JPH11167196A - リソグラフィー用ペリクル - Google Patents
リソグラフィー用ペリクルInfo
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- JPH11167196A JPH11167196A JP33255897A JP33255897A JPH11167196A JP H11167196 A JPH11167196 A JP H11167196A JP 33255897 A JP33255897 A JP 33255897A JP 33255897 A JP33255897 A JP 33255897A JP H11167196 A JPH11167196 A JP H11167196A
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- Japan
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- pellicle
- adhesive layer
- film
- face
- frame
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ペリクル膜の接着面において、光の反射を抑
制し、ペリクル膜表面の異物検査を確実かつ容易に行う
ことができるペリクルを提供する。 【解決手段】 接着剤層上にあるペリクル膜端面の光沢
度を、波長４００〜１，１００ｎｍの光線を用いて、Ｊ
ＩＳ Ｚ８７４１−８３の方法により測定したとき、０
〜６０となるようにする。
制し、ペリクル膜表面の異物検査を確実かつ容易に行う
ことができるペリクルを提供する。 【解決手段】 接着剤層上にあるペリクル膜端面の光沢
度を、波長４００〜１，１００ｎｍの光線を用いて、Ｊ
ＩＳ Ｚ８７４１−８３の方法により測定したとき、０
〜６０となるようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩ
等の半導体装置や液晶表示板を製造する際、リソグラフ
ィー工程で使用されるマスクに塵埃が付着するのを防止
するリソグラフィー用ペリクル（以下、ペリクルとい
う）に関する。
等の半導体装置や液晶表示板を製造する際、リソグラフ
ィー工程で使用されるマスクに塵埃が付着するのを防止
するリソグラフィー用ペリクル（以下、ペリクルとい
う）に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置や液晶表示板を製造する際、
光を照射してパターンを基板上に転写させるのに、マス
ク（露光原板）が使用される。このマスクに塵埃が付着
すると、塵埃による光の吸収や屈曲が起こり、転写した
パターンが変形したり、パターンエッジががさついたり
する他、下地が黒く汚れたりして、製品の寸法、品質、
外観等の低下を招くことになる。そのため、パターンの
転写作業は、通常、清浄なクリーンルーム内で行われ
る。しかし、クリーンルームの雰囲気の中であっても、
マスクを常に清浄に保つことは実際には困難である。そ
こで、上記マスクの表面に、良好な光透過性を有するペ
リクルを貼着することにより、塵埃がマスクに付着する
のを防いでいる。すなわち、ペリクルの使用によって、
塵埃はペリクル表面に付着し、マスク表面には直接付着
しなくなる。したがって、リソグラフィー工程時に、焦
点をマスクのパターン上に合わせておけば、塵埃による
転写への悪影響はみられなくなる。
光を照射してパターンを基板上に転写させるのに、マス
ク（露光原板）が使用される。このマスクに塵埃が付着
すると、塵埃による光の吸収や屈曲が起こり、転写した
パターンが変形したり、パターンエッジががさついたり
する他、下地が黒く汚れたりして、製品の寸法、品質、
外観等の低下を招くことになる。そのため、パターンの
転写作業は、通常、清浄なクリーンルーム内で行われ
る。しかし、クリーンルームの雰囲気の中であっても、
マスクを常に清浄に保つことは実際には困難である。そ
こで、上記マスクの表面に、良好な光透過性を有するペ
リクルを貼着することにより、塵埃がマスクに付着する
のを防いでいる。すなわち、ペリクルの使用によって、
塵埃はペリクル表面に付着し、マスク表面には直接付着
しなくなる。したがって、リソグラフィー工程時に、焦
点をマスクのパターン上に合わせておけば、塵埃による
転写への悪影響はみられなくなる。
【０００３】このような役割を果たすペリクルの基本的
な構成は、一般には、図１に示すように、アルミニウ
ム、ステンレス、ポリスチレン等からなる黒色のペリク
ル枠１と、その上端面に接着剤層（図示せず）を介して
張設された、ニトロセルロース、酢酸セルロース等から
なる光透過性に優れた透明なペリクル膜２と、マスクに
装着するためにペリクル枠１の下端に設けられた粘着層
３と、粘着層３を保護するための離型層（セパレータ
ー）４とからなる。ペリクル膜２をペリクル枠１の上端
面に張設させるには、ペリクル膜２の良溶媒をペリクル
枠１に塗布して風乾させる方法（特開昭５８−２１９０
２３号公報参照）や、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等か
らなる接着剤で接着する方法（米国特許第４８６１４０
２号明細書、特公昭６３−２７，７０２号公報参照）が
ある。上記したように、ペリクルは、リソグラフィー工
程で使用されるため、その構成部材には高い清浄性が要
求される。特に、ペリクル膜表面の異物は、直接露光に
関わる部分であるため、０．５μｍ程度以上の大きさの
異物が付着していないことを、ペリクルの製造工程にお
いて確認する必要がある。
な構成は、一般には、図１に示すように、アルミニウ
ム、ステンレス、ポリスチレン等からなる黒色のペリク
ル枠１と、その上端面に接着剤層（図示せず）を介して
張設された、ニトロセルロース、酢酸セルロース等から
なる光透過性に優れた透明なペリクル膜２と、マスクに
装着するためにペリクル枠１の下端に設けられた粘着層
３と、粘着層３を保護するための離型層（セパレータ
ー）４とからなる。ペリクル膜２をペリクル枠１の上端
面に張設させるには、ペリクル膜２の良溶媒をペリクル
枠１に塗布して風乾させる方法（特開昭５８−２１９０
２３号公報参照）や、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等か
らなる接着剤で接着する方法（米国特許第４８６１４０
２号明細書、特公昭６３−２７，７０２号公報参照）が
ある。上記したように、ペリクルは、リソグラフィー工
程で使用されるため、その構成部材には高い清浄性が要
求される。特に、ペリクル膜表面の異物は、直接露光に
関わる部分であるため、０．５μｍ程度以上の大きさの
異物が付着していないことを、ペリクルの製造工程にお
いて確認する必要がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ペリクル膜をペリクル
枠に接着させる接着剤層は、一般に、光線をよく反射す
るため、ペリクル枠近傍のペリクル膜表面にある異物の
検出は極めて困難であった。すなわち、接着剤層の表面
は光沢度が大きく、外観的には滑らかで美観に優れるも
のの、反射光が大きいため、ペリクル膜表面の異物を検
出する妨げとなっていた。このことは、ペリクル膜表面
に付着した異物、特には、ペリクル枠近傍に付着した異
物を検査時に見落とす場合があることを意味しており、
ペリクルを使用した際に、この異物が落下してレチクル
表面に付着し、その結果、歩留りの低下を招くおそれが
あった。
枠に接着させる接着剤層は、一般に、光線をよく反射す
るため、ペリクル枠近傍のペリクル膜表面にある異物の
検出は極めて困難であった。すなわち、接着剤層の表面
は光沢度が大きく、外観的には滑らかで美観に優れるも
のの、反射光が大きいため、ペリクル膜表面の異物を検
出する妨げとなっていた。このことは、ペリクル膜表面
に付着した異物、特には、ペリクル枠近傍に付着した異
物を検査時に見落とす場合があることを意味しており、
ペリクルを使用した際に、この異物が落下してレチクル
表面に付着し、その結果、歩留りの低下を招くおそれが
あった。
【０００５】そこで、本発明は、ペリクル膜の接着面に
おいて、光の反射を抑制し、ペリクル膜表面の異物検査
を確実かつ容易に行うことができるペリクルを提供する
ことを目的とする。
おいて、光の反射を抑制し、ペリクル膜表面の異物検査
を確実かつ容易に行うことができるペリクルを提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、接着剤層の光沢度
を所定の範囲とすることにより、ペリクル膜の接着面で
の光反射を抑制できることを見いだし、この知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
ペリクル枠の上端面に接着剤層を介してペリクル膜を張
設したリソグラフィー用ペリクルであって、該接着剤層
上にあるペリクル膜端面の光沢度が、波長４００〜１，
１００ｎｍの光線を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７４１−８３
の方法により測定したとき、０〜６０であることを特徴
とするリソグラフィー用ペリクルである。
解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、接着剤層の光沢度
を所定の範囲とすることにより、ペリクル膜の接着面で
の光反射を抑制できることを見いだし、この知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
ペリクル枠の上端面に接着剤層を介してペリクル膜を張
設したリソグラフィー用ペリクルであって、該接着剤層
上にあるペリクル膜端面の光沢度が、波長４００〜１，
１００ｎｍの光線を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７４１−８３
の方法により測定したとき、０〜６０であることを特徴
とするリソグラフィー用ペリクルである。
【０００７】上記ペリクルは、後述する理由により、ペ
リクル枠の表面粗さが、Ｒａ０．３〜２μｍであること
が好ましい。
リクル枠の表面粗さが、Ｒａ０．３〜２μｍであること
が好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
して詳細に説明する。本発明のペリクルは、図１に示す
ように、ペリクル枠１の上端面に接着剤層（図示せず）
を介してペリクル膜２を張設したもので、通常、さらに
ペリクル枠１の下部には粘着層３が形成され、その下端
面には剥離可能な離型層４が貼着される。本発明のペリ
クルの特徴は、接着剤層上にあるペリクル膜２端面の光
沢度が、波長４００〜１，１００ｎｍの光線を用いて、
ＪＩＳ Ｚ８７４１−８３の方法により測定したとき、
０〜６０である点にあり、これにより、ペリクル膜２上
の異物をハロゲンランプ等で照明して検査する際、ペリ
クル膜２端面からの反射光が少なくなるため、ペリクル
枠１直近でも確実かつ容易に検査することができるよう
になる。接着剤層上にあるペリクル膜２端面の光沢度を
０〜６０とする方法は限定されるものではなく、例え
ば、接着剤層を設けるペリクル枠の上端面を後述する方
法で粗化させたり、接着剤層を構成する接着剤の光沢度
を調節したりする方法がある。
して詳細に説明する。本発明のペリクルは、図１に示す
ように、ペリクル枠１の上端面に接着剤層（図示せず）
を介してペリクル膜２を張設したもので、通常、さらに
ペリクル枠１の下部には粘着層３が形成され、その下端
面には剥離可能な離型層４が貼着される。本発明のペリ
クルの特徴は、接着剤層上にあるペリクル膜２端面の光
沢度が、波長４００〜１，１００ｎｍの光線を用いて、
ＪＩＳ Ｚ８７４１−８３の方法により測定したとき、
０〜６０である点にあり、これにより、ペリクル膜２上
の異物をハロゲンランプ等で照明して検査する際、ペリ
クル膜２端面からの反射光が少なくなるため、ペリクル
枠１直近でも確実かつ容易に検査することができるよう
になる。接着剤層上にあるペリクル膜２端面の光沢度を
０〜６０とする方法は限定されるものではなく、例え
ば、接着剤層を設けるペリクル枠の上端面を後述する方
法で粗化させたり、接着剤層を構成する接着剤の光沢度
を調節したりする方法がある。
【０００９】ペリクル枠１の材質については、特に限定
はなく、例えば、従来使用されているアルミ材の陽極酸
化処理物、ステンレス、ポリアセタール、ポリカーボネ
ート、ＰＭＭＡ、アクリル樹脂等の樹脂や青ガラスが挙
げられる。ペリクル枠１の表面は、通常、粗化するが、
その方法は限定されず、サンドブラストや化学研磨によ
る方法が挙げられる。例えば、アルミ材を使用した場合
は、カーボランダム、ガラスビーズ等によりブラスト処
理を行い、さらにＮａＯＨ等によって化学研磨して表面
を粗化する方法が知られている。本発明では、ペリクル
枠の表面粗さを触針式表面粗さ計で測定した場合、Ｒａ
０．３〜２μｍとするのが好ましい。Ｒａが、０．３μ
ｍ未満であると光沢度が６０を超え、２μｍを超えると
接着剤面の凹凸により接着剤面エッヂ部の膜上につれが
発生する。
はなく、例えば、従来使用されているアルミ材の陽極酸
化処理物、ステンレス、ポリアセタール、ポリカーボネ
ート、ＰＭＭＡ、アクリル樹脂等の樹脂や青ガラスが挙
げられる。ペリクル枠１の表面は、通常、粗化するが、
その方法は限定されず、サンドブラストや化学研磨によ
る方法が挙げられる。例えば、アルミ材を使用した場合
は、カーボランダム、ガラスビーズ等によりブラスト処
理を行い、さらにＮａＯＨ等によって化学研磨して表面
を粗化する方法が知られている。本発明では、ペリクル
枠の表面粗さを触針式表面粗さ計で測定した場合、Ｒａ
０．３〜２μｍとするのが好ましい。Ｒａが、０．３μ
ｍ未満であると光沢度が６０を超え、２μｍを超えると
接着剤面の凹凸により接着剤面エッヂ部の膜上につれが
発生する。
【００１０】ペリクル膜２の材質については、特に限定
はなく、従来使用されているニトロセルロース、酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、非晶質フッ素ポリ
マー等が例示される。非晶質フッ素ポリマーとしては、
例えば、サイトップ（旭硝子社製、商品名）、テフロン
ＡＦ（デュポン社製、商品名）が挙げられる。これらの
ポリマーは、ペリクル膜の作製時に必要に応じてフッ素
系溶媒等に溶解して使用してもよい。
はなく、従来使用されているニトロセルロース、酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、非晶質フッ素ポリ
マー等が例示される。非晶質フッ素ポリマーとしては、
例えば、サイトップ（旭硝子社製、商品名）、テフロン
ＡＦ（デュポン社製、商品名）が挙げられる。これらの
ポリマーは、ペリクル膜の作製時に必要に応じてフッ素
系溶媒等に溶解して使用してもよい。
【００１１】接着剤層の材質についても、従来より使用
されているものを適宜選択すればよく、アクリル樹脂接
着剤、エポキシ樹脂接着剤、シリコーン樹脂接着剤、含
フッ素シリコーン接着剤等のフッ素系ポリマーが挙げら
れるが、特にはフッ素系ポリマーが好適である。フッ素
系ポリマーとしては、フッ素系ポリマーＣＴ６９（旭硝
子社製、商品名）が挙げられる。粘着層３としては、両
面粘着テープ、シリコーン樹脂粘着剤、アクリル系粘着
剤等を用いて形成すればよい。離型層４の材質について
も、一般に用いられているシリコーン樹脂離型剤、フッ
素変性シリコーン離型剤等を選択すればよい。また、上
記各ペリクル構成部材の大きさは、特に限定はなく、通
常のペリクルと同様とすればよい。
されているものを適宜選択すればよく、アクリル樹脂接
着剤、エポキシ樹脂接着剤、シリコーン樹脂接着剤、含
フッ素シリコーン接着剤等のフッ素系ポリマーが挙げら
れるが、特にはフッ素系ポリマーが好適である。フッ素
系ポリマーとしては、フッ素系ポリマーＣＴ６９（旭硝
子社製、商品名）が挙げられる。粘着層３としては、両
面粘着テープ、シリコーン樹脂粘着剤、アクリル系粘着
剤等を用いて形成すればよい。離型層４の材質について
も、一般に用いられているシリコーン樹脂離型剤、フッ
素変性シリコーン離型剤等を選択すればよい。また、上
記各ペリクル構成部材の大きさは、特に限定はなく、通
常のペリクルと同様とすればよい。
【００１２】本発明のペリクルを製造するには、通常の
方法により、ペリクル枠１の上端面に接着剤層を介して
ペリクル膜２を張設し、適宜、ペリクル枠１の下端面に
粘着層３を形成し、この粘着層３の下端面に、剥離でき
るように離型層４を貼り付ければよい。ここで、接着剤
層は、必要により接着剤を溶媒で希釈してペリクル枠１
の上端面に塗布し、加熱して乾燥し、硬化させることに
より形成することができる。この場合、接着剤の塗布方
法としては、刷毛塗り、スプレー、自動ディスペンサー
による方法等が挙げられる。
方法により、ペリクル枠１の上端面に接着剤層を介して
ペリクル膜２を張設し、適宜、ペリクル枠１の下端面に
粘着層３を形成し、この粘着層３の下端面に、剥離でき
るように離型層４を貼り付ければよい。ここで、接着剤
層は、必要により接着剤を溶媒で希釈してペリクル枠１
の上端面に塗布し、加熱して乾燥し、硬化させることに
より形成することができる。この場合、接着剤の塗布方
法としては、刷毛塗り、スプレー、自動ディスペンサー
による方法等が挙げられる。
【００１３】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるも
のではない。
説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるも
のではない。
【００１４】（実施例１）ペリクル枠として、外寸１０
０ｍｍ×１００ｍｍ×６ｍｍ、厚さ２ｍｍのアルミニウ
ム合金製枠を用いた。そして、ペリクル枠の表面を洗浄
した後、表１に記載したガラスビーズを使用して、吐出
圧１．５ｋｇのサンドブラスト装置で１０分間表面処理
を行い表面を粗化した。
０ｍｍ×１００ｍｍ×６ｍｍ、厚さ２ｍｍのアルミニウ
ム合金製枠を用いた。そして、ペリクル枠の表面を洗浄
した後、表１に記載したガラスビーズを使用して、吐出
圧１．５ｋｇのサンドブラスト装置で１０分間表面処理
を行い表面を粗化した。
【００１５】次に、このペリクル枠を、ＮａＯＨ処理浴
中で、１０秒間処理し洗浄した後、陽極酸化、黒色染
色、封孔処理を行って、表面に黒色の酸化皮膜を形成さ
せた。そして、得られたペリクル枠の表面を、表面粗さ
計サーフコーダー（小坂研究所製、商品名）を用いて測
定したところ、表１に示した結果が得られた。上記測定
の後、ペリクル枠を純水と超音波洗浄装置を併用して洗
浄し、ペリクル枠の下端に、スプレーコーティング装置
を用いて、シリコーン系粘着剤を１０μｍの厚さで塗布
した。
中で、１０秒間処理し洗浄した後、陽極酸化、黒色染
色、封孔処理を行って、表面に黒色の酸化皮膜を形成さ
せた。そして、得られたペリクル枠の表面を、表面粗さ
計サーフコーダー（小坂研究所製、商品名）を用いて測
定したところ、表１に示した結果が得られた。上記測定
の後、ペリクル枠を純水と超音波洗浄装置を併用して洗
浄し、ペリクル枠の下端に、スプレーコーティング装置
を用いて、シリコーン系粘着剤を１０μｍの厚さで塗布
した。
【００１６】次に、テフロンＡＦ１６００（米国デュポ
ン社製、商品名）を、フッ素系溶剤フロリナートＦＣ−
７５（米国スリーエム社製、商品名）に溶解して、濃度
８％の溶液を調製した。そして、この溶液により、直径
２００ｍｍ、厚さ６００μｍの鏡面研磨したシリコン基
板面に、スピンコーターを用いて、膜厚０．８μｍの透
明膜を形成させた。そして、外寸２００ｍｍ×２００ｍ
ｍ×５ｍｍ、厚さ５ｍｍの支持枠に、上記透明膜を、エ
ポキシ系接着剤アラルダイトピッド（昭和高分子社製、
商品名）を用いて接着し、水中でシリコン基板を剥離し
てペリクル膜を調製した。
ン社製、商品名）を、フッ素系溶剤フロリナートＦＣ−
７５（米国スリーエム社製、商品名）に溶解して、濃度
８％の溶液を調製した。そして、この溶液により、直径
２００ｍｍ、厚さ６００μｍの鏡面研磨したシリコン基
板面に、スピンコーターを用いて、膜厚０．８μｍの透
明膜を形成させた。そして、外寸２００ｍｍ×２００ｍ
ｍ×５ｍｍ、厚さ５ｍｍの支持枠に、上記透明膜を、エ
ポキシ系接着剤アラルダイトピッド（昭和高分子社製、
商品名）を用いて接着し、水中でシリコン基板を剥離し
てペリクル膜を調製した。
【００１７】次に、上記ペリクル枠上にフッ素系溶剤Ｃ
Ｔソルブ１８０（旭硝子社製、商品名）に希釈したフッ
素系高分子ポリマーＣＴＸ（同社製、商品名）を塗布
し、表１に示す条件で１０分間加熱し乾燥して接着剤層
を形成した。そして、支持枠に固定したペリクル膜表面
を接着剤層に密着させた後、ＩＲランプで上記ペリクル
枠を加熱して接着剤層とペリクル膜を融着させた。その
後、両方の枠を、ペリクル膜の接着面を上向きにして、
固定用の治具に取り付けて、相対的に位置がずれないよ
うに固定した。その後、ペリクル枠の外側に位置する支
持枠を引き上げて固定し、ペリクル枠の外側の膜部に
０．５ｇ／ｃｍの張力を与えた。
Ｔソルブ１８０（旭硝子社製、商品名）に希釈したフッ
素系高分子ポリマーＣＴＸ（同社製、商品名）を塗布
し、表１に示す条件で１０分間加熱し乾燥して接着剤層
を形成した。そして、支持枠に固定したペリクル膜表面
を接着剤層に密着させた後、ＩＲランプで上記ペリクル
枠を加熱して接着剤層とペリクル膜を融着させた。その
後、両方の枠を、ペリクル膜の接着面を上向きにして、
固定用の治具に取り付けて、相対的に位置がずれないよ
うに固定した。その後、ペリクル枠の外側に位置する支
持枠を引き上げて固定し、ペリクル枠の外側の膜部に
０．５ｇ／ｃｍの張力を与えた。
【００１８】次に、チューブ式ディスペンサーを用い
て、フロリナートＦＣ７５（デュポン社製、商品名）を
毎分１０μｌ滴下しながら、前記ペリクル枠上の接着剤
層の周辺部に沿って、スカラーロボットに取り付けした
カッターを移動させながら、ペリクル枠外側の不要膜部
分を切断除去して、本発明のペリクルを得た。得られた
ペリクルの接着剤層の上にあるペリクル膜端面の光沢度
を、ＪＩＳＺ８７４１−８３の方法に従い、光沢計グロ
スチェッカーＩＧ−３１０（ＨＯＲＩＢＡ社製、商品
名）により測定したところ、表１に示すような結果が得
られた。また、得られたペリクルの膜面に粒子径０．３
μｍのポリスチレン製標準粒子を付着させた。これをハ
ロゲンランプで照明しながら、ペリクル枠の内側５ｍｍ
の領域について目視で検査したところ表１に示す結果が
得られた。さらに、付着粒子数の確認のために、金属顕
微鏡を使用してペリクル枠の内側５ｍｍの領域について
付着異物数を検査した。
て、フロリナートＦＣ７５（デュポン社製、商品名）を
毎分１０μｌ滴下しながら、前記ペリクル枠上の接着剤
層の周辺部に沿って、スカラーロボットに取り付けした
カッターを移動させながら、ペリクル枠外側の不要膜部
分を切断除去して、本発明のペリクルを得た。得られた
ペリクルの接着剤層の上にあるペリクル膜端面の光沢度
を、ＪＩＳＺ８７４１−８３の方法に従い、光沢計グロ
スチェッカーＩＧ−３１０（ＨＯＲＩＢＡ社製、商品
名）により測定したところ、表１に示すような結果が得
られた。また、得られたペリクルの膜面に粒子径０．３
μｍのポリスチレン製標準粒子を付着させた。これをハ
ロゲンランプで照明しながら、ペリクル枠の内側５ｍｍ
の領域について目視で検査したところ表１に示す結果が
得られた。さらに、付着粒子数の確認のために、金属顕
微鏡を使用してペリクル枠の内側５ｍｍの領域について
付着異物数を検査した。
【００１９】
【発明の効果】本発明のペリクルは、ペリクル膜上にあ
る異物の検出を確実かつ容易に行うことができるので、
歩留りの低下を防止することができる。
る異物の検出を確実かつ容易に行うことができるので、
歩留りの低下を防止することができる。
【図１】ペリクルの一例を示す概略斜視図である。
１ ペリクル枠 ２ ペリクル膜 ３ 粘着層 ４ 離型層
Claims (2)
- 【請求項１】 ペリクル枠の上端面に接着剤層を介して
ペリクル膜を張設したリソグラフィー用ペリクルであっ
て、該接着剤層上にあるペリクル膜端面の光沢度が、波
長４００〜１，１００ｎｍの光線を用いて、ＪＩＳ Ｚ
８７４１−８３の方法により測定したとき、０〜６０で
あることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。 - 【請求項２】 ペリクル枠の表面粗さが、Ｒａ０．３〜
２μｍであることを特徴とする請求項１記載のリソグラ
フィー用ペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33255897A JPH11167196A (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | リソグラフィー用ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33255897A JPH11167196A (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | リソグラフィー用ペリクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11167196A true JPH11167196A (ja) | 1999-06-22 |
Family
ID=18256273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33255897A Pending JPH11167196A (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | リソグラフィー用ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11167196A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006184704A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 液晶用大型ペリクル |
| JP2010256609A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル |
-
1997
- 1997-12-03 JP JP33255897A patent/JPH11167196A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006184704A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 液晶用大型ペリクル |
| JP2010256609A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル |
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