JP2001109135A

JP2001109135A - 大型ペリクル用枠体及び大型ペリクル

Info

Publication number: JP2001109135A
Application number: JP2000225150A
Authority: JP
Inventors: Yoshimasa Kuriyama; 芳真栗山
Original assignee: Asahi Kasei Electronics Co Ltd
Current assignee: Asahi Kasei Electronics Co Ltd
Priority date: 1999-07-30
Filing date: 2000-07-26
Publication date: 2001-04-20
Anticipated expiration: 2020-07-26
Also published as: JP4007752B2

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、大型ペリクル膜を展張して貼着支
持する長辺と短辺とを有する方形状の大型ペリクル用枠
体であって、長辺の幅を短辺の幅よりも大きくして長辺
の強度を確保して長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制
するものである。【解決手段】大型ペリクル膜２を展張する面積が１０
００cm²以上であり、且つ枠体１の長辺１ａの幅が短辺
１ｂの幅より大きいことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＩＣ（集積回
路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）、ＴＦＴ型ＬＣＤ（薄
膜トランジスタ液晶ディスプレイ）等の半導体装置を製
造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマス
クやレティクルに異物が付着することを防止するために
用いられるペリクル用枠体及びそれを用いたペリクルに
関するものであり、特にＴＦＴ型ＬＣＤを製造するため
に好適な大型ペリクル用枠体及び大型ペリクルに関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体回路パターン等の製造にお
いては、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクル
と称する防塵手段を配置してフォトマスクやレティクル
への異物の付着を防止することが行われている。

【０００３】ペリクルの一般的な構造としては、金属、
セラミックス、あるいはポリマー製の枠体の片側に、ポ
リマーあるいはガラス等の透明な薄膜を貼り付け、その
反対側に、マスクに貼り付けるための粘着材を設けたも
のが挙げられる。例えば、ペリクルはフォトマスクやレ
ティクルの形状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度
の枠体の一方の縁面に厚さ１０μｍ以下のニトロセルロ
ース或いはセルロース誘導体等の透明な高分子膜からな
るペリクル膜を展張して接着し、且つ枠体の他方の縁面
に粘着材を介してフォトマスクやレティクルの表面に貼
着される。

【０００４】フォトマスクやレティクルの表面に異物が
付着した場合、その異物が半導体ウエハー上に形成され
たフォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因
となるが、フォトマスクやレティクルの少なくともパタ
ーン面にペリクルを配置した場合、ペリクルの表面に付
着した異物はフォーカス位置がずれるために、半導体ウ
エハー上に形成されたフォトレジスト上に結像すること
がなく、回路パターンに欠陥を生じさせることがない。

【０００５】従来のペリクル膜を展張して貼着支持する
ための枠体は、直径５インチ（１２７mm）や６インチ
（１５２.４mm）の半導体ウエハに応じた大きさで形成
されており、枠体の縦横の辺は同じ断面積の方形状の断
面を有する枠体で構成され、ペリクル膜を貼着する枠体
の縦の辺の幅と横の辺の幅とが等しくなるように構成さ
れているのが一般的である。

【０００６】近年では、各種のマルチメディアの普及に
より、高画質、高精細表示が可能な大型のカラーＴＦＴ
型ＬＣＤのフォトリソグラフィ工程で使用される大型の
フォトマスクに適用出来る大型ペリクルが要望されてい
る。

【０００７】特に、コンピュータディスプレイやテレビ
ジョン用に、大きなサイズの液晶パネルの開発が進んで
いる。このような大型液晶パネルを製造する際のフォト
リソグラフィ工程には、ＬＳＩと同様のサイズの５イン
チ又は６インチのレティクルを使用する分割露光方式
と、より大きなサイズのマスクを使用する一括露光方式
とがある。近年の液晶パネルの大型化に伴い、生産効率
の点から、一括露光方式が使用されることが多くなって
きている。一括露光方式においてもＬＳＩの製造プロセ
スと同様、マスクへの異物付着を防止するためにペリク
ルが使用され、それに伴いペリクルのサイズも大きくな
ってきている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】一般に、露光プロセス
で使用される光源は、超高圧水銀ランプから放射される
ｇ線、ｈ線、ｉ線、あるいは、波長３００nm前後の近紫
外線が使用される。これらの光を吸収せず、十分な耐久
性を持たせるために、マスクの材料には高純度の石英が
使用されることが多いが、これはサイズが大きくなるに
従って、幾何級数的に高価になる。従って、経済的な負
担を軽減するために、マスクのサイズは、目的とする液
晶パネルを製造するための最小限の大きさが求められて
いる。

【０００９】マスクの寿命を延ばすために、ペリクルを
貼り付けることは必須となっているが、上記のような状
況から、ペリクル枠体のサイズは大きくなる一方、マス
クサイズを最小限に抑えるために、ペリクルを貼り付け
るために必要な面積も最小限に抑えること、すなわち、
外径寸法は小さく、内径寸法は大きくすることが求めら
れている。

【００１０】ところが、このような大きなサイズのペリ
クルには次のような問題点がある。第一の問題点は、ペ
リクル枠体の撓みである。ペリクル膜、特に大きなサイ
ズの膜では、膜が弛んだり、しわが入らないように、あ
る程度の張力が必要である。この膜張力によりペリクル
枠体が内側に撓むが、この撓みによる露光部への干渉が
無視出来なくなってきている。また、前述のように、ペ
リクルの外径寸法とマスクサイズはかなり近く、マスク
へのペリクル貼り付けには高精度が要求されるが、ペリ
クル枠体の撓みは、ペリクル10のマスクへの貼り付け精
度悪化にもつながる。

【００１１】第二の問題点は、マスクのアライメントマ
ークに関する問題である。マスクのアライメントマーク
は、ペリクル枠体の外径の外側に設けられている。マス
クにペリクルを貼り付ける際には、ペリクルがアライメ
ントマークの上にかからないように貼り付ける必要があ
る。

【００１２】しかし、前述のようにマスクサイズを最小
限に抑えるために、ペリクル枠体の外径とアライメント
マークとの間隔が非常に狭くなり、ペリクルの貼り付け
に要求される精度は、従来のペリクル貼り付け装置の精
度を超えるものになった。そのため、ペリクルの貼り付
け歩留まりが低下するという問題が生じる。

【００１３】そこで、上記の課題を解決するために発明
者は鋭意検討の結果、以下の知見に到達した。即ち、大
型ペリクル膜を展張して貼着支持する長辺と短辺とを有
する方形状の大型ペリクル用枠体において、長辺の幅を
短辺の幅よりも大きくし、長辺の強度を確保することに
よって長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制出来るもの
である。また、大型ペリクル膜が貼着される長辺と短辺
の貼着面の幅を略等しくすることで接着剤を均一に塗布
することが出来る。

【００１４】更に、ペリクル枠体の外周部のマスクアラ
イメントマークに対応する位置に凹部を設けることによ
り、マスクやレティクルの露光領域を最大限に利用出来
る。

【００１５】

【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めの本発明に係る大型ペリクル用枠体及び大型ペリクル
は、以下の構成を特徴とする。即ち、本発明の第１の特
徴は、大型ペリクル膜を展張して貼着支持する長辺と短
辺とを有する方形状の大型ペリクル用枠体であって、前
記大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm²以上で
且つ枠体の長辺の幅が短辺の幅より大きいことを特徴と
する大型ペリクル用枠体及びそれを用いた大型ペリクル
である。また前記枠体の長辺の幅が該枠体の短辺の幅の
１．３倍以上であることが好ましい。

【００１６】第２の特徴としては、少なくとも前記枠体
の長辺のペリクル膜貼着面に傾斜面を形成して前記枠体
の長辺及び短辺の貼着面の幅を略等しくした大型ペリク
ル用枠体及びそれを用いた大型ペリクルである。

【００１７】このような構成にすることによって、接着
剤を枠体に均一に塗布することが出来る。また、枠体の
長辺及び短辺の貼着面の幅を略等しくするために少なく
とも長辺の貼着面側に傾斜面を形成することが好まし
い。

【００１８】第３の特徴は、大型ペリクル用枠体の外周
部の所定の位置に、マスクのアライメントマークを露出
させるための凹部を設けて構成する大型ペリクル用枠体
及びそれを用いた大型ペリクルである。

【００１９】また前記アライメントマーク露出用凹部の
両側の外頂部を曲面に形成することが好ましい。この曲
面Ｒの大きさは半径１mm以上が好ましく、半径５mm以上
が更に好ましい。

【００２０】第４の特徴は、前記アライメントマーク露
出用凹部の両側の内頂部を曲面に形成した大型ペリクル
用枠体及びそれを用いた大型ペリクルである。この曲面
Ｒの大きさは半径１mm以上が好ましく、半径５mm以上が
更に好ましい。

【００２１】

【発明の実施の形態】図により本発明に係る大型ペリク
ル用枠体及びこれを用いた大型ペリクルの一実施形態を
具体的に説明する。図１は本発明に係る大型ペリクル用
枠体及びこれを用いた大型ペリクルの構成を示す斜視
図、図２は本発明に係る大型ペリクル用枠体及びこれを
用いた大型ペリクルの構成を示す平面図、図３（ａ）は
図２のＡ−Ａ断面図、図３（ｂ）は図２のＢ−Ｂ断面
図、図４（ａ）は他の形状を示す断面図、図４（ｂ）は
他の形状を示す断面図である。

【００２２】また、図５（ａ）,（ｂ）は枠体の長辺と
短辺の貼着面の幅を略等しくするために各貼着面側に形
成された平面状の傾斜面の他の一例を示す図、図６
（ａ）〜（ｃ）は大型ペリクル膜が貼着される枠体の貼
着面の幅が大きい場合で接着剤が不均一に塗布された場
合の課題を説明する図である。

【００２３】また、図７は図６の他の形状を示す場合の
例を示す図、図８（ａ）〜（ｅ）は枠体の長辺と短辺の
貼着面の幅を略等しくするために各貼着面側に形成され
た曲面状の傾斜面や段差、或いは片側のみに平面状や曲
面状の傾斜面や段差を形成した一例を示す模式図であ
る。

【００２４】また、図９はアライメントマークを設けた
ペリクル枠体を示す平面図、図10は図９の部分拡大図で
ある。

【００２５】先ず、本発明に係る大型ペリクル用枠体に
ついて説明する。図１及び図２に示すように、本発明に
用いる大型ペリクル用枠体１（以下、単に「枠体１」と
いう）は方形状で形成され、その大きさは、長辺１ａが
４００mm〜２０００mm、短辺１ｂが２５０mm〜１５００
mmである。

【００２６】この枠体１に展張して貼着支持される大型
ペリクル膜２（以下、単に「ペリクル膜２」という）の
面積は、１０００cm²以上が好ましく、１２００ cm²以
上がより好ましい。

【００２７】長辺１ａの幅Ｗａは、短辺１ｂの幅Ｗｂよ
りも大きく、好ましくは、１．０５倍〜２０倍、より好
ましくは、１．１倍〜１０倍、更に好ましくは１．３倍
〜５倍である。例えば、長辺１ａの幅Ｗａは４mm〜３０
mm、短辺１ｂの幅Ｗｂは３mm〜２３mmである。

【００２８】本発明に用いるペリクル枠体１の材質とし
ては、機械構造用炭素鋼（SCシリーズ等）、工具鋼（炭
素工具鋼SKシリーズ、高速度工具鋼SKHシリーズ、合金
工具鋼SKSシリーズ、SKDシリーズ、SKTシリーズ等）、
マルテンサイト系ステンレスシリーズ（SUS403、SUS41
0、SUS410S、SUS420J1、SUS420J2、SUS429J1、SUS440A
等）、アルミニウム合金（5000系、6000系、7000系等）
等の金属、セラミックス（SiC、AlN、Al2O3等）、セラ
ミックスと金属の複合材料（Al-SiC、Al-AlN、Al-Al2O3
等）、樹脂（ポリスルフォン、ポリエーテルエーテルケ
トン等）が挙げられる。

【００２９】上記の各鋼材は磁性材料のため磁石で固定
出来、特に大型ペリクル10の枠体１の場合、加工作業が
良くなり好ましく用いられる。ペリクル枠体１の表面
に、黒色クロムメッキ、黒色アルマイト、黒色塗装等の
黒色化処理を施すことも出来る。

【００３０】必要に応じてペリクル枠体１の内壁面又は
全面に、異物を補足するための粘着材（アクリル系、酢
酸ビニル系、シリコン系、ゴム系等）やグリース（シリ
コーン系、フッ素系等）を塗布しても良い。

【００３１】また、必要に応じてペリクル枠体１の内部
と外部を貫通する微細な穴を開けて、ペリクル10とフォ
トマスク６で形成された空間の内外の気圧差がなくなる
ようにすると、膜の膨らみや凹みを防止出来る。

【００３２】また、この時、微細な穴の外側に異物除去
フィルターを取り付けると、気圧調整が可能な上、ペリ
クル10とフォトマスク６で形成された空間の中に異物が
侵入することを防げるので好ましい。

【００３３】ペリクル10とフォトマスク６で形成された
空間容積が大きい場合には、これらの穴やフィルターを
複数個設けると、気圧変動による膜の膨らみや凹みの回
復時間が短くなり、好ましい。

【００３４】ペリクル膜２は、ポリマー溶液からスピン
コート法で成膜された薄膜が好ましく使用されている。
この薄膜には張力が存在する。一方、この張力は、ペリ
クル膜２が撓んだりしわが入らないようにするために必
要である。

【００３５】ペリクル膜２が撓んだりしわが入ると、ペ
リクル膜２に付着した異物をエアブローで除去する時
に、該ペリクル膜２が大きく振動し除去し難い。また、
ペリクル膜２の高さが場所により変わるために、ペリク
ル膜２の異物検査機が正常に機能しない。また、ペリク
ル膜２の光学的高さ測定に誤差を及ぼす等の問題が生じ
る。

【００３６】本発明では、ペリクル膜２の張力による撓
み量の大きなペリクル枠体１の長辺１ａの幅Ｗａのみを
大きくすることにより長辺１ａの撓みを防ぐ。短辺１ｂ
の幅Ｗｂは従来通りとする（図１、図２参照）。このこ
とにより、高価なフォトマスク６の大きさを必要最小限
にすることが出来る。

【００３７】また、ペリクル枠体１の長辺１ａの撓みが
生じないので、ペリクル枠体１の外径を基準とする従来
のペリクル貼り付け装置により、ペリクル10のフォトマ
スク６への貼付けを精度良く行うことが出来る。

【００３８】また、ペリクル枠体１の内側ぎりぎりまで
露光パターンを設けることが出来、この点からも非常に
高価なフォトマスク６の面積を最小限に抑えることが出
来る。前記ペリクル枠体１の長辺１ａの幅Ｗａは、短辺
１ｂの幅Ｗｂの１．３倍以上であると、撓み防止には効
果的である。

【００３９】また、本発明は、前記枠体１の長辺１ａ及
び短辺１ｂのペリクル膜２の貼着面1a1，1b1の幅Ｗｃ，
Ｗｄを略等しくしたことを特徴とする大型ペリクル枠体
１である。ここで述べる長辺１ａと短辺１ｂのペリクル
膜２の貼着面1a1，1b1の幅Ｗｃ，Ｗｄが略等しいとは、
長辺１ａと短辺１ｂの膜貼着面1a1，1b1の幅Ｗｃ，Ｗｄ
の差が長辺１ａと短辺１ｂの幅Ｗａ，Ｗｂの差より小さ
いことを意味する。つまり後述する図３及び図４の断面
図を用いて説明すると、Ｗａ−Ｗｂ＞Ｗｃ−Ｗｄである
ことを意味する。

【００４０】前記のようにペリクル枠体１の長辺１ａの
幅Ｗａ、短辺１ｂの幅Ｗｂが異なる場合、ペリクル膜２
の貼着面1a1，1b1の幅Ｗｃ，Ｗｄも異なってしまう。一
方、ペリクル膜２とペリクル枠体１の接着剤は、接着剤
塗布装置、例えばＸ−Ｙディスペンサーロボット等を用
いて塗布される。

【００４１】この場合、通常、長辺１ａと短辺１ｂでの
単位長さ当たりの接着剤塗布量は同じであるため、ペリ
クル膜２をペリクル枠体１に貼り付けた際に、短辺１ｂ
では接着剤量が多くなってしまい、接着剤が枠体１の膜
貼着面1b1をはみ出して枠体１の内周部へ垂れることが
ある。

【００４２】また、図７（ａ）に示すように、長辺１ａ
では接着剤量が不足して膜貼着面1a1の全面に均一に広
がらず、内側ではペリクル膜２とペリクル枠体１との間
に狭い隙間５が出来、この隙間５に異物が挟まれること
がある。

【００４３】また、図７（ｂ）に示すように外側では、
接着後の余膜切断時にペリクル膜２の外縁２ａの膜片が
残り、ペリクルハンドリング中の発塵の原因ともなる。
そのため、長辺１ａと短辺１ｂの膜貼着面1a1，1b1の幅
Ｗｃ，Ｗｄを略等しくすることで、従来通りの簡単な接
着剤塗布装置を用いても、より好ましいペリクル10が得
られる。

【００４４】また、長辺１ａと短辺１ｂの膜貼着面1a
1，1b1の幅Ｗｃ，Ｗｄを略等しくする方法として、ペリ
クル枠体１の少なくとも枠体１の長辺１ａのペリクル膜
２の貼着面側に傾斜面を形成すれば、段差が無く傾斜面
を形成することが出来、ペリクル枠体１に異物が堆積す
ることを防ぐことが出来る。

【００４５】更に本発明では、図９に示すペリクル枠体
１の外周部所定の位置にアライメントマーク露出用凹部
８を設けることも出来る。ペリクル枠体１の長辺１ａ中
央部にマスクアライメントマーク露出用凹部８を設けた
ので、ペリクル枠体１の長辺１ａの外径（幅）を太くし
てもマスクアライメントマーク７と枠体１の外径との間
に隙間９を一定量確保出来る。

【００４６】これにより、大型ペリクル10をフォトマス
ク６に貼り付ける際、マスクアライメントマーク７上に
大型ペリクル10を貼り付けてしまうことなく、貼り付け
歩留まりを向上させることが出来る。好ましくは、前記
マスクアライメントマーク露出用凹部８の両側の外頂部
８ａを曲面に形成する。更に好ましくは前記外頂部８ａ
に設けた曲面Ｒの大きさが半径１mm以上にする。

【００４７】マスクアライメントマーク露出用凹部８の
外頂部８ａを曲面に形成すると、ペリクル10の輸送、或
いはペリクル10をフォトマスク６に貼り付ける際のフォ
トマスク６のハンドリング等による接触や振動や衝撃等
によってアライメントマーク露出用凹部８の外頂部８ａ
が他の部材との摩擦で発塵する心配がない。また、より
好ましくは、曲面Ｒの大きさを半径１mm以上にすれば発
塵防止に効果的である。

【００４８】更に、前記マスクアライメントマーク露出
用凹部８の両側の内頂部８ｂについても、曲面に形成す
ることが好ましい。更に好ましくは、前記マスクアライ
メントマーク露出用凹部８の両側の内頂部８ｂに設けた
曲面Ｒの大きさが半径１mm以上である。

【００４９】マスクアライメントマーク露出用凹部８の
内頂部８ｂに曲面を形成すると、ペリクル枠体１に異物
が溜まり難い構造となり、ペリクル10の製造工程におけ
るペリクル枠体１の洗浄によって確実に異物が除去出来
るようになる。

【００５０】本発明に係る大型ペリクル10は、前記に述
べたペリクル枠体１を利用し、以下のように作成する。

【００５１】ペリクル膜２としては、セルロース誘導体
（ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロー
スアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブ
チレート等、あるいはこれら２種以上の混合物）、フッ
素系ポリマー（テトラフルオロエチレン−ビニリデンフ
ルオライド−ヘキサフルオロプロピレンの３元コポリマ
ー、主鎖に環状構造を持つポリマーであるデュ・ポン社
製のテフロンAF（商品名）、旭硝子社製のサイトップ
（商品名）、アウジモント社製のアルゴフロン（商品
名）等）等のポリマー等が用いられる。

【００５２】現在用いられている一括露光液晶露光機の
光源である超高圧水銀ランプに対しては、耐光性やコス
トの点から、セルロースアセテートプロピオネートやセ
ルロースアセテートブチレートが好ましく使用される。

【００５３】ペリクル膜２の膜厚は、０．５μｍ〜１０
μｍ程度が好適であり、本発明に係る大型ペリクル10で
は、ペリクル膜２の強度や均一な膜の作り易さから、２
μｍ〜８μｍが好ましい。上記のポリマーは、夫々に適
した溶媒（ケトン系、エステル系、アルコール系、フッ
素系等）により、ポリマー溶液とする。

【００５４】上記のセルロースアセテートプロピオネー
トやセルロースアセテートブチレートに対しては、乳酸
エチル等のエステル系が好ましい。ポリマー溶液は必要
に応じてデプスフィルター、メンブレンフィルター等に
より濾過される。

【００５５】ポリマー溶液の成膜法には、スピンコート
法、ロールコート法、ナイフコート法、キャスト法等が
あるが、均一性や異物の管理の点から、スピンコート法
が好ましい。スピンコート法により成膜基板上に成膜し
た後、必要に応じてホットプレート、クリーンオーヴ
ン、（遠）赤外線加熱等により溶媒を乾燥することによ
り、均一な膜が形成される。この時の成膜基板として
は、合成石英、溶融石英、無アルカリガラス、低アルカ
リガラス、ソーダライムガラス等が利用出来る。

【００５６】本発明に係る大型ペリクル成膜用の基板サ
イズは大きいので、乾燥時の温度斑により成膜基板が割
れることがある。これを防ぐために、成膜用基板の熱膨
張係数は小さいほど好ましい。特に、０℃〜３００℃に
おける線膨張係数が５０×１０^-7ｍ／℃以下であること
が好ましい。

【００５７】また、基板表面には、シリコーン系、フッ
素系等の材料により、あらかじめ離型処理を施しておけ
ば良い。また、上記のペリクル膜２の片側、あるいは両
側に、該ペリクル膜２よりも屈折率の低い層（即ち、反
射防止層）を形成することにより、露光光線に対する透
過率を高めることが出来、好ましい。

【００５８】反射防止層の材料としては、フッ素系ポリ
マー（テトラフルオロエチレン−ビニリデンフルオライ
ド−ヘキサフルオロプロピレンの３元コポリマー、主鎖
に環状構造を持つポリマーであるデュ・ポン社製のテフ
ロンAF（商品名）、旭硝子社製のサイトップ（商品
名）、アウジモント社製のアルゴフロン（商品名）、ポ
リフルオロアクリレート等）や、フッ化カルシウム、フ
ッ化マグネシウム、フッ化バリウム等屈折率の低い材料
が使用される。

【００５９】反射防止層は、ポリマーの場合、前述と同
様のスピンコート法により、無機物の場合、真空蒸着や
スパッタリング等の薄膜形成法により形成することが出
来る。異物の点からは、ポリマー溶液によるスピンコー
ト法が好ましい。デュ・ポン社製のテフロンAF（商品
名）、アウジモンド社製のアルゴフロン（商品名）は屈
折率が小さいので反射防止効果が高く好ましい。

【００６０】上記により基板上に形成されたペリクル膜
２は、アルミニウム合金、ステンレススチール、樹脂等
に粘着材を貼り付けた仮枠により、基板から剥がし取っ
て所望のペリクル枠体１に貼り替えても良い。また基板
上で所望のペリクル枠体１を接着後、基板から剥がし取
っても良い。

【００６１】このようにして得られた大型ペリクル膜２
は、ペリクル枠体１に張力を架けて接着剤により貼着さ
れる。得られた大型ペリクル10は、枠体１に展張して貼
着支持された大型ペリクル膜２の張力が好ましくは１×
１０^-3Ｎ／mm〜１Ｎ／mmであり、より好ましくは６×１
０^-3Ｎ／mm〜６×１０^-1Ｎ／mmである。

【００６２】膜の張力が上記範囲にあると、大型ペリク
ル膜２がその自重や大型ペリクル膜２内外の気圧差によ
り大型ペリクル膜２の膜面の鉛直方向に膨らんだり凹ん
だりするのを抑制して露光不良を防止することが出来
る。

【００６３】また、ペリクル膜２に付着した異物をエア
ブローで除去する時に該ペリクル膜２が大きく振動し、
異物を除去し難いという問題を解決出来、更には、ペリ
クル膜２の高さが場所により変わるために該ペリクル膜
２の異物検査機が正常に機能しないという問題を解決出
来、また、ペリクル膜２の光学的高さ測定に誤差を及ぼ
すといった問題を解決出来る。また大型ペリクル10内外
の気圧変動に対する追従性能を確保することが出来る。

【００６４】ぺリクル膜２とペリクル枠体１に接着する
ための膜接着剤は、ペリクル膜２の材質とペリクル枠体
１の材質によって適宜選択する。たとえば、エポキシ
系、アクリル系、シリコーン系、フッ素系等の接着剤が
使用される。

【００６５】また、硬化方法は夫々の接着剤に適した硬
化方法（熱硬化、光硬化、嫌気性硬化等）が採用され
る。発塵性、コスト、作業性の面から、アクリル系の紫
外線硬化型接着剤が好ましい。

【００６６】ペリクル枠体１をフォトマスク６に貼り付
けるためのマスク粘着材には、それ自身に粘着力のある
ホットメルト系（ゴム系、アクリル系）、基材の両面に
粘着材を塗布したテープ系（基材としてアクリル系、PV
C系等のシートあるいはゴム系、ポリオレフィン系、ウ
レタン系等のフォーム等が適用出来、粘着材としてゴム
系、アクリル系、シリコーン系等の粘着材が適用され
る）等が使用される。

【００６７】本発明に係る大型ペリクル10では、マスク
粘着材として、ペリクル10をフォトマスク６に低荷重で
均一に貼り付けるために、比較的柔らかいホットメルト
材料やフォームが好適である。フォームの場合は、その
断面にアクリル系や酢酸ビニル系の粘着性材料あるいは
非粘着性材料で覆うことにより、フォームからの発塵を
防ぐことが出来る。

【００６８】マスク粘着材の厚さは通常０．２mm以上と
されるが、フォトマスク６への均一な貼付のために、好
ましくは１mm以上とされる。上記マスク粘着材の粘着面
をフォトマスク６に貼り付けるまでの間保護するため
に、シリコーンやフッ素で離型処理されたポリエステル
フィルムが使用される。

【００６９】ペリクル10を輸送する際のケースは、アク
リル系、ABS系、PVC系、PET系等の材料を、射出成型や
真空成型することにより作成される。これらの材料は帯
電を防止するために、帯電防止剤を練り込んでも良い
し、帯電防止構造をもったポリマー（クレハ製BAYON
（商標）、旭化成工業製ADION（商標））を利用しても
良い。

【００７０】本発明に係る大型ペリクル10用のケース
は、輸送中にケースが歪みケース内のペリクル10のダメ
ージを与えないように、ケースのふた、トレイ、または
その両方にリブ構造を設け、外力に対する抵抗性を高め
ることが好ましい。

【００７１】図１及び図２において、１は厚さ１０μｍ
以下のセルロース誘導体等の透明な高分子膜で構成され
る大型ペリクル膜２を展張して貼着支持する構造鋼によ
り構成される大型ペリクル用枠体１である。

【００７２】ペリクル枠体１は互いに異なる所定の幅
と、等しい所定の高さと、異なる所定の長さとを夫々有
する長辺１ａと短辺１ｂからなる方形状の枠で構成され
ている。該枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの一方の面
は、枠体１の全体に亘って平坦面で構成されており、そ
れらの面にはペリクル膜２を貼着するための貼着面1a
1，1b1が形成されている。

【００７３】枠体１のペリクル膜２を展張する面積は１
０００cm²以上で構成され、該枠体１の長辺１ａの幅Ｗ
ａは短辺１ｂの幅Ｗｂより大きい。このように大型ペリ
クル膜２を展張する面積が１０００cm²以上であること
から、かかる大型ペリクル10は大型のＴＦＴ型ＬＣＤの
フォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマス
ク６に適用することが出来る。

【００７４】また、枠体１の長辺１ａの幅Ｗａを短辺１
ｂの幅Ｗｂよりも大きく（長辺１ａの幅Ｗａを短辺１ｂ
の幅Ｗｂの１．３倍以上）して該長辺１ａの強度を確保
し、該長辺１ａの枠体１の内側に向かう撓みを抑制する
ことが出来る。

【００７５】枠体１の長辺１ａの幅Ｗａが大きく、該長
辺１ａの貼着面1a1の幅Ｗｃが比較的大きい場合、図６
（ａ）に示すように、長辺１ａの貼着面1a1とペリクル
膜２との間に設けられる接着剤３を該貼着面1a1に塗布
する際に気泡４が混入する虞があり、ペリクル10の輸送
中に該気泡４が気圧変動により膨張して破裂し、接着剤
３の破片がペリクル膜２に付着する虞がある。

【００７６】また、図６（ｂ），（ｃ）に示すように、
接着剤３が長辺１ａの貼着面1a1の全域に亘って均一に
塗布出来ない虞があり、図６（ｂ）に示すように、ペリ
クル膜２の内側に隙間５が出来た場合には、該隙間５に
異物が侵入し、ペリクル10により保護されたはずのフォ
トマスク６やレチィクルに異物が付着する虞がある。

【００７７】また、図６（ｃ）に示すように、ペリクル
膜２の外側に隙間が出来た場合には、該ペリクル膜２の
外縁２ａに自由端部が形成され、振動や擦れによって発
塵源となる虞がある。

【００７８】図３（ａ），（ｂ）に示す実施形態では、
枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの貼着面1a1，1b1側には
所定の傾斜角度を有する平面状の傾斜面1a2，1b2が形成
されている。

【００７９】ここでは、長辺１ａ及び短辺１ｂの傾斜面
1a2，1b2を形成した高さ位置は略等しく、且つ長辺１ａ
の傾斜面1a2の傾斜角度が短辺１ｂの傾斜1b2の傾斜角度
よりも小さくなるように設定され、これによって長辺１
ａ及び短辺１ｂの貼着面1a1，1b1の幅Ｗｃ，Ｗｄが夫々
略等しくなっている。

【００８０】ペリクル膜２が貼着される長辺１ａと短辺
１ｂの貼着面1a1，1b1の幅Ｗｃ，Ｗｄを略等しくしたこ
とにより貼着面1a1，1b1に接着剤を均一に塗布すること
が出来、図６（ａ）〜（ｃ）に示すような前述の問題が
発生する虞がない。接着剤が均一に塗布出来る貼着面1a
1，1b1の好ましい幅Ｗｃ，Ｗｄは２mm〜１２mm程度であ
る。

【００８１】本実施形態では、ペリクル枠体１の長辺１
ａと短辺１ｂの両方の貼着面1a1，1b1側に平面状の傾斜
面1a2，1b2を形成するという簡単な手法により、長辺１
ａ及び短辺１ｂの貼着面1a1，1b1側の幅Ｗｃ，Ｗｄを略
等しくしており、好ましい。

【００８２】尚、図３では、枠体１の長辺１ａ及び短辺
１ｂの傾斜面1a2，1b2を形成した高さ位置が略等しく、
且つ長辺１ａの傾斜面1a2の傾斜角度が短辺１ｂの傾斜
面1b2の傾斜角度よりも小さくなるように設定した一実
施形態について説明した。

【００８３】しかし、他の構成として、図５に示すよう
に、枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの傾斜面1a2，1b2の
傾斜角度が等しく、且つ長辺１ａの傾斜面1a2を形成し
た高さ位置が短辺１ｂの傾斜面1b2を形成した高さ位置
よりも低くなるように設定しても良い。

【００８４】また、枠体１の短辺１ｂの幅Ｗｂが比較的
小さい場合には、傾斜面1b2を省略して断面方形（即
ち、ストレート形状）で構成しても良いし、図４及び図
８（ａ）に示すように枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの
貼着面1a1，1b1側の片側（内側）のみに平面状の傾斜面
1a2，1b2を形成しても良い。

【００８５】また、平面状の傾斜面1a2，1b2の代わり
に、図８（ｂ），（ｃ）に示すように曲面状の傾斜面1a
3，1b3であっても良いし、図８（ｄ），（ｅ）に示すよ
うに段差1a4，1b4を形成しても良い。

【００８６】また、これらの形状に限定されることな
く、他の種々の形状で構成してペリクル枠体１の長辺１
ａ及び短辺１ｂの貼着面1a1，1b1の幅Ｗｃ，Ｗｄを略等
しくすることでも、前述と同様な効果を得ることが出来
る。

【００８７】また、図９に示すような他の実施形態につ
いて説明すると、大型ペリクル10は、内径を大きくして
露光有効エリアを拡大することが出来るように構成され
ている。図９及び図10に示すように、ペリクル枠体１の
長辺１ａの略中央の両外側にアライメントマーク露出用
凹部８が設けられている。

【００８８】また、横断面がコの字形に形成され、アラ
イメントマーク露出用凹部８の外隅の両側の外頂部８ａ
及び内隅の両側の内頂部８ｂには彎曲面（Ｒ）が設けて
ある。６はマスクであって、その略中央の両側に位置合
わせ用のアライメントマーク７が設けられている。

【００８９】従って、ペリクル枠体１をフォトマスク６
に載置した際には、フォトマスク６上に予め記入された
アライメントマーク７がこのアライメントマーク露出用
凹部８内に位置して露出し、上方から容易に見ることが
出来るように構成されている。そのため露光有効エリア
を最大限に利用出来るとともに、フォトマスク６の位置
合わせを正確で且つ容易に行うことが出来る。

【００９０】以下、実施例に基づき、本発明を更に詳細
に説明する。

【００９１】＜実施例１＞大型ペリクル用枠体１は、長
辺１ａの長さが７３２mm、短辺１ｂの長さが４３６mm、
ペリクル膜２を展張する面積が３１９１.５２cm²のもの
を用いる。ペリクル枠体１の長辺１ａの幅Ｗａは９mm、
短辺１ｂの幅Ｗｂは４mm、長辺１ａの接着剤貼着面Ｗｃ
は６mm、短辺１ｂの接着剤貼着面Ｗｄは３mmである。ペ
リクル枠体１の高さは５．２mmである。この時の長辺１
ａの幅Ｗａは、短辺１ｂの幅Ｗｂの２．２５倍である。

【００９２】ペリクル枠体１の材質としては構造鋼を用
い、枠体１の断面形状は図４に示すように枠体１の内側
面に傾斜面1a2，1b2を設けた形状のものを用いる。ペリ
クル膜２としては、セルロースエステルのポリマー溶液
を低アルカリガラス上に塗布しスピンコートで主膜を形
成する。

【００９３】次いで、その膜上にフッ素ポリマー溶液を
スピンコートで塗布して反射防止層を成形した厚み４μ
ｍのペリクル膜２を用いる。得られたペリクル膜２を上
記ペリクル枠体１に展張して貼着する。この時のペリク
ル膜２の張力は、６×１０^-2Ｎ／mmであった。

【００９４】また、ペリクル枠体１をフォトマスク６に
貼り付ける際のマスク粘着材には、基材にフォームを用
いた厚み０．８mmの両面テープを使用する。ペリクル枠
体１のマスク接着面にこの両面テープを貼り、フォトマ
スク６の所定位置に貼り付ける。尚、各部材は使用前に
超音波洗浄を行う。フォトマスク６のサイズは、７５０
mm×５００mmのものを使用する。

【００９５】得られた大型ペリクル10は、ペリクル枠体
１の撓みがなく、通常のペリクル貼り付け装置により精
度良くフォトマスク６に貼り付けることが出来、露光領
域への影響もなかった。また、長辺１ａ、短辺１ｂとも
枠体１にペリクル膜２が均一に接着されており、枠体１
内側への接着剤のはみ出しがなく、且つ余膜切断時に膜
片が残ることがなかった。

【００９６】また、枠体１の膜貼着面側に傾斜面1a2，1
b2を設けており、この箇所を集光灯で観察した結果、挟
まれた異物は見られなかった。

【００９７】＜実施例２＞図９に示すように、アライメ
ントマーク露出用凹部８を設けた以外は前記実施例１と
同様のペリクル枠体１を用いる。この枠体１には、長辺
１ａの中央部の外側にアライメントマーク露出用凹部８
を設けている。図10に示すように、アライメントマーク
露出用凹部８の各サイズは、Ｗｅが２４mm、Ｗｆが３７
mm、Ｗｇが１mm、外頂部８ａの曲面がＲ７（半径７m
m）、内頂部８ｂの曲面がＲ１５（半径１５mm）であ
る。

【００９８】このペリクル枠体１により、実施例１と同
様にして大型ペリクル10を作成した。フォトマスク６の
サイズは、７５０mm×４９８mmのものを用いた。得られ
た大型ペリクル10は、ペリクル枠体１の撓みがなく、通
常のペリクル貼り付け装置により精度良くフォトマスク
６に貼り付けることが出来、露光領域への影響もなかっ
た。

【００９９】また、長辺１ａ、短辺１ｂとも枠体１にペ
リクル膜２が均一に接着されており、枠体１内側への接
着剤のはみ出しがなく且つ余膜切断時に膜片が残ること
がなかった。

【０１００】また、枠体１の膜貼着面側に傾斜面1a2，1
b2を設けており、この箇所を集光灯で観察した結果、挟
まれた異物は見られなかった。更に大型ペリクル10につ
いて集光灯を用いてフレーム外周全周にわたり目視検査
を行ったが、異物の付着がなかった。また、このペリク
ル10をＰＥＴ製のケースに収納し、輸送を行った後、再
度検査を行ったが、ペリクル膜２にも枠体１にも異物の
付着がなかった。

【０１０１】＜比較例１＞ペリクル用枠体１は、撓みを
防ぐために縦横とも同じ断面積でペリクル枠体１の幅を
大きくしたものを用いる。ペリクル枠体１としては、長
辺１ａの長さが７４２mm、短辺１ｂの長さが４３６mm、
ペリクル膜２を展張する面積は３２３５.１２cm²のもの
を用いる。

【０１０２】また、ペリクル枠体１の長辺１ａの幅Ｗａ
は９mm、短辺１ｂの幅Ｗｂは９mm、長辺１ａの接着剤貼
着面の幅Ｗｃは６mm、短辺１ｂの接着剤貼着面の幅Ｗｄ
は４mmである。枠体１の高さは５．２mmである。この時
の長辺１ａの幅Ｗａは、短辺１ｂの幅Ｗｂの等倍であ
る。ペリクル枠体１は構造鋼であり、枠体１の断面形状
は矩形のものを用いる。このペリクル枠体１を用いて前
記実施例１と同様に大型ペリクル10を作成する。

【０１０３】有効露光面積が前記実施例１，２と同様に
し、且つマスクハンドリング用のスペース（ペリクル10
の外周とフォトマスク６の外径との寸法差）を同じ値に
するためには、前記実施例１，２よりも一回り大きな７
６０mm×５００mmのサイズのフォトマスク６が必要とな
る。

【０１０４】得られた大型ペリクル10について、集光灯
にて枠体１の膜貼着面を観察すると、短辺１ｂの接着剤
貼着面1b1では良好に接着されているが、長辺１ａの接
着剤貼着面1a1では余膜切断時の膜片が残っており、ま
た、ペリクル膜２と枠体１の膜貼着面間及び枠体１の段
差部に異物が挟まれているのが観察された。

【０１０５】

【発明の効果】本発明の大型ペリクル用枠体によれば、
次のような効果が得られる。大型ペリクル膜を展張して
貼着支持する長辺と短辺とを有する方形状の大型ペリク
ル枠体において、大型ペリクル膜を展張する面積が１０
００cm²以上で且つ枠体の長辺の幅が短辺の幅より大き
くしたことにより、ペリクル膜の張力によるフレームの
撓みも生じないので、ペリクル枠の内側ぎりぎりまで露
光パターンを設けることが出来る。

【０１０６】これにより、非常に高価なマスクの面積を
最小限に抑えることが出来、経済的な負担を大きく軽減
することが出来る。また、ペリクル膜の張力によるフレ
ームの撓みも生じないので、ペリクル枠の外径を基準と
する従来のペリクル貼り付け装置により、ペリクルのフ
ォトマスクへの貼付けを精度良く行うことが出来る。

【０１０７】また、本発明の大型ペリクルは、少なくと
も前記枠体の長辺のペリクル膜貼着面に傾斜面を形成し
て前記枠体の長辺及び短辺の貼着面の幅を略等しくした
ことによって、従来通りの簡単な接着剤塗布装置によっ
ても、ペリクル膜のペリクル枠体への接着を、しわや弛
み等を生じることなく均一に行うことが出来る。

【０１０８】また、本発明の大型ペリクルにおいては、
大型ペリクル用枠体の外周部の所定の位置に、マスクの
アライメントマークを露出させるための凹部を設けるこ
とによって、ペリクル枠体の外形とマスクアライメント
マークの間に余裕が出来、ペリクルのマスクへの貼り付
け歩留まりを向上させることが出来る。

【０１０９】更に、前記アライメントマーク露出用凹部
の両側の外頂部及び／又は内頂部に曲面状に形成するこ
とにより、ペリクル枠体とペリクル収納ケースとの接触
による発塵を引き起こすことなくペリクルを輸送するこ
とが出来る。またペリクル枠体に異物が溜まり難い構造
であるから、ペリクル製造工程におけるペリクル枠体の
洗浄が容易になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る大型ペリクル用枠体及びこれを用
いた大型ペリクルの構成を示す斜視図である。

【図２】本発明に係る大型ペリクル用枠体及びこれを用
いた大型ペリクルの構成を示す平面図である。

【図３】（ａ）は図２のＡ−Ａ断面図、（ｂ）は図２の
Ｂ−Ｂ断面図である。

【図４】（ａ）は他の形状を示す断面図、（ｂ）は他の
形状を示す断面図である。

【図５】（ａ），（ｂ）は枠体の長辺と短辺の貼着面の
幅を略等しくするために各貼着面側に形成された平面状
の傾斜面の他の一例を示す図である。

【図６】（ａ）〜（ｃ）は大型ペリクル膜が貼着される
枠体の貼着面の幅が大きい場合で接着剤が不均一に塗布
された場合の課題を説明する図である。

【図７】図６の他の形状を示す場合の例を示す図であ
る。

【図８】（ａ）〜（ｅ）は枠体の長辺と短辺の貼着面の
幅を略等しくするために各貼着面側に形成された曲面状
の傾斜面や段差、或いは片側のみに平面状や曲面状の傾
斜面や段差を形成した一例を示す模式図である。

【図９】アライメントマークを設けたペリクル枠体を示
す平面図である。

【図10】図９の部分拡大図である。

【符号の説明】

１…ペリクル枠体１ａ…長辺１ｂ…短辺 1a1，1b1…貼着面 1a2，1b2…平面状の傾斜面 1a3，1b3…曲面状の傾斜面 1a4，1b4…段差２…ペリクル膜２ａ…外縁３…接着剤４…気泡５…隙間６…フォトマスク７…アライメントマーク８…アライメントマーク露出用凹部８ａ…外頂部８ｂ…内頂部９…隙間 10…大型ペリクル

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】大型ペリクル膜を展張して貼着支持する
長辺と短辺とを有する方形状の大型ペリクル用枠体であ
って、前記大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm²以上
であり、且つ枠体の長辺の幅が短辺の幅より大きいこと
を特徴とする大型ペリクル用枠体。
【請求項２】前記枠体の長辺の幅が該枠体の短辺の幅
の１．３倍以上であることを特徴とする請求項１に記載
の大型ペリクル用枠体。
【請求項３】少なくとも前記枠体の長辺のペリクル膜
貼着面に傾斜面を形成して前記枠体の長辺及び短辺の貼
着面の幅を略等しくしたことを特徴とする請求項２に記
載の大型ペリクル用枠体。
【請求項４】大型ペリクル用枠体の外周部の所定の位
置に、マスクのアライメントマークを露出させるための
凹部を設けたことを特徴とする請求項１に記載の大型ペ
リクル用枠体。
【請求項５】前記アライメントマーク露出用凹部の両
側の外頂部を曲面に形成したことを特徴とする請求項４
に記載の大型ペリクル用枠体。
【請求項６】前記アライメントマーク露出用凹部の両
側の内頂部を曲面に形成したことを特徴とする請求項５
に記載の大型ペリクル用枠体。
【請求項７】請求項１〜６のいずれか１項に記載の大
型ペリクル用枠体にペリクル膜を貼り付けたことを特徴
とする大型ペリクル。