边,在表膜构件框体为正方形的情况下,4个边均为相同长度。在表膜构件框体为正方形的情况下,可以将任意的边定义为长边,将任意的边定义为短边。
应变度α以下述通用式(2)表示。该应变度α以下述方法测量。下面,使用图4A、图4B、图4C、图5说明应变度α的测量方法。
首先,对将要测量应变度α的表膜构件框体1的一边的长度(初始状态的长度)L1(如图4A所示)进行测量。然后,如图5所示,利用台20支承表膜构件框体1的不测量应变度α的相对的两个边的下表面(不接触上表面)。此时,从下方支承不测量应变度α的边的整个长度,且支承表膜构件框体1的距端部15mm的部位。例如,在测量表膜构件框体1的短边时,为了避免长边挠曲,利用台20从下方支承长边的整个长度。在测量表膜构件框体1的长边时,利用台20从下方支承短边的整个长度。在该状态下保持10分钟(如图4B所示),之后停止支承,将表膜构件框体笔直地静置在平坦的台上,10分钟后再次测量要测量的一边的长度(被支承后(施加有由自重产生的力之后)的 长度)L2(如图4C所示),根据下述式子算出被支承后的长度L2相对于初始状态的长度L 1的伸长率,以该伸长率作为应变度α。测量时的温度为23.8℃,相对湿度为74%RH。
[(被支承后的长度L2/初始状态的长度L1)-1]×100(%)(2)
另外,由于矩形的表膜构件框体有4个边,因此采用相同的方法测量各个边,以应变度α最大的数值作为表膜构件框体的应变度α。另外,当边的宽度在上表面和底面不同的情况下,将边的宽度相对较宽的面置于下方而测量应变度α。表膜构件框体的应变度α的下限只要为0%以上即可,上限为0.06%以下,优选为0.02%以下,最优选为0.01%以下。
另外,表示表膜构件框体对掩模的追随的追随度β以下述通用式(1)表示,表膜构件框体的各边的β的下限为3mm以上,更优选为4mm以上,该表膜构件框体的长边的追随度的上限为32mm以下,优选为25mm以下。表膜构件框体的短边的追随度优选为100mm以下,更优选为80mm以下,特别优选为50mm以下。
β=(1/表膜构件的挠曲量)×厚度×宽度 (1)
追随度β的测量方法如下所述。
首先,如图5所示,利用台20支承表膜构件框体1的不测量追随度β的相对的两个边的下表面。此时,从下方支承不测量追随度β的边的整个长度,且支承表膜构件框体1的距端部15mm的部位。例如,在测量表膜构件框体1的短边时,为了避免长边挠曲,利用台20从下方支承长边的整个长度。在测量表膜构件框体1的长边时,利用台20从下方支承短边的整个长度。在该状态下保持10分钟,之后如图4B所示,对要测量的边的最大挠曲部分相对于初始状态的位置的变化量进行测量,将该变 化量记作表膜构件的挠曲量△T。然后,用该挠曲量△T的倒数乘以要测量的边的厚度和宽度,得出追随度β。测量表膜构件框体1的所有边的追随度β。另外,当边的宽度在上表面和底面不同的情况下,将边的宽度相对较宽的面置于下方而测量追随度β。在测量上述应变度α的同时测量追随度β。
该追随度β是表示体现表膜构件框体能够以何种程度追随掩模的挠曲的柔软性的指标。因而,可以说数值越小,追随度越高,但在追随度过高时,在铺展表膜时、处理时会产生褶皱,因此必须将追随度β控制在上述范围内。
另外,表膜构件框体的厚度的下限优选为4.0mm以上,更优选下限为5.0mm以上,特别优选为6.0mm以上。另一方面,该厚度的上限优选为10mm以下,更优选为8mm以下,进一步优选为7mm以下,特别优选为6.5mm以下。
表膜构件框体的宽度优选为13mm以上,更优选为14mm以上,进一步优选为16mm以上。另一方面,该宽度的上限优选为30mm以下,更优选为25mm以下,进一步优选为19mm以下。另外,长边和短边可以是相同的宽度,也可以是分别不同的宽度。
另外,例如如图2、图3所示,表膜构件框体的边的宽度是指宽度Wa、Wb那样的各边的最大宽度。
作为表膜构件框体的各边的截面形状,没有特别限定,可以是矩形、H字形、T字形等,但最优选矩形。截面也可以是中空构造。
本发明的表膜构件框体越是超大型,效果越明显,详细而言,在表膜构件框体的长边长度为1400mm以上、特别是为1700mm~2100mm、表膜构件的有效面积为16000cm2以上、24000cm2以上、特别是为25000cm2以上的情况下,能够起到 显著效果。
另外,虽然本发明的表膜构件框体是表膜构件越大型越能起到显著的效果,但是从用于制造TFTLCD的掩模等所要求的尺寸来看,框体的有效面积的上限为35000cm2就已足够。
另外,在长边长度为1400mm以上的大型表膜构件中,为了提高处理工序中的自由度,优选只把持短边侧的两个边或长边侧的两个边的任意一方的边而进行处理,特别是考虑到作业效率,优选把持短边侧的两个边的把持方法。在表膜构件框体的短边宽度Wb与长边宽度Wa之比Wb/Wa为1.05以上时,当以把持短边侧的两个边的把持方法进行处理时,能够始终从刚性高的边侧把持,从而能够抑制在处理时产生褶皱。能够从表膜构件的宽幅的短边方向进行该表膜构件的处理,把持时的把手部分较宽,也能提高方便性。从提高处理性的观点出发,特别优选在表膜构件框体的短边侧形成把持用的凸部、凹部。另外,当Wb/Wa为1.50以下时,即使在立起表膜构件框体的情况下(使长边侧与地面垂直、使短边侧与地面平行的情况),由于能够抑制长边侧变形,因此也能够抑制产生褶皱。在表膜构件的有效面积为16000cm2以上那样的超大型表膜构件中,为了提高作业效率,优选使表膜构件旋转来对表膜表面进行异物检查。届时,虽然经由立起表膜构件框体的工序,但当Wb/Wa为1.50以下时能够抑制长边侧变形,因此能够抑制在异物检查工序等中表膜产生褶皱。
表膜构件框体1的短边1b的宽度Wb、详细而言短边1b的宽度Wb相对于长边1a的宽度Wa的比例(Wb/Wa)优选为1.05以上,更优选为1.1以上,优选该比例的上限为1.50以下,更优选为1.25以下,特别优选为1.2以下。
作为构成本发明的表膜构件框体的材料,例如可以举出机 械构造用碳钢(SC系列等)、工具钢(碳工具钢SK系列、高速工具钢SKH系列、合金工具钢SKS系列、SKD系列、SKT系列等)、马氏体系不锈钢系列(SUS403、SUS410、SUS410S、SUS420J1、SUS420J2、SUS429J1、SUS440A、SUS304等)、铝、铝合金(5000系、6000系、7000系等)等金属、陶瓷(SiC、AlN、Al2O3等)、陶瓷和金属的复合材料(Al-SiC、Al-AlN、Al-Al2O3等),优选使用铝、铝合金,更详细而言可以使用铝和镁的合金、铝和镁及硅的合金、铝和锌及镁的合金。
另外,由于上述各钢材是磁性材料,因此,能利用磁铁固定该各钢材,特别是在大型表膜构件框体的情况下,能够良好地进行加工作业,因此优选。也可以对表膜构件框体的表面实施黑色镀铬、黑色钝化铝、黑色涂装等黑色化处理。
其中,进一步说明上述处理中的黑色钝化铝。
作为表膜构件用的支承框,通常大多使用5000系的铝合金,因此以铝合金为例进行说明。
通常的黑色钝化铝处理这样实施:在利用铝合金成形出表膜构件支承框后,进行铝钝化处理,利用黑化剂对由该处理产生的微细孔进行封入处理,然后实施将该微细孔封闭起来的封孔处理。但是,当利用电子显微镜观察上述那样采用通常方法制成的支承框的表面时,发现有微细的裂纹(微裂纹)。在该微裂纹的图案不断微细化、布线宽度更窄时,进入到该裂纹中的极小的异物的落下也构成问题。作为防止该种微裂纹产生的方法,优选采用下述方法。
首先,对表膜构件框体的表面进行铝钝化处理。以硫酸浓度为10~20%、电流密度为1~2A/dm2、电解液温度为15~30℃、通电时间在10~30分钟的范围内的条件来进行该铝钝化处理。届时,在合金的表面有规则地形成有许多微小的孔(直径 为 间距为 )。之后,利用该孔进行黑色化处理。由于黑色化处理的目的是防止光自框反射,因此并不限定于黑色,也包括接近于黑色的茶色、藏蓝色等深色。黑色化处理可以举出染色、电解着色等。染色是通过将框体浸渍在溶解有黑色染料的液体中而使该孔吸附染料由此获得色调的方法,另外,电解着色是通过通电来使该孔析出金属元素而获得色调的方法。染色例如在染料浓度为3~10g/L、染色液温度为50~65℃的条件下进行。
接下来,进行将该孔封闭起来的封孔处理。在该处理中,使用的是添加有6~12g/L的例如被称作低温封孔剂的日华化学工业(株)制的Hardwall3(ハ一ドゥォ一ル)(商品名)封孔助剂的煮沸水。
利用此时的封孔处理来填埋钝化铝膜表面的微细孔,从而使钝化铝膜变得越来越致密,但是若能以比100℃稍低的温度、例如70~95℃、更优选80~90℃的温度来进行封孔处理,则能够形成具有极均匀的表面性、实际上不存在微裂纹的表膜构件框体。
另外,采用下述方法来判断是否存在微裂纹:在利用电子显微镜将支承框表面放大1000倍后得到的照片上画出10cm(实际尺寸为0.1mm)的直线,计算与该直线交叉的裂纹的数量。裂纹的数量是对裂纹的宽度为能在该电子显微镜照片上看到、即裂纹宽度为0.1μm以上的裂纹进行统计而得出的。该数值越大,判断出裂纹越是高密度地存在的。
也可以依据需要在表膜构件框体的内壁面或整个表面上涂覆用于捕捉异物的粘合材料(丙烯酸系、醋酸乙烯系、硅系、橡胶系等)、润滑脂(硅系、氟系等)。
另外,当依据需要而开设贯穿表膜构件框体的内部和外部 的微细孔、从而消除由表膜构件和光掩模形成的空间中的内外气压差时,能够防止膜鼓出、凹陷。
另外,此时若在微细孔的外侧安装去除异物过滤器,除了能够调整气压,还能防止异物进入到由表膜构件和光掩模形成的空间中,因此优选在微细孔的外侧安装去除异物过滤器。
在由表膜构件和光掩模形成的空间的容积较大的情况下,当设置多个上述孔、过滤器时,能够缩短由气压变动而导致的膜的鼓出、凹陷的恢复时间,因此优选设置多个上述孔、过滤器。
本发明的表膜构件框体通过满足上述要件而能够兼具适度的刚性和柔软性,因此不会因铺展表膜而使框体变形,当然,在单独对该表膜构件进行处理时该表膜构件也不会挠曲,而且在之后的将该表膜构件粘贴在掩模上后的处理中该表膜构件还能追随掩模自身的挠曲。结果,表膜构件不会出现褶皱,且还能追随掩模的挠曲,因此还能起到不会产生气体通路这一优异效果。
以上说明了本发明的表膜构件框体,但是通过将本发明的表膜构件框体形成为下述构造,能够进一步提高作为表膜构件框体的可靠性。
例如,在将图1、图2和图3所示的表膜构件框体1的长边1a和短边1b形成为相同的宽度Wa、Wb的情况下,能够获得表膜2的粘接面1a1、1b1的宽度Wc、Wd之间满足Wa=Wb>Wc=Wd的关系的构造。这样,在采用表膜构件框体1的宽度Wa、Wb比粘接面的宽度Wc、Wd宽的构造时,能够利用粘接剂涂覆装置、例如X-Y分配机器人(dispenser robot)等定量地涂覆表膜2与表膜构件框体1的粘接剂,因此能够将粘接剂均匀地涂覆于整个粘接面。另外,通过将粘接宽度设定得比框体1的宽度 窄,能够抑制粘接剂的涂覆不均、涂覆残留,结果能够防止异物堆积在与涂覆不均、涂覆残留部分相对应的空间内。另外,当Wc=Wd时,不用在长边和短边改变涂覆量就能够涂覆所有边,因此优选Wc=Wd。
作为制造上述那样的满足Wa=Wb>Wc=Wd的关系的构造的方法,只要在表膜构件框体1的表膜的粘接面侧形成倾斜面,就能够不形成台阶地形成倾斜面。另外,该倾斜面也可以是曲面状。
通过上述那样在表膜构件框体1的宽度与表膜的粘接面的宽度之间设计可达到Wa=Wb>Wc=Wd的宽度差,也能获得防止粘接剂溢出框体1的膜粘接面1b1而下垂到框体1的内周部的效果。另外,以上说明的是Wa=Wb的情况,但即使表膜构件框体1的长边1a和短边1b不是相同的宽度Wa、Wb,只要满足Wa>Wc、Wb>Wd的关系,则能够获得上述效果,另外,在Wc=Wd时,不用在长边和短边改变涂覆量就能够涂覆所有边,因此优选Wc=Wd。
第一技术方案的表膜构件框体能够较佳地追随该种光掩模:光掩模的长边长度为表膜构件框体的长边长度以上且在表膜构件框体的长边长度+150mm以下、且光掩模的短边长度为表膜构件框体的短边长度以上且在表膜构件框体的短边长度+200mm以下。光掩模的厚度只要是在粘贴了表膜构件框体之后能够承受表膜构件框体的重量(不损坏光掩模那样的程度)的程度即可。作为光掩模的材质,可以使用碱石灰玻璃、无碱玻璃、低碱玻璃、石英玻璃等,无论光掩模是何种材质,第一技术方案的表膜构件框体都能良好地追随该光掩模。
以上说明了第一技术方案的表膜构件框体的结构。
接下来,说明本发明的第二技术方案。
首先说明第二技术方案的表膜构件框体1的宽度。图2所示的表膜构件框体1的长边1a的宽度Wa的下限为13.0mm以上,优选下限为14.0mm以上,最优选为16.0mm以上。另一方面,该宽度的上限为30.0mm以下,优选上限为25.0mm以下,更优选上限为19.0mm以下。
另外,例如如图2、图3所示,表膜构件框体的边的宽度是指宽度Wa、Wb那样的各边的最大宽度。
图3所示的表膜构件框体1的短边1b的宽度Wb必须至少比长边1a的宽度Wa宽,详细而言,短边1b的宽度Wb与长边1a的宽度Wa的比例(Wb/Wa)的下限为1.05以上,优选为1.1以上,该比例的上限为1.50以下,优选为1.25以下,最优选为1.2以下。因而,表膜构件框体的短边宽度Wb为13.65mm~45.0mm的范围内的值。
在长边长度为1400mm以上的大型表膜构件中,为了提高处理工序中的自由度,优选只把持短边侧的两个边或长边侧的两个边的任意一方的边而进行处理,特别是考虑到作业效率,优选把持短边侧的两个边的把持方法。在表膜构件框体的短边宽度Wb与长边宽度Wa之比Wb/Wa为1.05以上时,当以把持短边侧的两个边的把持方法进行处理时,能够始终从刚性高的边侧把持,从而能够抑制在处理时产生褶皱。当能够从表膜构件的宽幅的短边方向进行该表膜构件的处理时,把持时的把手部分较宽,也能提高方便性。从提高可处理性的观点出发,特别优选在表膜构件框体的短边侧形成把持用的凸部、凹部。另外,当Wb/Wa为1.50以下时,即使在立起表膜构件框体的情况下(使长边侧与地面垂直、使短边侧与地面平行的情况),由于能够抑制长边侧变形,因此能够抑制产生褶皱。在表膜构件的有效面积为16000cm2以上那样的超大型表膜构件中,为了提高作 业效率,优选使表膜构件旋转而对表膜表面进行异物检查。届时,虽然经由立起表膜构件框体的工序,但由于当Wb/Wa为1.50以下时能够抑制长边侧变形,因此在异物检查工序等中也能够抑制表膜产生褶皱。
另外,优选框体1的厚度为4.0mm以上,更优选为5.0mm以上,进一步优选为6.0mm以上。另外,优选该厚度的上限为10mm以下,更优选为8mm以下,进一步优选为7mm以下,最优选为6.5mm以下。
作为表膜构件框体的各边的截面形状,没有特别限定,可以是矩形、H字形、T字形等,但最优选矩形。截面也可以是中空构造。
本发明的表膜构件框体1越是大型,效果越明显,详细而言,在表膜构件框体1的长边1a的长度La为1400mm以上、特别是为1700mm~2100mm、且届时的表膜构件的有效面积为16000cm2以上、24000cm2以上、特别是为25000cm2以上的情况下,能够起到显著效果。另外,虽然本发明的表膜构件框体1是越大型越能起到显著的效果,但是从用于制造TFTLCD的掩模等所要求的尺寸来看,框体的有效面积的上限为35000cm2就已足够。
另外,在长边长度为1400mm以上的大型表膜构件中,对于将表膜构件粘贴在掩模上之后的处理,在作业工序上,多数情况不是只把持掩模的短边、而是一起把持掩模和表膜构件框体1的相对的一组短边1b中的、各短边1b的至少一处,当这样操作时能够提高作业效率,在该情况下由掩模的自重而产生的挠曲在长边和短边上是不同的。详细而言,未把持的相对的长边1a方向上的掩模的挠曲变大。因此,要求表膜构件框体的挠曲追随长边方向的挠曲。第二技术方案的表膜构件框体也能充 分地追随具有该种特异性的掩模的挠曲。
本发明的表膜构件框体通过满足上述要件而能够兼具适度的刚性和柔软性,因此不会因铺展表膜而使框体变形,当然,在单独对该表膜构件进行处理时该表膜构件也不会挠曲,而且在之后的将该表膜构件粘贴在掩模上后的处理中该表膜构件还能追随掩模自身的挠曲。
结果,不会因在将表膜铺展在表膜构件框体上时产生的表膜构件框体的变形而使表膜构件的有效面积减小,该表膜构件还能追随掩模的挠曲,因此还能起到不会产生气体通路的这一优异效果。
此外,通过使短边的宽度大于长边的宽度,在处理表膜构件时能够易于把持表膜构件框体的短边侧。结果,能够易于从与处理掩模时的把持部分相同的一侧处理表膜构件,从而能够提高作业效率。
在本发明的表膜构件框体1中,也优选上述框体1的长边1a和短边1b的表膜2的粘接面1a1、1b1的宽度Wc、Wd大致相等。这里所述的长边1a和短边1b的膜粘接面1a1、1b1的宽度Wc、Wd大致相等是指,使长边1a和短边1b的膜粘接面1a1、1b1的宽度Wc、Wd的差小于长边1a和短边1b的宽度Wa、Wb的差。即,如图2和图3的剖视图所示,指Wb-Wa>Wd-Wc。
通常,利用粘接剂涂覆装置、例如X-Y分配机器人等涂覆表膜2与表膜构件框体1的粘接剂。在该情况下,由于长边1a和短边1b的每单位长度的粘接剂涂覆量相同,因此,若Wc<Wd,在将表膜2粘贴在表膜构件框体1上时,长边1a上的粘接剂量较多,粘接剂有时溢出框体1的膜粘接面1a1而下垂到框体1的内周部。
另外,短边1b上的粘接剂量不够充分,粘接剂不能在膜粘 接面1b1的整个表面上均匀扩展开,在内侧、在表膜2与表膜构件框体1之间产生狭窄的间隙,异物有时被夹在该间隙中。
从该观点出发,通过如上所述那样使长边1a和短边1b的膜粘接面1a1、1b1的宽度Wc、Wd大致相等,即使采用以往那样的简单的粘接剂涂覆装置,也能获得更加优选的表膜构件。
作为使长边1a和短边1b的膜粘接面1a1、1b1的宽度Wc、Wd大致相等的方法,只要在表膜构件框体的至少框体1的长边1a的表膜2的粘接面侧形成倾斜面,就能够不形成台阶地形成倾斜面,从而能够防止异物堆积在表膜构件框体中。另外,该倾斜面也可以是曲面状。
另外,通过设置该倾斜面,能够防止粘接剂下垂到框体的内周部。优选倾斜面是不会影响表膜构件框体的刚性、柔软性那样程度的大小。
接下来,说明如下所述那样做成在上述本发明的第一技术方案和第二技术方案的表膜构件框体的内侧面积为16000cm2以上的超大型表膜构件框体上铺展并粘接表膜而获得的超大型表膜构件。
作为表膜,可以使用纤维素衍生物(硝基纤维素、醋酸纤维素、醋酸丙酸纤维素、醋酸丁酸纤维素等,或这些中的2种以上的混合物)、氟系聚合物(四氟乙烯-偏氟乙烯-六氟丙烯三元共聚物、主链中具有环状结构的聚合物即DUPONT公司制的Teflon AF(商品名)、旭硝子公司制的CYTOP(商品名)、ァゥジモント公司制的Algoflon(商品名)等)等聚合物等。
表膜例如使用由聚合物溶液成膜形成的薄膜。该薄膜具有张力。另一方面,为了防止表膜挠曲或产生褶皱,该张力是必需的。
若表膜挠曲或产生褶皱,在想要通过鼓风而将附着在表膜 上的异物去除时,该表膜会大幅度地振动,很难去除上述异物。另外,由于表膜的高度在不同的位置是不同的,因此表膜的异物检查机不能正常地发挥作用。另外,存在以光学方法测量表膜的高度时产生误差等问题。
对于现在所用的一次曝光液晶曝光机的光源即超高压水银灯,从提高耐光性、节省成本的观点出发,优选使用醋酸丙酸纤维素、醋酸丁酸纤维素。
表膜的膜厚优选为0.5μm~10μm左右,在本发明的大型表膜构件中,从表膜的强度、均匀的膜的制作难易度方面出发,优选表膜的膜厚为2μm~8μm。利用上述聚合物所分别适用的溶剂(酮系、脂系、乙醇类、氟系等)将该聚合物形成为聚合物溶液。
相对于上述醋酸丙酸纤维素、醋酸丁酸纤维素,优选使用乳酸乙酯等酯系。依据需要利用深度过滤器(depth filter)、膜式过滤器(membrane filter)等过滤聚合物溶液。
聚合物溶液的成膜法有旋涂法、滚涂法、刮刀涂覆法、铸涂法等,从均匀性、管理异物的方面出发,优选旋涂法。当利用旋涂法在成膜基板上成膜了之后,依据需要利用加热板(hot plate)、洁净烘箱(clean oven)、(远)红外线加热等烘干溶剂,从而形成均匀的膜。作为此时的成膜基板,利用合成石英、熔融石英、无碱玻璃、低碱玻璃、钠钙硅酸盐玻璃等。
由于本发明的大型表膜构件的成膜用基板的尺寸较大,因此有时因为烘干时的温度不均而使成膜基板断裂。为了防止该情况发生,优选成膜用基板的热膨胀系数越小越好。特别是,优选0℃~300℃的线膨胀系数为50×10-7m/℃以下。
另外,利用硅系、氟系等的材料对成膜用基板的表面预先实施分型处理较好。另外,优选在上述表膜的单侧或两侧形成 折射率比该表膜低的层(即防反射层),从而能够提高相对于曝光光线的透过率。
作为防反射层的材料,可使用氟系聚合物(四氟乙烯-偏氟乙烯-六氟丙烯三元共聚物、主链中具有环状结构的聚合物即DUPONT公司制的Teflon AF(商品名)、旭硝子公司制的CYTOP(商品名)、ァゥジモント公司制的Algoflon(商品名)、聚氟代丙烯酸酯等)、氟化钙、氟化镁、氟化钡等低折射率的材料。
在防反射层为聚合物的情况下,可以同样采用上述的旋涂法来形成该防反射层,在防反射层为无机物的情况下,可以采用真空蒸镀、溅射等薄膜形成法来形成该防反射层。考虑到异物,优选采用聚合物溶液的旋涂法。优选使用杜邦公司(デュ·ポン社)生产的特氟隆AF(テフロンAF)(商品名)、奥斯蒙公司(ァゥジモンド社)生产的Algoflon(ァルゴフロン)(商品名),这是因为这些材料的折射率小,所以防反射效果好。
可以利用在铝合金、不锈钢、树脂等上粘贴粘合材料而形成的模板将利用上述方法形成在成膜基板上的表膜从成膜基板上剥下,改贴在期望的表膜构件框体上。另外,也可以在将期望的表膜构件框体粘接于成膜基板上之后从成膜基板上剥下该表膜构件框体。
这样获得的大型表膜对表膜构件框体施加张力而在粘接剂的作用下粘接于框体上。
当膜的张力在适度的范围内时,能够抑制大型表膜因自重、大型表膜的内外气压差而沿大型表膜的膜表面的铅垂方向膨胀、凹陷,从而能够防止曝光不良。另外,能够解决在通过鼓风去除附着在表膜上的异物时、该表膜大幅度地振动而很难去除异物这样的问题,还能解决由于表膜的高度因位置的不同而 不同所导致的该表膜的异物检查机不能正常发挥作用这样的问题,还能解决当以光学方法测量表膜的高度时产生误差这样的问题。另外,能够确保相对于大型表膜构件的内外的气压变动的追随性能。
用于粘接表膜和表膜构件框体的膜粘接剂根据表膜的材质和表膜构件框体的材质而适当选择。例如,可以使用环氧系、丙烯系、硅系、氟系等粘接剂。
另外,粘接剂的硬化方法可以采用各种粘接剂所适用的硬化方法(热硬化、光硬化、厌氧硬化等)。从发尘性、成本、可操作性的方面出发,优选使用丙烯系的紫外线硬化型粘接剂。
作为用于将表膜构件框体粘贴在光掩模上的掩模粘合材料,可以应用本身具有粘接力的热熔系(橡胶系、丙烯系)材料、在基材的两面涂覆粘合材料而形成的带类材料(作为基材,可以应用丙烯系、PVC系等片材或橡胶系、聚烯烃系、聚氨酯系等泡沫等,作为粘合材料,可以应用橡胶系、丙烯系、硅系等粘合材料)等。
在本发明的大型表膜构件中,作为掩模的粘合材料,为了能够以低负荷将表膜构件均匀地粘贴在掩模上,优选使用比较柔软的热熔材料、泡沫。在使用泡沫的情况下,利用丙烯系、醋酸乙烯系的粘合性材料或非粘合性材料来覆盖该泡沫的截面,从而能够防止自泡沫发尘。
掩模的粘合材料的厚度通常为0.2mm以上,但为了能够将表膜构件均匀地粘贴在光掩模上,优选该厚度为1mm以上。为了在将表膜构件粘贴于光掩模之前的期间内保护上述掩模的粘合材料的粘接面,使用以硅系、氟系材料分型处理后的聚酯薄膜作为掩模的粘合材料。
用于输送表膜构件的壳体通过对丙烯系、ABS系、PVC系、 PET系等的材料进行注塑成形、真空成形而做成。为了防止上述材料带电,可以在上述材料中混炼入防带电剂,也可以使用具有防带电构造的聚合物(クレハ公司生产的BAYON(商标)、旭化成公司生产的ADION(商标))。
为了防止壳体在输送过程中变形而损坏壳体内的表膜构件,本发明的超大型表膜构件用的壳体优选在壳体的盖、盘或壳体的两侧设置加强筋构造,以提高对外力的抵抗性。
另外,需要一种能够实现下述目的的方法:除了能够可靠地把持表膜构件框体,还能在之后的从收纳容器取出表膜构件时不使框体挠曲、扭转地取出框体的方法。并且,特别是对于表膜构件本身较大、处理也较为困难的大型表膜构件来说,需要一种能够实现下述目的的方法:能够在收纳、搬运、保管该表膜构件时可靠地把持该表膜构件,而且在从收纳容器取出该表膜构件时,能够不使表膜构件从保护膜与粘合材料的界面发生变形、挠曲地取出该表膜构件,从而能够在取出后将该表膜构件直接粘贴于掩模等上。
于是,为了不受光掩模的制约,通过在表膜构件框体的所有边部上分别形成把持用的凸部或凹部,能够把持最长边的长度为1.4m~2.0m的大型表膜构件。
特别是,在第二技术方案中,由于短边侧的宽度大于长边侧的宽度,因此易于在短边侧形成把持用的凸部、凹部。
第二技术方案的表膜构件框体能够较佳地追随下这样的光掩模,该光掩模的长边长度为表膜构件框体的长边长度以上且在表膜构件框体的长边长度+150mm以下,该光掩模的短边长度为表膜构件框体的短边长度以上且在表膜构件框体的短边长度+200mm以下的光掩模。光掩模的厚度只要是在粘贴了表膜构件框体之后能够承受表膜构件框体的重量(不损坏光掩模那 样的程度)的程度的厚度即可。作为光掩模的材质,可以使用碱石灰硅酸盐玻璃、无碱玻璃、低碱玻璃、石英玻璃等,但无论光掩模是何种材质,第二技术方案的表膜构件框体都能良好地追随该光掩模的挠曲。
接下来,利用实施例更加详细地说明本发明。