JP2011174966A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の前記基板の前記液晶層の側の表面に有機配向層を結合した無機配向膜を備える液晶表示装置の、前記基板の前記有機配向層の除去領域にエネルギー線を照射し、前記有機配向層を除去する液晶表示装置の製造方法であって、前記除去領域に対応する開口部を備え、前記開口部の前記液晶表示装置の表示部との境界線に直交する方向の開口長さの5倍以上の板厚を有するマスクを前記基板面に対向配置し、エネルギー線を照射する、ことを特徴とする。
【選択図】図5
Description
図1は第1実施形態に係る液晶表示装置を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A’断面部における概略断面図である。液晶表示装置100は、図1(b)に示すようにTFT基板10と、TFT基板10に対向配置される対向基板20とを備え、TFT基板10と対向基板20との間にシール材30によって液晶40が封入されている。TFT基板10の対向基板20に対向する面には画像表示領域10aを備え、画像表示領域10aを囲うようにシール材30が設けられている。
図3は、本実施形態に係る液晶表示装置100の製造フローチャートであり、液晶注入口封止までの工程を示している。
先ず、ウエハーの形態でTFT、引き回し配線、接続端子などが形成され、液晶面側に無機配向膜、有機配向層を形成したTFT基板10と、共通電極、無機配向膜、有機配向層を形成した対向基板20を準備する(S101)。TFT基板10、対向基板20共に十分に洗浄・乾燥されて次の工程に移行する。
次に本願発明となる、UV照射工程(S102)に移行する。このUV照射工程(S102)には、図4に示すマスク200が用いられる。マスク200は、例えばステンレススチール等の金属板より形成されている。マスク200は図4(a)の平面図に示すように、複数の貫通した開口部210を備えている。この開口部210は、図4(a)のM部拡大図である図4(b)に示すように、TFT基板10もしくは対向基板20におけるシール材30の液晶注入口30aに対応している。従って、マスク200とTFT基板10もしくは対向基板20とは、マスク200とTFT基板10もしくは対向基板20とに予め設けたアライメントマーク(図示せず)等を基準に位置合わせを行い、対向配置する。
q=δ×(L/T)
となる。開口長さLは、液晶注入口30aの大きさとほぼ同じに設定されるため、マスク厚みTを大きくすることで不要照射域qを小さくすることができる。さらにマスク200とTFT基板10、もしくは対向基板20との隙間δを小さくすることも好ましいことが分かった。
次に、基板接合工程(S103)に移行する。基板接合工程(S103)は、図8に示すように、例えば紫外線硬化型樹脂成分からなるシール材30を対向基板20、もしくはTFT基板10のどちらか一方の対向面にスクリーン印刷もしくはディスペンサー法により形成する(本図では便宜的にTFT基板10にシール材30の印刷領域10cを描いている)。シール材30の一部には、基板組立て後の液晶注入口30aとなる切欠き部が設けられている。
次に、切断分離した基板に液晶を注入する液晶注入工程(S104)に移行する。液晶注入工程(S104)では、真空チャンバー内に基板を投入し、真空減圧して基板の液晶封入部を真空とする。次に、少なくとも液晶注入口30a部位を液晶槽へ浸漬し、チャンバー内を大気圧に戻すことで、基板内に液晶が注入される。
次に、液晶注入口封止工程(S105)に移行する。液晶注入口封止工程(S105)では、液晶注入工程(S104)で液晶が注入された基板のシール材30に備えた液晶注入口30a部に、エポキシ系の紫外線硬化型接着剤を、液晶注入口30aを塞ぐように塗布し、その後、紫外線照射により硬化させ、封止材50となる。これにより、液晶注入口30aの封止が完了する。
次に、第2実施形態について説明する。第2実施形態は上述の第1実施形態に対して、マスク200の開口部210の形態のみが異なり、その他の形態は同じであるため、マスク200の開口部について説明し、他は省略する。
第3実施形態として、第1および第2実施形態の金属製マスクに代えて、ガラス製マスクを用いた場合を説明する。
Claims (5)
- 対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の前記基板の前記液晶層の側の表面に有機配向層を結合した無機配向膜を備える液晶表示装置の、前記基板の前記有機配向層の除去領域にエネルギー線を照射し、前記有機配向層を除去する液晶表示装置の製造方法であって、
前記除去領域に対応する開口部を備え、前記開口部の前記液晶表示装置の表示部との境界線に直交する方向の開口長さの5倍以上の板厚を有するマスクを前記基板面に対向配置し、エネルギー線を照射する、
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記マスクと前記基板との隙間δは
0mm<δ≦0.5mm
の範囲に離間させて配置する、
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記エネルギー線が紫外線である、
ことを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記マスクがステンレススチールである、
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記除去領域が、前記基板間に液晶を注入する注入口形成領域である、
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2011174966A5 JP2011174966A5 (ja) | 2013-03-28 |
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A977 | Report on retrieval |
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