JP2007155893A - 遮光マスクの製造方法及び遮光マスク - Google Patents
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Abstract
【課題】遮光機能を十分発揮させることができるとともに、その取り付けも容易に行うことのできる遮光マスク及びその製造方法を提供する。
【解決手段】遮光マスク41は、遮光部51が形成されたマスク基板42と保持基板43とが紫外線硬化性樹脂よりなるシール材52により貼り合わせられて一体化マスクとして形成される。シール材52による貼り合わせ後(シール材52の硬化後)の両基板42,43には、さらに、耐熱性を有する接着テープ53が貼り付けられている。
【選択図】図5
【解決手段】遮光マスク41は、遮光部51が形成されたマスク基板42と保持基板43とが紫外線硬化性樹脂よりなるシール材52により貼り合わせられて一体化マスクとして形成される。シール材52による貼り合わせ後(シール材52の硬化後)の両基板42,43には、さらに、耐熱性を有する接着テープ53が貼り付けられている。
【選択図】図5
Description
本発明は、遮光マスクの製造方法及び遮光マスクに係り、詳しくは、液晶等のフラットパネルディスプレイ(FPD:Flat Panel Display)に用いる2枚の基板の貼り合わせ時に使用する遮光マスク及びその製造方法に関する。
従来、フラットパネルディスプレイの一つとして、例えば液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)が知られている。液晶ディスプレイパネル(液晶パネル)は、一般に、複数のTFT(薄膜トランジスタ)がマトリクス状に形成されたアレイ基板と、カラーフィルタ(赤、緑、青)や遮光膜などが形成されたカラーフィルタ基板とが極めて狭い間隔(数μm程度)で対向して設けられ、それらの2枚の基板間に液晶が封入されて製造される。遮光膜は、コントラストを稼ぐため、及びTFTを遮光して光リーク電流の発生を防止するために用いられる。アレイ基板とカラーフィルタ基板とは、例えば紫外線硬化性樹脂よりなるシール材で貼り合わせられている。
ところで、シール材に紫外線を照射して2枚の基板の貼り合わせを行う際には、紫外線が液晶に照射されると特性劣化を起こすので、シール材以外に紫外線が照射されないように遮光マスクが用いられる。このような遮光マスクに関連する先行技術は例えば特許文献1に開示されている。この特許文献1に開示されている遮光マスクの構成では、パターン形成された遮光マスクを透明部材(一般には透明ガラス基板)よりなるマスク保持手段の下面に真空吸着により保持し、ワークステージに載置された2枚の基板に対し遮光マスクを介して紫外線を照射することにより2枚の基板の貼り合わせを行うものとなっている。
特開2005−181540号公報(第1図)
しかし、近年はパネルサイズが大型化しており、従って、遮光マスクもパネルサイズに応じて大型化しているため、上記のような特許文献1に開示された方法では、遮光マスクをマスク保持手段に取り付ける際(真空吸着時)に、遮光マスクが傷ついたり破損したりすることがあった。又、遮光マスクの自重による撓みで真空吸着の際に位置ずれが生じたり、真空リークが生じて吸着状態が不安定となったりすることがあった。
この解決策として、遮光マスクをマスク保持手段の上面に保持させる方法が考えられる。しかし、この方法では遮光マスクと基板との距離が遠くなるだけでなく、透明ガラス(マスク保持手段)内で紫外線光が拡散することにより、液晶部分への紫外線の回り込みが生じて、遮光機能が低下するといった問題があった。
本発明は、このような従来の実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、遮光機能を十分発揮させることができるとともに、取り付けも容易に行うことのできる遮光マスク及びその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、請求項1又は7に記載の発明では、遮光部が形成されたマスク基板に、シール材を塗布する工程と、前記シール材を塗布したマスク基板を、透明ガラス基板よりなる保持基板に貼り合わせる工程と、を備えることを要旨とする。
この構成によれば、マスク基板を保持基板に貼り付けて一体化マスクとして遮光マスクを形成することで、パネル製造時に、マスク基板を保持基板に吸着保持させる作業は不要となる。これにより、マスク基板を傷つけたり破損させたりすることや、真空吸着の際に位置ずれが生じたり、真空リークが生じて吸着状態が不安定となったりすることを好適に回避することができる。即ち本構成では、遮光マスクの取り付けを保持基板の取り付けによって行うことができるため、遮光マスクの取り付けを極めて容易化することができる。従って、遮光マスクの取り付けの不便さから遮光機能を低下させてしまうといった問題も好適に回避することができる。
請求項2に記載の発明では、請求項1記載の遮光マスクの製造方法において、前記シール材は、前記マスク基板に対し前記遮光部が形成されている面と反対側の面において前記遮光部の形成位置に対応した位置に枠状に塗布されるとともに、その枠の一部に切れ目を有するように塗布されることを要旨とする。
この構成によれば、シール材がその一部に切れ目を有するように枠状に塗布されることで、マスク基板と保持基板との貼り合わせの際にそれらの両基板間に蓄積される熱をシール材の切れ目から逃がして両基板の接着性を高めることができる。
請求項3に記載の発明では、請求項1又は2記載の遮光マスクの製造方法において、前記シール材は紫外線硬化性樹脂よりなり、前記貼り合わせ後の前記マスク基板及び前記保持基板に紫外線を照射して前記シール材を硬化させる工程をさらに備えることを要旨とする。
この構成によれば、耐熱性に優れる紫外線硬化性樹脂をシール材に用いることにより、マスク基板と保持基板の接着性を高め、熱によるマスク基板の剥がれを抑制することができる。
請求項4に記載の発明では、請求項3記載の遮光マスクの製造方法において、前記シール材を硬化させた後の前記マスク基板及び前記保持基板に耐熱性を有する接着テープを貼り付ける工程をさらに備えることを要旨とする。
この構成によれば、シール材によるマスク基板と保持基板との貼り合わせ後に、両基板にさらに接着テープを貼り付けることで、マスク基板をより確実に保持基板に固定させることができる。
請求項5に記載の発明では、請求項3又は4記載の遮光マスクの製造方法において、前記シール材を硬化させた後、前記保持基板に対し前記マスク基板が貼り合わせられている面と反対側の面に紫外線反射用の反射板を貼り付ける工程をさらに備えることを要旨とする。
この構成によれば、紫外線を照射してパネルの貼り合わせを行う際に、紫外線光が保持基板内で拡散することによる、同パネル(液晶等)への紫外線の回り込みを効果的に抑制することができる。又、保持基板に吸収される紫外線により熱が発生することを防止できるため、マスク基板の剥がれを好適に回避することができる。
請求項6に記載の発明では、請求項3乃至5のいずれか一項記載の遮光マスクの製造方法において、前記遮光マスクは、2枚の基板を貼り合わせてパネルを製造するパネル製造装置の、光照射装置に着脱可能に取り付けられ、前記光照射装置には、前記紫外線を発光する発光部と、前記保持基板の外周縁を固定する固定部とが備えられており、前記シール材を硬化させる工程では、前記マスク基板を前記保持基板の下に保持させた状態で該保持基板を前記固定部に固定し、前記保持基板越しに前記紫外線を前記シール材に照射して該シール材を硬化させることを要旨とする。
この構成によれば、パネル製造装置で用いる光照射装置に保持基板を固定する固定部を備えたことで、パネル製造装置の光照射装置を用いて遮光マスクの作成を行うことができる。固定部は、保持基板の外周縁を固定する構成であるため、保持基板(即ち遮光マスク)を傷つけたり破損させたりすることなくその取り付けを容易に行うことができる。又、本構成では、固定部に保持基板を固定し発光部からの紫外線照射によりシール材を硬化させた後(即ち、一体化マスクを形成した後)は、そのままパネル貼合せ処理に移行することができる。
上記発明によれば、遮光機能を十分発揮させることができ、又、取り付けも容易に行うことのできる遮光マスク及びその製造方法を提供することができる。
(第1の実施の形態)
以下、本発明を具体化した第1の実施の形態を図1〜図5に従って説明する。
図1は、2枚の基板を貼り合わせてフラットパネルディスプレイ(FPD)等のパネルを製造するパネル製造装置の全体の概略構成を示すブロック図である。尚、本実施の形態においては、液晶ディスプレイ(LCD)のパネル、特には、アクティブマトリクス型の液晶パネルを製造するパネル製造装置を例に挙げて説明する。
以下、本発明を具体化した第1の実施の形態を図1〜図5に従って説明する。
図1は、2枚の基板を貼り合わせてフラットパネルディスプレイ(FPD)等のパネルを製造するパネル製造装置の全体の概略構成を示すブロック図である。尚、本実施の形態においては、液晶ディスプレイ(LCD)のパネル、特には、アクティブマトリクス型の液晶パネルを製造するパネル製造装置を例に挙げて説明する。
このパネル製造装置には、液晶パネルを構成する2種類の基板W1,W2が供給される。第1の基板W1は、TFT等が形成されたアレイ基板(TFT基板ともいう)であり、第2の基板W2は、カラーフィルタや遮光膜(ブラックマトリクス)等が形成されたカラーフィルタ基板である。第1及び第2の基板W1,W2は、それぞれの工程によって作成され、パネル製造装置に供給される。
第1及び第2の基板W1,W2は、先ずシール描画装置11に供給される。このシール描画装置11は、第1及び第2の基板W1,W2のうち何れか一方の基板、本実施の形態では第1の基板W1の上面に、紫外線硬化性樹脂よりなるシール材を枠状に塗布する。シール材が塗布された第1の基板W1及び第2の基板W2は、搬送装置21aにより次いで液晶滴下装置12に搬送される。
液晶滴下装置12は、上記シール材が塗布された第1の基板W1の上面の予め設定された複数の所定位置に液晶を滴下する。液晶が滴下された第1の基板W1及び第2の基板W2は、搬送装置21bにより次いで貼合せ装置13のプレス装置14に搬送される。
プレス装置14は、処理室としてのチャンバを備える。チャンバ内には、真空吸着又は静電吸着により第1及び第2の基板W1,W2をそれぞれ保持する保持板が設けられており、プレス装置14は、第1及び第2の基板W1,W2を上保持板と下保持板とにそれぞれ吸着保持した後、チャンバ内を真空排気する。次に、プレス装置14は、第1及び第2の基板W1,W2に設けられたアライメントマークを用いて光学的に両基板W1,W2の位置合わせを行う。そして、プレス装置14は、両基板W1,W2に所定の圧力を加えてそれら両基板W1,W2を所定の基板間隔となるまでプレスした後、チャンバ内を開放(大気導入)する。これにより、両基板W1,W2は、大気圧と両基板W1,W2間の圧力との圧力差によって、さらに所定のセル厚までプレスされる。このようにプレス装置14によりプレスされた第1及び第2の基板W1,W2は搬送装置21cにより取り出され、次いで光照射装置としての硬化装置15に搬送される。
硬化装置15は、紫外線(UV)を発光する発光部33(図2参照)を備えたUV照射装置であって、該発光部33からの紫外線を後述する遮光マスク41(図2参照)を介して上記プレス後の2枚の基板W1,W2に照射する。この2枚の基板W1,W2に照射された紫外線は第2の基板W2越しにシール材に照射される一方、シール材の形成位置以外の部分への照射は遮光マスク41によって遮光される。これにより、液晶等への紫外線の照射を防ぎながら、シール材のみを硬化させる。こうしてシール材が硬化された第1及び第2の基板W1,W2(液晶パネル)は、搬送装置21dにより、次いで検査装置16に搬送される。
検査装置16は、パネル貼り合わせ後の2枚の基板W1,W2間の位置ずれを測定して、その測定値を制御装置17に出力する。制御装置17は、この検査装置16の測定値に基づいて、上記プレス装置14における位置合わせに補正を加える等の制御を行う。例えば制御装置17は、パネル貼り合わせ後の両基板W1,W2に生じている位置ずれ量を、そのずれ方向と反対方向に予めずらしておく等の補正を実施する。これにより、次に製造される液晶パネルの位置ずれを防止する。
図2は、硬化装置15の概略構成を示す図である。
硬化装置15は、ワークとしての液晶パネル(第1及び第2の基板W1,W2)を載置するワークステージ31と、遮光マスク41を保持する固定部としての固定枠32と、紫外線を発光する発光部33とを備えている。
硬化装置15は、ワークとしての液晶パネル(第1及び第2の基板W1,W2)を載置するワークステージ31と、遮光マスク41を保持する固定部としての固定枠32と、紫外線を発光する発光部33とを備えている。
ワークステージ31には、前述のプレス装置14により所定のセル厚までプレスされた第1及び第2の基板W1,W2が、例えば第1の基板W1を下、第2の基板W2を上にして載置される。
固定枠32は、後述するマスク基板42と保持基板43とにより一体化形成されてなる遮光マスク41を固定するものであり、本実施の形態では、例えば図2,図3に示すように、保持基板43の外周縁下面を支持する支持枠32aと、該支持枠32aに対し図示しないネジにより固定される上枠32bとから構成されている。即ち、保持基板43が支持枠32aに支持された状態で上枠32bが支持枠32aに対しネジで固定され、このネジの締め付けにより上枠32bと支持枠32aとの間に保持基板43が挟み込まれることによって、保持基板43(つまり、遮光マスク41)が固定されるようになっている。尚、保持基板43は、その下面にマスク基板42を保持した状態で固定枠32に固定される。
この固定枠32は、硬化装置15内において図示しない駆動機構により昇降可能に支持されている。そして、第1及び第2の基板W1,W2が硬化装置15内に搬送され、それら両基板W1,W2がワークステージ31上に載置されると、固定枠32に固定されている遮光マスク41が第2の基板W2の上面に近接、もしくは密着する位置まで下降されるようになっている。
上記のような構成により、硬化装置15は、発光部33からの紫外線を、固定枠32に固定されている遮光マスク41を介して、第2の基板W2越しに第1及び第2の基板W1,W2間のシール材に照射し、該シール材を硬化させる。これにより、紫外線の液晶等への照射を遮光マスク41により防止しつつ、第1及び第2の基板W1,W2の貼り合わせを行う。
次に、本実施の形態の遮光マスク41について説明する。
図5に示すように、本実施の形態の遮光マスク41は、クロム等よりなる遮光部51(図5中、斜線にて示す領域)が形成されたマスク基板42と、該マスク基板42を保持する保持基板43とが紫外線硬化性樹脂よりなるシール材52により貼り合わせられて形成されている。即ち、遮光マスク41は、マスク基板42と保持基板43とからなる一体化マスクとして形成されている。
図5に示すように、本実施の形態の遮光マスク41は、クロム等よりなる遮光部51(図5中、斜線にて示す領域)が形成されたマスク基板42と、該マスク基板42を保持する保持基板43とが紫外線硬化性樹脂よりなるシール材52により貼り合わせられて形成されている。即ち、遮光マスク41は、マスク基板42と保持基板43とからなる一体化マスクとして形成されている。
又、本実施の形態ではこうしたシール材52に加えて、該シール材52による貼り合わせ後のマスク基板42と保持基板43とに、耐熱性を有する接着テープ53がマスク基板42の少なくとも一辺に沿って貼り付けられている。このように、シール材52に加えて接着テープ53を使用することで、マスク基板42をより確実に保持基板43に固定させることができる。尚、図5は、接着テープ53をマスク基板42の2辺に沿って貼り付けた例を示している。
マスク基板42は、本実施の形態では、液晶パネルの一方の基板であるカラーフィルタ基板を用いて構成されており、このカラーフィルタ基板に形成される遮光膜やカラーフィルタ等の位置(つまりは液晶パネルでのマスク位置)に対応した位置に遮光部51が形成されている。勿論、カラーフィルタ基板を用いることに必ずしも限定されない。
保持基板43は、石英ガラスを用いて構成されている。この保持基板43はマスク基板42よりも面積が大きく、且つ厚みの大きな透明ガラス基板である。勿論、石英ガラスを使用することに必ずしも限定されないが、光吸収による発熱を抑え、シール材52によるマスク基板42と保持基板43との接着性を高めるには、できる限り透過率の高い材質がよい。因みに、本実施の形態では透過率約85%を有する石英ガラスが使用されている。
このように、マスク基板42をそれよりも厚みの大きな保持基板43に貼り合わせて、一体化マスクとして遮光マスク41を形成することで、遮光マスク41の剛性を高めることができる。これにより、遮光マスク41を固定枠32に固定させる際、該遮光マスク41が撓むことが抑制される。
次に、本実施の形態の遮光マスク41の製造方法について説明する。
図4は、遮光マスク41の製造方法を示す工程説明図である。
図4(a)に示す第1の工程では、マスク基板42に対し遮光部51が形成されている面と反対側の面において、該遮光部51の形成位置(図中、破線で囲まれる枠内)に対応した位置にシール材52を塗布する。この際、好ましくは、シール材52を枠状に塗布するとともに、その枠の一部に切れ目を有するように塗布するのがよい。こうすることで、後述する第3の工程(図4(c))で紫外線を照射してシール材52を硬化させる際に、マスク基板42と保持基板43との貼り合わせ間に蓄積される熱(空気)をシール材52の切れ目から逃がして両基板42,43の接着性を高めることができる。即ちマスク基板42と保持基板43との貼り合わせ間に蓄積される熱によって両基板42,43が剥がれ易くなることを抑制することができる。又、より好ましくは、上記枠状に塗布したシール材52の内側にもさらにシール材52を塗布するのがよい。こうすることで、マスク基板42と保持基板43との接着性をより高めることができる。尚、このようなシール材52の塗布は、前述したシール描画装置11(図1)を用いて行うことができる。
図4は、遮光マスク41の製造方法を示す工程説明図である。
図4(a)に示す第1の工程では、マスク基板42に対し遮光部51が形成されている面と反対側の面において、該遮光部51の形成位置(図中、破線で囲まれる枠内)に対応した位置にシール材52を塗布する。この際、好ましくは、シール材52を枠状に塗布するとともに、その枠の一部に切れ目を有するように塗布するのがよい。こうすることで、後述する第3の工程(図4(c))で紫外線を照射してシール材52を硬化させる際に、マスク基板42と保持基板43との貼り合わせ間に蓄積される熱(空気)をシール材52の切れ目から逃がして両基板42,43の接着性を高めることができる。即ちマスク基板42と保持基板43との貼り合わせ間に蓄積される熱によって両基板42,43が剥がれ易くなることを抑制することができる。又、より好ましくは、上記枠状に塗布したシール材52の内側にもさらにシール材52を塗布するのがよい。こうすることで、マスク基板42と保持基板43との接着性をより高めることができる。尚、このようなシール材52の塗布は、前述したシール描画装置11(図1)を用いて行うことができる。
図4(b)に示す第2の工程では、シール材52を塗布したマスク基板42を保持基板43に接近させてそれらの両基板42,43を貼り合わせる。この貼り合わせは、前述したプレス装置14(図1)を用いて行うことができる。
図4(c)に示す第3の工程では、マスク基板42を貼り合わせた保持基板43を固定枠32に固定(外周縁を固定)して硬化装置15に供給し、発光部33からの紫外線を、保持基板43越しにシール材52(図4(c)では図示せず)に照射して同シール材52を硬化させる。これにより、マスク基板42と保持基板43とを貼り合わせる。
その後、第4の工程として、シール材52を硬化させたマスク基板42と保持基板43とに接着テープ53を貼り付ける(図5参照)。以上の工程により、本実施の形態の遮光マスク41が作成される。
以上記述したように、本実施の形態によれば、以下の効果を奏する。
(1)マスク基板42をシール材52により保持基板43に貼り付け、一体化マスクとして遮光マスク41を形成することで、マスク基板42を真空吸着等により保持基板43に保持させる作業は不要となる。従って、マスク基板42を傷つけたり破損させたりすることや、真空吸着の際に位置ずれが生じたり真空リークが生じて吸着状態が不安定となったりすることを好適に回避することができる。又、硬化装置15(光照射装置)にマスク保持のための真空吸着源が不要となるため、硬化装置15を安価な構成で実現できる。
(1)マスク基板42をシール材52により保持基板43に貼り付け、一体化マスクとして遮光マスク41を形成することで、マスク基板42を真空吸着等により保持基板43に保持させる作業は不要となる。従って、マスク基板42を傷つけたり破損させたりすることや、真空吸着の際に位置ずれが生じたり真空リークが生じて吸着状態が不安定となったりすることを好適に回避することができる。又、硬化装置15(光照射装置)にマスク保持のための真空吸着源が不要となるため、硬化装置15を安価な構成で実現できる。
(2)遮光マスク41の取り付けを保持基板43の取り付けによって行うことができるため、遮光マスク41の取り付けを極めて容易化することができる。従って、遮光マスクの取り付けの不便さから、遮光機能を低下させてしまうといったことも生じ得ない。
(3)マスク基板42よりも厚みのある保持基板43にマスク基板42が貼り合わせられて形成されるため、マスク基板42単体で用いる場合に比べて、遮光マスク41の剛性を向上させることができる。
(4)シール材52を枠状に塗布する際、その枠の一部に切れ目を設けるようにしたことで、マスク基板42と保持基板43との貼り合わせ時に両基板42,43間に蓄積される熱を枠(シール材52)の切れ目から逃がして、該シール材52による接着性を高めることができる。
(5)シール材52に耐熱性に優れる紫外線硬化性樹脂を用いたことにより、熱によるマスク基板42の剥がれを抑制することができる。
(6)シール材52の硬化後、マスク基板42と保持基板43とに、さらに接着テープ53を貼り付けるようにしたことで、マスク基板42をより確実に保持基板43に固定させることができる。
(6)シール材52の硬化後、マスク基板42と保持基板43とに、さらに接着テープ53を貼り付けるようにしたことで、マスク基板42をより確実に保持基板43に固定させることができる。
(第2の実施の形態)
次に、本発明の第2の実施の形態を上記説明した第1の実施の形態との相違点を中心に図6に従って説明する。なお、第1の実施の形態と同様な構成部分については同一符号を付して説明する。
次に、本発明の第2の実施の形態を上記説明した第1の実施の形態との相違点を中心に図6に従って説明する。なお、第1の実施の形態と同様な構成部分については同一符号を付して説明する。
図6に示すように、本実施の形態の遮光マスク61は、保持基板43に対しマスク基板42が貼り合わせられている面と反対側の面に、銀板等よりなる紫外線反射用の反射板62を貼り付けたものであり、この点において第1の実施の形態と異なる。その他の構成は第1の実施の形態と同様である。尚、この反射板62は、シール材52に紫外線を照射して硬化させた後、即ち、上記第1の実施の形態で説明した第3の工程(図4(c))の後に、マスク基板42上の遮光部51の形成位置(図5参照)に対応した位置に貼り付けられる。
本実施の形態では、このように保持基板43上に反射板62を設けたことで、第1及び第2の基板W1,W2の貼り合わせ(紫外線によるシール材硬化)の際に、保持基板43内を通過しようとする紫外線を反射板62により反射させることができる。これにより、保持基板43内で紫外線光が拡散することによる、液晶等への紫外線の回り込みを効果的に抑制することができる。又、保持基板43内に紫外線が吸収(紫外線照射光の約15%分)されることによる熱の蓄積を抑えて、それによりマスク基板42と保持基板43とが剥がれ易くなることを抑制することができる。
なお、上記各実施の形態は、以下に記載する変形例の態様で実施してもよい。
・マスク基板42と保持基板43とを貼り合わせるシール材52を、紫外線硬化性樹脂以外の材料を用いてもよい。
・マスク基板42と保持基板43とを貼り合わせるシール材52を、紫外線硬化性樹脂以外の材料を用いてもよい。
・シール材52を、マスク基板42における遮光部51の形成面に塗布するようにしてもよい。
・シール材52のみでマスク基板42と保持基板43との接着性を確保することができれば、接着テープ53は必ずしも必要ない。
・シール材52のみでマスク基板42と保持基板43との接着性を確保することができれば、接着テープ53は必ずしも必要ない。
・シール材52を枠状に塗布することに必ずしも限定されない。又シール材52の枠の一部に切れ目を入れることにも必ずしも限定されない。即ち、上記実施の形態では、大気中でマスク基板42と保持基板43とを貼り合わせる際に、枠の切れ目から熱(空気)を抜くためにシール材52の枠の一部に切れ目を入れるようにしたが、例えば、貼り合わせを真空下で行ってもよく、その場合には切れ目を不要とすることもできる。
W1:第1の基板、W2:第2の基板、11:シール描画装置、13:貼合せ装置、15:硬化装置、32:固定枠(固定部)、32a:支持枠、32b:上枠、33:発光部、41,61:遮光マスク、42:マスク基板、43:保持基板、51:遮光部、52:シール材、53:接着テープ、62:反射板。
Claims (7)
- 遮光部が形成されたマスク基板に、シール材を塗布する工程と、
前記シール材を塗布したマスク基板を、透明ガラス基板よりなる保持基板に貼り合わせる工程と、
を備える遮光マスクの製造方法。 - 前記シール材は、前記マスク基板に対し前記遮光部が形成されている面と反対側の面において前記遮光部の形成位置に対応した位置に枠状に塗布されるとともに、その枠の一部に切れ目を有するように塗布される、
請求項1記載の遮光マスクの製造方法。 - 前記シール材は紫外線硬化性樹脂よりなり、
前記貼り合わせ後の前記マスク基板及び前記保持基板に紫外線を照射して前記シール材を硬化させる工程をさらに備える、
請求項1又は2記載の遮光マスクの製造方法。 - 前記シール材を硬化させた後の前記マスク基板及び前記保持基板に耐熱性を有する接着テープを貼り付ける工程をさらに備える、
請求項3記載の遮光マスクの製造方法。 - 前記シール材を硬化させた後、前記保持基板に対し前記マスク基板が貼り合わせられている面と反対側の面に紫外線反射用の反射板を貼り付ける工程をさらに備える、
請求項3又は4記載の遮光マスクの製造方法。 - 前記遮光マスクは、2枚の基板を貼り合わせてパネルを製造するパネル製造装置における、光照射装置に着脱可能に取り付けられ、
前記光照射装置には、前記紫外線を発光する発光部と、前記保持基板の外周縁を固定する固定部とが備えられており、
前記シール材を硬化させる工程では、前記マスク基板を前記保持基板の下に保持させた状態で該保持基板を前記固定部に固定し、前記保持基板越しに前記紫外線を前記シール材に照射して該シール材を硬化させる、
請求項3乃至5のいずれか一項記載の遮光マスクの製造方法。 - 請求項1乃至6のいずれか一項記載の製造方法により製造された遮光マスク。
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JP2005347875A JP2007155893A (ja) | 2005-12-01 | 2005-12-01 | 遮光マスクの製造方法及び遮光マスク |
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
KR100982675B1 (ko) * | 2008-12-12 | 2010-09-16 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 마스크기판 및 이를 이용한 자외선 경화장치 |
CN105911743A (zh) * | 2016-06-21 | 2016-08-31 | 安徽今上显示玻璃有限公司 | Uv光屏蔽组件 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05216215A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-27 | Ibiden Co Ltd | 露光用マスクパネル |
JP2000162615A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-06-16 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造方法並びに露光マスク及び露光装置 |
JP2000241821A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-09-08 | Seiko Epson Corp | 液晶パネルの製造方法 |
JP2005043700A (ja) * | 2003-07-23 | 2005-02-17 | Ushio Inc | ディスプレイパネルの貼り合わせ装置 |
-
2005
- 2005-12-01 JP JP2005347875A patent/JP2007155893A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05216215A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-27 | Ibiden Co Ltd | 露光用マスクパネル |
JP2000162615A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-06-16 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造方法並びに露光マスク及び露光装置 |
JP2000241821A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-09-08 | Seiko Epson Corp | 液晶パネルの製造方法 |
JP2005043700A (ja) * | 2003-07-23 | 2005-02-17 | Ushio Inc | ディスプレイパネルの貼り合わせ装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100982675B1 (ko) * | 2008-12-12 | 2010-09-16 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 마스크기판 및 이를 이용한 자외선 경화장치 |
CN105911743A (zh) * | 2016-06-21 | 2016-08-31 | 安徽今上显示玻璃有限公司 | Uv光屏蔽组件 |
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