JP2000199967A

JP2000199967A - 樹脂製ブラックマトリクスの製造方法、該ブラックマトリクスを用いたカラ―フィルタの製造方法、及び該製造方法で製造されたカラ―フィルタを用いた液晶素子

Info

Publication number: JP2000199967A
Application number: JP11314771A
Authority: JP
Inventors: Junichi Sakamoto; 淳一坂本; Nagato Osano; 永人小佐野; Kenitsu Iwata; 研逸岩田; Satoshi Kokubo; 智小久保
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1998-11-06
Filing date: 1999-11-05
Publication date: 2000-07-18

Abstract

(57)【要約】【課題】ネガ型のブラックレジストをプロキシミティ
露光によりフォトマスクのパターンに忠実にパターン形
成する。【解決手段】ネガ型のブラックレジストをフォトマス
クを介してプロキシミティ露光する際に、露光量を１
４．０〜７０．０ｍＪ／ｃｍ²の範囲に設定して行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビやパ
ーソナルコンピュータのディスプレイ等に用いられるカ
ラーフィルタの構成部品である樹脂製ブラックマトリク
スの製造方法、該ブラックマトリクスを用いたカラーフ
ィルタの製造方法、及び該製造方法により製造されたカ
ラーフィルタを用いた液晶素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、カラー表示の液晶素子に用いられ
るカラーフィルタの製造方法として、透明基板上にネガ
型のカラーレジストを形成し、該レジストとは所定の距
離（プロキシミティ露光ギャップ）を隔ててフォトマス
クを配置し、一定の露光量で光を照射する、いわゆるプ
ロキシミティ露光を行い、現像してパターン形成する方
法がある。この時、露光量はレジストが十分に硬化する
ように、１００ｍＪ／ｃｍ²以上に設定するのが一般的
である。

【０００３】近年、カラーフィルタの隣接着色部間を遮
光するためのブラックマトリクスをブラックレジストを
用いて形成する方法が検討されている。このブラックマ
トリクスは、レジストにカーボンブラックなどの遮光性
顔料を分散させてなる。そのため、パターン露光する光
が十分に透過できず、該レジストを硬化するためには、
上記カラーレジストよりも高い数百Ｊ／ｃｍ²程度の露
光量が必要であるとされていた。また、顔料を含まない
レジストに比べてブラックレジストはその露光感度を向
上するために、増感剤や反応開始剤を多く含んでいる。
そのため、回折光などの微小な光にも反応して硬化が進
むため、フォトマスクの開口部を忠実に転写し、パター
ン形成することが困難であった。

【０００４】上記ブラックレジストの製造上の問題を解
決する方法として、特開平３−２５２６２２号公報に
は、カラーフィルタ形成後にブラックレジストを塗布
し、裏面から露光を行ってパターニングを行うと同時
に、表面からも瞬間露光を行い、表面強度を向上させる
ことにより、現像後の膜厚バラツキを抑える方法が提案
されている。この方法では、回折光の影響はほとんど発
生することはないものの、ブラックマトリクスの形状は
カラーフィルタの成形精度に依存する。また、インクジ
ェット方式を用いたカラーフィルタの製造方法では、樹
脂製ブラックマトリクスを混色防止壁として用いて着色
部（フィルタ）を形成するため、ブラックマトリクス形
成後に着色部を形成する必要があり、上記公報の方法は
適用できない。

【０００５】また、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を用い
たアクティブマトリクスタイプの液晶素子（いわゆるＴ
ＦＴ型液晶素子）においては、ＴＦＴの耐光性を重視す
ると共に、カラーフィルタの明るさを確保するため、ブ
ラックマトリクスの開口部の形状が複雑になってきてい
る。ＴＦＴ型液晶素子用のブラックマトリクスは、ＴＦ
Ｔを遮光し、且つ開口率を稼ぐために、ラインパターン
の一部を細くするような形状をとっている。このような
複雑なパターンを形成するためのフォトマスクでは、そ
の回折光のパターンも複雑になり、レジストの露光部の
外観の形状も複雑でいびつなパターンとなり、製品とし
て使用できなくなってしまう。

【０００６】回折光の影響を防止するには、フォトマス
クとレジストとの隙間を無くして露光する、コンタクト
露光を行えばよい。しかしながら、連続で生産されるカ
ラーフィルタに対し、コンタクト露光を行う場合、マス
クの汚れ、レジスト表面のゴミの再付着等、問題が多
く、量産するには不適当である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記したように、プロ
キシミティ露光によりネガ型ブラックレジストをパター
ン露光しようとすると、回折光によって、マスク開口部
の周辺も露光されてしまい、現像後のブラックマトリク
スのパターンがいびつになると共に、線幅が極端に太く
なってしまうという問題があった。

【０００８】本発明の目的は、上記問題を解決し、プロ
キシミティ露光において回折光の影響を低減して、フォ
トマスクの形状に忠実なパターンのブラックマトリクス
を製造することにあり、さらに、該ブラックレジストを
用いて高品位なカラーフィルタ、さらには液晶素子を提
供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の樹脂製ブラック
マトリクスの製造方法は、基板上にネガ型ブラックレジ
ストを形成する工程と、フォトマスクを介して１４．０
〜７０．０ｍＪ／ｃｍ ²の露光量で露光する工程と、露
光された前記レジストを現像してパターン形成すること
を特徴とする。

【００１０】また、本発明のカラーフィルタの製造方法
は、上記本発明のブラックマトリクスの製造方法により
製造された樹脂製ブラックマトリクスの開口部に、イン
クジェット法でインクを付与して着色部を形成すること
を特徴とする。

【００１１】さらに、本発明の液晶素子は、上記本発明
のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフ
ィルタと、前記カラーフィルタに対向する対向基板と、
前記カラーフィルタと対向基板との間に封入した液晶と
を有することを特徴とする。

【００１２】

【発明の実施の形態】図１に本発明のカラーフィルタの
製造方法の工程を模式的に示す。以下に各工程について
説明する。尚、図１の（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ下記工
程（ａ）〜（ｅ）に対応する断面模式図である。

【００１３】工程（ａ）透明基板１上に、ネガ型ブラックレジスト７を塗布す
る。塗布の方法は、スピンコーター、ダイコーター、デ
ィップコートなど様々な方法を使用することができる。
また、塗布膜の厚さは、必要な遮光性を得る厚さであ
り、例えば１μｍ程度である。尚、透明基板１は、例え
ばガラスが多く用いられるが、プラスチックフィルムや
プラスチックシートでもかまわない。また、必要に応じ
て、透明基板１とブラックマトリクス２及びインク５と
の密着性を向上させるために、透明基板１上に予め密着
性を向上させる薄膜を形成しておくこともできる。

【００１４】工程（ｂ）塗布された層を例えばホットプレート等を用い仮硬化
し、ブラックレジスト７の感度に合致した波長を有する
露光装置と、所定のパターンを有するマスク３を用いて
露光する。

【００１５】工程（ｃ）現像を行うことにより、露光時にマスク３で遮光された
部分が現像液で溶出し、基板表面が露出し、露光部分が
ブラックマトリクス２パターンとして残る。引き続き現
像液を洗い流すためにリンスを行い、スピン乾燥やエア
ナイフ等で簡単に乾燥する。これでブラックマトリクス
２の開口部４の基板面は、清浄な表面となっている。

【００１６】工程（ｄ）ブラックマトリクス２の開口部４に所定の色のインク５
をインクジェット法により付与する。インクの付与方法
としては、オフセット印刷、グラビア印刷、スクリーン
印刷等の一般の印刷法等を用いることもできるが、イン
クジェット印刷機を用いるインクジェット印刷法によれ
ば、印刷時に版を使用しないためにインク滴径を操作す
れば高精度のパターニングが可能となる。ここで使用さ
れるインク５は、上記のブラックマトリクス２パターン
上ではじかれやすく、ブラックマトリクス２の開口部４
の画素部には濡れやすいものを適宜選択して使用する。
インク５は、染料系、顔料系のいずれでも良く、溶媒は
水を主成分として、親水性の有機溶媒等を含んでいても
良い。

【００１７】インク５として、熱硬化性のインクを用い
ることが、インク５の硬化とブラックマトリクス２の本
硬化を同一の工程で行うことが可能であるため好まし
い。

【００１８】インク中に含ませる熱硬化成分としては、
ブラックマトリクスの硬化と同程度の温度条件で硬化す
る材料が好ましく、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、
フェノール系樹脂、エンチオール等の中から適宜使用で
きる。また、要求されるプロセス温度に応じて上記の樹
脂に芳香族アミン系、酸無水物等を導入したものも使用
可能である。

【００１９】工程（ｅ）ブラックマトリクス２を硬化させるため加熱乾燥処理
（ポストベーク）を行い、ブラックマトリクス２を形成
する。この時インク５の硬化も同時に行って着色部８を
形成することが好ましい。

【００２０】その後、必要に応じて保護層を設ける。

【００２１】上記の工程において用いたブラックマトリ
クス２を構成するブラックレジスト７は、黒色の顔料又
は染料と感光性材料を含み、その他必要に応じて非感光
性の樹脂を含んでいても良い。感光性材料としては、Ｕ
Ｖレジスト、ＤＥＥＰ−ＵＶレジスト及び紫外線硬化型
樹脂等である。

【００２２】ＵＶレジストとしては、環化ポリイソプレ
ン−芳香族ビスアジド系レジスト及びフェノール樹脂−
芳香族アジド化合物系レジスト等のネガ型レジストを挙
げることができ、また、ＤＥＥＰ−ＵＶレジストとして
は、ネガ型レジストとしてポリビニルフェノール−３，
３’−ジアジドフェニルスルホン及びポリメタクリル酸
グリシジル等を挙げることができる。

【００２３】紫外線硬化型樹脂としては、ベンゾフェノ
ン及びその置換誘導体、ベンゾイン及びその置換誘導
体、アセトフェノン及びその置換誘導体、ベンジル等の
オキシム系化合物等の中から選ばれる１種または２種以
上の光重合開始剤を２〜１０質量％程度含有した、ポリ
エステルアクリレート、エポキシアクリレート及びウレ
タンアクリレート等を挙げることができる。

【００２４】また、ブラックレジストは、基板に塗布す
る際には低沸点溶剤と高沸点溶剤からなる溶媒に分散さ
れる。

【００２５】低沸点溶剤としては、酢酸ブチル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）等が挙
げられ、高沸点溶剤としては、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、エチルセ
ロソルブ（ＥＣＡ）、３−メトキシブチルアセテート
（ＭＢＡ）等が挙げられる。

【００２６】かかる混合溶媒において、高沸点溶剤が５
０質量％以上を占める割合で用いられる。

【００２７】本発明は、通常１００ｍＪ／ｃｍ²以上、
一般には数百ｍＪ／ｃｍ²の露光量が必要と思われてい
るネガ型ブラックレジストのプロキシミティ露光を、ブ
ラックレジスト表面で１４．０〜７０．０ｍＪ／ｃｍ²
という非常に低い値で行うことに特徴を有する。図２
に、ネガ型レジストにプロキシミティ露光を施している
様子を模式的に示す。図中、３はフォトマスクで、石英
基板２１表面にクロム遮光膜２２が形成されている。１
はブラックマトリクスを形成する透明基板で、７がパタ
ーニングするネガ型ブラックレジスト、２４はレジスト
７とフォトマスク３との隙間、即ちプロキシミティ露光
ギャップである。２７は直接光露光部、２８ａ及び２８
ｂは回折光露光部である。

【００２８】本発明において、露光量は４００ｎｍより
も波長の長い光をカットした超高圧水銀灯の光を照射し
て、（株）オーク（ＯＲＣ）製作所製の紫外線照度計
「ｍｏｄｅｌＵＶ−ＭＯ２」を用いて測定した値であ
る。紫外線照度計の受光器は、「ＵＶ−３５」を用い
た。

【００２９】プロキシミティ露光においては、プロキシ
ミティ露光ギャップ２４は製造上、広ければ広いほど製
造安定性がよい。それに対して、プロキシミティ露光ギ
ャップ２４が広がると、回折光により露光される領域２
８ａ、２８ｂの範囲は広がってしまう。しかしながら、
開口部直下の直接光露光部２７の露光量は、回折光露光
部２８ａ、２８ｂの露光量より大きい。そこで、本発明
者等が露光量と現像性を鋭意検討した結果、回折光の露
光には影響されず、直接光露光部２７だけを露光硬化さ
せることができる露光量範囲があることを発見し、本発
明を達成した。

【００３０】即ち、露光量を１４．０〜７０．０ｍＪ／
ｃｍ²とすることにより、直接光露光部のみを十分に硬
化し、回折光露光部を含む遮光部分は現像によって除去
することが可能になる。よって、フォトマスク３のパタ
ーンに忠実にレジスト７をパターニングすることができ
る。露光量が１４．０ｍＪ／ｃｍ²未満であると、直接
光露光部においても露光不足となり、ブラックマトリク
スパターンが十分に硬化せずに欠損を生じるようにな
り、また、露光量が７０．０ｍＪ／ｃｍ²を超えると、
回折光露光部の露光量が硬化しうる量に達し、ブラック
マトリクスパターンがいびつになる。

【００３１】プロキシミティギャップ２４は３０μｍ〜
２５０μｍ、さらには８０μｍ〜２２０μｍが好まし
い。

【００３２】本発明の製造方法によるブラックマトリク
スは、細部まで忠実にパターニングすることができるた
め、開口部の形状が細かな凹凸を有する、前記したＴＦ
Ｔ型の液晶素子にも好ましく用いることができる。ま
た、カラーフィルタの着色部の形成工程には何ら関与し
ないため、インクジェット方式により硬化型のインクを
付与して着色部を形成する工程において、インクの混色
防止壁として用いることが可能である。

【００３３】従って、本発明のブラックマトリクスの開
口部にインクジェット方式によりインクを付与して硬化
させて着色部を形成し、ブラックマトリクスと着色部と
の境界が明瞭で、開口部面積の広い高品位なカラーフィ
ルタを提供することが可能となり、さらに、該カラーフ
ィルタを用いて一方の基板を構成し、他方の基板との間
に液晶を狭持することで、カラー表示特性の良好な液晶
素子を構成することができる。

【００３４】図３に、本発明の製造方法により製造され
たカラーフィルタを組み込んだＴＦＴカラー液晶パネル
の断面を示す。尚、その形態は本例に限定されるもので
はない。

【００３５】カラー液晶パネルは、一般的にカラーフィ
ルタ側基板１と対向基板１４を合わせ込み、液晶組成物
１２を封入することにより形成される。液晶パネルの一
方の基板１４の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素
電極１３がマトリクス状に形成される。また、もう一方
の基板１の内側には、画素電極１３に対向する位置に
Ｒ、Ｇ、Ｂの着色部８が配列するようなカラーフィルタ
９が設置され、その上に透明な対向電極（共通電極）１
０が一面に形成される。ブラックマトリクス２は通常カ
ラーフィルタ側基板１上に形成される。

【００３６】さらに、両基板の面内には配向膜１１が形
成されており、これをラビング処理することにより液晶
分子を一定方向に配列させることができる。また、それ
ぞれの基板の外側には偏光板１５が接着されており、液
晶組成物１２は、これらの基板の間隙（２〜５μｍ程
度）に充填される。また、バックライトとしては蛍光灯
（不図示）と散乱板（不図示）の組み合わせが一般的に
用いられており、液晶組成物１２をバックライト光１６
の透過率を変化させる光シャッターとして機能させるこ
とにより表示を行う。６は必要に応じて設ける保護層で
ある。

【００３７】

【実施例】以下の実施例及び比較例においては、露光機
としてキヤノン（株）製「ＰＬＡ−７００ＦＡ」を使用
し、プロキシミティ露光ギャップは５０μｍとした。本
露光機の照度は１４．２ｍＷ／ｃｍ²であった。被露光
基板は、５インチウエハ形状の無アルカリガラスに各レ
ジスト材を１μｍの厚さにスピンコートし、８０℃で１
８０秒間プリベークしたものを使用した。

【００３８】（実施例１、２、比較例１、２）富士フィ
ルムオーリン（株）製ブラックレジスト「ＣＫ−Ｓ１７
１Ｘ」を、図４に示したフォトマスクにて、２．０秒間
（実施例１）、４．９秒間（実施例２）、図６に示した
フォトマスクにて０．９秒間（比較例１）、図４に示し
たフォトマスクにて７．０秒間（比較例２）、それぞれ
露光し、富士フィルムオーリン（株）製現像液「ＣＤ」
２０ｖｏｌ％溶液（２５℃）に１２５秒間浸漬後、７Ｐ
ａの高圧純水ジェットによりリンスしてパターン形成し
た。露光量はそれぞれ２８．４ｍＪ／ｃｍ²（実施例
１）、６９．６ｍＪ／ｃｍ²（実施例２）、１２．８ｍ
Ｊ／ｃｍ²（比較例１）及び９９．４ｍＪ／ｃｍ²（比較
例２）であった。得られたブラックマトリクスの一部
を、実施例１は図７、図８に、実施例２は図９、図１０
に、比較例１は図１１に、比較例２は図１２にそれぞれ
示す。

【００３９】図７〜図１２から明らかなように、実施例
１及び実施例２ではフォトマスクのパターンが忠実に転
写されたブラックマトリクスが得られたが、比較例１で
は露光量が足りずにブラックマトリクスパターン上にピ
ンホール状の欠損が発生し、不良品となった。また、比
較例２では露光量が多すぎるため回折光による露光によ
って、ブラックマトリクスパターンがいびつな形状を示
し、不良品となった。

【００４０】（実施例３、４、比較例３、４）東京応化
工業（株）製ブラックレジスト「ＣＦＰＲ−ＢＫ４１
６」を、図５に示したフォトマスクにて１．０秒間（実
施例３）、図６に示したフォトマスクにて４．０秒間
（実施例４）、０．８秒間（比較例３）、５．０秒間
（比較例４）、それぞれ露光し、東京応化工業（株）製
現像液「Ｎ−Ａ３Ｋ」１０ｖｏｌ％溶液（２５℃）に５
５秒間浸漬後、０．５Ｐａの純水スプレーによりリンス
してパターン形成した。露光量は、それぞれ１４．２ｍ
Ｊ／ｃｍ²（実施例３）、５６．８ｍＪ／ｃｍ²（実施例
４）、１１．４ｍＪ／ｃｍ²（比較例３）及び７１．０
ｍＪ／ｃｍ²（比較例４）であった。得られたブラック
マトリクスを、実施例３は図１３、図１４に、実施例４
は図１５、図１６に、比較例３は図１７に、比較例４は
図１８にそれぞれ示す。

【００４１】図１３〜図１８から明らかなように、実施
例３及び実施例４ではフォトマスクのパターンが忠実に
転写されたブラックマトリクスが得られたが、比較例３
では露光量が足りずに現像によりパターン欠損が生じ、
不良品となった。また、比較例４では露光量が多すぎる
ため回折光による露光によって、ブラックマトリクスパ
ターンがいびつな形状を示し、不良品となった。

【００４２】（実施例５、６、比較例５、６）新日鐵化
学（株）製ブラックレジスト「Ｖ−２５９−ＢＫ−７３
９Ｐ」を、図６のフォトマスクにて１．０秒間（実施例
５）、４．９秒間（実施例６）、０．６秒間（比較例
５）、６．０秒間（比較例６）、それぞれ露光し、新日
鐵化学（株）製現像液「Ｖ−２５９ＩＤ」１ｖｏｌ％溶
液（２５℃）に１８秒間浸漬後、０．５Ｐａの純水スプ
レーによりリンスしてパターン形成した。露光量はそれ
ぞれ１４．２ｍＪ／ｃｍ²（実施例５）、６９．６ｍＪ
／ｃｍ²（実施例６）、８．５ｍＪ／ｃｍ²（比較例５）
及び８５．２ｍＪ／ｃｍ²（比較例６）であった。得ら
れたブラックマトリクスを、実施例５は図１９、図２０
に、実施例６は図２１、図２２に、比較例５は図２３
に、比較例６は図２４にそれぞれ示す。

【００４３】図１９〜図２４から明らかなように、実施
例５及び実施例６ではフォトマスクのパターンが忠実に
転写されたブラックマトリクスが得られたが、比較例５
では露光量が足りずに現像によりパターン欠損が生じ、
不良品となった。また、比較例６では露光量が多すぎる
ため回折光による露光によって、ブラックマトリクスパ
ターンがいびつな形状を示し、不良品となった。

【００４４】上記実施例１〜６、比較例１〜６の結果よ
り、各レジストの最適露光量を下記表１に示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】表１から明らかなように、本発明に係る露
光量範囲であれば、フォトマスクのパターンを忠実に転
写したブラックマトリクスがプロキシミティ露光によっ
て得られることがわかる。

【００４７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
プロキシミティ露光によっても、所望のパターンのブラ
ックマトリクスを形成することができ、該ブラックマト
リクスを用いてフィルタ特性に優れたカラーフィルタ、
及びカラー表示に優れた液晶素子を提供することができ
る。また、実質露光時間が短くなるため、製造炊くとの
短縮効果を得ることもでき、製造効率が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の工程を示
す図である。

【図２】ネガ型レジストにプロキシミティ露光を施して
いる様子の模式図である。

【図３】本発明の製造方法により製造されたカラーフィ
ルタを用いた液晶素子の一例を示す断面図である。

【図４】本発明の実施例で用いたフォトマスクの形状の
一例を示す部分図である。

【図５】本発明の実施例で用いたフォトマスクの形状の
他の例を示す部分図である。

【図６】本発明の実施例で用いたフォトマスクの形状の
他の例を示す部分図である。

【図７】本発明の実施例１のブラックマトリクスの写真
である。

【図８】本発明の実施例１のブラックマトリクスの写真
である。

【図９】本発明の実施例２のブラックマトリクスの写真
である。

【図１０】本発明の実施例２のブラックマトリクスの写
真である。

【図１１】本発明の比較例１のブラックマトリクスの写
真である。

【図１２】本発明の比較例２のブラックマトリクスの写
真である。

【図１３】本発明の実施例３のブラックマトリクスの写
真である。

【図１４】本発明の実施例３のブラックマトリクスの写
真である。

【図１５】本発明の実施例４のブラックマトリクスの写
真である。

【図１６】本発明の実施例４のブラックマトリクスの写
真である。

【図１７】本発明の比較例３のブラックマトリクスの写
真である。

【図１８】本発明の比較例４のブラックマトリクスの写
真である。

【図１９】本発明の実施例５のブラックマトリクスの写
真である。

【図２０】本発明の実施例５のブラックマトリクスの写
真である。

【図２１】本発明の実施例６のブラックマトリクスの写
真である。

【図２２】本発明の実施例６のブラックマトリクスの写
真である。

【図２３】本発明の比較例５のブラックマトリクスの写
真である。

【図２４】本発明の比較例６のブラックマトリクスの写
真である。

【符号の説明】

１透明基板２ブラックマトリクス３フォトマスク４ブラックマトリクス開口部５インク６保護層７ブラックレジスト８着色部９カラーフィルタ１０対向電極（共通電極）１１配向膜１２液晶組成物１３画素電極１４対向基板１５偏光板１６バックライト光２１石英基板２２クロム遮光膜２４プロキシミティ露光ギャップ２７直接光露光部２８ａ，２８ｂ回折光露光部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者岩田研逸東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者小久保智東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上にネガ型ブラックレジストを形成
する工程と、フォトマスクを介して前記レジストを１
４．０〜７０．０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光する工程
と、露光された前記レジストを現像してパターンを形成
する工程とを有することを特徴とする樹脂製ブラックマ
トリクスの製造方法。
【請求項２】前記パターンが、凹凸の外形を有するも
のである請求項１記載の樹脂製ブラックマトリクスの製
造方法。
【請求項３】請求項１に記載のブラックマトリクスの
製造方法により製造された樹脂製ブラックマトリクスの
開口部に、インクジェット法でインクを付与して着色部
を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方
法。
【請求項４】前記インクが、熱硬化性である請求項３
に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】前記インクと、前記樹脂製ブラックマト
リクスとを同時に硬化させる請求項３記載のカラーフィ
ルタの製造方法。
【請求項６】請求項３記載のカラーフィルタの製造方
法により製造されたカラーフィルタと、前記カラーフィ
ルタに対向する対向基板と、前記カラーフィルタと対向
基板との間に封入した液晶とを有することを特徴とする
液晶素子。