JPH0836173A

JPH0836173A - 液晶表示装置の製造方法

Info

Publication number: JPH0836173A
Application number: JP8785795A
Authority: JP
Inventors: Shoichi Kurauchi; 昭一倉内; Hitoshi Hado; 仁羽藤
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1994-05-18
Filing date: 1995-04-13
Publication date: 1996-02-06

Abstract

(57)【要約】【目的】周辺部の色のにじみのない各画素ごとの色再
現性の良好なカラーフィルタを備えたカラー画像の表示
が可能な液晶表示装置の製造方法を提供する。【構成】受容層の各画素に対応する部分ごとに選択的
に紫外線を照射することにより、その部分だけが活性化
されて、紫外線が照射されなかった他の部分に比べてカ
ラーフィルタ７の着色材料の吸収が良好となり、各画素
の周囲で隣り合う色セルどうしの色のにじみを避けるこ
とができる。あるいは、受容層の形成材料として紫外線
硬化型樹脂を用いることで、紫外線を照射した部分は硬
化するとともにその他の部分は硬化しないので簡易に除
去することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置の製造方法
に係り、特に着色部周辺のにじみの無いカラーフィルタ
を備えて鮮明で高画質なカラー画像の表示が可能な液晶
表示装置を実現するための、液晶表示装置の製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示装置は、互いに対向配
置されて画素を形成する電極をそれぞれ有する 2枚の電
極基板が間隙を有して対向配置され、その間隙に周囲を
封止されて液晶層が挟持されて、その主要部が構成され
ている。

【０００３】液晶表示装置におけるこのような概要構造
は、単純マトリックス型液晶表示装置にも、アクティブ
マトリックス型液晶表示装置にもあてはまる。

【０００４】単純マトリックス型液晶表示装置において
は、複数の走査電極と複数の信号電極とが直角に交差す
るように間隙を有して対向配置され、その間隙に液晶層
が挟持されて各交差部分ごとに画素が形成されている。

【０００５】アクティブマトリックス型液晶表示装置に
おいては、アクティブマトリックス基板上に各画素ごと
に配設された画素電極と対向基板上に形成された対向電
極とが間隙を有して対向配置され、その間隙に液晶層が
挟持されて、各素電極と対向電極とが対向する部分ごと
に画素が形成される。

【０００６】液晶表示装置の中でも、特に平面的な画面
に任意のカラー画像を表示することが可能な液晶表示装
置においては、一般にカラーフィルタが用いられてい
る。

【０００７】カラーフィルタは、 2枚の電極基板のうち
少なくともいずれか一方の基板に例えばＲ・Ｇ・Ｂ（赤
・緑・青）、あるいはＹ・Ｍ・Ｃ（イエロー・マゼンタ
・シアン）のような三原色、あるいはカラー表示を可能
とする色相の着色セルが各画素ごとに配列された構造に
形成されている。

【０００８】例えば、単純マトリックス駆動方式のカラ
ー型ドットマトリックス型液晶表示装置においては、横
方向に帯状にパターニングされた走査電極を備えた走査
電極基板と、縦方向に帯状にパターニングされた信号電
極とカラーフィルタとを備えた信号電極基板とを、走査
電極と信号電極とがほぼ直角に交差するようにそれらの
間に間隙（セルギャップ）を有して対向配置し、その間
隙に液晶組成物を挟持させ、基板の周囲を封止した構造
に形成されている。

【０００９】また、アクティブマトリックス駆動方式の
カラー型液晶表示装置においては、例えばアモルファス
シリコン（以下、ａ−Ｓｉと略称）を半導体層として用
いた薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと略称）をスイッ
チング素子として用いるとともに、それに接続された画
素電極と走査線及び信号線とを備えたＴＦＴアレイ基板
と、このＴＦＴアレイ基板に対面して画素電極との間で
間隙を有して対向配置される対向電極を備えた対向基板
とを有しており、例えばＲ・Ｇ・Ｂのような三原色のそ
れぞれに対応する色セルを各画素ごとに配置してなるカ
ラーフィルタがいずれか一方の基板上に形成されてい
る。

【００１０】そして前記間隙に周囲を封止して液晶組成
物が注入されて液晶層が形成されている。液晶層として
は、一般に正または負の誘電率異方性を有するネマティ
ック型液晶が用いられる。

【００１１】ネマティック型液晶による光の偏波面の旋
回性を用いて各画素ごとに光の偏波面の旋回を制御し、
液晶セルを上下から挟持する 2枚の偏光板の偏光効果と
あいまって、液晶セルを透過する光の透過／遮断を制御
して画像を表示する。

【００１２】このようなカラー画像表示を行う液晶表示
装置においては、一般にカラーフィルタが用いられる。

【００１３】カラーフィルタの製造方法としては、被着
色層に顔料を分散してカラーフィルタを形成する顔料分
散法、被着色層に染料を分散してカラーフィルタを形成
する染料分散法、あるいは電着によってカラーフィルタ
を形成する電着法、あるいは凹版やオフセット版のよう
な印刷版を用いてカラーフィルタの着色材料をインキと
して基板上に印刷してカラーフィルタを形成する印刷法
等が提案されており、すでに実用化されているものもあ
る。

【００１４】しかしながら、このような従来の製造方法
では、いずれもカラーフィルタの製造工程にフォトファ
ブリケーションプロセスを多用しているため、カラーフ
ィルタの製造工程が極めて煩雑なものとなるという問題
がある。

【００１５】そして、ますます微細化する画素サイズに
対応するためには、さらにフォトファブリケーションプ
ロセスの精度が要求されるが、これを精度良くかつ高歩
留まりで製造することは容易ではないという問題があ
る。

【００１６】また印刷法においては、カラーフィルタを
形成する際にはフォトリソグラフィ等の技術は直接は用
いられないが、印刷版の製造が煩雑であるので上記と同
じような問題が生じる。しかも印刷法では、さらに微細
な画素寸法に対応した精確なカラーフィルタの形成が実
際上困難であるという問題もある。

【００１７】そこで、上記のようなフォトリソグラフィ
プロセスを用いない微細なカラーフィルタの製造方法と
して、インクジェット装置を用いて着色材料を受容層に
投射してカラーフィルタを形成するという製造方法が提
案されている。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、そのよ
うなインクジェット方式でカラーフィルタを製造する場
合、従来は投射された着色材料が被着した着色部分の周
辺部で、隣接する他色の着色材料と色が混ざり合ってに
じみが生じてしまい、鮮明な色の再現が困難となるとい
う問題があった。

【００１９】このため、インクジェット装置により極め
て良好なスループットでカラーフィルタの形成が可能と
なっても、得られたカラーフィルタの色の再現性が低
い。従って、そのような従来のインクジェット方式によ
るカラーフィルタを用いた液晶表示装置におけるカラー
画像の色再現性及び表示品位が低くなるという問題があ
った。

【００２０】本発明は、このような問題を解決するため
に成されたもので、その目的は、製造工程が簡易かつ高
スループットで製造することができ、かつ周辺部の色の
にじみのない各画素ごとの色再現性の良好なカラーフィ
ルタを備えた、高品位なカラー画像の表示が可能な液晶
表示装置の製造方法を提供することにある。

【００２１】

【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶表示装
置の製造方法は、基本的に、第１の基板上に第１の電極
を形成する工程と、前記第１の電極に対向して配置され
て画素を形成する第２の電極を、第２の基板上に形成す
る工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少
なくとも一方の基板の上に、着色受容基材層を形成する
工程と、前記着色受容基材層のうち前記各画素に対応す
る部分の、カラーフィルタ用の着色材料に対する受容性
を、他の部分よりも向上させて、受容層を形成する工程
と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着
色材料を前記受容層に対して投射して前記受容層を着色
しカラーフィルタを形成する工程と、前記第１の基板及
び第２の基板を間隙を有して対向配置し、該両基板の周
囲を封止して前記間隙に液晶層を封入する工程と、を含
むことを特徴としている。

【００２２】ここで、上記の受容層を形成する工程にお
ける、着色受容基材層のうち各画素に対応する部分の、
カラーフィルタ用の着色材料に対する受容性を他の部分
よりも向上させるその方法としてさらに詳細には、前記
の着色受容基材層に紫外線を照射することが主要な手法
としてまず第１に挙げられる。

【００２３】そしてこの他にも、例えば着色受容基材層
を加熱する、紫外線以外のエネルギビームを着色受容基
材層に照射する、あるいは着色受容基材層にいわゆるア
ッシング処理を施すなどして、その着色受容基材層にお
けるカラーフィルタ用の着色材料に対する受容性を向上
させることができる。

【００２４】また、着色受容基材層の材料として紫外線
硬化型樹脂を用いて、画素部（カラーフィルタとしての
各色セルに対応する部分）ごとに対して選択的に紫外線
照射を行なうことにより、その部分の着色受容基材層を
硬化させるとともに着色剤に対する受容性を向上させる
ことができる。そして硬化した部分は溶剤に対して耐性
が高くなっている。一方、紫外線が照射されないで未硬
化となっている部分は溶剤に対して容易に溶ける。従っ
て、未硬化の部分を溶剤により除去し、硬化した部分の
みを選択的に残すことができ、カラーフィルタの各色セ
ルを形成するのに必要な部分のみに選択的に受容層を形
成することができる。

【００２５】上記のような必要部分のみに対する紫外線
の選択的照射は、フォトマスクを用いて行なっても良
い。あるいはその選択的照射は、光を出射する前面に絞
りが設けられており、この絞りの開口の形状を変化させ
て露光パターンを制御するいわゆるパターンジェネレー
タと呼ばれるような露光機を用いて、行なっても良い。
あるいはその選択的照射は、遮光層をセルフアラインの
マスクとして用いて行なっても良い。あるいはその選択
的照射は、アクティブマトリックス型液晶表示装置の場
合には走査線および信号線をセルフアラインのマスクと
して用いて行なっても良い。

【００２６】また、非画素部を覆うための遮光層のパタ
ーニングは、上記のようにして形成されたカラーフィル
タあるいは受容層をセルフアラインのマスクとして用い
たフォトリソグラフィプロセスによって行なうこともで
きる。

【００２７】なお、上記のようなカラーフィルタの形成
および遮光層の形成は、単純マトリックス型の液晶表示
装置の製造方法においても、アクティブマトリックス型
液晶表示装置の製造方法においても、適用可能である。

【００２８】あるいは、液晶パネルとは別の基板上に個
別に形成されるカラーフィルタの形成に対しても、本発
明は適用可能であることは言うまでもない。

【００２９】また、上記のような本発明に係る製造方法
によって製造されるカラーフィルタは、ガラス基板のよ
うな基板を基底としてその上に形成された画素電極のよ
うな電極の上に配置してもよく、あるいはその電極の下
（かつ基板の上）に配置してもよい。ただし、電極の下
にカラーフィルタを配置する場合には、その電極を形成
する以前に受容層を着色してカラーフィルタを完成させ
ておかなければならないことは言うまでもない。

【００３０】あるいは、カラーフィルタを挟んでその上
下にそれぞれ電極を配置しても良い。特に、カラーフィ
ルタをアクティブマトリックス基板側に配置する場合、
カラーフィルタの下に配置した電極を用いて補助容量等
を形成することができ、カラーフィルタの上の電極を画
素電極として利用することができる。この点で、カラー
フィルタの上下に電極を配設することが望ましい。

【００３１】また、上記の着色受容基材層に対する紫外
線照射およびカラーフィルタの着色は、カラーフィルタ
の複数色の各色ごとに分けて一色ずつ順に行なっても良
く、あるいは一度の紫外線照射および着色プロセスで、
カラーフィルタの複数色の全色にわたって着色しても良
い。スループットが良好であるという点では一度に着色
することが好ましく、より微細な画素の精確でにじみの
ない着色を行なうためには各色ごとに分けて行なうこと
が好ましい。

【００３２】

【作用】本発明の液晶表示装置の製造方法においては、
受容層の各画素に対応する部分ごとに選択的に紫外線を
照射することにより、その部分だけが活性化されてその
部分は紫外線が照射されなかった他の部分に比べてカラ
ーフィルタの着色材料の受容性（被着色性あるいは吸収
性）が向上する。

【００３３】あるいは受容層の形成材料として紫外線硬
化型樹脂を用いて、紫外線を照射した部分を硬化させて
受容層のパターンとし、他の部分は硬化させずに除去す
ることができる。

【００３４】上記により、各画素に対応する部分ごとに
カラーフィルタの着色材料を投射してその部分に選択的
に着色することができる一方、画素以外の領域は着色材
料が被着されないので画素の周辺部及び隣り合う画素ど
うしの間隙部分には着色材料どうしのにじみ現象が生じ
ない。

【００３５】従って、各画素ごとに効果的にその周囲が
分離された着色セルを備えたカラーフィルタを形成でき
る。その結果、各画素ごとの周辺部でのにじみのない良
好なカラー表示が可能な液晶表示装置を実現することが
できる。

【００３６】ここで、上記の着色受容基材層である、紫
外線露光によって活性化されて着色材料に対する受容性
が向上する材料としては、例えばポリビニルアルコール
（ＰＶＡ）、カゼイン、アクリル、エポキシ変成アクリ
ル等が好適である。

【００３７】また、ポリシランは紫外線露光により露光
された部分のみが着色材料に対して受容性を示すことか
ら、これを好適に用いることができる。

【００３８】また、紫外線硬化型樹脂層の材料として
は、例えば天然蛋白基材に重クロム酸を添加した感光液
や、アクリルまたはエポキシ変成アクリルまたはＰＶＡ
のいずれかに対して感光性を付与したものを、好適に用
いることができる。

【００３９】また、着色材料としては、上記の受容層に
対する染色性の良好な着色材料として、一般にカラーフ
ィルタの染色法や顔料分散法による製造で実用されてい
る染料や顔料を用いることができる。

【００４０】また、上記の受容層の層厚としては、カラ
ーフィルタとして要求される着色性（分光透過率など）
や用いる着色材料の種類によっても左右されるが、一般
的に実用に適したカラーフィルタを形成する場合、0.2
μｍ〜4.0 μｍに設定することが望ましい。

【００４１】そして、前記の紫外線の種類すなわち波長
および強度としては、上記のような受容層や着色材料の
条件下において、 250ｎｍ〜 420ｎｍの波長で、かつ強
度が5ｍＷ／ｃｍ²〜 100ｍＷ／ｃｍ²の紫外線を好適
に用いることができる。

【００４２】そして上記のような紫外線の照射時間とし
ては、上記のような受容層の材質や着色材料の条件下に
おいて、照射された部分の受容層を活性化させる場合に
は、5秒〜80秒に設定することが望ましい。また照射さ
れた部分の受容層の形成材料（つまり紫外線硬化型樹脂
層）を硬化させる場合には、その工程の温度は 150℃〜
250℃に設定することが望ましい。

【００４３】上記のような着色受容層基材層の材質およ
び着色材料の材質の条件下における、受容層の厚さと、
紫外線の波長および強度と、照射時間とを種々変更した
場合の、紫外線が照射された部分の着色受容層基材層の
活性化または硬化に好適な領域を、図５に示した。この
図中において各層厚の曲線上〜その右側の領域の紫外線
照射条件を、それぞれの層厚ごとに好適な照射条件とし
て用いることができる。

【００４４】前述のように各画素に対応する部分の受容
層ごとに紫外線を照射するに際しては、まず基板上ほぼ
全面を覆うように着色受容基材層を成膜した後、その着
色受容基材層のうち各画素に対応する部分ごとに、例え
ばＬＳＩ製造用のステッパ露光装置等を用いてステップ
アンドリピートで選択的に紫外線を照射して行くという
方法などがある。

【００４５】あるいは、各画素ごとにその周辺部を被覆
するようにパターニングされたいわゆるブラックマトリ
ックスと呼ばれる遮光層をマスクとして用いて、この遮
光層では被覆されておらずそれから露出している部分に
紫外線を照射するようにしてもよい。このように遮光層
をセルフアラインのマスクとして用いて、各画素に対し
て紫外線の選択的な照射を行なうことができる。

【００４６】従って、各画素の周縁部のにじみを抑えて
良好な画像再現性を実現できるカラーフィルタの製造工
程を、大幅に簡易化することができる。

【００４７】あるいは、アクティブマトリックス型液晶
表示装置の場合においては、各画素は一般に走査線と信
号線とで形成される格子で囲まれた部分の内側ごとに画
素が形成されているので、このような走査線と信号線と
で形成された格子をセルフアラインのマスクとして用い
て、この格子から露出している部分の受容層に選択的に
紫外線を照射することにより、紫外線の照射工程を大幅
に簡易化することができる。

【００４８】このように、紫外線が照射された各画素に
対応した部分の受容層には着色材料による着色が促進さ
れる一方、隣り合う画素どうしの間隙部分に対しては極
めて緩慢にしか着色されない、あるいは前記の間隙部分
には受容層が形成されていないので、隣り合う画素どう
しの間の部分における異なった色の着色材料どうしの混
ざり合い等が生じることを極めて効果的に解消すること
ができる。その結果、各画素ごとににじみのないカラー
フィルタを備えて鮮明な画像表示が可能な液晶表示装置
を、簡易に製造することが可能となる。

【００４９】

【実施例】以下、本発明に係る液晶表示装置の製造方法
の実施例を、図面に基づいて詳細に説明する。

【００５０】（実施例１）第１の実施例においては、本
発明の技術を単純マトリックス型液晶表示装置に適用し
たこと、遮光層をマスクとして用いて着色受容基材層の
各画素部に対して紫外線を照射してその部分を活性化し
たこと、カラーフィルタの上に電極を配設したことが特
徴である。

【００５１】図１は、本発明に係る第１の実施例の液晶
表示装置の製造方法により製造された液晶表示装置の構
造を示す断面図である。

【００５２】この液晶表示装置は、ガラス基板１の上に
第１の電極として走査電極２と、その走査電極２の上を
含む基板ほぼ全面を覆うように形成された配向膜３とを
備えた走査電極基板４と、ガラス基板５の上に各画素ど
うしの隣り合う間隙部分を覆うように遮光性材料で形成
された遮光層６と、各画素ごとにＲ・Ｇ・Ｂの各色セル
が配設されたカラーフィルタ７と、その上に走査電極２
に対して間隙を有してほぼ直交するように列設された第
２の電極としての信号電極８と、この信号電極８を含む
基板ほぼ全面を覆うように形成された配向膜９とを備え
た信号電極基板１０と、走査電極基板４と信号電極基板
１０との間の封止材１１及びスペーサ１２によって支持
された基板間隙（いわゆるセルギャップ）に封止材１１
で周囲を封止されて封入・挟持された液晶層１３とか
ら、その主要部が形成されている。なお、図１において
は、図示の簡潔化のために、封止材１１が形成された基
板周辺部から数画素分の断面形状を図示した。実際に
は、さらに多数の画素が形成されている。

【００５３】ガラス基板１は、外形寸法が150 ｍｍ×21
0 ｍｍで厚さ1.0 ｍｍの平板状のガラス基板である。ま
たガラス基板５は外形寸法が160 ｍｍ×220 ｍｍで、厚
さ1.0 ｍｍの平板状のガラス基板である。

【００５４】遮光層６は、各画素の周辺部分に設けられ
た遮光性の高い例えばクロム膜あるいは黒色染料を有機
樹脂膜に分散してなる材料膜から形成された遮光膜であ
る。この遮光層６は、隣り合う各色セルごとの周囲の輪
郭どうしの間隙を遮光するために設けられている。ま
た、この遮光層６のパターンで囲まれた部分ごとにカラ
ーフィルタの各色セルがそれぞれ納まるように形成され
ている。

【００５５】本発明に係る液晶表示装置においては、こ
のような遮光層６のパターン内部ごとにインクジェット
方式で着色材料が被着されてカラーフィルタが形成され
ている。そしてインクジェット方式による着色の際に、
遮光層６のパターンがマスクとして用いられて、セルフ
アラインで受容層に紫外線が照射される。このように受
容層の各色セルに対応する領域ごとに選択的に（その部
分だけに）紫外線を照射することで、各色セルごとに着
色材料が被着される際に、隣り合う色セルどうしの境界
領域での異なる着色材料の色どうしが混色することを避
けることができる。その結果、色再現性の極めて良好な
画像表示を実現することができる。

【００５６】次に、このような第１の実施例の液晶表示
装置の製造方法を説明する。

【００５７】ガラス基板５の上に、遮光性であるととも
に直視したときに黒色系に見える材料を用いて遮光層６
の材料膜を成膜し、これを各画素領域ごとに窓パターン
が開くようにパターニングして、遮光層６を形成する。

【００５８】その遮光層６上を含む基板５の一主面ほぼ
全面を覆うように着色材料に対して受容性の高い着色受
容基材層をスピンコート法で塗布する。

【００５９】そして基板５の着色受容基材容層が形成さ
れた主面とは反対側の主面から紫外線を照射する。この
とき、各色セルに対応する部分ごとに窓パターンが形成
された遮光層６がマスクとして作用し、各色セルごとに
選択的に紫外線が着色受容基材層に照射される。

【００６０】その紫外線が照射された部分の着色受容基
材層は活性化する。従って、そのような各色セルに対応
する部分の着色受容基材層は着色されやすくなる。そこ
で、このような活性化された受容層に対して、Ｒ・Ｇ・
Ｂの三色にそれぞれ対応する着色材料をインクジェット
装置を用いて滴状に投射する。

【００６１】上記のように紫外線が照射されたときに活
性化する受容層の形成材料としては、ＰＶＡを好適に用
いることができる。そしてこの受容層の層厚は、本実施
例では 2.0μｍに設定した。 1画素の寸法は 100μｍ
（横）× 300μｍ（縦）である。また、着色材料とし
ては、従来の染色法や顔料分散法によるカラーフィルタ
の製造に一般的に用いられるような染料や顔料を好適に
用いることができる。本実施例では、着色材料として、
Ｃ．Ｉ．ＡｃｉｄＲｅｄ 114、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔ
ｉｖｅＧｒｅｅｎ 7、Ｃ．Ｉ．ＡｃｉｄＢｌｕｅ
83（左記は全て日本化薬製）を用いた。

【００６２】このようにして、受容層における活性化さ
れた各色セルに対応する部分ごとに対して着色材料を被
着させて各色セルごとに着色を施し、カラーフィルタ７
を形成する。

【００６３】続いて、そのカラーフィルタ７の上にスパ
ッタ法によりＩＴＯ膜を成膜しこれを通常の方法でエッ
チングして、信号電極８をパターン形成する。

【００６４】一方、ガラス基板１の上に信号電極８と同
様の材料を用いて走査電極２をパターン形成する。走査
電極２および信号電極８は、後の工程で互いに直角に交
差してその交差部分ごとに液晶層を挟んで各画素を形成
するように配置される。

【００６５】本実施例においては、信号電極８は640
本、走査電極２は400 本に、それぞれ形成した。

【００６６】このように各電極が形成された信号電極基
板１０及び走査電極基板４それぞれの、電極が形成され
た主面上に各々の電極を含む主面ほぼ全面を覆うように
ポリイミド薄膜を形成した後、ラビング配向処理を行な
って、配向膜９、配向膜３をそれぞれ形成する。このと
き、液晶層１３としてはＴＮ型液晶を用いたので、配向
膜９及び配向膜３の配向方向が互いに直交するように、
ラビング処理を行なった。

【００６７】そして、ガラス基板５の周辺に沿って、液
晶注入口の部分を除く四辺に封止材１１を印刷形成す
る。この封止材１１は両基板を接合するための接着剤と
しても利用される。

【００６８】そしてセルギャップを保持するために、ス
ペーサ１２を信号電極基板１０の配向膜９の上に散布し
た。このスペーサ１２としては、粒径6.5 μｍの積水フ
ァインケミカル社製のミクロパールを用いた。

【００６９】そして両基板それぞれの配向膜９、３どう
しが間隙を有して対向し、かつこのときそれぞれの配向
膜どうしのラビング方向が直交するように、信号電極基
板１０と走査電極基板４とを間隙を有して対向配置し、
加熱して前記の接着剤を兼ねた封止材１１を硬化させて
両基板を貼り合わせる。

【００７０】このようにして空セル状態の液晶セルを形
成した後、注入口（図示省略）から液晶組成物としてＺ
ＬＩ−1565（Ｅ．メルク社製）にＳ811 を0.1 ｗｔ％添
加したものを注入して液晶セル内に液晶層１３として挟
持させ、注入口を封止材（図示省略）で封止して本発明
の第１の実施例の液晶表示装置を完成する。注入口の封
止材としては、例えば紫外線硬化樹脂を用いれば良い。

【００７１】なお、本発明に係る紫外線の選択的な照射
方法としては、これのみには限定されないことは言うま
でもない。

【００７２】この他にも、例えば遮光層６を用いない場
合あるいは遮光層６が紫外線に対して透過する材質であ
る場合には、遮光層をマスクとして用いることはできな
い。そこで、そのような場合には、例えばＬＳＩ製造用
の露光装置およびフォトマスク等を用いて、各画素の色
セルに対応する部分に選択的に紫外線を照射するように
しても良いことは言うまでもない。

【００７３】（実施例２）この第２の実施例において
は、本発明の技術をアクティブマトリックス型液晶表示
装置に適用したこと、遮光層および着色受容基材層を対
向基板上に配設してカラーフィルタを対向基板上に形成
したこと、遮光層をマスクとして用いてこのマスクで覆
われず露出している着色受容基材層の各画素部に対して
紫外線を照射しその部分を活性化したこと、カラーフィ
ルタの上に電極を配設したことが、主要な特徴である。

【００７４】図２は、第２の実施例の液晶表示装置の構
造の概要を示す断面図である。なお、図２においては図
１と同様の部位には同一の符号を付して示している。

【００７５】この第２の実施例の液晶表示装置は、ガラ
ス基板５の上に各色セルごとに窓状の空所が開けられた
格子状パターンの遮光層６と、その遮光層６の各格子ご
とにそれぞれ色セルが形成されたカラーフィルタ７と、
そのカラーフィルタ７の上を覆うように形成された対向
電極２０１と、この対向電極２０１ほぼ全面を覆うよう
に形成された配向膜９とを備えた対向基板２０２と、こ
の対向基板２０２に対向配置されるガラス基板１上に形
成された走査線（図示省略）及び信号線２０３と、走査
線及び信号線２０３に接続されて画素電極２０４に対す
る電圧印加をスイッチング制御するスイッチング素子と
してのＴＦＴ２０５と、前記の信号線２０３やＴＦＴ２
０５や画素電極２０４が形成された側の基板主面ほぼ全
面を覆うように形成されている配向膜３とを備えたＴＦ
Ｔアレイ基板２０６と、これら両基板２０２、２０６の
周囲を封止するとともに両基板を間隙を有して対向する
ように接合する封止材１１と、これら両基板の間隙（セ
ルギャップ）に周囲を封止材１１で封止されて挟持され
た液晶層１３と、セルギャップを保持するためのスペー
サ１２とから、その主要部が構成されている。

【００７６】次に、本実施例の液晶表示装置の製造プロ
セスの概要を示す。

【００７７】ガラス基板５の上に、酸化クロムとクロム
の積層膜を成膜する。通常のエッチング法を用いて各色
セルに対応する部分ごとに窓パターンを開けて、格子状
のパターン（つまりブラックマトリックス）として遮光
層６を形成する。そしてそれを覆うように、カゼインを
材料として用いて着色受容基材層を膜厚2.0 μｍの膜厚
にロールコート法により成膜する。

【００７８】そして、ガラス基板５の遮光層６等が形成
された側とは反対側の主面から紫外線を着色受容基材層
に照射する。このとき、前記のクロムからなる遮光層６
がマスクとして働くので、遮光層６の各画素に対応した
部分に開けられた開口部、換言すれば各色セルに対応す
る部分の着色受容基材層にセルフアラインで選択的に、
紫外線が照射される。このように紫外線が照射された部
分の着色受容基材層が活性化される。

【００７９】このようにして活性化された部分の受光層
に対して、インクジェット装置を用いてＲ・Ｇ・Ｂの三
色の着色材料をそれぞれ被着させて受容層を着色して、
カラーフィルタ７を形成する。

【００８０】そしてロールコータを用いて膜厚1.2 μｍ
の膜厚の保護層２０７を成膜する。さらにその保護層２
０７の上に、150 ｎｍの膜厚のＩＴＯ膜をスパッタ法に
より成膜する。このＩＴＯ膜が共通電極である対向電極
２０１となる。こうして対向基板２０２が形成される。

【００８１】一方、一般的なＴＦＴを形成するプロセス
を用いて、ガラス基板１の上に走査線（図示省略）及び
信号線２０３をマトリックス上に直交するように形成す
る。そしてその交差部分ごとにＴＦＴ２０５を形成す
る。そしてこのＴＦＴ２０５に接続されて印加電圧をス
イッチングされるように各画素に対応する部分ごとに画
素電極２０４を形成する。そしてこれら画素電極２０４
やＴＦＴ２０５が形成された側の主面上を覆うように配
向膜３を成膜する。そしてこの配向膜３の表面にラビン
グ配向処理を施してＴＦＴアレイ基板２０６を形成す
る。

【００８２】続いて、対向基板２０２側の対向電極２０
１上ほぼ全面を覆うように配向膜９を形成する。その表
面に前記の配向膜３のラビング方向とほぼ直交する方向
にラビング配向処理を施す。

【００８３】そして、対向基板２０２のガラス基板５の
周辺に沿って、封止材１１を注入口（図示省略）を除い
て印刷形成する。そしてこの封止材１１を用いて対向基
板２０２とＴＦＴアレイ基板２０６とを間隙を保持しつ
つ対向配置して接合する。

【００８４】このようにして空セル状態に形成された液
晶セルのセルギャップには、セルギャップを画面内で均
一に保つためのスペーサ１２が挟持されている。このセ
ルギャップに注入口（図示省略）から液晶組成物として
ＺＬＩ−1565（Ｅ．メルク社製）にＳ811 を0.1 ｗｔ％
添加したものを注入する。そして注入口を紫外線硬化樹
脂で封止して液晶層１３を形成する。このようにして、
本発明に係る第２の実施例のアクティブマトリックス型
の液晶表示装置が完成する。

【００８５】この第２の実施例においても、遮光層６を
マスクとして用いて各色セルに対応する部分ごとの受容
層に対してセルフアラインで選択的に紫外線を照射して
その部分を活性化することで、着色材料を被着させやす
くすることができる。その結果、各色セルごとに着色材
料を被着させる際に、境界領域でのにじみのないカラー
フィルタを形成することができる。その結果、画像の色
再現性をはじめとした表示品位の良好な液晶表示装置を
実現することができる。

【００８６】（実施例３）この第３の実施例において
は、本発明の技術をアクティブマトリックス型液晶表示
装置に適用したこと、着色受容基材層をＴＦＴアレイ基
板上に配設してカラーフィルタをＴＦＴアレイ基板上に
形成したこと、走査線および信号線をマスクとして用い
て、このマスクで覆われず露出している着色受容基材層
の各画素部に紫外線を照射してその部分を活性化したこ
と、カラーフィルタ上に画素電極を配設したこと、遮光
層をカラーフィルタの形成後にＴＦＴアレイ基板上に形
成したことが、主要な特徴である。

【００８７】図３は、本発明に係る第３の実施例の液晶
表示装置を示す図である。図３（ａ）はその平面図、図
３（ｂ）はその断面図である。

【００８８】なお、図３においては第１及び第２の実施
例と同様の部位には同一の番号を付して示している。

【００８９】ガラス基板１の上に、走査線３０１及びこ
の走査線３０１に直交する信号線２０３をマトリックス
状に配設する。そして走査線３０１と信号線２０３との
交差部分近傍ごとにその両者にそれぞれ接続されるＴＦ
Ｔ２０５を形成する。このＴＦＴ２０５の形成は通常の
フォトリソグラフィを用いた製造方法で行なうことがで
きる。

【００９０】そして着色受容基材層をロールコート法に
より膜厚2 μｍで形成する。その後、ガラス基板１のＴ
ＦＴ２０５や走査線３０１や信号線２０３等が形成され
た主面とは反対側の主面側から紫外線を照射する。この
とき信号線２０３や走査線３０１がマスクとして働くの
で、信号線２０３及び走査線３０１で覆われていない露
出した部分のみに選択的に紫外線が照射される。そして
紫外線が選択的に照射された部分のみが活性化して着色
材料が被着されやすくなり、その部分が受容層となる。

【００９１】続いて、インクジェット装置を用いてイン
クジェット法によりＲ・Ｇ・Ｂの三色の着色材料を前記
の受容層に投射する。その着色材料が被着した部分が着
色されて、カラーフィルタが形成される。

【００９２】このとき、各色ごとの着色材料は、受容層
のうち前述の紫外線が照射されて活性化された色セルに
対応する部分ごとに受容される。その一方、各色セルど
うしの境界領域は活性化されていないので、その境界領
域には着色材料は緩慢にしか受容されない。従って、各
画素の周囲（境界領域）のにじみを抑えて各色セル部分
ごとに選択的に着色材料を被着させることができる。そ
の結果、色再現性の良好なカラーフィルタ７を形成する
ことができる。

【００９３】続いて、カラーフィルタ７の上を覆うよう
に、有機材料に黒色顔料を分散させた有機樹脂膜をロー
ルコート法で成膜する。そして各画素（色セル）に対応
する部分ごとに開口をパターニングして、格子状パター
ンの遮光層６を形成する。この遮光層６は各画素の周辺
を覆って遮光するとともに、ＴＦＴ２０５の光電効果に
よる誤動作を防ぐために設けられるものである。また、
隣り合う画素電極２０４どうしを短絡させないように、
絶縁性の高い材料を用いる必要もある。従って、この遮
光層６を形成する黒色顔料としては、遮光性が高くかつ
直視したときに色付きや反射のない、光を良好に吸収す
るような材料であって、かつ絶縁性の高い材料を用いる
ことが望ましい。

【００９４】続いて、ＴＦＴアレイ基板２０６のＴＦＴ
２０５等の構造物が形成された側の主面ほぼ全面を覆う
ように、1.2 μｍの膜厚の保護層３０２を、ロールコー
タで成膜する。

【００９５】続いて、各色セル部分に対応した部分ごと
に配置されて各画素を形成する画素電極２０４であっ
て、ＴＦＴ２０５のソース電極３０３に一端が接続され
た画素電極２０４を形成する。この画素電極２０４は、
厚さ150 ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタ法により成膜し、各
画素領域ごとに島状にパターニングして形成される。

【００９６】続いて、配向膜材料を保護層３０２の上ほ
ぼ全面を覆うように成膜する。そしてその表面にラビン
グ配向処理を施して配向膜３を形成する。

【００９７】一方、対向基板２０２側においては、ガラ
ス基板５の上に透明導電膜を成膜し、これをパターニン
グして、対向電極２０１を形成する。さらに、この対向
電極２０１の上ほぼ全面を覆うように配向膜９を成膜す
る。そして配向膜９の表面にラビング配向処理を施して
対向基板２０２を形成する。

【００９８】続いて、対向基板２０２のガラス基板５の
周辺部分に沿って接着剤を兼ねた封止材１１を注入口
（図示省略）を除いて印刷形成する。

【００９９】そして対向基板２０２とＴＦＴアレイ基板
２０６とを、封止材１１を介してセルギャップを保持し
つつ対向配置する。そして両基板２０２、２０６を加熱
するとともに圧力を印加して、これら両基板２０２、２
０６を接合する。このときセルギャップの面内均一性を
保つために両基板間のセルギャップにはスペーサ１２が
挟持されている。スペーサ１２としては粒径 6μｍの積
水ファインケミカル社製のミクロパールを散布してあ
る。

【０１００】このようにして形成された空セル状態の液
晶セルのセルギャップに液晶組成物を注入する。この液
晶組成物としてはＺＬＩ−1565（Ｅ．メルク社製）にＳ
811を0.1 ｗｔ％添加したものを用いた。この液晶組成
物を、注入口から注入し、その後、注入口を紫外線硬化
樹脂で封止して本発明に係る第３の実施例の液晶表示装
置を得る。

【０１０１】このように、ＴＦＴアレイ基板側にカラー
フィルタが設けられた液晶表示装置においても、本発明
の技術を効果的に適用することが可能である。

【０１０２】（実施例４）この第４の実施例において
は、本発明の技術をアクティブマトリックス型液晶表示
装置に適用したこと、着色受容基材層をＴＦＴアレイ基
板上に配設してカラーフィルタをＴＦＴアレイ基板上に
形成したこと、走査線および信号線をマスクとして用い
てこのマスクで覆われず露出している着色受容基材層の
各画素部に紫外線を照射しその部分を硬化した後、硬化
しなかった部分は溶剤を用いて除去して、必要な位置の
みに受容層をパターン形成したこと、カラーフィルタ上
に画素電極を配設したこと、遮光層をカラーフィルタの
形成後にＴＦＴアレイ基板上に形成したことが、主要な
特徴である。

【０１０３】このような製造方法で作製される第４の実
施例の液晶表示装置の断面構造の概要を図４に示す。な
お図４においては、前述の第３の実施例における図３と
同様の部位については同じ符号を付して示している。

【０１０４】ガラス基板１の上に、走査線３０１及びこ
の走査線３０１に直交する信号線２０３をマトリックス
上に配設する。そして走査線３０１と信号線２０３との
交差部分近傍ごとに、その両者にそれぞれ接続されるＴ
ＦＴ２０５を形成する。このＴＦＴ２０５の形成は、通
常のフォトリソグラフィを用いた製造方法で行なうこと
ができる。

【０１０５】そして着色受容基材層を形成する。この着
色受容基材層の材料としては、上記の第１〜第３の実施
例とは異なり、例えばラジカル重合型のアクリレート系
の紫外線硬化型樹脂などを用いる。この紫外線硬化型樹
脂としては、カラーフィルタの着色材料による被着色性
が良好で、かつ紫外線が照射されて硬化した部分は選択
的に硬化するとともに硬化していない部分は簡易に溶剤
等で除去可能な材料を、好適に用いることができる。

【０１０６】このような紫外線硬化型樹脂としては、例
えば、天然蛋白基材に重クロム酸を添加した感光液や、
アクリルまたはエポキシ変成アクリルまたはＰＶＡに感
光性を付与したものを好適に用いることができる。本実
施例においては、アクリルに感光性を付与したものを用
いた。

【０１０７】上記のような着色受容基材層として、ロー
ルコート法により2 μｍの膜厚の紫外線硬化型樹脂膜を
成膜する。

【０１０８】続いて、ガラス基板１のＴＦＴ２０５や走
査線３０１や信号線２０３等が形成された主面とは反対
側の主面側から、紫外線硬化型樹脂層に対して紫外線を
照射する。このとき、信号線２０３や走査線３０１が紫
外線に対するマスクとして働く。従って、紫外線硬化型
樹脂からなる着色受容基材層のうち、信号線２０３及び
走査線３０１で覆われていない露出した部分のみに選択
的に紫外線が照射される。この紫外線が選択的に照射さ
れた部分のみが硬化して、溶剤に対して溶融され難くな
る。そこで、紫外線が照射されないで硬化していない状
態の部分つまり隣り合う各画素どうしの間の部分は、溶
剤を用いて除去することができる。こうして、各画素に
対応する部分ごとに島状に受容層を形成することができ
る。

【０１０９】続いて、インクジェット装置を用いて、Ｒ
・Ｇ・Ｂの三色の着色材料を受容層に投射して、カラー
フィルタを形成する。

【０１１０】このとき、各色ごとの着色材料は、前述の
ように周囲をエッチング除去されて色セルに対応した位
置に島状ごとに形成された受容層に受容される。その一
方、各色セルどうしの間の部分には受容層は無いので、
この部分は着色されない。従って、各画素の周囲（境界
領域）のにじみを抑えて各色セルごとに選択的に着色材
料を被着させることができる。その結果、色再現性の良
好なカラーフィルタ７を形成することができる。

【０１１１】続いて、各画素に対応した位置に、ＴＦＴ
２０５のソース電極３０３に一端が接続される画素電極
２０４を形成する。この画素電極２０４は、ＩＴＯ膜を
150ｎｍの厚さにスパッタ法を用いて成膜し、各画素ご
とに島状のパターンとして位置するようにパターニング
して形成する。

【０１１２】続いて、カラーフィルタ７および画素電極
２０４の上に、有機材料に黒色顔料を分散させた有機樹
脂膜をロールコート法で成膜する。そして各画素（色セ
ル）に対応する部分ごとに窓パターンを開けて格子状の
遮光層６を形成する。

【０１１３】続いて、配向膜材料を、画素電極２０４等
が形成された側のＴＦＴアレイ基板２０６の上ほぼ全面
を覆うように成膜する。そしてその表面にラビング配向
処理を施して配向膜３を形成する。

【０１１４】一方、対向基板２０２側においては、ガラ
ス基板５の上に透明導電膜を成膜して対向電極２０１を
形成する。さらにこの対向電極２０１の上ほぼ全面を覆
うように配向膜９を成膜する。そして配向膜９の表面に
ラビング配向処理を施す。こうして対向基板２０２を形
成する続いて、対向基板２０２のガラス基板５の周辺部
分に沿って接着剤を兼ねた封止材１１を注入口（図示省
略）を除いて印刷形成する。

【０１１５】そして対向基板２０２とＴＦＴアレイ基板
２０６とを、封止材１１を介してセルギャップを保持し
つつ対向配置し、加熱するとともに圧力を印加して、両
者を接合する。このとき、セルギャップの面内均一性を
保つために、両基板間のセルギャップにはスペーサ１２
が挟持されている。スペーサ１２としては粒径6 μｍの
積水ファインケミカル社製のミクロパールを散布した。

【０１１６】このようにして形成された、空セル状態の
液晶セルのセルギャップに液晶組成物を注入する。液晶
組成物としてはＺＬＩ−1565（Ｅ．メルク社製）にＳ81
1 を0.1 ｗｔ％添加したものを注入口から注入した。そ
の後、注入口を紫外線硬化樹脂で封止して本発明に係る
第４の実施例の液晶表示装置を得る。

【０１１７】このように、本発明によれば、繁雑なフォ
トリソグラフィ工程を増加することなく簡易な製造方法
によって、各色セル（各画素）の周辺部での色のにじみ
のないカラーフィルタを備えた液晶表示装置を製造する
ことができる。

【０１１８】（実施例５）この第５の実施例において
は、画素電極をカラーフィルタよりも先にガラス基板上
に配設して、その画素電極の上にカラーフィルタを配設
したこと、画素部に対応する位置ごとに開口がパターニ
ングされたフォトマスクを用いて、このフォトマスクの
遮光パターンで覆われず開口から露出している着色受容
基材層に対して紫外線を照射しその部分を活性化して受
容層を形成したことが、主要な特徴である。

【０１１９】図６は第５の実施例の液晶表示装置の構造
の概要を示す断面図である。また図７、図８はその製造
プロセスの概要を示す図である。なお、図６、７、８に
おいては第２〜４の実施例と同様の部位には同一の符号
を付して示している。

【０１２０】ガラス基板１の上に、走査線３０１及びこ
の走査線３０１に直交する信号線２０３をマトリックス
状に配設する。そして走査線３０１と信号線２０３との
交差部分近傍ごとにその両者にそれぞれ接続されるＴＦ
Ｔ２０５を形成する。このＴＦＴ２０５の形成は通常の
フォトリソグラフィを用いた製造方法で行なうことがで
きる。そしてスパッタ法を用いて、厚さ150 ｎｍのＩＴ
Ｏ膜を成膜する。そして各画素に対応した位置ごとに島
状のパターンの画素電極２０４を形成する。

【０１２１】そして、走査線３０１や信号線２０３やＴ
ＦＴ２０５を含むガラス基板１上ほぼ全面を覆う層間絶
縁膜６０１を形成する。

【０１２２】続いて、層間絶縁膜６０１の上を覆うよう
に有機材料に黒色顔料を分散させた有機樹脂膜をロール
コート法で成膜する。そして各画素（色セル）に対応す
る部分ごとに開口（窓パターン）をパターニングして格
子状の遮光層６を形成する。なお、この遮光層６は、対
向基板側に配置しても良く、あるいはＴＦＴ２０５や画
素電極２０４よりも下の層（ガラス基板１寄りの層）に
形成しても良い。

【０１２３】続いて、図７（ａ）に示すように、着色受
容基材層７０１をロールコート法により膜厚2 μｍに形
成する。そしてガラス基板１のＴＦＴ２０５や走査線３
０１や信号線２０３等が形成された主面側からフォトマ
スク７０２を介して紫外線を照射する。

【０１２４】このとき、フォトマスク７０２にはＴＦＴ
２０５および非画素部を覆う遮光パターンが形成されて
いる。従って、その遮光パターンに遮光されず露出して
いる部分の着色受容基材層７０１のみに紫外線が選択的
に照射され、その部分が活性化されて図７（ｂ）に示す
ように受容層７０３が形成される。

【０１２５】続いて、図７（ｃ）に示すように、インク
ジェット装置を用いてインクジェット法によりＲ・Ｇ・
Ｂの三色の着色材料７０４を前記の受容層７０３に投射
する。これにより、着色材料７０４が被着した部分が着
色されてカラーフィルタ７が形成される。

【０１２６】このとき、各色ごとの着色材料７０４は、
前述の紫外線照射により活性化された色セル７０５ごと
の受容層７０３に有効に受容される。その一方、各色セ
ル７０５どうしの境界領域７０６は活性化されていない
ので、その部分には着色材料７０４は緩慢にしか受容さ
れない。あるいはほとんど受容されない。従って、各色
セル７０５を形成すべき部分に選択的に、各画素の周囲
（境界領域）のにじみを抑えて着色材料７０４を被着さ
せることができる。その結果、色再現性の良好なカラー
フィルタ７を形成することができる。

【０１２７】続いて、配向膜材料をＴＦＴアレイ基板２
０６上ほぼ全面を覆うように成膜し、その表面にラビン
グ配向処理を施して配向膜３を形成する。

【０１２８】一方、対向基板２０２側においては、ガラ
ス基板５の上に透明導電膜を成膜しこれをパターニング
して対向電極２０１を形成する。さらにこの対向電極２
０１の上ほぼ全面を覆うように配向膜９を成膜する。そ
して配向膜９の表面にラビング配向処理を施して、対向
基板２０２が形成される。

【０１２９】続いて、対向基板２０２のガラス基板５の
周辺部分に沿って接着剤を兼ねた封止材１１を注入口
（図示省略）を除いて印刷形成する。そして対向基板２
０２とＴＦＴアレイ基板２０６とを、封止材１１を介し
てセルギャップを保持しつつ対向配置し、加熱するとと
もに圧力を印加して、両者を接合する。このとき、セル
ギャップの面内均一性を保つために、両基板間のセルギ
ャップにはスペーサ１２が挟持されている。スペーサ１
２としては粒径6 μｍの積水ファインケミカル社製のミ
クロパールを散布してある。

【０１３０】このようにして形成された空セル状態の液
晶セルのセルギャップに注入口から液晶組成物としてＺ
ＬＩ−1565（Ｅ．メルク社製）にＳ811 を0.1 ｗｔ％添
加したものを注入し、その後、注入口を紫外線硬化樹脂
で封止して、本発明に係る第５の実施例の液晶表示装置
が完成する。

【０１３１】なお、図８に示すように、上記の着色受容
基材層７０１を紫外線硬化型樹脂で形成し（図８
（ａ））、この紫外線硬化型樹脂からなる着色受容基材
層に上記と同様に紫外線を照射して、各画素に対応する
着色の必要な部分（つまり色セル７０５の部分）は硬化
して残す一方、不要部分である境界部分７０６は溶剤等
で除去することで、各画素に対応した色セル７０６の部
分のみに受容層７０３を形成し（図８（ｂ））、この受
容層７０３を着色しても良い（図８（ｃ））。

【０１３２】このような第５の実施例の製造方法によれ
ば、第３の実施例のような着色受容基材層に対する裏面
露光が困難な場合などにも、任意のパターンで正確に紫
外線を選択的照射することができる。例えば、ＩＴＯの
ような紫外線に対しては透明性が低い傾向にある材料で
画素電極をカラーフィルタよりも下層に形成した場合
に、着色受容基材層に対する第３の実施例のような画素
電極を介しての裏面露光が困難となる場合も考えられ
る。しかし、本実施例のように表面から露光すれは、前
記のような問題を解消することができる。また、遮光層
や走査線や信号線あるいはＴＦＴなどで遮光されている
部分にもカラーフィルタの色セルを形成したい場合など
にも、本実施例の製造方法によってそれら任意の位置の
着色受容基材層に紫外線を選択的に照射できる。その結
果、色のにじみが無くて所望のパターンの色セルが配列
されたカラーフィルタを形成することができる。

【０１３３】なお、上記の画素電極２０４はカラーフィ
ルタ７の下の層に形成したが、これをカラーフィルタの
上の層に形成しても良いことは言うまでもない。

【０１３４】また、この第５の実施例で示した液晶表示
装置の製造方法のうち、特にカラーフィルタの製造方法
は、アクティブマトリックス型液晶表示装置のみなら
ず、単純マトリックス型液晶表示装置の製造方法にも適
用可能である。

【０１３５】（実施例６）この第６の実施例において
は、カラーフィルタのみならず遮光層についても着色受
容基材層の所定位置を黒色系染料で着色することにより
形成したこと、着色受容基材層の各画素部分に対する紫
外線の選択的照射を、フォトマスクを用いて行なったこ
と、が特徴である。

【０１３６】図９は第６の実施例の製造方法により形成
される液晶表示装置の構造の概要を示す断面図である。
図１０はその製造プロセスの概要を示す図である。なお
図９、１０においては、第１〜第５の実施例と同様の部
位には同じ符号を付して示している。

【０１３７】この液晶表示装置は、基本的には第１の実
施例の液晶表示装置のそれと近似しているが、特に遮光
層６がその部分の受容層７０６を着色してカラーフィル
タ７と同層に形成されたことを特徴としている。

【０１３８】即ち、ガラス基板１の上に第１の電極とし
て走査電極２と、その走査電極２の上を含む基板ほぼ全
面を覆うように形成された配向膜３とからその主要部が
形成されている走査電極基板４と、ガラス基板５の上に
各画素どうしの隣り合う間隙部分を覆うように受容層を
黒色系染料又は顔料で着色して形成された遮光層６と同
層に、各画素部ごとにＲ・Ｇ・Ｂの各色セルが配設され
たカラーフィルタ７と、その上に走査電極２に対して間
隙を有してほぼ直交するように列設された第２の電極と
しての信号電極８と、この信号電極８を含む基板ほぼ全
面を覆うように形成された配向膜９とを備えた信号電極
基板１０と、走査電極基板４と信号電極基板１０との間
の封止材１１及びスペーサ１２によって支持された基板
間隙（いわゆるセルギャップ）に封止材１１で周囲を封
止されて封入・挟持された液晶層１３とから、その主要
部が形成されている。

【０１３９】ガラス基板１は、外形寸法が150 ｍｍ×21
0 ｍｍで厚さ1.0 ｍｍの平板状のガラス基板である。ま
たガラス基板５は外形寸法が160 ｍｍ×220 ｍｍで、厚
さ1.0 ｍｍの平板状のガラス基板である。

【０１４０】遮光層６は、隣り合う各画素（色セル）ご
との周囲の輪郭どうしの間隙つまり境界領域を遮光する
ために、その部分の受容層７０６を着色して形成されて
いる。そしてこの遮光層６のパターンで囲まれた各格子
内ごとに各色セル７０５がそれぞれ納まるように、その
部分の受容層７０３が着色されている。

【０１４１】本発明に係る液晶表示装置においては、こ
のようにカラーフィルタ７のみならず、遮光層６につい
ても、それを形成する部分の着色受容基材層７０１にフ
ォトマスク７０２を用いて選択的に紫外線を照射してそ
の部分を受容層７０６とした後（図１０（ａ））、イン
クジェット方式によって前記の受容層７０６に黒色系の
着色材料１００１をインクジェット装置１００２で投射
して遮光層６を形成する（図１０（ｂ））。

【０１４２】続いて、着色受容基材層７０１として残っ
ている各色セルに対応する部分に紫外線を照射すること
で、その各色セルに対応する部分をカラーフィルタの着
色材料を受容する受容層７０３にする（図１０
（ｃ））。

【０１４３】そして、各色の着色材料１００３を、受容
層７０３に対してインクジェット装置１００４で投射し
て、カラーフィルタ７を形成する（図１０（ｄ））。

【０１４４】このとき、隣り合う色セル７０５どうしの
境界領域での異なる着色材料の色どうしが混色する可能
性のある部分には前記の遮光層６が既に形成されている
ので、その部分の色のにじみを避けることができる。そ
の結果、色再現性の極めて良好な画像表示を実現するこ
とができる。

【０１４５】（実施例７）この第７の実施例において
は、カラーフィルタを形成した後に、そのカラーフィル
タが形成された基板上に黒色系の染料あるいは顔料を添
加した感光性樹脂材料の膜を成膜し、カラーフィルタを
マスクとして用いて感光性樹脂材料の膜を露光しこれを
現像して遮光層を形成することを特徴としている。

【０１４６】従って、この第７の実施例の製造方法は、
遮光層の形成以前にカラーフィルタを本発明に係るイン
クジェット法で形成する液晶表示装置の製造方法であれ
ば、いずれにも適用することができることは理論的にも
明らかである。従って、本実施例においては、説明の簡
潔化を図るために、液晶表示素子およびカラーフィルタ
の構造やその製造方法については上記の各実施例を参照
するものとし、カラーフィルタの形成プロセス以後の、
遮光層の形成プロセスを中心として以下に説明する。

【０１４７】図１１は本実施例の製造方法の主要部を示
す図である。なお図１１においては、第１〜第６の実施
例と同様の部位には同じ符号を付して示している。

【０１４８】受容層７０３を着色してカラーフィルタ７
の各色セル７０５が形成された基板１１０１（図１１
（ａ））の上ほぼ全面に、遮光層６を形成するための感
光性樹脂材料膜１１０２として、アクリル系紫外線硬化
型樹脂に黒色系顔料を含有・分散させた材料を、例えば
スピンコータ装置で塗布する（図１１（ｂ））。

【０１４９】続いて、基板１１０１上のカラーフィルタ
７の各色セル７０５が形成された主面とは反対側の主面
つまり裏面から、紫外線を照射する。このとき、カラー
フィルタ７の各色セル７０５がマスクとして働いて、紫
外線を吸収および一部反射してその透過を遮る。従っ
て、この色セル７０５に重なった部分の感光性樹脂材料
膜１１０２には紫外線が十分には照射されず未硬化の状
態となる。一方、色セル７０５の無い部分つまり色セル
７０５どうしの間の境界領域（あるいは換言すれば非画
素部とほぼ同じ部分）の感光性樹脂材料膜１１０３のみ
に紫外線が十分に照射されてその部分が硬化し、前記の
アクリル系紫外線硬化型樹脂を現像する現像液（あるい
は溶解する溶剤）に対して耐性となる（図１１
（ｃ））。

【０１５０】こうして露光された感光性樹脂材料膜１１
０３（および未露光の感光性樹脂材料膜１１０２）を、
現像液あるいは溶剤を用いて、現像あるいは不要部分の
溶解除去を行なう。こうして、色セル７０５どうしの間
の境界領域（換言すれば非画素部とほぼ同じ部分）を遮
光する遮光層６を形成することができる。

【０１５１】なお、上記の基板１１０１は、ガラス基板
上にカラーフィルタが形成されただけの構造の基板であ
ってもよい。あるいは例えば走査線や信号線やＴＦＴや
画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板であっても良
い。あるいは単純マトリックス型液晶表示装置用の走査
電極などの電極が形成された電極基板でも良い。

【０１５２】また、上記実施例では感光性樹脂材料膜１
１０２としてアクリル系紫外線硬化型樹脂に黒色系顔料
を含有・分散させたものを用いたが、この他にも一般的
ないわゆるフォトレジストとして用いられるような感光
性樹脂膜の中に、黒色系染料を混入するなどして遮光性
を付与された感光性樹脂材料膜や、紫外線以外の光に感
光する感光性樹脂材料膜などを用いても良い。

【０１５３】（実施例８）この第８の実施例において
は、着色受容基材層に紫外線を照射し必要部分を硬化し
不要部分は除去して受容層を形成した後に、その受容層
が形成された基板上に黒色系の染料あるいは顔料を添加
した感光性樹脂材料の膜を成膜し、受容層をマスクとし
て用いて感光性樹脂材料の膜を露光しこれを現像して、
遮光層を形成することを特徴としている。しかもこのと
き、遮光層をカラーフィルタよりも高くなるような厚さ
に形成することにより、その遮光層により各色セルの周
囲を囲んで、隣り合う色セルどうしの着色のにじみを防
ぐ隔壁として用いることも特徴としている。

【０１５４】従って、この第８の実施例の製造方法は、
遮光層の形成以前に本発明に係る受容層を各色セルごと
にパターン形成する液晶表示装置の製造方法であれば、
いずれにも適用することができることは理論的にも明ら
かである。従って、本実施例においては、説明の簡潔化
を図るために、液晶表示素子およびカラーフィルタの構
造やその製造方法については上記の各実施例を参照する
ものとし、受容層を形成したプロセス以後の、遮光層の
形成プロセスを中心として以下に説明する。

【０１５５】図１２は本実施例の製造方法の主要部を示
す図である。なお図１２においては、第１〜第７の実施
例と同様の部位には同じ符号を付して示している。

【０１５６】受容層７０３が形成された基板１１０１
（図１２（ａ））の上ほぼ全面に、遮光層６を形成する
ための感光性樹脂材料膜１１０２として、アクリル系紫
外線硬化型樹脂に黒色系顔料を含有・分散させた材料を
膜状に、例えばスピンコータ装置で塗布する（図１２
（ｂ））。

【０１５７】続いて、基板１１０１上の受容層７０３が
形成された主面とは反対側の主面つまり裏面から、紫外
線を照射する（図１１（ｃ））。このとき、受容層７０
３がマスクとして働いて、紫外線を吸収および一部反射
してその透過を遮る。従ってこの受容層７０３に重なっ
た部分の感光性樹脂材料膜１１０２には紫外線が十分に
は照射されない。一方、受容層７０３の無い部分（換言
すれば非画素部とほぼ同じ部分）の感光性樹脂材料膜１
１０３のみに紫外線が十分に照射されてその部分が硬化
し、前記のアクリル系紫外線硬化型樹脂を現像する現像
液（あるいは溶解する溶剤）に対して耐性となる。しか
もこのとき、受容層７０３においては裏面側からも紫外
線が照射されるので、受容層７０３はその裏面側の硬化
がさらに十分なものとなり、また裏面側の着色性もさら
に向上する。

【０１５８】こうして露光された感光性樹脂材料膜１１
０２を、現像液（あるいは溶剤）を用いて現像（あるい
は不要部分の溶解除去）を行なって、受容層７０３どう
しの間の境界領域（換言すれば非画素部とほぼ同じ部
分）を遮光する遮光層６を形成することができる（図１
１（ｄ））。

【０１５９】続いて、感光性樹脂材料膜１１０２が除去
されて再び露出した受容層７０３に対して、各色のうち
それぞれ所定の色の着色材料１００３を投射して各色セ
ル７０５を形成して、カラーフィルタ７が完成する（図
１１（ｅ））。

【０１６０】なお、上記の基板１１０１は、ガラス基板
上に受容層７０３が形成されただけの構造の基板であっ
てもよい。あるいはこれに加えて、例えば走査線や信号
線やＴＦＴや画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板
であっても良く、または単純マトリックス型液晶表示装
置用の走査電極のような電極が形成された電極基板でも
良い。

【０１６１】（実施例９）前述の第２の実施例において
は、紫外線を照射した部分を活性化しその部分の受容性
（着色性）を向上して着色材料を被着させてカラーフィ
ルタを形成する場合を示した。この第９の実施例におい
ては、第２の実施例における紫外線を照射した部分を活
性化するだけでなく、その部分を硬化させ、その他の紫
外線が照射されなかった部分は溶剤等で除去して、各画
素部ごとに受容層を例えば島状に形成する場合について
示す。なお、この第９の実施例における前記の第２の実
施例と同様の各部位には第２の実施例と同じ符号および
用語を用いて、図２を参照して説明する。

【０１６２】即ち、第２の実施例と同様に、遮光層６を
形成しその上を含む基板上を覆うように着色受容基材層
を膜厚2.0 μｍの膜厚に形成する。そして遮光層６をマ
スクとして用いて各色セルに対応する部分ごとの着色受
容基材層にセルフアラインで選択的に紫外線を照射す
る。このように選択的に紫外線が照射された部分ごとの
受光層が活性化される。

【０１６３】続いて、Ｈ₂Ｏに水酸化カリウムを 1％添
加した溶液を用いて現像処理を行なって、露光されてい
ない部分の着色受容基材層を除去する。

【０１６４】続いて、前記の現像処理で除去されずに残
った受容層を 180℃で 1時間にわたり焼成する。

【０１６５】このようにして活性化されるとともに各画
素部ごとに島状にパターニングされた受容層に対して、
インクジェット装置を用いてインクジェット法によりＲ
・Ｇ・Ｂの三色の着色材料をそれぞれ被着させて受光層
を着色し、カラーフィルタ７を形成することができる。

【０１６６】（実施例１０）前述の第２の実施例におい
ては、酸化クロムとクロムの積層膜を用いて遮光層６を
形成し、この上を覆うように着色受容基材層を形成し、
基板の着色受容基材層が形成された主面とは反対側の裏
面から紫外線を照射して遮光層６をマスクとして用いて
各画素部を露光する場合を示した。

【０１６７】この第１０の実施例においては、基板上に
着色受容基材層を成膜した後に遮光層６を黒色樹脂材料
で形成し、この遮光層６をマスクとして用いて基板の着
色受容基材層が形成された主面側から紫外線を照射して
各画素部を露光する場合について示す。図１３は、第１
０の実施例の製造方法により製造される液晶表示装置の
構造の概要を示す図である。

【０１６８】なお、この第１０の実施例における前記の
第２の実施例と同様の各部位には第２の実施例と同じ符
号および用語を用いて、図２および図１３を参照しなが
ら本実施例の液晶表示装置が第２の実施例と異なる点を
中心として説明する。

【０１６９】ガラス基板５の上に、カゼインを材料とし
て用いてロールコート法により着色受容基材層を膜厚2.
0 μｍの膜厚に形成する。

【０１７０】そして、感光性アクリル樹脂にカーボン・
ブラックを分散させた黒色樹脂をスピンコート法で成膜
する。そしてこれを例えば所定の遮光層のパターンが描
画されたフォトマスクを用いて露光し、現像処理を行な
って、黒色樹脂からなる遮光層６を形成する。

【０１７１】続いて、ガラス基板５の遮光層６等が形成
された側の主面から紫外線を着色受容基材層に照射す
る。このとき、前記の黒色樹脂からなる遮光層６がマス
クとして働くので、遮光層６の各画素に対応した部分に
開けられた開口部、換言すれば各色セルに対応する部分
ごとの着色受容基材層にセルフアラインで選択的に紫外
線が照射される。このように選択的に紫外線が照射され
た部分ごとの受光層が活性化される。そしてその後の、
カラーフィルタの着色工程以降の工程は、第２の実施例
等と同様に行なうことができる。

【０１７２】（実施例１１）前述の第３の実施例におい
ては、ＴＦＴアレイ基板上の走査線および信号線をマス
クとして用いて着色受容基材層のうち各画素部を含む各
色セルごとに選択的に紫外線を照射する場合を示した。

【０１７３】この第１１の実施例においては、紫外線を
照射する際のマスクとして、走査線および信号線の代り
にフォトマスクを用いて、基板の裏面からではなく着色
受容基材層が形成された側の主面から紫外線を照射する
場合について示す。

【０１７４】なお、この第１１の実施例における前記の
第２の実施例等と同様の各部位には第２の実施例と同じ
符号および用語を用いて、本実施例の液晶表示装置が第
２の実施例と異なる点を中心として図２を参照しつつ説
明する。

【０１７５】第３の実施例と同様に着色受容基材層を成
膜する。その後、各画素を含んで各色セルに対応する部
分ごとに開口を有するパターンが描かれたフォトマスク
を用いて、着色受容基材層が形成された面側からその着
色受容基材層に対して紫外線を照射する。このとき、フ
ォトマスクの遮光パターンにより被覆された部分の着色
受容基材層は未露光となり、開口が開けられた部分つま
り各色セルに対応する部分の着色受容基材層は露光さ
れ、その部分の受容性が向上するとともに硬化する。そ
して未硬化部を溶剤等で除去して、受容層を形成するこ
とができる。

【０１７６】（実施例１２）前述の第４の実施例におい
ては、ＴＦＴアレイ基板上の走査線および信号線をマス
クとして用いて着色受容基材層のうち各画素部を含む各
色セルごとに選択的に紫外線を照射する場合を示した。

【０１７７】紫外線を照射する際のマスクとしては、走
査線および信号線の代りにフォトマスクを用いて、基板
の裏面からではなく着色受容基材層が形成された側の主
面から紫外線を照射することもできる。このような本実
施例の製造方法によれば、上記の第１１の実施例と同様
にフォトマスクの遮光パターンによって着色受容基材層
のうち各画素部を含む各色セルごとに選択的に紫外線を
照射して、受容層を形成することができる。

【０１７８】なお、以上の各実施例において、受容層に
対する紫外線の選択的照射に際しては、紫外線照射の作
業雰囲気を、一般的な常温常圧の作業雰囲気よりも高い
濃度の酸素を含む雰囲気とすることによって、紫外線照
射による受容層の活性化あるいは硬化をさらに促進させ
ることも可能である。

【０１７９】また、上記実施例では着色材料としてＲ・
Ｇ・Ｂの三色のインクを用いる場合について示したが、
本発明はこのような三色のみには限定されないことは言
うまでもない。この他にも、例えばＹ・Ｍ・Ｃ（イエロ
ー・マゼンタ・シアン）のような三色に対応する着色材
料（インク）を用いても良いことは言うまでもない。た
だし、このとき用いる着色材料に対して受容性が良好で
ある材質の受容層を選んで用いることが望ましいことは
言うまでもない。

【０１８０】

【発明の効果】以上、詳細な説明で明示したように、本
発明によれば、簡易かつ高スループットで製造すること
ができるカラーフィルタを備えて周辺部の色のにじみの
なく各画素ごとの色再現性の良好なカラー画像表示が可
能な液晶表示装置を実現する製造方法を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法によって形成された第１の実
施例の液晶表示装置の構造を示す図である。

【図２】本発明の製造方法によって形成された第２の実
施例の液晶表示装置の構造を示す図である。

【図３】本発明の製造方法によって形成された第３の実
施例の液晶表示装置の構造を示す図である。

【図４】本発明の製造方法によって形成された第４の実
施例の液晶表示装置の構造を示す図である。

【図５】本発明の製造方法に係る紫外線の照射強度およ
び照射時間を示す図である。

【図６】第５の実施例の液晶表示装置の構造の概要を示
す断面図である。

【図７】第５の実施例の液晶表示装置の製造プロセスの
概要を示す図である。

【図８】第５の実施例の液晶表示装置の製造プロセスの
概要を示す図である。

【図９】第６の実施例の製造方法により形成される液晶
表示装置の構造の概要を示す断面図である。

【図１０】第６の実施例の液晶表示装置の製造プロセス
の概要を示す図である。

【図１１】第７の実施例の製造プロセスの概要を示す図
である。

【図１２】第８の実施例の製造プロセスの概要を示す図
である。

【図１３】第１０の実施例の製造方法により製造される
液晶表示装置の構造の概要を示す図である。

【符号の説明】

１………ガラス基板２………走査電極３………配向膜４………走査電極基板５………ガラス基板６………遮光層７………カラーフィルタ８………信号電極９………配向膜１０………信号電極基板１１………封止材１２………スペーサ１３………液晶層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第１の基板上に第１の電極を形成する工
程と、前記第１の電極に対向して配置されて画素を形成する第
２の電極を、第２の基板上に形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも一
方の基板の上に、着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層のうち前記画素に対応する部分の、
カラーフィルタ用の着色材料に対する受容性を、他の部
分よりも向上させて、受容層を形成する工程と、イン
クジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材料を
前記受容層に対して投射して前記受容層を着色しカラー
フィルタを形成する工程と、前記第１の基板及び第２の基板を間隙を有して対向配置
し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入
する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項２】第１の基板上に第１の電極を形成する工
程と、前記第１の電極に対向して配置されて画素を形成する第
２の電極を、第２の基板上に形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも一
方の基板の上に着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層に紫外線を照射して、該紫外線が照
射された部分を、カラーフィルタ用の着色材料を受容す
る受容層とする工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、前記第１の基板及び第２の基板を間隙を有して対向配置
し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入
する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項３】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法
において、前記着色受容基材層に紫外線を照射する以前に、前記第
１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも前記着色
受容基材層が形成された方の基板の上に、隣り合う画素
どうしの間の部分である非画素部を覆う遮光層を形成す
る工程と、前記遮光層をマスクとして用いて、前記着色受容基材層
の前記画素に対応する部分に選択的に紫外線を照射する
工程と、を具備することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項４】第１の基板上に第１の電極を形成する工
程と、前記第１の電極に対向して配置されて画素を形成する第
２の電極を第２の基板上に形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも一
方の基板上に着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層のうち前記画素に対応する部分に選
択的に紫外線を照射して、該紫外線が照射された部分
を、その他の照射されなかった部分よりもカラーフィル
タの着色材料に対する受容性の高い受容層とする工程
と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、前記第１の基板及び第２の基板を間隙を有して対向配置
し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入
する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項５】請求項４記載の液晶表示装置の製造方法
において、前記着色受容基材層に紫外線を照射する以前に、前記第
１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも前記着色
受容基材層が形成された方の基板の上に、隣り合う画素
どうしの間の部分である非画素部を覆う遮光層を形成す
る工程と、前記遮光層をマスクとして用いて、前記着色受容基材層
の前記画素に対応する部分に選択的に紫外線を照射する
工程と、を具備することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項６】第１の基板上に第１の電極を形成する工
程と、前記第１の電極に対向して配置されて画素を形成する第
２の電極を第２の基板上に形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも一
方の基板の上に、紫外線硬化型樹脂からなる着色受容基
材層を形成する工程と、前記着色受容基材層のうち前記画素に対応する部分に選
択的に紫外線を照射して、該紫外線が照射された部分を
硬化させるとともに該部分を他の照射されなかった部分
よりもカラーフィルタ用の着色材料に対して受容性の高
い受容層とする工程と、前記着色受容基材層のうち前記紫外線が照射されなかっ
た部分を除去する工程と、インクジェット装置を用いて、前記カラーフィルタ用の
着色材料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色
しカラーフィルタを形成する工程と、前記第１の基板及び第２の基板を間隙を有して対向配置
し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入
する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項７】請求項６記載の液晶表示装置の製造方法
において、前記着色受容基材層に紫外線を照射する以前に、前記第
１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも前記着色
受容基材層が形成された方の基板の上に、隣り合う画素
どうしの間の部分である非画素部を覆う遮光層を形成す
る工程と、前記遮光層をマスクとして用いて、前記着色受容基材層
の前記画素に対応する部分に選択的に紫外線を照射する
工程と、を具備することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項８】第１の基板上に第１の電極を形成する工
程と、前記第１の電極に対向して配置されて画素を形成する第
２の電極を、第２の基板上に形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも一
方の基板の上に、隣り合う画素どうしの間の部分である
非画素部を覆う遮光層を形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち前記遮光層が
形成された方の基板の上に、前記遮光層の上を含む基板
上を覆う着色受容基材層を形成する工程と、前記遮光層をマスクとして用いて、前記着色受容基材層
の前記画素に対応する部分に選択的に、前記着色受容基
材層が形成された主面とは反対側の主面から紫外線を照
射して、該紫外線が照射された部分を照射されなかった
部分よりもカラーフィルタの着色材料に対する受容性の
高い受容層とする工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、前記第１の基板及び第２の基板を間隙を有して対向配置
し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入
する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項９】第１の基板上に第１の電極を形成する工
程と、前記第１の電極に対向して配置されて画素を形成する第
２の電極を、第２の基板上に形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも一
方の基板の上に、隣り合う画素どうしの間の部分である
非画素部を覆う遮光層を形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち前記遮光層が
形成された方の基板の上に、前記遮光層の上を含む基板
上を覆う着色受容基材層を形成する工程と、前記遮光層をマスクとして用いて、前記着色受容基材層
の前記画素に対応する部分に選択的に、前記着色受容基
材層が形成された主面とは反対側の主面から紫外線を照
射して、該紫外線が照射された部分を硬化させるととも
に該部分をその他の照射されなかった部分よりもカラー
フィルタの着色材料に対する受容性の高い受容層とする
工程と、前記着色受容基材層のうち前記紫外線が照射されなかっ
た部分を除去する工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、前記第１の基板及び第２の基板を間隙を有して対向配置
し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入
する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項１０】第１の基板上に、互いに交差するよう
に配列された複数の走査線と複数の信号線と該走査線お
よび該信号線の交差部ごとに形成され該走査線および該
信号線に接続されたスイッチング素子と該スイッチング
素子ごとに接続された画素電極とを配設してスイッチン
グ素子アレイ基板を形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板に対して間隙を有して
対向配置される対向電極を第２の基板上に配設して対向
基板を形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板上に着色受容基材層を
形成する工程と、前記着色受容基材層に対してフォトマスクを介して紫外
線を照射して、該紫外線が照射された部分をカラーフィ
ルタ用の着色材料を受容する受容層とする工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板及び対向基板を、間隙
を有して対向配置し、該両基板の周囲を封止して前記間
隙に液晶層を封入する工程と、を含むことを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】第１の基板上に、互いに交差するよう
に配列された複数の走査線と複数の信号線と該走査線お
よび該信号線の交差部ごとに形成され該走査線および該
信号線に接続されたスイッチング素子と該スイッチング
素子ごとに接続された画素電極とを配設してスイッチン
グ素子アレイ基板を形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板に対して間隙を有して
対向配置される対向電極を第２の基板上に配設して対向
基板を形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板上に着色受容基材層を
形成する工程と、前記着色受容基材層に対してフォトマスクを介して紫外
線を照射して、該紫外線が照射された部分を照射されな
かった部分よりもカラーフィルタの着色材料に対する受
容性の高い受容層とする工程と、前記着色受容基材層のうち前記紫外線が照射されなかっ
た部分を除去する工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板及び対向基板を、間隙
を有して対向配置し、該両基板の周囲を封止して前記間
隙に液晶層を封入する工程と、を含むことを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】請求項１０記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタの上に第２の画素電極を形成する工
程と、前記第２の画素電極と前記カラーフィルタの下の前記画
素電極とを、電気的に接続する工程と、を含むことを特
徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】請求項１１記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタの上に第２の画素電極を形成する工
程と、前記第２の画素電極と前記カラーフィルタの下の前記画
素電極とを、電気的に接続する工程と、を含むことを特
徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】請求項１０記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、前記スイッチング
素子アレイ基板上に、隣り合う前記画素どうしの間の部
分である非画素部を覆う遮光層を形成する工程を具備す
ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】請求項１１記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、前記スイッチング
素子アレイ基板上に、隣り合う前記画素どうしの間の部
分である非画素部を覆う遮光層を形成する工程を具備す
ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】請求項１２記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、前記スイッチング
素子アレイ基板上に、隣り合う前記画素どうしの間の部
分である非画素部を覆う遮光層を形成する工程を具備す
ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】第１の基板上に、互いに交差するよう
に配列された複数の走査線と複数の信号線と該走査線お
よび該信号線の交差部ごとに形成され該走査線および該
信号線に接続されたスイッチング素子と該スイッチング
素子ごとに接続された画素電極とを配設してスイッチン
グ素子アレイ基板を形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板に対して間隙を有して
対向配置される対向電極を第２の基板上に配設して対向
基板を形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板上に着色受容基材層を
形成する工程と、前記複数の走査線と前記複数の信号線とをマスクとして
用いて、該マスクで覆われておらず露出している着色受
容基材層に選択的に、前記着色受容基材層が形成された
主面とは反対側の主面から紫外線を照射して、該紫外線
が照射された部分をその他の照射されなかった部分より
もカラーフィルタ用の着色材料に対して受容性の高い受
容層とする工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板及び対向基板を、間隙
を有して対向配置し、該両基板の周囲を封止して前記間
隙に液晶層を封入する工程と、を含むことを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】第１の基板上に、互いに交差するよう
に配列された複数の走査線と複数の信号線と該走査線お
よび該信号線の交差部ごとに形成され該走査線および該
信号線に接続されたスイッチング素子と該スイッチング
素子ごとに接続された画素電極とを配設してスイッチン
グ素子アレイ基板を形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板に対して間隙を有して
対向配置される対向電極を第２の基板上に配設して対向
基板を形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板上に、紫外線硬化型樹
脂からなる着色受容基材層を形成する工程と、前記複数の走査線と複数の信号線とをマスクとして用い
て、該マスクで覆われておらず露出している着色受容基
材層に選択的に、前記着色受容基材層が形成された主面
とは反対側の主面から紫外線を照射して、該紫外線が照
射された部分を硬化させるとともに該部分を他の照射さ
れなかった部分よりもカラーフィルタ用の着色材料に対
して受容性の高い受容層とする工程と、前記着色受容基材層のうち前記紫外線が照射されなかっ
た部分を除去する工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板及び対向基板を、間隙
を有して対向配置し、両基板の周囲を封止して前記間隙
に液晶層を封入する工程と、を含むことを特徴とする液
晶表示装置の製造方法。
【請求項１９】請求項１７記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタの上に第２の画素電極を配設する工
程と、前記カラーフィルタの下の前記画素電極と前記第２の画
素電極とを電気的に接続する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板及び対向基板を、間隙
を有して対向配置し、両基板の周囲を封止して前記間隙
に液晶層を封入する工程と、を含むことを特徴とする液
晶表示装置の製造方法。
【請求項２０】請求項１８記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタの上に第２の画素電極を配設する工
程と、前記カラーフィルタの下の前記画素電極と前記第２の画
素電極とを電気的に接続する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板及び対向基板を、間隙
を有して対向配置し、両基板の周囲を封止して前記間隙
に液晶層を封入する工程と、を含むことを特徴とする液
晶表示装置の製造方法。
【請求項２１】請求項２記載の液晶表示装置の製造方
法において、前記カラーフィルタを形成した後に、前記第１の基板及
び前記第２の基板のうち少なくとも一方の基板上に、隣
り合う前記画素どうしの間の部分である非画素部を覆う
遮光層を形成する工程を具備することを特徴とする液晶
表示装置の製造方法。
【請求項２２】請求項１７記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、前記スイッチング
素子アレイ基板上に、隣り合う前記画素どうしの間の部
分である非画素部を覆う遮光層を形成する工程を具備す
ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２３】請求項１８記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、前記スイッチング
素子アレイ基板上に、隣り合う前記画素どうしの間の部
分である非画素部を覆う遮光層を形成する工程を具備す
ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２４】第１の基板上に第１の電極を形成する
工程と、前記第１の電極に対して間隙を有して対向配置されて画
素を形成する第２の電極を、第２の基板上に形成する工
程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも一
方の基板の上に着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層に紫外線を照射し、カラーフィルタ
を形成するための着色材料および遮光層を形成するため
の着色材料に対する前記着色受容基材層の受容性を前記
紫外線の照射以前よりも向上させて、前記着色受容基材
層を受容層とする工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタを形成す
るための着色材料および遮光層を形成するための着色材
料をそれぞれ前記受容層に対して投射して該受容層を着
色し、前記画素を覆う位置ごとにはカラーフィルタを形
成し、各隣り合う画素どうしの間の部分である非画素部
を覆う位置には遮光層を形成する工程と、前記第１の
基板及び第２の基板を前記間隙を有して対向配置し、該
両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入する工
程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
【請求項２５】請求項４記載の液晶表示装置の製造方
法において、前記カラーフィルタを形成した後に、該カラーフィルタ
を含む基板上を覆うように、遮光層形成用の遮光性を備
えた感光性材料膜を成膜する工程と、前記カラーフィルタをマスクとして用いて、前記基板の
前記カラーフィルタが配設された主面とは裏側の主面か
ら光を前記感光性材料膜に照射した後、これを現像して
前記感光性材料膜のうち前記光で露光した部分は残し前
記カラーフィルタによって前記露光が遮られた部分は除
去して、前記カラーフィルタが配設されていない隣り合
う画素どうしの間の部分である非画素部を遮光する遮光
層を形成する工程と、を具備することを特徴とする液晶
表示装置の製造方法。
【請求項２６】請求項６記載の液晶表示装置の製造方
法において、前記カラーフィルタを形成した後に、該カラーフィルタ
を含む基板上を覆うように、遮光層形成用の遮光性を備
えた感光性材料膜を成膜する工程と、前記カラーフィルタをマスクとして用いて、前記基板の
前記カラーフィルタが配設された主面とは裏側の主面か
ら光を前記感光性材料膜に照射した後、これを現像して
前記感光性材料膜のうち前記光で露光した部分は残し前
記カラーフィルタによって前記露光が遮られた部分は除
去して、前記カラーフィルタが配設されていない隣り合
う前記画素どうしの間の部分である非画素部を遮光する
遮光層を形成する工程と、を具備することを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。
【請求項２７】請求項６記載の液晶表示装置の製造方
法において、前記受容層を形成した後であって該受容層を着色する以
前に、該受容層を含む基板上を覆うように、遮光層形成
用の遮光性を備えた感光性材料膜を成膜する工程と、前記基板の前記受容層が配設された主面とは裏側の主面
から光を前記感光性材料膜に照射して、前記感光性材料
膜のうち前記受容層に遮られること無く前記光で露光さ
れた部分は残し前記受容層によって前記露光が遮られた
部分は除去して、前記受容層が配設されていない隣り合
う前記画素どうしの間の部分である非画素部を遮光する
遮光層を形成する工程と、前記遮光層を形成した後に、インクジェット装置を用い
て、カラーフィルタの着色材料を前記受容層に対して投
射して該受容層を着色しカラーフィルタを形成する工程
と、を具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
【請求項２８】請求項２記載の液晶表示装置の製造方
法において、前記着色受容基材層を形成した後であって該着色受容基
材層に前記紫外線を照射する以前に、前記着色受容基材
層の上に、隣り合う前記画素どうしの間の部分である非
画素部を遮光するとともに前記各画素上には開口を備え
た格子状の遮光層を形成する工程と、前記遮光層をマスクとして用いて、該遮光層で覆われて
おらず露出している部分の前記着色受容基材層に紫外線
を照射して該部分を選択的に、カラーフィルタ用の着色
材料を受容する受容層とする工程と、前記受容層のうち前記遮光層により仕切られた前記各開
口内ごとに対してカラーフィルタの着色材料をインクジ
ェット装置を用いて投射して該受容層を着色しカラーフ
ィルタを形成する工程と、を具備することを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。
【請求項２９】請求項２記載の液晶表示装置の製造方
法において、前記受容層を形成した後であって該受容層を着色する以
前に、前記受容層を含む基板上を覆うように、遮光層形
成用の遮光性を備えた感光性材料膜を成膜する工程と、前記基板の前記受容層が配設された主面とは裏側の主面
から光を前記感光性材料膜に照射し、前記感光性材料膜
のうち前記受容層に遮られること無く前記光で露光され
た部分は残し前記受容層によって前記露光が遮られた部
分は除去して、前記受容層が配設されていない隣り合う
前記画素どうしの間の部分である非画素部を遮光すると
ともに前記画素上には開口を備えた格子状の遮光層を形
成する工程と、前記受容層のうち前記遮光層により仕切られた前記各開
口内ごとに対してカラーフィルタの着色材料をインクジ
ェット装置を用いて投射して該受容層を着色しカラーフ
ィルタを形成する工程と、を具備することを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。
【請求項３０】第１の基板上に第１の電極を形成する
工程と、第２の基板上に着色受容基材層を形成する工程と、カラーフィルタ用の着色材料に対する前記着色受容基材
層のうち画素に対応する部分の受容性を他の部分よりも
向上させて、受容層を形成する工程と、インクジェット装置を用いて、前記カラーフィルタ用の
着色材料を前記受容層に対して投射して前記受容層を着
色しカラーフィルタを形成する工程と、前記カラーフィルタの上を含む前記第２の基板上に第２
の電極を形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板を間隙を有して対向
配置し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を
封入する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置
の製造方法。
【請求項３１】第１の基板上に第１の電極を形成する
工程と、第２の基板上に着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層の前記画素に対応する部分に選択的
に紫外線を照射して、該紫外線が照射された部分を、カ
ラーフィルタ用の着色材料を受容する受容層とする工程
と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して前記受容層を着色しカ
ラーフィルタを形成する工程と、前記カラーフィルタの上を含む前記第２の基板上に第２
の電極を形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板を間隙を有して対向
配置し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を
封入する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置
の製造方法。
【請求項３２】請求項３１記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記着色受容基材層に紫外線を照射する以前に、前記第
１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも前記着色
受容基材層が形成された方の基板の上に、隣り合う画素
どうしの間の部分である非画素部を覆う遮光層を形成す
る工程と、前記遮光層をマスクとして用いて、前記着色受容基材層
のうち前記画素に対応する部分に選択的に紫外線を照射
する工程と、を具備することを特徴とする液晶表示装置
の製造方法。
【請求項３３】第１の基板上に第１の電極を形成する
工程と、第２の基板上に着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層のうち画素に対応する部分に選択的
に紫外線を照射して、該紫外線が照射された部分を、そ
の他の照射されなかった部分よりもカラーフィルタの着
色材料に対する受容性の高い受容層とする工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して前記受容層を着色しカ
ラーフィルタを形成する工程と、前記カラーフィルタの上を含む前記第２の基板上に第２
の電極を形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板を間隙を有して対向
配置し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を
封入する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置
の製造方法。
【請求項３４】請求項３３記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記着色受容基材層に紫外線を照射する以前に、前記第
１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも前記着色
受容基材層が形成された方の基板の上に、隣り合う画素
どうしの間の部分である非画素部を覆う遮光層を形成す
る工程と、前記遮光層をマスクとして用いて、前記着色受容基材層
の前記画素に対応する部分に選択的に紫外線を照射する
工程と、を具備することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項３５】第１の基板上に第１の電極を形成する
工程と、第２の基板上に、着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層のうち前記画素に対応する部分に選
択的に紫外線を照射して、該紫外線が照射された部分を
硬化させるとともに該部分を他の照射されなかった部分
よりもカラーフィルタ用の着色材料に対して受容性の高
い受容層とする工程と、前記着色受容基材層のうち前記紫外線が照射されなかっ
た部分を除去する工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して前記受容層を着色しカ
ラーフィルタを形成する工程と、前記カラーフィルタの上を含む前記第２の基板上に第２
の電極を形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板を間隙を有して対向
配置し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を
封入する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置
の製造方法。
【請求項３６】請求項３５記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記着色受容基材層に紫外線を照射する以前に、前記第
１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも前記着色
受容基材層が形成された方の基板の上に、隣り合う前記
画素どうしの間の部分である非画素部を覆う遮光層を形
成する工程と、前記遮光層をマスクとして用いて、前記着色受容基材層
の前記画素に対応する部分に選択的に紫外線を照射する
工程と、を具備することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項３７】第１の基板上に互いに交差するように
配列された複数の走査線と複数の信号線と該走査線およ
び該信号線の交差部ごとに形成され該走査線および該信
号線に接続されたスイッチング素子とを配設する工程
と、前記第１の基板上に、着色受容基材層を形成する工程
と、前記複数の走査線と複数の信号線とをマスクとして用い
て、該マスクで覆われておらず露出している着色受容基
材層に選択的に、前記着色受容基材層が形成された主面
とは反対側の主面から紫外線を照射して、該紫外線が照
射された部分をその他の照射されなかった部分よりもカ
ラーフィルタ用の着色材料に対して受容性の高い受容層
とする工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、前記カラーフィルタの上を含む画素に対応する部分に、
前記スイッチング素子に接続される画素電極を配設し
て、スイッチング素子アレイ基板を形成する工程と、前記画素電極に対して間隙を有して対向配置される対向
電極を第２の基板上に配設して対向基板を形成する工程
と、前記スイッチング素子アレイ基板及び前記対向基板を、
間隙を有して対向配置し、該両基板の周囲を封止して前
記間隙に液晶層を封入する工程と、を含むことを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。
【請求項３８】第１の基板上に、互いに交差するよう
に配列された複数の走査線と複数の信号線と該走査線お
よび該信号線の交差部ごとに形成され該走査線および該
信号線に接続されたスイッチング素子とを配設する工程
と、前記第１の基板上に、紫外線硬化型樹脂からなる着色受
容基材層を形成する工程と、前記複数の走査線と複数の信号線とをマスクとして用い
て、該マスクで覆われておらず露出している着色受容基
材層に選択的に、前記着色受容基材層が形成された主面
とは反対側の主面から紫外線を照射して、該紫外線が照
射された部分を硬化させるとともに該部分を他の照射さ
れなかった部分よりもカラーフィルタ用の着色材料に対
して受容性の高い受容層とする工程と、前記着色受容基材層のうち前記紫外線が照射されなかっ
た部分を除去する工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、前記カラーフィルタの上を含む前記画素に対応する部分
ごとに、前記スイッチング素子に接続される画素電極を
配設して、スイッチング素子アレイ基板を形成する工程
と、前記スイッチング素子アレイ基板に対して間隙を有して
対向配置される対向電極を第２の基板上に配設して対向
基板を形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板及び前記対向基板を、
前記間隙を有して対向配置し、両基板の周囲を封止して
前記間隙に液晶層を封入する工程と、を含むことを特徴
とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３９】請求項３７記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、前記第１の基板上
に、隣り合う前記画素どうしの間の部分である非画素部
を覆う遮光層を形成する工程を具備することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。
【請求項４０】請求項３８記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、前記第１の基板上
に、隣り合う前記画素どうしの間の部分である非画素部
を覆う遮光層を形成する工程を具備することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。
【請求項４１】第１の基板上に第１の電極を形成する
工程と、第２の基板上に着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層に紫外線を照射しカラーフィルタお
よび遮光層を形成するための着色材料に対する受容性を
前記紫外線の照射以前よりも向上させて、前記着色受容
基材層を受容層とする工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタを形成す
るための着色材料および遮光層を形成するための着色材
料をそれぞれ前記受容層に対して投射し該受容層を着色
して、画素を覆う位置にはカラーフィルタを形成し、隣
り合う画素どうしの間の部分である非画素部を覆う位置
には遮光層を形成する工程と、前記第１の電極に間隙を有して対向配置されて画素を形
成する第２の電極を、前記カラーフィルタの上を含む前
記第２の基板上に形成する工程と、前記第１の基板及び第２の基板を間隙を有して対向配置
し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入
する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項４２】請求項２５記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、該カラーフィルタ
が形成された基板上に、前記第１の電極又は前記第２の
電極のうち一方を前記カラーフィルタよりも上の層に形
成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４３】請求項２６記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、該カラーフィルタ
が形成された基板上に、前記第１の電極又は前記第２の
電極のうち一方を前記カラーフィルタよりも上の層に形
成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４４】請求項２７記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、該カラーフィルタ
が形成された基板上に、前記第１の電極又は前記第２の
電極のうち一方を前記カラーフィルタよりも上の層に形
成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４５】請求項２８記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、該カラーフィルタ
が形成された基板上に、前記第１の電極又は前記第２の
電極のうち一方を前記カラーフィルタよりも上の層に形
成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４６】請求項２９記載の液晶表示装置の製造
方法において、前記カラーフィルタを形成した後に、該カラーフィルタ
が形成された基板上に、前記第１の電極又は前記第２の
電極のうち一方を前記カラーフィルタよりも上の層に形
成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４７】第１の基板上に第１の電極を形成する
工程と、前記第１の電極に対向して配置されて画素を形成する第
２の電極を、第２の基板上に形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも一
方の基板の上に着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層の画素に対応する部分に一括して紫
外線を照射して、該紫外線が照射された部分を、カラー
フィルタ用の複数色の着色材料を受容する受容層とする
工程と、インクジェット装置を用いて、前記カラーフィルタの着
色材料を、各色ごとに前記受容層の各色セルに対応する
位置ごとに対して投射して該受容層を着色しカラーフィ
ルタを形成する工程と、前記第１の基板及び第２の基板を間隙を有して対向配置
し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入
する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項４８】第１の基板上に第１の電極を形成する
工程と、前記第１の電極に対向して配置されて画素を形成する第
２の電極を、第２の基板上に形成する工程と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくとも一
方の基板の上に着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層のうち、カラーフィルタ用の複数色
の着色材料の一色に対応する画素に紫外線を照射して、
該部分を前記カラーフィルタ用の着色材料の一色を受容
する受容層とし、インクジェット装置を用いて、前記カ
ラーフィルタの着色材料のうちの一色を、前記受容層に
対して投射して該受容層を着色する着色プロセスを、前
記カラーフィルタ用の複数色の着色材料の全色にわたっ
てそれぞれ行なって、カラーフィルタを形成する工程
と、前記第１の基板及び第２の基板を間隙を有して対向配置
し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入
する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項４９】透明基板上に、着色受容基材層を形成
する工程と、前記透明基板上に着色受容基材層を形成する工程と、前記着色受容基材層に紫外線を照射して、該紫外線が照
射された部分を、カラーフィルタ用の着色材料を受容す
る受容層とする工程と、インクジェット装置を用いて、カラーフィルタの着色材
料を前記受容層に対して投射して該受容層を着色しカラ
ーフィルタを形成する工程と、第１の電極が形成された第１の基板と第２の電極が形成
された第２の基板とを間隙を有して対向配置し該両基板
の周縁を封止し前記間隙に液晶層を封入して液晶表示素
子を形成する工程と、前記カラーフィルタが形成された透明基板を前記液晶表
示素子に貼設する工程と、を具備することを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。