JPH07311379A

JPH07311379A - カラーフィルターおよび液晶表示装置の製造方法

Info

Publication number: JPH07311379A
Application number: JP33909294A
Authority: JP
Inventors: Tameyuki Suzuki; 為之鈴木; Akira Kubo; 晟久保; Yoshikatsu Okada; 良克岡田
Original assignee: Shinto Paint Co Ltd
Current assignee: Shinto Paint Co Ltd
Priority date: 1994-03-22
Filing date: 1994-12-28
Publication date: 1995-11-28

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】光リークがよく防止されており、着色が鮮明
で光学特性が優れるカラーフィルターと液晶表示装置を
製造する。【構成】透明導電層２を下層としフォトレジスト層３
がその上層を構成する回路状の積層が形成された基板を
得、（ｅ）積層の下層を構成している透明導電層を細片
状に露出し、現像後に残存するフォトレジスト層を、必
要により、加熱処理または／および光照射処理し、
（ｆ）露出した細片状の透明導電層上に電着により着色
層４を形成し、（ｇ）（ｅ）の工程で現像後に残存する
フォトレジスト層を除去し、細片状の着色層を有しその
間隙が露出した基板と透明導電層を得、（ｈ）該基板上
に遮光性樹脂層を形成し、（ｉ）該基板の裏面から露
光、現像することによって遮光性樹脂層の未露光部分を
除去することにより製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラーフィルターおよ
び液晶表示装置の製造方法に関する。更に詳しくは、本
発明は、細片状の着色層を有しその間隙に遮光性塗膜を
有するカラーフィルターの新規な製造方法およびそのカ
ラーフィルターを用いて液晶表示装置を製造する方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術と発明が解決しようとする課題】液晶表示
装置（ＬＣＤ）は、いわゆるポケットテレビ等に使われ
てきたが、近年、大型化、大画面化が急速に進められて
いる。画質もＴＮ液晶からＳＴＮ液晶やＴＦＴに代表さ
れるアクティブ駆動素子の開発でＣＲＴに迫るものが商
品化されている。ＬＣＤの多色化に使用されるカラーフ
ィルターについては、従来から、画質の向上と生産性の
改善について様々な検討が行われている。とりわけ、光
リークの防止や画質の向上などのために、赤、緑および
青色などからなる着色層の間隙に形成されるブラックマ
トリックスと呼ばれる遮光性塗膜についての検討は重要
である。特に、将来が有望視されているＴＦＴ方式のカ
ラーＬＣＤにおいては、遮光性塗膜の遮光率向上が要求
されるとともに、遮光性塗膜のパターンは格子状である
ことが要求されている。

【０００３】カラーフィルターの着色層の間隙を埋める
遮光性塗膜の形成方法としては、シルクスクリーン法、
オフセット法などの印刷技術による方法が知られてい
る。また、基板上に設けられている互いに絶縁されたス
トライプ状の導電性回路上に電着法によって着色層を形
成し、次いで遮光性塗膜を与える光硬化性樹脂組成物を
全面に塗布し、基板の背面から前記着色層をマスク代わ
りにして露光、現像することによって、ストライプ状の
着色層の間隙に遮光性塗膜を形成する方法も知られてい
る（特開昭６２−２４７３３１号公報）。しかしなが
ら、従来の印刷技術による方法では、格子間が約１００
μｍ程度の粗いパターンのものしかできず、格子状に精
度よく遮光性塗膜を形成することは困難である。また、
特開昭６２−２４７３３１号公報に記載の方法では、着
色層を細片状に形成し、その格子状の間隙に遮光性塗膜
を形成することは困難である。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、着色層を
極めて精度よく導電性回路上にのみ選択的に形成するこ
とができる電着塗装方法を応用し、ポジ型フォトレジス
ト組成物を巧みに用いることによって上記した従来の課
題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。

【０００５】すなわち、本発明は、（ａ）透明基板上に
透明導電層を形成し、（ｂ）該透明導電層上にポジ型フ
ォトレジスト組成物を塗布してフォトレジスト層を形成
し、（ｃ）該フォトレジスト層を所定のパターンを有す
るフォトマスクを介して露光後、現像することによって
回路状に形成し、（ｄ）該回路状のフォトレジスト層の
間隙に露出した透明導電層をエッチング除去することに
よって、透明導電層を下層としフォトレジスト層がその
上層を構成する回路状の積層が形成された基板を得、
（ｅ）該基板を所定のパターンを有するフォトマスクを
介して露光後、現像することによって、積層の下層を構
成している透明導電層を細片状に露出し、現像後に残存
するフォトレジスト層を、必要により、加熱処理または
／および光照射処理し、（ｆ）露出した細片状の透明導
電層上に熱または光硬化性の樹脂材料を用いる電着によ
り着色層を形成し、（ｇ）（ｅ）の工程で現像後に残存
するフォトレジスト層を除去することによって、細片状
の着色層を有しその間隙が露出した基板と透明導電層で
ある基板を得、（ｈ）該基板上に遮光性材料を含有する
光硬化性樹脂組成物を塗布して遮光性樹脂層を形成し、
（ｉ）該基板の裏面から露光、現像することによって遮
光性樹脂層の未露光部分を除去することを特徴とする細
片状の着色層を有しその間隙に遮光性塗膜を有するカラ
ーフィルターの製造方法、およびその方法で製造された
カラーフィルターを用いることを特徴とする液晶表示装
置の製造方法を提供する。

【０００６】以下に本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて使用される透明基板としては、ガラス板あるいは
プラスチック板など従来公知の基板を例示することがで
きる。本発明における工程（ａ）は、上記の基板上の全
面または所定の範囲に透明導電層を形成する工程であ
る。この工程では、公知の方法に従ってＩＴＯ膜（錫を
ドープした酸化インジウム膜）あるいはネサ膜（アンチ
モンドープした酸化錫膜）等の透明導電層を基板上に形
成することができる。本発明における工程（ｂ）は、工
程（ａ）において形成された透明導電層上にポジ型フォ
トレジスト組成物を塗布してフォトレジスト層を形成す
る工程である。この工程で使用するポジ型フォトレジス
ト組成物は、露光、現像により露光部分が溶出除去でき
る材料であればよく、例えばノボラック型フェノール樹
脂およびキノンジアジド系感光剤などからなる組成物が
好適である。また、ＯＦＰＲ−８００（東京応化工業社
製）、ＰＦ−７４００（住友化学工業社製）、ＦＨ−２
０３０（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社
製）、などの市販品から適宜選択して使用することもで
きる。

【０００７】ポジ型フォトレジスト組成物は、所望によ
り、更に粘度調整剤、有機溶剤、接着向上剤、その他公
知の補助剤などを含有することができる。塗布する方法
としては、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ロー
ルコート法、バーコート法、スピンコート法等が使用で
きる。これらの中で、スピンコート法により塗膜を形成
する場合には、該ポジ型フォトレジスト組成物に希釈剤
（例えばエチルセロソルブアセテートなどの非反応性希
釈剤）を加え低粘度化するのが好ましく、組成物１００
重量部に対して５〜４０重量部の希釈剤を加えるのが、
特に好ましい。また、スピンコート法における回転数
は、二段階とし、初めに１００〜４００ｒｐｍで基板上
に広げ、次に８００〜５０００ｒｐｍで膜厚を均一にす
ることが推奨される。スピンコート法は、透明導電層に
忠実に精度良く塗膜を形成することができる。このよう
にして形成したフォトレジスト層は、必要に応じて、６
０〜１００℃、５〜６０分間の条件で熱処理する。熱処
理をすることにより、そのフォトレジスト組成物中の樹
脂が予備硬化され、その塗膜と導電層との密着性を向上
し、後述する露光工程の作業性を向上することができ
る。

【０００８】本発明における工程（ｃ）は、工程（ｂ）
で形成されたフォトレジスト層を所定のパターンを有す
るフォトマスクを介して露光後、現像して露光部分を溶
解除去し、未露光部分を不溶部分として残すことによっ
て該フォトレジスト層を回路状に形成する工程である。
この工程は、後述する工程（ｄ）を伴って、透明基板上
に形成されている透明導電層を互いに絶縁された複数の
透明導電性回路に形成しようとする工程であり、フォト
マスクのパターンは、形成しようとする細片状の着色層
の配列、例えば、平行状、トライアングル状またはモザ
イク状などの配列に応じて適宜決定することができる。
この工程での露光には、工程（ｂ）で用いるポジ型フォ
トレジスト組成物の種類により種々の範囲の波長光を使
用できるが、一般に紫外領域の波長光が好ましく、光源
として超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を使用し
た装置を用いることができる。露光条件は、使用する光
源およびポジ型フォトレジスト組成物の種類により異な
るが、通常の露光量は１０〜４０００ｍＪ／ｃｍ²であ
る。露光部分を除去する現像は、適当な溶解力を有する
薬剤（現像液）に接触させることにより行われる。この
ような薬剤は、ポジ型フォトレジスト組成物の種類によ
り適宜選択されるが、通常、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、
４級アンモニウム塩および有機アミン等を水に溶かした
アルカリ水溶液、あるいは、エステル、ケトン、アルコ
ール、エーテル、塩素化炭化水素等の有機溶剤などから
適宜選択される。除去は、浸漬あるいはシャワーなどに
より５秒ないし２０分程度で行なうことができる。必要
により、ブラシ、織布などによるラビングが使用され
る。その後、有機溶剤、水などを使用してよく洗浄する
ことが望ましい。

【０００９】工程（ｄ）は、工程（ｃ）で露光部分を溶
解除去することによって形成した回路状のフォトレジス
ト層の間隙に露出した透明導電層をエッチング除去する
ことによって、その表面に、透明導電層を下層としフォ
トレジスト層がその上層を構成する回路状の積層が形成
された基板を得る工程である。透明導電層のエッチング
除去は常法に従って容易に行うことができる。エッチン
グに用いる薬剤は透明導電層の種類によって適宜選択さ
れるが、例えば、鉱酸、有機酸またはそれらの塩などか
ら選択することができる。

【００１０】工程（ｅ）は、工程（ｄ）において形成さ
れた基板を所定のパターンを有するフォトマスクを介し
て露光後、現像することによって、積層の下層を構成し
ている透明導電層の表面を細片状に露出し、必要によ
り、現像後に残存するフォトレジスト層を加熱処理また
は／および光照射処理する工程である。この工程で用い
るフォトマスクは、例えば、細片状に透光部を有し、そ
の間隙部を遮光するようにパターン化されている。露光
および現像は工程（ｃ）におけると同様にして行うこと
ができる。現像後に残存するフォトレジスト層は、必要
によって、加熱処理または／および光照射処理を行う。
加熱処理は、１００〜３００℃で１〜１２０分、光照射
処理は、紫外〜遠紫外領域の波長光を用い、露光量５０
〜５０００ｍｊ／ｃｍ²の条件下に行うことができる。
加熱処理および光照射処理の両処理をおこなう場合の順
序は特に限定されされるものではない。このような処理
を行うことによって、工程（ｇ）におけるフォトレジス
ト層の除去を容易にすることができる。

【００１１】工程（ｆ）は工程（ｅ）で露出した透明導
電層上に電着により着色層を形成する工程である。この
工程で行う電着法は一般に公知である。電着法には、ア
ニオン系とカチオン系があり、本発明においてはいずれ
の方法も使用可能であるが、回路への影響が少ないこと
などからアニオン系電着法が好ましい。

【００１２】電着に用いる電着液の樹脂材料（バインダ
ー）としては、マレイン化油系、アクリル系、ポリエス
テル系、ポリブタジエン系、ポリオレフィン系などの熱
硬化性の樹脂、および、例えば、それらの樹脂に２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート等の（メタ）アクリロイル基を有する水酸
基含有モノマーを半エステル付加させて得られる光硬化
性樹脂などがあげられる。これらは、それぞれ単独で、
あるいは混合して使用できる。これらのバインダーに染
料、顔料などの所望の色相を有する色素を配合する。電
着液は、一般に、バインダー、色素等の成分を水に分
散、溶解、希釈して調製することができる。電着液とし
ては、水以外に有機溶剤を使用する電着液も使用するこ
とができる。

【００１３】電着液の入った浴中に上記の工程を経て得
られた基板を入れ、アニオン電着法の場合は、その導電
性回路を正極とし、非腐蝕性の導電材料（ステンレスな
ど）を対極として入れて直流電圧を印加すると、その導
電性回路の上に位置する細片状の導電層上に選択的に電
着塗膜が形成される。

【００１４】電着塗膜の膜厚は、電着条件により制御す
ることができる。電着条件は、通常１０〜３００Ｖで１
秒から３分程度である。電着塗膜は、塗膜形成後よく洗
浄して不要物質を除去することが望ましい。塗膜強度を
高めるために、必要により、１００〜２８０℃、１０〜
１２０分間の条件で熱処理することができる。

【００１５】工程（ｇ）は、工程（ｅ）で現像後に残存
するフォトレジスト層を除去することによって、細片状
の着色層を有し、その間隙が露出した基板表面と透明導
電層である基板を得る工程である。この工程で除去は、
適当な溶解力および剥離力を有する薬剤に接触させるこ
とにより行われる。このような薬剤は、ポジ型フォトレ
ジスト組成物の種類により適宜選択されるが、通常、苛
性ソーダ、炭酸ソーダ、４級アンモニウム塩および有機
アミン等を水に溶かしたアルカリ水溶液、あるいは、エ
ステル、ケトン、アルコール、エーテル、塩素化炭化水
素等の有機溶剤などから適宜選択される。除去は、浸漬
あるいはシャワーなどにより５秒ないし２０分程度で行
なうことができる。必要により、ブラシ、織布などによ
るラビングまたは高圧シャワーなどが使用される。その
後、有機溶剤、水などを使用してよく洗浄することが望
ましい。

【００１６】工程（ｈ）は、工程（ｇ）で得られた基板
上の全面に遮光性材料を含有する光硬化性樹脂組成物を
塗布して遮光性樹脂層を形成する工程である。光硬化性
樹脂組成物は露光、現像によって、遮光部分が溶出除去
できるものであればよく、例えば、アクリル系、ウレタ
ン系、エポキシ系、合成ゴム系、ポリビニルアルコール
系等の各種の樹脂、あるいはゼラチン、および光重合開
始剤としてのアゾ化合物、過酸化物、ハロゲン化物など
からなる組成物が挙げられる。また、ＯＭＲ−８３（東
京応化工業社製）などのネガ型フォトレジスト組成物と
しての市販品、または光硬化型塗料やインキとして市販
されているものから適宜選択して使用することもでき
る。このような光硬化性樹脂組成物に混合する遮光性材
料は、特に制限されないが、例えば、金属酸化物系黒色
顔料、カーボンブラック、硫化ビスマス、黒色染料など
の色素が挙げられる。この際、使用されるＬＣＤの種類
により絶縁性の色素が好ましい場合がある。遮光性材料
を含有する光硬化性樹脂組成物は、所望により、更に反
応性希釈剤、反応開始剤、光増感剤、接着向上剤、粘度
調整のための有機溶剤や水などを含有することができ
る。塗布は、スピンコート法、ロールコート法、スクリ
ーン印刷法、オフセット印刷法、浸漬コート法などの方
法によって行うことができ、このようにして均質な遮光
性樹脂層を形成することができる。

【００１７】工程（ｉ）は、工程（ｈ）でその表面の全
面に遮光性樹脂層が形成された基板の裏面から露光、現
像することによって遮光性樹脂層の未露光部分を除去す
る工程である。この工程で露光は、光硬化性樹脂組成物
の種類により種々の範囲の波長の光が使用できるが、一
般には、紫外領域の波長光が好ましく、光源として超高
圧水銀灯、メタルハライドランプ等を使用した装置を用
いて行うことができる。露光条件は、使用する光源およ
び光硬化性樹脂組成物の種類により異なるが、通常の露
光量は１００〜４０００ｍＪ／ｃｍ²である。露光され
た部分は、架橋反応が進行し不溶性となり硬化する。露
光の際の空気中の酸素による重合阻害を防止するため
に、窒素ガス雰囲気下に露光を行ってもよく、また、ポ
リビニルアルコールを主成分とする酸素遮断膜を設けて
露光を行ってもよい。

【００１８】この工程で現像は、遮光性樹脂層の未露光
部分を溶出、除去するために行う。この除去は、適当な
溶解力を有する薬剤（現像液）に接触させ、溶出するこ
とにより行われる。このような薬剤は、光硬化性樹脂組
成物の種類により選択されるが、通常はカ性ソーダ、炭
酸ソーダ、４級アンモニウム塩又は有機アミン等を水に
溶かしたアルカリ水溶液、あるいはエステル、ケトン、
アルコール、塩素化炭化水素等の有機溶剤などから適宜
選択される。溶出は浸漬あるいはシャワーなどにより３
０秒ないし５分程度行えばよい。その後に、水、有機溶
剤などを使用してよく洗浄することが望ましい。

【００１９】細片状の着色層の間隙を構成している遮光
性樹脂層は、次いで、例えば、温度１００〜２８０℃で
１０〜１２０分間加熱処理することによって塗膜の強度
を向上することが望ましい。

【００２０】このようにして細片状の着色層を有しその
間隙に遮光性塗膜を有する基板を作製することができ
る。細片状の着色層の配列は使用されるＬＣＤの種類に
より異なるが、例えば、赤色、緑色および青色の各着色
層の細片が平行状、トライアングル状、モザイク状など
に配列されたものが例示される。本発明によれば、工程
（ｃ）および工程（ｅ）で用いるフォトマスクのパター
ンを適宜選択することにより所望の配列を得ることがで
きる。このようにして作製された基板を用いてカラーフ
ィルターを製造する。カラーフィルターは常法に従って
製造することができる。例えば、上記のとおり形成され
た着色層および遮光性塗膜の上に、必要により、オーバ
ーコート膜（保護膜）を形成し、必要によりその上に液
晶駆動用の透明導電膜を形成し、必要に応じて回路パタ
ーンを形成してカラーフィルターを製造することができ
る。本発明の方法によって製造されたカラーフィルター
を用い、公知の方法にしたがって液晶表示装置を製造す
ることができる。

【００２１】以下に本発明の方法に従って、細片状の着
色層が平行状に配列され、その格子状の間隙に遮光性塗
膜を有する基板を形成する実施の態様を図面によって説
明する。図１（１）〜（６）は本発明の方法によって形
成される基板の断面の模式図であり、図２（１）〜
（３）はその平面の模式図である。

【００２２】工程（ａ）で、厚さ１．１ｍｍのガラス基
板などの透明基板１の上にＩＴＯ（Ｉｎ₂Ｏ₃＋ＳｎＯ
₂）などの透明導電層２を形成する。〔図１（１）〕工程（ｂ）で、例えば、ＦＨ−２０３０（富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー社製）などのポジ型フォト
レジスト組成物を透明導電層２の上に塗布してフォトレ
ジスト層３を形成する。〔図１（２）〕

【００２３】工程（ｃ）で、フォトレジスト層３の上
に、パターンがストライプ状であり、例えば遮光部巾が
８０μｍ、透光部巾が２０μｍであるフォトマスクを重
ね、常法に従って、露光、現像を行ってフォトレジスト
層３をストライプ状（巾８０μｍ）に形成するとともに
その間隙（巾２０μｍ）に透明導電層２の表面を露出さ
せる。

【００２４】工程（ｄ）では、工程（ｃ）で表面が露出
した透明導電層２の部分を常法に従ってエッチング除去
する。この工程で、基板１の上に、下層を透明導電層２
を、その上層にフォトレジスト層３を有するストライプ
状の積層を形成する。〔図１（３）〕

【００２５】工程（ｅ）では、工程（ｄ）で形成された
ストライプ状の積層の上層を形成するフォトレジスト層
３を部分的に現像、除去して透明導電層を細片状に露出
するために、例えば、工程（ｃ）で使用したフォトマス
クに直角に交わる８０μｍ（透光部巾）、２０μｍ（遮
光部巾）のフォトマスクを該積層に重ね、常法に従って
露光後現像を行う。このようにして透明導電層の表面が
細片状に露出し、全体の間隙が格子状であって、縦方向
の間隙は基板１の表面が、横方向の間隙はフォトレジス
ト層である基板を形成する。〔図２（１）〕必要により、横方向の間隙を構成するフォトレジスト層
に、紫外領域の波長光を１０００ｍｊ／ｃｍ²照射し、
次いで、１２０℃で１０分間熱処理を行う。

【００２６】工程（ｆ）で、基板１の上の透明導電層２
を一方の電極として従来公知の電着法に従って電着を行
い、細片状に露出している透明導電層上に着色層４を形
成する。〔図１（４）〕

【００２７】工程（ｇ）で、工程（ｅ）の現像後に残存
する間隙部分のフォトレジスト層を除去する。このよう
にして、細片状の着色層４を有し、その縦方向の間隙に
基板１の表面が、横方向の間隙に透明導電層２の表面が
露出している基板を形成する。〔図２（２）〕

【００２８】工程（ｈ）で、基板の全面に、例えば、遮
光性材料を含有するネガ型フォトレジスト組成物を塗布
し、必要に応じて１００℃で１０分間熱処理を行い予備
硬化させて、遮光性樹脂層５を形成する。〔図１
（５）〕

【００２９】工程（ｉ）で、基板１の裏面から常法に従
って露光、現像して遮光性樹脂層５の未露光部分を除去
した後、例えば２３０℃で３０分間熱処理を施して現像
後に残存する遮光性樹脂層５を硬化させる。

【００３０】このようにして細片状の着色層を有し、そ
の格子状の間隙が遮光性塗膜で精度よく埋められた基板
を工業的有利に形成することができる。〔形成された基
板の断面は図１（６）、平面は図２（３）に示す。尚、
図中、Ｒは赤色着色層、Ｇは緑色着色層、Ｂは青色着色
層を表わす。〕

【００３１】

【発明の効果】本発明の方法によって、細片状の着色層
とその間隙を埋める遮光性塗膜が精度よく形成され、光
リークがよく防止されており、着色が鮮明で光学特性が
優れるカラーフィルターを工業的有利に製造することが
でき、それを用いて高画質の液晶表示装置を製造するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の各工程で形成される形状を有する基板
の断面の模式図である。

【図２】本発明の各工程で形成される形状を有する基板
の平面の模式図である。

【符号の説明】

１透明基板２透明導電層３フォトレジスト層４着色層５遮光性樹脂層Ｒ赤色着色層Ｇ緑色着色層Ｂ青色着色層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）透明基板上に透明導電層を形成
し、（ｂ）該透明導電層上にポジ型フォトレジスト組成物を
塗布してフォトレジスト層を形成し、（ｃ）該フォトレジスト層を所定のパターンを有するフ
ォトマスクを介して露光後、現像することによって回路
状に形成し、（ｄ）該回路状のフォトレジスト層の間隙に露出した透
明導電層をエッチング除去することによって、透明導電
層を下層としフォトレジスト層がその上層を構成する回
路状の積層が形成された基板を得、（ｅ）該基板を所定のパターンを有するフォトマスクを
介して露光後、現像することによって、積層の下層を構
成している透明導電層を細片状に露出し、現像後に残存
するフォトレジスト層を、必要により、加熱処理または
／および光照射処理し、（ｆ）露出した細片状の透明導電層上に熱または光硬化
性の樹脂材料を用いる電着により着色層を形成し、（ｇ）（ｅ）の工程で現像後に残存するフォトレジスト
層を除去することによって、細片状の着色層を有しその
間隙が露出した基板と透明導電層である基板を得、（ｈ）該基板上に遮光性材料を含有する光硬化性樹脂組
成物を塗布して遮光性樹脂層を形成し、（ｉ）該基板の裏面から露光、現像することによって遮
光性樹脂層の未露光部分を除去することを特徴とする細
片状の着色層を有しその間隙に遮光性塗膜を有するカラ
ーフィルターの製造方法。
【請求項２】（ｅ）の工程で現像後に残存するフォト
レジスト層を加熱処理または／および光照射処理する請
求項１に記載の方法。
【請求項３】（ｆ）の工程の電着を光硬化性の樹脂材
料を用いて行う請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】請求項１〜３のいずれかに記載の方法に
よって製造されたカラーフィルターを用いることを特徴
とする液晶表示装置の製造方法。