JPH0784119A

JPH0784119A - 機能性塗膜等の形成方法

Info

Publication number: JPH0784119A
Application number: JP23137093A
Authority: JP
Inventors: Susumu Miyazaki; 進宮崎; Tsuyoshi Nakano; 強中野; Yoshikatsu Okada; 良克岡田; Junichi Yasukawa; 淳一安川; Yoshinori Matsumura; 美紀松村; Kazuo Tsueda; 和夫津枝
Original assignee: Shinto Paint Co Ltd; Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Shinto Paint Co Ltd; Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1993-09-17
Filing date: 1993-09-17
Publication date: 1995-03-31
Also published as: FI944317A0; US5561011A; FI944317A; EP0647871A1; TW296536B

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】導電性回路上に精度良く形成してなる機能性塗
膜等を有する基板を製造する方法を提供する。【構成】上記導電性回路を有する透明基板全面に、ポジ
型またはネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成
し、その表面に、次の現像工程において、枠部以外を覆
う塗膜を与えるようなパターンを有するマスクを重ね
て、光線を照射、現像、熱処理し、得られた透明基板全
面に機能性付与添加剤を含有するネガ型フォトレジスト
を塗布して、塗膜を形成し、透明基板の背面より露光す
る工程、塗膜の未硬化部分を除去する現像工程、熱処理
された塗膜のみを除去する工程、以上の工程を経て得ら
れた透明基板に、その導電性回路上に位置する複数の窓
部に電着塗膜を形成する工程、を上記の順に行なうこと
を特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、導電層を表面に有する
透明基板上に、窓部の塗膜および枠部の機能性塗膜、例
えば、遮光性の塗膜、を形成してなる機能性塗膜等を有
する基板を製造する方法に関するものである。機能性塗
膜とは不要光の遮光やその他特性向上の働きをする塗膜
である。特に、カラー液晶表示装置（ＬＣＤ）に使用さ
れるカラーフィルター、すなわち、カラーの画素の塗膜
および機能性塗膜を形成してなる基板、の製造に有用な
方法である。特に、この方法は、 TFT（薄膜トランジス
ター）とカラーフィルターとを用いたマトリックス型カ
ラー表示装置に使用されるカラーフィルターの製造に有
用な方法である。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶を利用したＬＣＤは、いわゆ
るポケットテレビ等に使われてきたが、近年大型化、大
画面化が急速に進められている。画質もTN液晶からSTN
液晶やTFT に代表されるアクティブ駆動素子の開発でCR
T に迫るものが商品化されている。カラー表示装置の画
質向上と生産性の改善については、様々な検討が行われ
ているが、その重要な技術の一つとして、光リーク防止
及び画質向上（見かけのコントラスト) のためのブラッ
クマトリックスと呼ばれる遮光膜の形成方法及び形状の
問題がある。ＬＣＤのカラー化に使用されるカラーフィ
ルターのカラーの画素の塗膜以外の部分を埋める、枠部
を覆う機能性塗膜（ブラックマトリックス）の形成に使
用される方法としては、シルクスクリーン法、オフセッ
ト法などの印刷技術による方法が知られている。また、
基板上にクロムなどの金属薄膜をスパッタリングなどに
より形成した後、フォトリソグラフィー、エッチングに
よりブラックマトリックスを形成する方法が知られてい
る。最近、黒色顔料を含むネガレジストが開発され、直
接フォトリソグラフィーによりブラックマトリックスを
形成する方法が検討されている。また、複数の平行な帯
状の導電性回路上に帯状のカラーの塗膜を電着法により
形成し、次いで機能性塗膜を与えるネガ型フォトレジス
トを全面に塗布して、前記カラーの塗膜をマスク代わり
にして基板背面から露光して、帯状のカラーの塗膜の間
隙にブラックマトリックスとしての機能性塗膜を形成す
る方法が知られている（特開昭５９−１１４５７２公
報、特開平３−４２６０２公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし最近、将来が有
望視されているTFT 方式のLCD においては、スイッチン
グ素子の光リークを防ぐため、遮光膜の遮光率向上が要
求されている。更に、画質向上のため、遮光膜のパター
ンは、格子状その他の複雑な形状が望まれることが多く
なった。しかしながら、従来の製造方法において、印刷
による方法では、機能性塗膜の形状が格子状の場合、格
子間が約１００μｍの空隙程度のパターンのものしかで
きず、格子状に微細な機能性塗膜を精度よく形成するこ
とが困難であった。黒色顔料を含むネガレジストを用い
て直接フォトリソグラフィーによりブラックマトリック
スを形成する方法が検討されているが、遮光率が高くな
るとレジストの光硬化が進まず、精度よく機能性塗膜を
形成することが困難となる。また、従来の電着法により
形成した帯状のカラー塗膜をマスク代わりにして基板背
面から露光する方法は、機能性塗膜を帯状のカラー塗膜
間に精度よく形成できるが、帯状のカラー塗膜を横切る
方向に機能性塗膜を形成することが困難であるという課
題があった。

【０００４】そこで、この発明の目的は、従来のこのよ
うな課題を解決することであり、複数の導電性回路を表
面に有する透明基板上に、その導電性回路上に位置する
複数の窓部の塗膜と、その窓部以外の部分を埋める枠部
の機能性（例えば、遮光性）を有する塗膜とを精度良く
形成してなる機能性塗膜等を有する基板を製造する方法
を提供することである。とくに、各窓部の幅が約２００
μｍ以下の微細なパターンを有する塗膜を精度良く形成
する方法を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、電着塗装
法によれば塗膜を極めて精度よく導電回路上にのみ選択
的に塗着でき、しかも窓部（電着塗装を行なう部分）形
成のために行なうフォトリソグラフィーにおいて、使用
するレジストが熱処理により透過率が低下し露光光を十
分透過しないことに着眼し、従来の背面露光を応用しそ
の他いろいろの工夫をすることにより、上記の目的を達
成しうることを見出し本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は次のとおりである。複数の導電性回
路を表面に有する透明基板上に、その導電性回路上に位
置する複数の窓部の塗膜、およびその窓部以外の部分を
埋める枠部の機能性塗膜を形成してなる機能性塗膜等を
有する基板を製造する方法において、（ａ）上記導電性
回路を有する透明基板全面に、ポジ型またはネガ型フォ
トレジストを塗布して、塗膜を形成する工程、（ｂ）形
成されたポジ型またはネガ型フォトレジスト塗膜の表面
に、次の現像工程において、枠部以外を覆う塗膜を与え
るようなパターンを有するマスクを重ねて、光線を照射
する露光工程、（ｃ）枠部の塗膜を除去する現像工程、
（ｄ）現像工程で残った塗膜を熱処理する工程、（ｅ）
以上の工程を経て得られた透明基板全面に機能性付与剤
を含有するネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形
成する工程、（ｆ）透明基板の背面より露光する工程、
（ｇ）下地に上記（ｄ）工程で形成された塗膜が存在す
るために十分露光されなかった、（ｅ）工程で形成され
た塗膜の未硬化部分を除去する現像工程、（ｈ）上記
（ｄ）工程で熱処理された塗膜のみを除去する工程、
（ｉ）以上の工程を経て得られた透明基板に、その導電
性回路を一方の電極として使用し電着塗装を行なうこと
により、その導電性回路上に位置する複数の窓部に電着
塗膜を形成する工程、を上記の順に行なうことを特徴と
する方法。

【０００６】本発明において使用される透明基板材料と
しては、ガラスあるいはプラスチックの板等が挙げられ
る。この基板に形成される導電性回路は、ITO 膜( 錫を
ドーブした酸化インジウム膜) あるいは、ネサ膜( アン
チモンドープした酸化錫膜)等の透明導電性材料により
作られる。導電性回路のパターンは、複数の帯状のもの
を平行に並べたものが一般的である。これらは、従来よ
り良く知られている方法で作られる。

【０００７】本発明において、一例として、格子状の機
能性塗膜等を形成した基板を製造する場合、（ａ）〜
（ｉ）の各工程で得られる製品の断面の模式図を図１に
示した。また、本発明における、（ｄ）工程で得られる
窓部の機能性塗膜、および（ｉ）工程で得られる窓部の
塗膜の各パターンの平面の模式図を図２に示した。本発
明において、窓部および枠部の形状（平面）は任意の形
状とすることがきる。例えば、枠部の形状でいえば、図
２に示したような格子状の他に、図３のような複数の平
行な帯状の形状があげられる。本発明方法は、各窓部の
幅が好ましくは約２００μｍ以下、さらに好ましくは約
１００μｍ以下のような、微細な塗膜模様を有する基板
を製造する場合に特に有効である。

【０００８】本発明における（ａ）の工程は、導電層を
有する透明基板全面に、ネガ型又はポジ型フォトレジス
トを塗布して塗膜を形成する工程である。ここで用いら
れるポジ型フォトレジストの例として、ノボラック型フ
ェノール樹脂にＯ−キノンジアジドのエステル化物を含
有したもの等があげられるが、これらに限定されるもの
ではない。市販品として、東京応化社製のＯＦＰＲ−８
００（商品名）、住友化学工業社製のＰＦ−７４００
（商品名）、富士ハントエレクトロニクステクノロジー
社製のＦＨ−２０３０（商品名）等があげられる。

【０００９】（ａ）工程で使用するネガ型フォトレジス
トの例として、アクリレート樹脂に、ベンゾフェノン
類、アントラキノン類などの光重合開始剤を含有したも
の等が挙げられるが、もちろんこれらのものに限定され
るものではない。市販品として、東京応化工業社製、商
品名ＯＭＲ−８３などがあげられる。ここで使用される
ネガ型又はポジ型フォトレジストに、場合によっては、
カーボンなどの遮光成分が添加される。これは（ｆ）工
程での背面露光の際、これらのフォトレジスト塗膜の遮
光性を補うためのものである。遮光性が不十分である
と、これらのフォトレジスト塗膜上に、（ｆ）工程で形
成されるネガ型フォトレジスト塗膜がのってしまい不都
合である。

【００１０】導電層を有する透明基板上にポジ型又はネ
ガ型フォトレジスト塗膜を形成する方法としては、スク
リーン印刷法、オフセット印刷法、ロールコート法、バ
ーコート法、スピンコート法等が使用できる。これらの
中で、スピンコート法により塗膜を形成する場合には、
回転数は、二段階とし、初めに１００〜４００rpm でレ
ジストを基板上に広げ、次に８００〜５０００rpm でそ
のレジストの膜厚を均一にすることが推奨される。スピ
ンコート法は、導電層を有する透明基板上に忠実に精度
良く塗膜を形成することができるため有用である。透明
導電性回路を有する基板上に塗布されたネガ型又はポジ
型フォトレジストは、次に、必要に応じて、６０〜１０
０℃、時間５〜６０分の条件で熱処理される。熱処理を
することにより、ネガ型又はボジ型フォトレジスト中の
樹脂が予備硬化され、その塗膜と導電性を有する透明基
板との密着性がが向上する。

【００１１】本発明における（ｂ）の工程は、形成され
たネガ型又はポジ型フォトレジストの塗膜の表面に、次
の現像工程において枠部以外の部分を覆う塗膜を与える
ようなパターンを有するマスクを重ねて、光線を照射す
る露光工程である。（ｂ）の工程での露光には、ネガ型
又はボジ型フォトレジスト塗膜の種類により種々の範囲
の波長光を使用できるが、一般にUV領域が望ましく、光
源として超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を使用
した装置を用いることができる。この装置は、パターニ
ングの精度のためにも、ミラー式の平行光のものが望ま
しい。

【００１２】露光条件は、ポジ型フォトレジスト塗膜の
場合は、使用する光量および塗膜の種類により異なる
が、通常、１０〜５００ｍＪ／ｃｍ²である。露光され
た部分は分解反応が進行して、後述する薬剤に可溶とな
る。また、ネガ型フォトレジスト塗膜の場合は、使用す
る光量および塗膜の種類により異なるが、通常、露光量
は１０〜５００ｍＪ／ｃｍ²である。露光されない部分
は硬化が進まず、後述する薬剤に可溶となる。

【００１３】本発明における(C) の工程は、枠部の塗膜
を除去する現像工程である。ポジ型フォトレジスト塗膜
の場合は、塗膜の露光部分が溶解され、除去される。そ
の除去には、適当な溶解力を有する薬剤（現像液）に接
触させることによって行なうことができる。このような
薬剤は、ポジ型フォトレジスト塗膜の種類によって種々
選択されるが、通常は、カ性ソーダ、炭酸ナトリウム、
４級アンモニウム塩及び有機アミン等を水に溶かして得
られるアルカリ性水溶液、あるいは、エステル、ケト
ン、アルコール、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素の有
機溶剤から適宜選択使用する。その除去は、浸漬あるい
はシャワーなどの方法により、５秒ないし３分程度で行
なうことができる。その後、残った塗膜を水、純水等で
よく洗浄する。

【００１４】また、ネガ型フォトレジスト塗膜の場合
は、塗膜の未露光部分が未硬化部分となり除去される。
その除去は、上記のポジ型フォトレジスト塗膜の場合と
同様にして行なうことができる。この工程により、マス
クのパターン形状に応じて、ネガ型又はポジ型フォトレ
ジスト塗膜からなる機能性塗膜が形成される。ここで形
成される塗膜のパターン形状の一例として、図２、図３
のものがあげられる。

【００１５】本発明における（ｄ）工程は、（ｃ）工程
で形成した枠部を覆うポジ型又はネガ型フォトレジスト
の塗膜を熱処理する工程である。この熱処理は、（ｅ）
工程で形成されるネガ型フォトレジスト塗膜と、（ｃ）
工程で形成した枠部のポジ型又はネガ型フォトレジスト
の塗膜との反応を抑え、その後の（ｈ）工程におけるそ
のポジ型又はネガ型フォトレジストの塗膜の除去を容易
にさせるものである。この熱処理を行なうことにより、
（ｈ）工程におけるポジ型又はネガ型フォトレジストの
塗膜の除去操作の際、機能性塗膜であるネガ型フォトレ
ジスト塗膜周辺にそのポジ型又はネガ型フォトレジスト
の塗膜の残さが残ったり、あるいはそのネガ型フォトレ
ジスト塗膜の剥離が生じるという不都合を防止すること
ができる。熱処理の条件は、温度１２０〜３００℃、時
間１５分間〜２時間が好ましく、とくに、温度２００〜
２６０℃、１時間程度がさらに好ましい。

【００１６】本発明における（ｅ）の工程は、以上の工
程により得られた透明基板全面に機能性付与添加剤を含
有するネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成す
る工程である。この塗布は、スピンコート法、ロールコ
ート法、スクリーン印刷、オフセット印刷、浸漬コート
法などの比較的均質な塗膜が得られる方法で行う。ネガ
型フォトレジストとしては、UV領域の光源で硬化反応す
る、いわゆるUV硬化型の材料が好ましい。それらの主成
分として、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、合成
ゴム系、ポリビニルアルコール系等の各種の樹脂あるい
は、ゴムまたはゼラチンがあり、それぞれ単独あるいは
混合して使用することができる。それらは、光硬化型塗
料、インキあるいはネガ型レジストとして市販されてい
る。これらの材料には、反応性希釈剤、反応開始剤、光
増感剤などを適宜加えることができる。

【００１７】また、求められる機能により必要な機能性
付与添加剤を加えることができる。例えば、遮光のため
に使用する場合は、適当な顔料あるいは遮光剤が、また
接着の機能が求められる場合は、適当な接着力を向上す
る材料を添加する。ネガ型フォトレジストは塗布するに
際し、その作業性をよくするために、有機溶剤希釈型の
材料では、炭化水素、エステル、ケトンなどの適当な有
機溶剤で、また、水希釈型の材料では、水で、適当な粘
度あるいは固形分まで希釈して使用する。

【００１８】本発明における（ｆ）の工程は、透明基板
の背面より露光する工程である。露光は、ネガ型フォト
レジストの種類により種々の範囲の波長の光が使用でき
るが、一般には、UV領域が望ましく、光源として超高圧
水銀灯、メタルハライドランブ等を使用した装置を用い
ることができる。露光条件は、使用する光量およびネガ
型フォトレジストの種類により異なるが、通常は、露光
量１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ²である。露光された部
分は、架橋反応が進行し不溶性となり硬化する。

【００１９】本発明における（ｇ）の工程は、下地に上
記（ｄ）工程で形成された透過率が低下した塗膜が存在
するために十分に露光されなかった、（ｅ）工程で形成
された塗膜の未硬化部分を除去する現像工程である。そ
の部分の除去は、適当な溶解力を有する薬剤、例えば、
現像液、に接触させ、溶出することにより行われる。こ
のような薬剤は、ネガ型フォトレジスト塗膜の種類によ
り選択されるが、通常はカ性ソーダ、炭酸ソーダ、４級
アンモニウム塩又は有機アミン等を水に溶かしたアルカ
リ水溶液、あるいはエステル、ケトン、アルコール、塩
素化炭化水素等の有機溶剤が適宜使用される。溶出は浸
潰あるいはシャワーなどにより３０秒ないし５分程度行
えばよい。その後に、水、有機溶剤などを使用してよく
洗浄を行なう。次に必要により、１００〜２８０℃、１
０〜１２０分間の条件で熱処理される。この工程によ
り、枠部に機能性塗膜が形成される。

【００２０】本発明における（ｈ）の工程は枠部以外の
部分に形成されているポジ型あるいはネガ型フォトレジ
スト塗膜のみをはく離除去する工程である。除去は適当
な溶解力を有する薬剤、例えば、いわゆる現像液に接触
させることにより行われる。かかる薬剤は塗膜の性質に
より種々選択されるが、通常カ性ソーダ、炭酸ソーダ、
４級アンモニウム塩及び有機アミン等のアルカリ水溶液
あるいは、エステル、ケトン、アルコール、エーテル、
塩素化炭化水素等の有機溶剤が、適宜使用される。除去
は、浸漬あるいはシャワーなどにより３０秒ないし２０
分程度行えばよい。適宜、ブラシ、織布などによるラビ
ングが使用される。この工程により、枠部のみに電着塗
膜が残りブラックマトリックスが形成される。その後に
有機溶剤、水などを使用して良く洗浄を行ない、次に必
要があれば求められる性能を出すためポストベークをす
る。

【００２１】本発明における（ｉ）工程は、以上の工程
を経て得られた透明基板に、その導電性回路を一方の電
極として使って電着塗装を行なうことにより、その導電
性回路上に位置する複数の窓部に、必要により色を有す
る塗膜を形成する工程である。（ｈ）の工程を終わった
段階で、下地の複数の導電性回路上の窓部には塗膜が存
在しない。この工程ではその部分に電着塗装法により塗
膜を形成する。この種の導電性回路上に電着塗装を行う
方法は、一般に公知である。例えば、実務表面技術、Ｖ
ｏｌ．３４、Ｎｏ．６（１９８７）ｐ．５７〜６３、特
公平４−６４８７５公報に記載された方法を参考にする
ことができる。電着塗装法には、アニオン系とカチオン
系の塗装法があり、本発明においてはいずれの方法も使
用可能であるが、回路への影響が少ないことと、溶出の
し易さなどからアニオン系塗装法が好ましい。電着塗装
に用いる電着液の樹脂材料（バインダー）としては、マ
レイン化油系、アクリル系、ポリエステル系、ポリブタ
ジエン系、ポリオレフィン系などのがあげられる。これ
らは、それぞれ単独で、あるいは混合して使用できる。
これらのバインダーの中に着色顔料等を配合する。電着
液は、一般に、バインダー等の成分を水に分散、希釈し
てつくられる。電着液としては、水以外に有機溶剤を使
用する非水系電着液も使用することができる。

【００２２】電着液の入った浴中に上記の工程を経て得
られた透明基板を入れ、アニオン電着塗装法の場合は、
その導電性回路を正極とし、非腐蝕性の導電材料（ステ
ンレスなど）を対極として入れて直流電圧を印加する
と、その導電性回路上に位置する複数の窓部に選択的に
電着塗膜が形成される。電着塗膜の膜厚は、電着条件に
より制御される。電着条件は、通常１０〜３００V で１
秒から３分程度である。電着塗膜は、塗膜形成後よく洗
浄して不要物質を除去する。塗膜強度を高めるために、
必要により、１００〜２８０℃、１０〜１２０分間の条
件で熱処理される。

【００２３】本発明方法を使ってＬＣＤ用等のカラーフ
ィルターをつくる場合、導電性回路を表面に有する透明
基板上に、窓部（カラー部）および枠部（ブラックマト
リックス部）を形成後それらの上にオーバーコート膜
（保護膜）が形成される。オーバーコート材としては、
エポキシ、ポリイミド、アクリレート系などの樹脂が用
いられる。オーバーコート膜の形成は、スピンコータ
ー、又はロールコーターなどにより樹脂を塗布後、熱硬
化することにより行なわれる。そして、さらに、その上
に液晶駆動用として、透明導電膜が形成され、必要に応
じて回路パターンが形成され、カラーフィルターが完成
する。

【００２４】以下に実施例を挙げて本発明を詳細に説明
する。

【実施例】

（１）透明基板上への帯状の透明導電性回路パターンの
形成厚さ１．１ｍｍのガラス基板上に、幅８０μｍの帯状の
ITO 回路（１５Ω/ 口）を２０μｍの間隔を置いて（１
００μｍピッチ）、平行直線状に形成した。

【００２５】（２）ポジ型フォトレジスト塗膜の形成上記（１）による透明基板の全面にポジ型フォトレジス
ト（商品名、ＦＨ２０３０、富士ハントエレクトロニク
ステクノロジー社製）１００重量部に対して、酢酸エチ
ルセロソルブ２０重量部を加え、この混合物による塗布
をスピンコート法で２００ｒｐｍ／５秒、１０００ｒｐ
ｍ／２０秒の二段階で順に行い、９０℃で３０分間熱処
理して、膜厚１. ５μｍのポジ型フォトレジスト塗膜を
形成した。〔以上（ａ）工程〕

【００２６】（３）露光ポジ型フォトレジスト塗膜上に、格子状にパターニング
された（開口部：６０μm ×２００μm ）パターンマス
クをセットし（ギャップ：３０μm ）、超高圧水銀灯を
光源としたプロキシミティ露光機（大日本科研製ＭＡＰ
−１２００）により露光量１００ｍＪ／ｃｍ²で露光を
行った。（以上（ｂ）工程）

【００２７】（４）現像露光後、現像液（住友化学工業社製、商品名ＳＯＰＤ、
温度２５℃）に６０秒浸漬して現像し、露光部分を除去
し、純水リンスおよびエアーブロー乾燥により格子の窓
部にポジ型フォトレジスト膜を形成した。（以上（ｃ）
工程）

【００２８】（５）熱処理上記（４）工程で得られた、格子の窓部のポジ型フォト
レジスト塗膜を有する基板をオーブン中２２０℃、１時
間熱処理を行った。〔以上（ｄ）工程〕

【００２９】（６）ネガ型フォトレジスト塗膜の形成上記（５）の工程を経た基板の全面にブラックマスク用
塗料（ネガ型フォトレジスト）（シントーケミトロン社
製）をスクリーン印刷で塗布した。塗布後、１００℃で
１０分間熱処理を行った。形成された膜の厚さは約８μ
ｍであった。〔以上（ｅ）工程〕

【００３０】（７）ネガ型フォトレジスト塗膜の露光上記（６）の工程を経た基板に対し、背面（回路を有す
る面の反対側）１０cmの距離から８０W のUV光線を１０
秒照射した。露光量１８００ｍＪ／ｃｍ²。この時用い
たUV光線の主波長は３１３nmおよび３６５nmであった。
〔以上（ｆ）工程〕

【００３１】（８）現像および洗浄上記（７）の工程を経た基板を、次いで超音波をかけな
がら２分間、酢酸エチルセロソルブ中に浸漬して未露光
部分（下地に上記（ｄ）の工程で形成された透過率の低
いポジ型レジスト塗膜が存在するために露光が妨げられ
た部分）の塗膜を除去した。次に酢酸エチルセロソルブ
洗浄液に３０秒浸漬した後、イソプロピルアルコール、
純水の順に各３０秒間浸漬した。次いで２３０℃、３０
分間加熱し、硬化させた。この結果、格子状の枠部の機
能性塗膜（ブラックマトリックス、膜厚１．２μｍ）が
形成された。〔（ｇ）工程〕

【００３２】（９）ポジ型フォトレジスト塗膜の除去格子窓状に形成されているポジ型フォトレジスト塗膜
を、４０℃に加温した５重量％苛性ソーダ水溶液に１５
分間浸漬した後、純水シャワーをかけながらブラシによ
りポジ型フォトレジスト塗膜のみの剥離除去を行なっ
た。この後、よく洗浄してエアーブロー乾燥した後、２
００℃、３０分で加熱乾燥を行なった。（以上（ｈ）工
程）

【００３３】（１０）電着塗膜の形成透明基板上の所定の透明導電性回路を一方の電極とし、
赤、緑、青の順に、電着塗装を行なった。電着塗料とし
て、それぞれ赤の無機顔料（アゾ金属塩赤顔料）、緑の
無機顔料（フタロシアニングリーン）、青の無機顔料
（フタロシアニンブルー）を分散させたアニオン性ポリ
エステル樹脂の水溶液〔それぞれシントーケミトロン社
製、商品名シントロンＦ−Ｒｅｄ−Ｃ（Ｒ７３）
（赤）、商品名シントロンＦ−Ｇｒｅｅｎ−Ｃ（Ｇ３
４）（緑）、商品名シントロンＦ−Ｂｌｕｅ−Ｃ（Ｂ１
８）（青）〕を用い、各色種に応じて５０〜８０Ｖ、１
０〜２０秒の条件で行なった。その後、よく水洗した
後、２６０℃、１時間、熱処理を行なった。この結果、
透明導電性回路上のポジ型フォトレジスト塗膜の乗って
いない部分（窓部）に所定の順序で赤、緑、青のカラー
塗膜（膜厚１. ２μｍ）が形成された。〔以上（ｅ）工
程〕

【００３４】以上の工程を経て得られた、窓部のカラー
塗膜と格子状の枠部の機能性塗膜のパターンは図２に示
したものと同様のものであった。製品を光学顕微鏡（ニ
コン社製、商品名ＯＰＴＩＰＨＯＴ−８８）を用い倍率
２００倍で観察すると、窓部のカラー塗膜と格子状の枠
部の機能性塗膜の間に光のリークがなく、各塗膜が精度
よく形成されていた。

【００３５】

【発明の効果】本発明の方法に従うと、複数の導電性回
路を表面に有する透明基板上に、その導電性回路上に位
置する複数の窓部の塗膜と、その窓部以外の部分を埋め
る枠部の機能性（例えば、遮光性）を有する塗膜とを精
度良く形成してなる機能性塗膜等を有する基板を製造す
ることができる。とくに、各窓部の幅が約２００μｍ以
下の微細なパターンを有する塗膜を精度良く形成するこ
とができる。このため、本発明の方法は、例えば、光リ
ークがよく防止されており、カラー部が鮮明であり、光
学特性の極めてすぐれたＬＣＤ用３色カラーフィルター
を作るのに好適である。とくに、ＴＦＴとカラーフィル
ターとを用いたマトリックス型カラー表示装置に用いら
れるカラーフィルターを作るのに好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の各工程で得られる製品等の断面の模式
図である。

【図２】本発明における、導電性回路、（ｄ）の工程で
得られる枠部の機能性塗膜および（ｉ）の工程で得られ
る窓部の塗膜の各パターンの平面の模式図である。

【図３】本発明の方法によって得られる窓部の塗膜およ
び枠部の機能性塗膜のパターンの例の平面の模式図であ
る。

【符号の説明】

１．透明基板２．導電性回路３．フォトレジスト塗膜４．光線５．フォトマスク（遮光部）６．フォトマスク（透明部）７．枠部の塗膜８．窓部の塗膜（電着塗膜）

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【手続補正書】

【提出日】平成６年６月６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【特許請求の範囲】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者岡田良克茨城県つくば市北原６住友化学工業株式会社内 (72)発明者安川淳一東京都江東区新木場４丁目12番12号神東塗料株式会社内 (72)発明者松村美紀東京都江東区新木場４丁目12番12号神東塗料株式会社内 (72)発明者津枝和夫東京都江東区新木場４丁目12番12号神東塗料株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の導電性回路を表面に有する透明基板
上に、その導電性回路上に位置する複数の窓部の塗膜、
およびその窓部以外の部分を埋める枠部の機能性塗膜を
形成してなる機能性塗膜等を有する基板を製造する方法
において、（ａ）上記導電性回路を有する透明基板全面に、ポジ型
またはネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成す
る工程、（ｂ）形成されたポジ型またはネガ型フォトレジスト塗
膜の表面に、次の現像工程において、枠部以外を覆う塗
膜を与えるようなパターンを有するマスクを重ねて、光
線を照射する露光工程、（ｃ）枠部の塗膜を除去する現像工程、（ｄ）現像工程で残った塗膜を熱処理する工程、（ｅ）以上の工程を経て得られた透明基板全面に機能性
付与添加剤を含有するネガ型フォトレジストを塗布し
て、塗膜を形成する工程、（ｆ）透明基板の背面より露光する工程、（ｇ）下地に上記（ｄ）工程で形成された塗膜が存在す
るために十分露光されなかった、（ｅ）工程で形成され
た塗膜の未硬化部分を除去する現像工程、（ｈ）上記（ｄ）工程で熱処理された塗膜のみを除去す
る工程、（ｉ）以上の工程を経て得られた透明基板に、その導電
性回路を一方の電極として使用し電着塗装を行なうこと
により、その導電性回路上に位置する複数の窓部に電着
塗膜を形成する工程、を上記の順に行なうことを特徴と
する方法。