JPH11190859A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
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- JPH11190859A JPH11190859A JP9358777A JP35877797A JPH11190859A JP H11190859 A JPH11190859 A JP H11190859A JP 9358777 A JP9358777 A JP 9358777A JP 35877797 A JP35877797 A JP 35877797A JP H11190859 A JPH11190859 A JP H11190859A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】歩留りが高く、工程数が少なく、しかも表示性
能の高い液晶表示装置およびその製造方法を提供する。 【解決手段】この発明の液晶表示装置１は、１種類の特
定の材質からなる単一の層である遮光層１４と遮光層に
レーザ加工またはフォトリソグラフィーにより設けられ
たスルーホール１６とＴＦＴ１１と信号線１２およびゲ
ート電極１３とスルーホール１６によりＴＦＴに導通さ
れた画素電極１５を有するマトリクス基板２とカラーフ
ィルタ層を持たない対向基板３と両基板間に封入された
液晶組成物４を含み、遮光層により区切られた領域に、
フォトリソグラフィー法により提供された樹脂レジスト
からなる着色層１７，１８および１９またはインクジェ
ット法により提供された着色層を有する。
能の高い液晶表示装置およびその製造方法を提供する。 【解決手段】この発明の液晶表示装置１は、１種類の特
定の材質からなる単一の層である遮光層１４と遮光層に
レーザ加工またはフォトリソグラフィーにより設けられ
たスルーホール１６とＴＦＴ１１と信号線１２およびゲ
ート電極１３とスルーホール１６によりＴＦＴに導通さ
れた画素電極１５を有するマトリクス基板２とカラーフ
ィルタ層を持たない対向基板３と両基板間に封入された
液晶組成物４を含み、遮光層により区切られた領域に、
フォトリソグラフィー法により提供された樹脂レジスト
からなる着色層１７，１８および１９またはインクジェ
ット法により提供された着色層を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置に
係り、より好ましくは、歩留りが高く、工程数が少な
く、しかも表示性能の高い液晶表示装置およびその製造
方法に関する。
係り、より好ましくは、歩留りが高く、工程数が少な
く、しかも表示性能の高い液晶表示装置およびその製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】今日、薄型の表示装置として広く利用さ
れている液晶表示装置は、画素電極を有するガラス基板
と対向電極を有するガラス基板とを対向させ、各基板の
周囲を液晶封入口を除いて接着剤で固定した後、液晶封
入口から液晶組成物を基板間に注入し、液晶封入口を封
止剤で封止した構成を有する。
れている液晶表示装置は、画素電極を有するガラス基板
と対向電極を有するガラス基板とを対向させ、各基板の
周囲を液晶封入口を除いて接着剤で固定した後、液晶封
入口から液晶組成物を基板間に注入し、液晶封入口を封
止剤で封止した構成を有する。
【０００３】この種の液晶表示装置においては、上述し
た２枚の基板間の距離を一定に保つためのスペーサとし
て、均一な粒径のプラスティックビーズ等を、基板間に
散在させている。
た２枚の基板間の距離を一定に保つためのスペーサとし
て、均一な粒径のプラスティックビーズ等を、基板間に
散在させている。
【０００４】一方、カラー表示が可能な液晶表示装置
は、２枚のガラス基板のうちの１枚に、Ｒ（レッド＝
赤）、Ｇ（グリーン＝緑）およびＢ（ブルー＝青）の３
色の着色層すなわちカラーフィルタが設けられている。
このため、カラー表示可能な液晶表示装置、例えば、単
純マトリクス駆動のカラー型ドットマトリクス液晶表示
装置において、横（Ｙ軸）方向に帯状にパターニングさ
れたＹ電極を有するＹ基板と縦（Ｘ軸）方向に帯状にパ
ターニングされたＸ電極の下に着色層を有するＸ基板と
を、Ｙ電極とＸ電極がほぼ直行するように対向設置し、
その間に液晶組成物を挟持させる方法を広く利用されて
いる。
は、２枚のガラス基板のうちの１枚に、Ｒ（レッド＝
赤）、Ｇ（グリーン＝緑）およびＢ（ブルー＝青）の３
色の着色層すなわちカラーフィルタが設けられている。
このため、カラー表示可能な液晶表示装置、例えば、単
純マトリクス駆動のカラー型ドットマトリクス液晶表示
装置において、横（Ｙ軸）方向に帯状にパターニングさ
れたＹ電極を有するＹ基板と縦（Ｘ軸）方向に帯状にパ
ターニングされたＸ電極の下に着色層を有するＸ基板と
を、Ｙ電極とＸ電極がほぼ直行するように対向設置し、
その間に液晶組成物を挟持させる方法を広く利用されて
いる。
【０００５】液晶表示装置の表示方式としては、例えば
ＴＮ（ツイステッドネマティック）形、ＳＴ（スーパー
ツイステッド（ネマティック））形、ＧＨ（ゲスト−ホ
スト）形、あるいはＥＣＢ（電界制御副屈折）形や強誘
電性形液晶（ＦerroＥＣＢ）等が知られている。
ＴＮ（ツイステッドネマティック）形、ＳＴ（スーパー
ツイステッド（ネマティック））形、ＧＨ（ゲスト−ホ
スト）形、あるいはＥＣＢ（電界制御副屈折）形や強誘
電性形液晶（ＦerroＥＣＢ）等が知られている。
【０００６】封止剤としては、例えば熱または紫外線硬
化型のアクリル系またはエポキシ系の接着剤等が用いら
れる。また、カラー表示が可能な液晶表示装置におい
て、特に表示速度を高速化し、コントラストを高めたも
のとして、２枚のガラス基板のうちの一方の基板の主面
に走査線と走査線と直交する信号線と両者が交差する位
置にスイッチング素子としてＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）を配置したアクティブマトリクス駆動液晶表示装置
が知られている。アクティブマトリクス駆動液晶表示装
置においては、例えば、アモルフアスシリコン（ａ−Ｓ
ｉ）を半導体層とした薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、
それに接続された表示電極（画素電極）、信号線および
ゲート電極（走査線）が形成されたアクティブマトリク
ス基板であるＴＦＴアレイ基板と、それに対向設置さ
れ、対向電極とＲＧＢの３色のカラーフィルタとアクテ
ィブマトリクス基板上から電圧を印加する電極転移材
（トランスファー）としての銀ペースト等が画面周辺部
に配置された対向基板との間に液晶組成物が封入され
る。
化型のアクリル系またはエポキシ系の接着剤等が用いら
れる。また、カラー表示が可能な液晶表示装置におい
て、特に表示速度を高速化し、コントラストを高めたも
のとして、２枚のガラス基板のうちの一方の基板の主面
に走査線と走査線と直交する信号線と両者が交差する位
置にスイッチング素子としてＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）を配置したアクティブマトリクス駆動液晶表示装置
が知られている。アクティブマトリクス駆動液晶表示装
置においては、例えば、アモルフアスシリコン（ａ−Ｓ
ｉ）を半導体層とした薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、
それに接続された表示電極（画素電極）、信号線および
ゲート電極（走査線）が形成されたアクティブマトリク
ス基板であるＴＦＴアレイ基板と、それに対向設置さ
れ、対向電極とＲＧＢの３色のカラーフィルタとアクテ
ィブマトリクス基板上から電圧を印加する電極転移材
（トランスファー）としての銀ペースト等が画面周辺部
に配置された対向基板との間に液晶組成物が封入され
る。
【０００７】この種のアクティブマトリクス駆動表示装
置においては、また２枚のガラス基板の両側に偏光板が
設けられ、液晶組成物を光シャッタとして利用すること
で、カラー画像を表示する。
置においては、また２枚のガラス基板の両側に偏光板が
設けられ、液晶組成物を光シャッタとして利用すること
で、カラー画像を表示する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述した液晶表示装置
においては、カラーフィルタが対向基板側に形成されて
いることから、マトリクスアレイ基板との合わせズレを
低減するために、カラーフィルタのＢＭ（ブラックマト
リクス）の開口部の大きさを、マトリクスアレイ基板の
開口より小さくすることが必要となり、結果として開口
率が低下する問題がある。
においては、カラーフィルタが対向基板側に形成されて
いることから、マトリクスアレイ基板との合わせズレを
低減するために、カラーフィルタのＢＭ（ブラックマト
リクス）の開口部の大きさを、マトリクスアレイ基板の
開口より小さくすることが必要となり、結果として開口
率が低下する問題がある。
【０００９】このため、カラーフィルタをマトリクスア
レイ基板に設ける方法が提案されている。ところで、カ
ラーフィルタをマトリクスアレイ基板に設ける場合、多
くの場合、カラーフィルタは、走査線（ゲート電極）と
画素電極の間に形成されることから、両者間に電気的導
通を確保する必要がある。
レイ基板に設ける方法が提案されている。ところで、カ
ラーフィルタをマトリクスアレイ基板に設ける場合、多
くの場合、カラーフィルタは、走査線（ゲート電極）と
画素電極の間に形成されることから、両者間に電気的導
通を確保する必要がある。
【００１０】このことから、例えばカラーフィルタにス
ルーホールを形成することで、両者が、電気的に接続さ
れる。しかしながら、カラーフィルタにスルーホールを
設ける場合、カラーフィルタが顔料分散法により構成さ
れている場合には、Ｒ，ＧおよびＢのそれぞれの顔料に
おけるパターン変換差の違い等に起因して、それぞれの
色のフィルタに均一なスルーホールを設けることができ
ない問題がある。
ルーホールを形成することで、両者が、電気的に接続さ
れる。しかしながら、カラーフィルタにスルーホールを
設ける場合、カラーフィルタが顔料分散法により構成さ
れている場合には、Ｒ，ＧおよびＢのそれぞれの顔料に
おけるパターン変換差の違い等に起因して、それぞれの
色のフィルタに均一なスルーホールを設けることができ
ない問題がある。
【００１１】また、カラーフィルタが、インクジェット
法によりカラーインクを吹きつけて形成される場合、ス
ルーホールを開けることができない問題がある。一方、
カラーフィルタにスルーホールを設ける場合に、レーザ
ショットにより着色パターンにスルーホールを形成する
ことは、Ｒ，ＧおよびＢの着色パターンのレーザエネル
ギーの吸収の程度が異なるために、スルーホールの大き
さが同一にならない問題がある。この発明の目的は、上
記問題を解決しようとするものであり、表示性能が良
く、歩留りが高いカラー表示型液晶表示装置を安価に提
供することにある。
法によりカラーインクを吹きつけて形成される場合、ス
ルーホールを開けることができない問題がある。一方、
カラーフィルタにスルーホールを設ける場合に、レーザ
ショットにより着色パターンにスルーホールを形成する
ことは、Ｒ，ＧおよびＢの着色パターンのレーザエネル
ギーの吸収の程度が異なるために、スルーホールの大き
さが同一にならない問題がある。この発明の目的は、上
記問題を解決しようとするものであり、表示性能が良
く、歩留りが高いカラー表示型液晶表示装置を安価に提
供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記問題点
に基づきなされたもので、一主面上にマトリクス状に設
けられた走査線および信号線とその交差位置のそれぞれ
に設けられたスイッチング素子とを含むアクテイブマト
リクス基板と一主面上に共通電極を有する対向基板とを
有し、前記アクティブマトリクス基板の同一主面上に
は、さらにカラーフィルタ層と画素電極層が順に設けら
れ、この画素電極と前記スイッチング素子がスルーホー
ルで接続されており、前記２枚の基板の主面相互を対向
させて、間に液晶組成物を挟持した液晶表示装置におい
て、前記スルーホールが１種類の特定の材質からなる単
一の層に形成されていることを特徴とする液晶表示装置
を提供するものである。
に基づきなされたもので、一主面上にマトリクス状に設
けられた走査線および信号線とその交差位置のそれぞれ
に設けられたスイッチング素子とを含むアクテイブマト
リクス基板と一主面上に共通電極を有する対向基板とを
有し、前記アクティブマトリクス基板の同一主面上に
は、さらにカラーフィルタ層と画素電極層が順に設けら
れ、この画素電極と前記スイッチング素子がスルーホー
ルで接続されており、前記２枚の基板の主面相互を対向
させて、間に液晶組成物を挟持した液晶表示装置におい
て、前記スルーホールが１種類の特定の材質からなる単
一の層に形成されていることを特徴とする液晶表示装置
を提供するものである。
【００１３】またこの発明の液晶表示装置は、スルーホ
ールが遮光層に形成されていることを特徴とする。さら
にこの発明の液晶表示装置は、スルーホールがフォトリ
ソグラフィーにより形成されていることを特徴とする。
ールが遮光層に形成されていることを特徴とする。さら
にこの発明の液晶表示装置は、スルーホールがフォトリ
ソグラフィーにより形成されていることを特徴とする。
【００１４】またさらにこの発明の液晶表示装置は、ス
ルーホールがレーザ加工法で形成されていることを特徴
とする。さらにまたこの発明の液晶表示装置は、カラー
フィルターがインクジェット法で形成されていることを
特徴とする。
ルーホールがレーザ加工法で形成されていることを特徴
とする。さらにまたこの発明の液晶表示装置は、カラー
フィルターがインクジェット法で形成されていることを
特徴とする。
【００１５】またさらにこの発明は、走査線とこの走査
線と直交する信号線と両者の交差する位置にスイッチン
グ素子を設け、上記走査線と上記信号線により区切られ
た領域とそれに対応される上記スイッチング素子を単位
として所定の色に着色した複数の画素と、この画素のそ
れぞれを覆うように設けられた複数の画素電極とを有す
るマトリクスアレイ基板と、対向電極を含む対向基板
と、両基板間に封入された液晶材とからなる液晶表示装
置の製造方法において、上記マトリクスアレイ基板の上
記スイッチング素子を覆うように、黒色の材質を含む遮
光層を形成し、この遮光層を所定のパターンにパターニ
ングし、このパターニングと同一工程において、上記画
素電極と上記スイッチング素子の所定の領域を電気的に
導通させるスルーホールを上記遮光層に形成し、上記パ
ターニングされた上記遮光層の所定の位置に、赤色
（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層および青色（Ｂ）
の着色層を、アクリル樹脂レジスト材を用いたフォトリ
ソグラフィー法により形成することを特徴とする液晶表
示装置の製造方法である。
線と直交する信号線と両者の交差する位置にスイッチン
グ素子を設け、上記走査線と上記信号線により区切られ
た領域とそれに対応される上記スイッチング素子を単位
として所定の色に着色した複数の画素と、この画素のそ
れぞれを覆うように設けられた複数の画素電極とを有す
るマトリクスアレイ基板と、対向電極を含む対向基板
と、両基板間に封入された液晶材とからなる液晶表示装
置の製造方法において、上記マトリクスアレイ基板の上
記スイッチング素子を覆うように、黒色の材質を含む遮
光層を形成し、この遮光層を所定のパターンにパターニ
ングし、このパターニングと同一工程において、上記画
素電極と上記スイッチング素子の所定の領域を電気的に
導通させるスルーホールを上記遮光層に形成し、上記パ
ターニングされた上記遮光層の所定の位置に、赤色
（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層および青色（Ｂ）
の着色層を、アクリル樹脂レジスト材を用いたフォトリ
ソグラフィー法により形成することを特徴とする液晶表
示装置の製造方法である。
【００１６】さらにまたこの発明は、走査線とこの走査
線と直交する信号線と両者の交差する位置にスイッチン
グ素子を設け、上記走査線と上記信号線により区切られ
た領域とそれに対応される上記スイッチング素子を単位
として所定の色に着色した複数の画素と、この画素のそ
れぞれを覆うように設けられた複数の画素電極とを有す
るマトリクスアレイ基板と、対向電極を含む対向基板
と、両基板間に封入された液晶材とからなる液晶表示装
置の製造方法において、上記マトリクスアレイ基板の上
記スイッチング素子を覆うように、黒色の材質を含む遮
光層を形成し、この遮光層を所定のパターンにパターニ
ングし、このパターニングされた上記遮光層の所定の位
置に、インクジェット法により色材を供給して、赤色
（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層および青色（Ｂ）
の着色層を形成し、上記遮光層に、レーザ光を照射し
て、上記画素電極と上記スイッチング素子の所定の領域
を電気的に導通させるスルーホールを上記遮光層に形成
することを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
線と直交する信号線と両者の交差する位置にスイッチン
グ素子を設け、上記走査線と上記信号線により区切られ
た領域とそれに対応される上記スイッチング素子を単位
として所定の色に着色した複数の画素と、この画素のそ
れぞれを覆うように設けられた複数の画素電極とを有す
るマトリクスアレイ基板と、対向電極を含む対向基板
と、両基板間に封入された液晶材とからなる液晶表示装
置の製造方法において、上記マトリクスアレイ基板の上
記スイッチング素子を覆うように、黒色の材質を含む遮
光層を形成し、この遮光層を所定のパターンにパターニ
ングし、このパターニングされた上記遮光層の所定の位
置に、インクジェット法により色材を供給して、赤色
（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層および青色（Ｂ）
の着色層を形成し、上記遮光層に、レーザ光を照射し
て、上記画素電極と上記スイッチング素子の所定の領域
を電気的に導通させるスルーホールを上記遮光層に形成
することを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
【００１７】またさらにこの発明は、走査線とこの走査
線と直交する信号線と両者の交差する位置にスイッチン
グ素子を設け、上記走査線と上記信号線により区切られ
た領域とそれに対応される上記スイッチング素子を単位
として所定の色に着色した複数の画素と、この画素のそ
れぞれを覆うように設けられた複数の画素電極とを有す
るマトリクスアレイ基板と、対向電極を含む対向基板
と、両基板間に封入された液晶材とからなる液晶表示装
置の製造方法において、上記マトリクスアレイ基板の上
記スイッチング素子を覆うように、黒色の材質を含む遮
光層を形成し、この遮光層を所定のパターンにパターニ
ングし、このパターニングされた上記遮光層の所定の位
置に、赤色（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層および
青色（Ｂ）の着色層を、アクリル樹脂レジスト材を用い
たフォトリソグラフィー法により形成し、上記遮光層
に、レーザ光を照射して、上記画素電極と上記スイッチ
ング素子の所定の領域を電気的に導通させるスルーホー
ルを上記遮光層に形成することを特徴とする液晶表示装
置の製造方法である。
線と直交する信号線と両者の交差する位置にスイッチン
グ素子を設け、上記走査線と上記信号線により区切られ
た領域とそれに対応される上記スイッチング素子を単位
として所定の色に着色した複数の画素と、この画素のそ
れぞれを覆うように設けられた複数の画素電極とを有す
るマトリクスアレイ基板と、対向電極を含む対向基板
と、両基板間に封入された液晶材とからなる液晶表示装
置の製造方法において、上記マトリクスアレイ基板の上
記スイッチング素子を覆うように、黒色の材質を含む遮
光層を形成し、この遮光層を所定のパターンにパターニ
ングし、このパターニングされた上記遮光層の所定の位
置に、赤色（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層および
青色（Ｂ）の着色層を、アクリル樹脂レジスト材を用い
たフォトリソグラフィー法により形成し、上記遮光層
に、レーザ光を照射して、上記画素電極と上記スイッチ
ング素子の所定の領域を電気的に導通させるスルーホー
ルを上記遮光層に形成することを特徴とする液晶表示装
置の製造方法である。
【００１８】さらにまたこの発明は、走査線とこの走査
線と直交する信号線と両者の交差する位置にスイッチン
グ素子を設け、上記走査線と上記信号線により区切られ
た領域とそれに対応される上記スイッチング素子を単位
として所定の色に着色した複数の画素と、この画素のそ
れぞれを覆うように設けられた複数の画素電極とを有す
るマトリクスアレイ基板と、対向電極を含む対向基板
と、両基板間に封入された液晶材とからなる液晶表示装
置の製造方法において、上記マトリクスアレイ基板の上
記スイッチング素子を覆うように、黒色の材質を含む遮
光層を形成し、この遮光層を所定のパターンにパターニ
ングするとともに、上記画素電極と上記スイッチング素
子の所定の領域を電気的に導通させるスルーホールとを
同時に形成し、このパターニングされた上記遮光層の所
定の位置に、インクジェット法により色材を供給して、
赤色（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層および青色
（Ｂ）の着色層を形成することを特徴とする液晶表示装
置の製造方法である。
線と直交する信号線と両者の交差する位置にスイッチン
グ素子を設け、上記走査線と上記信号線により区切られ
た領域とそれに対応される上記スイッチング素子を単位
として所定の色に着色した複数の画素と、この画素のそ
れぞれを覆うように設けられた複数の画素電極とを有す
るマトリクスアレイ基板と、対向電極を含む対向基板
と、両基板間に封入された液晶材とからなる液晶表示装
置の製造方法において、上記マトリクスアレイ基板の上
記スイッチング素子を覆うように、黒色の材質を含む遮
光層を形成し、この遮光層を所定のパターンにパターニ
ングするとともに、上記画素電極と上記スイッチング素
子の所定の領域を電気的に導通させるスルーホールとを
同時に形成し、このパターニングされた上記遮光層の所
定の位置に、インクジェット法により色材を供給して、
赤色（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層および青色
（Ｂ）の着色層を形成することを特徴とする液晶表示装
置の製造方法である。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いてこの発明の発
明の実施の形態を説明する。図１は、この発明の実施例
が適用されるアクティブマトリクス液晶表示装置の概略
断面図である。
明の実施の形態を説明する。図１は、この発明の実施例
が適用されるアクティブマトリクス液晶表示装置の概略
断面図である。
【００２０】図１に示されるように、アクティブマトリ
クス形液晶表示装置１は、第一のガラス基板（アクティ
ブマトリクス基板）２と第二のガラス基板（対向基板）
３が、互いに主面が対向され、且つそれぞれの基板が所
定の間隔で配置された基板相互間に液晶組成物４が封入
されて、構成されている。
クス形液晶表示装置１は、第一のガラス基板（アクティ
ブマトリクス基板）２と第二のガラス基板（対向基板）
３が、互いに主面が対向され、且つそれぞれの基板が所
定の間隔で配置された基板相互間に液晶組成物４が封入
されて、構成されている。
【００２１】第一のガラス基板２は、例えばコーニング
社製、＃１７３７等に代表される厚さ０．７ｍｍのガラ
ス板２ａの一主面に、走査線（ゲート電極１３）、例え
ば、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）を含む半導体層
を、所定の厚さの堆積および所定形状のパターニングを
繰り返して得られるスイッチング素子としての薄膜トラ
ンジスタ（ＴＦＴ）１１、信号線１２、ゲート電極（走
査線）１３、パッシベーションパターン（符号なし）等
が、所定順、且つ所定形状に積層された周知のアクティ
ブマトリクス基板である。
社製、＃１７３７等に代表される厚さ０．７ｍｍのガラ
ス板２ａの一主面に、走査線（ゲート電極１３）、例え
ば、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）を含む半導体層
を、所定の厚さの堆積および所定形状のパターニングを
繰り返して得られるスイッチング素子としての薄膜トラ
ンジスタ（ＴＦＴ）１１、信号線１２、ゲート電極（走
査線）１３、パッシベーションパターン（符号なし）等
が、所定順、且つ所定形状に積層された周知のアクティ
ブマトリクス基板である。
【００２２】次に、第一のガラス基板２のＴＦＴ他が形
成されている側の面に、遮光層１４として利用されるカ
ーボンレス黒色樹脂（富士ハントテクノロジー（株）
製）を、図示しないスピンナー（スピンコート装置）に
より厚さ２．０μｍの厚みに塗布する。続いて、黒色樹
脂層を、９０°Ｃで１０分乾燥する。次に、黒色樹脂層
１４を、所定のパターン形状が与えられているフォトマ
スクを用いて、３６５ｎｍ（ナノメートル）の波長の光
を３００ｍＪ（ミリジュール）／ｃｍ2 の露光量で露光
し、ペーハー（ｐＨ）が１１．５のアルカリ水溶液にて
現像する。なお、この露光工程においては、ＴＦＴ１２
のドレイン電極と接続される画素電極（表示電極）１５
との電気的な導通を確保するために利用されるスルーホ
ール部１６も同時に露光される。以下、２００°Ｃで６
０分加熱することで、膜厚２．０μｍの遮光層１４が形
成される。すなわち、遮光層１４とスルーホール１６
は、同一工程であるフォトリソグラフィーにより、同時
に形成される。
成されている側の面に、遮光層１４として利用されるカ
ーボンレス黒色樹脂（富士ハントテクノロジー（株）
製）を、図示しないスピンナー（スピンコート装置）に
より厚さ２．０μｍの厚みに塗布する。続いて、黒色樹
脂層を、９０°Ｃで１０分乾燥する。次に、黒色樹脂層
１４を、所定のパターン形状が与えられているフォトマ
スクを用いて、３６５ｎｍ（ナノメートル）の波長の光
を３００ｍＪ（ミリジュール）／ｃｍ2 の露光量で露光
し、ペーハー（ｐＨ）が１１．５のアルカリ水溶液にて
現像する。なお、この露光工程においては、ＴＦＴ１２
のドレイン電極と接続される画素電極（表示電極）１５
との電気的な導通を確保するために利用されるスルーホ
ール部１６も同時に露光される。以下、２００°Ｃで６
０分加熱することで、膜厚２．０μｍの遮光層１４が形
成される。すなわち、遮光層１４とスルーホール１６
は、同一工程であるフォトリソグラフィーにより、同時
に形成される。
【００２３】次に、赤色（Ｒ）の顔料を分散させた紫外
線硬化型アクリル樹脂レジスト（富士ハントテクノロジ
ー（株）製）を、スピンナーにて厚さ３μｍ塗布し、赤
色を着色したい部分に光が照射されるよう形成されたフ
ォトマスクを用いて３６５ｎｍの波長の光を１００ｍＪ
／ｃｍ2 照射した後、ＴＭＡＨ水溶液で５０秒間現像
し、２３０°Ｃで１時間加熱して、赤色（Ｒ）の着色層
１７を形成する。
線硬化型アクリル樹脂レジスト（富士ハントテクノロジ
ー（株）製）を、スピンナーにて厚さ３μｍ塗布し、赤
色を着色したい部分に光が照射されるよう形成されたフ
ォトマスクを用いて３６５ｎｍの波長の光を１００ｍＪ
／ｃｍ2 照射した後、ＴＭＡＨ水溶液で５０秒間現像
し、２３０°Ｃで１時間加熱して、赤色（Ｒ）の着色層
１７を形成する。
【００２４】以下、緑色（Ｇ）の顔料を分散させた紫外
線硬化型アクリル樹脂レジスト（富士ハントテクノロジ
ー（株）製）を、同様に塗布した後、現像および加熱し
て、緑（Ｇ）の着色層１８を形成する。続いて、同様の
手順にて、青（Ｂ）の着色層１９を形成する。なお、青
の着色材も富士ハントテクノロジ（株）製を用いた。
線硬化型アクリル樹脂レジスト（富士ハントテクノロジ
ー（株）製）を、同様に塗布した後、現像および加熱し
て、緑（Ｇ）の着色層１８を形成する。続いて、同様の
手順にて、青（Ｂ）の着色層１９を形成する。なお、青
の着色材も富士ハントテクノロジ（株）製を用いた。
【００２５】このようにして、遮光膜１４、赤色（Ｒ）
着色層１７、緑色（Ｇ）着色層１８および青（Ｂ）着色
層１９を配列した後、画素電極として利用されるＩＴＯ
膜をスパッタリング法で形成した後、所定のパターンに
パターニングして、画素電極（表示電極）１６を形成す
る。
着色層１７、緑色（Ｇ）着色層１８および青（Ｂ）着色
層１９を配列した後、画素電極として利用されるＩＴＯ
膜をスパッタリング法で形成した後、所定のパターンに
パターニングして、画素電極（表示電極）１６を形成す
る。
【００２６】次に、画素電極１６および遮光膜１４の全
域を覆うよう、すなわち液晶組成物が封入される際に液
晶組成物と接する面の側に、例えば日本合成ゴム（株）
製のＡＬ−１０５１を、厚さ５０ｎｍ塗布し、所定方向
に、ラビング処理して配向膜２０とする。
域を覆うよう、すなわち液晶組成物が封入される際に液
晶組成物と接する面の側に、例えば日本合成ゴム（株）
製のＡＬ−１０５１を、厚さ５０ｎｍ塗布し、所定方向
に、ラビング処理して配向膜２０とする。
【００２７】第二のガラス基板３は、例えばコーニング
社製、＃１７３７等に代表される厚さ０．７ｍｍのガラ
ス板３ａの一方の面に、共通電極パターン（対向電極）
２１を形成し、その上に、第一のガラス基板２に設けら
れる配向膜２０と同一の材料を同一の厚さに塗布してラ
ビング処理を行い、配向膜２２としたものである。
社製、＃１７３７等に代表される厚さ０．７ｍｍのガラ
ス板３ａの一方の面に、共通電極パターン（対向電極）
２１を形成し、その上に、第一のガラス基板２に設けら
れる配向膜２０と同一の材料を同一の厚さに塗布してラ
ビング処理を行い、配向膜２２としたものである。
【００２８】続いて、第二のガラス基板３の配向膜２２
の周辺に沿って、図示しない接着剤を、液晶組成物３が
封入されるための図示しない注入口を除いて塗布し、さ
らに第一のガラス基板２から第二のガラス基板３の対向
電極に電圧を印加するための電極転移材を、図示しない
接着剤の周辺に予め形成されている図示しない電極転移
電極上に形成する。続いて、両基板間に、スペーサとし
て利用されるミクロパール（商品名、積水ファインケミ
カル製、ＳＰＳ−２０５）２３を、所定密度で散布し、
配向膜２２と第一のガラス基板１の配向膜２０とが面す
るととともに、それぞれの配向膜２２，２０のラビング
方向が９０度となるよう、両基板２および３を配置し、
加熱して接着剤を硬化させて貼り合わる。
の周辺に沿って、図示しない接着剤を、液晶組成物３が
封入されるための図示しない注入口を除いて塗布し、さ
らに第一のガラス基板２から第二のガラス基板３の対向
電極に電圧を印加するための電極転移材を、図示しない
接着剤の周辺に予め形成されている図示しない電極転移
電極上に形成する。続いて、両基板間に、スペーサとし
て利用されるミクロパール（商品名、積水ファインケミ
カル製、ＳＰＳ−２０５）２３を、所定密度で散布し、
配向膜２２と第一のガラス基板１の配向膜２０とが面す
るととともに、それぞれの配向膜２２，２０のラビング
方向が９０度となるよう、両基板２および３を配置し、
加熱して接着剤を硬化させて貼り合わる。
【００２９】以下、図示しない注入口から、例えばＥ．
メルク社製のＺＬＩ−１５６５に、Ｅ．メルク社製のＳ
８１１を０．１ｗｔ％（重量百分率）添加した液晶組成
物４を所定量注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止す
る。
メルク社製のＺＬＩ−１５６５に、Ｅ．メルク社製のＳ
８１１を０．１ｗｔ％（重量百分率）添加した液晶組成
物４を所定量注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止す
る。
【００３０】このようにして構成した液晶表示装置１
は、アクティブマトリクス基板２と、対向基板３を積層
する際に高い位置精度を必要とする遮光層１４が、アク
ティブマトリクス基板１に設けられていることにより、
開口率が向上される。
は、アクティブマトリクス基板２と、対向基板３を積層
する際に高い位置精度を必要とする遮光層１４が、アク
ティブマトリクス基板１に設けられていることにより、
開口率が向上される。
【００３１】また、アクティブマトリクス基板１の画素
電極（表示電極）１５とＴＦＴ１２のドレイン電極とを
接続するスルーホール１６は、ＴＦＴ１１を覆う遮光層
１４に、遮光膜１４を形成する工程と同一の工程で同時
に構成されることから、均一な大きさのスルーホールが
容易に得られるので、工程数を増加することなく、表示
性能の向上した液晶表示装置が提供される。
電極（表示電極）１５とＴＦＴ１２のドレイン電極とを
接続するスルーホール１６は、ＴＦＴ１１を覆う遮光層
１４に、遮光膜１４を形成する工程と同一の工程で同時
に構成されることから、均一な大きさのスルーホールが
容易に得られるので、工程数を増加することなく、表示
性能の向上した液晶表示装置が提供される。
【００３２】図２は、図１に示した液晶表示装置に類似
した構成を有する液晶表示装置を、製造工程を追って示
す概略図である。図２に示されるように、アクティブマ
トリクス液晶表示装置を製造する手順として、第１に、
アクティブマトリクス基板用のガラス基板２ａに、走査
線（ゲート線１３）、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１
１、信号線１２、ゲート線（走査線）１３およびパッシ
ベーションパターン（符号なし）等を形成する（図２
（ａ））。なお、それぞれの要素は、周知の金属または
半導体の積層およびパターニングの繰り返しにより容易
に提供されることから、詳細な説明は、省略する。
した構成を有する液晶表示装置を、製造工程を追って示
す概略図である。図２に示されるように、アクティブマ
トリクス液晶表示装置を製造する手順として、第１に、
アクティブマトリクス基板用のガラス基板２ａに、走査
線（ゲート線１３）、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１
１、信号線１２、ゲート線（走査線）１３およびパッシ
ベーションパターン（符号なし）等を形成する（図２
（ａ））。なお、それぞれの要素は、周知の金属または
半導体の積層およびパターニングの繰り返しにより容易
に提供されることから、詳細な説明は、省略する。
【００３３】次に、ガラス基板２ａのＴＦＴ１１他が形
成されている側の面に、遮光層１４として利用されるカ
ーボンレス黒色樹脂（富士ハントテクノロジー（株）
製）を、厚さ２．０μｍに塗布し、９０°Ｃで１０分乾
燥する（図２（ｂ））。
成されている側の面に、遮光層１４として利用されるカ
ーボンレス黒色樹脂（富士ハントテクノロジー（株）
製）を、厚さ２．０μｍに塗布し、９０°Ｃで１０分乾
燥する（図２（ｂ））。
【００３４】続いて、黒色樹脂層（１４）を、所定のパ
ターン形状が与えられているフォトマスクを用いて、３
６５ｎｍ（ナノメートル）の波長の光を３００ｍＪ（ミ
リジュール）／ｃｍ2 の露光量で露光し、ペーハー（ｐ
Ｈ）が１１．５のアルカリ水溶液にて現像し、さらに２
００°Ｃで６０分加熱することで、膜厚２．０μｍの遮
光層１４を形成する。このとき、図１に示したような、
スルーホール部１６に対応する開口は形成しない（図２
（ｃ））。
ターン形状が与えられているフォトマスクを用いて、３
６５ｎｍ（ナノメートル）の波長の光を３００ｍＪ（ミ
リジュール）／ｃｍ2 の露光量で露光し、ペーハー（ｐ
Ｈ）が１１．５のアルカリ水溶液にて現像し、さらに２
００°Ｃで６０分加熱することで、膜厚２．０μｍの遮
光層１４を形成する。このとき、図１に示したような、
スルーホール部１６に対応する開口は形成しない（図２
（ｃ））。
【００３５】次に、図示しないレーザ加工装置により、
遮光層１４がＴＦＴ１２のドレイン電極上に位置する領
域であって、以下の工程で画素電極（表示電極）１５の
一部がオーバーラップされる領域の所定の位置にレーザ
光が照射され、レーザ加工法によって、（ＴＦＴ１１
の）ドレイン電極と画素電極１５との間の電気的な導通
を確保するためのスルーホール１１６が形成される（図
２（ｄ））。
遮光層１４がＴＦＴ１２のドレイン電極上に位置する領
域であって、以下の工程で画素電極（表示電極）１５の
一部がオーバーラップされる領域の所定の位置にレーザ
光が照射され、レーザ加工法によって、（ＴＦＴ１１
の）ドレイン電極と画素電極１５との間の電気的な導通
を確保するためのスルーホール１１６が形成される（図
２（ｄ））。
【００３６】続いて、図２（ｃ）の工程で形成された遮
光膜１４により区分された各色成分を表示する表示領域
に、インクジェット法により、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）
および青（Ｂ）のインクを所定量供給し、赤色（Ｒ）着
色層１１７、緑色（Ｇ）着色層１１８および青（Ｂ）着
色層１１９を、それぞれ形成し、カラーフィルター層と
する（図２（ｅ））。
光膜１４により区分された各色成分を表示する表示領域
に、インクジェット法により、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）
および青（Ｂ）のインクを所定量供給し、赤色（Ｒ）着
色層１１７、緑色（Ｇ）着色層１１８および青（Ｂ）着
色層１１９を、それぞれ形成し、カラーフィルター層と
する（図２（ｅ））。
【００３７】以下、図１を用いて既に説明したと同様
に、画素電極１６にＩＴＯをスパッタリング法で形成
し、所定の画素電極パターンにパターニングした後、さ
らに配向膜２２を形成する（図２（ｆ））。
に、画素電極１６にＩＴＯをスパッタリング法で形成
し、所定の画素電極パターンにパターニングした後、さ
らに配向膜２２を形成する（図２（ｆ））。
【００３８】この後、図１を用いて既に説明したと同様
に予め形成された第二のガラス基板３と貼り合わせ、液
晶組成物４を注入する（図２（ｆ））。なお、図１に示
した液晶表示装置において、赤色（Ｒ）着色層１７、緑
色（Ｇ）着色層１８および青（Ｂ）着色層１９のそれぞ
れを、図２（ｅ）に示したようなインクジェット法によ
り構成してもよい。
に予め形成された第二のガラス基板３と貼り合わせ、液
晶組成物４を注入する（図２（ｆ））。なお、図１に示
した液晶表示装置において、赤色（Ｒ）着色層１７、緑
色（Ｇ）着色層１８および青（Ｂ）着色層１９のそれぞ
れを、図２（ｅ）に示したようなインクジェット法によ
り構成してもよい。
【００３９】また、図２に示した液晶表示装置の形成手
順において、カラーフィルタ層である赤色（Ｒ）着色層
１１７、緑色（Ｇ）着色層１１８および青（Ｂ）着色層
１１９のそれぞれを図１に示したと同様に、アクリル樹
脂レジスト層の形成、パターンの露光および現像により
構成してもよい。この場合、レーザショット法によるス
ルーホール１１６の形成工程（図２（ｄ））は、カラー
フィルタ層の形成の後の工程に実施されることにより、
各着色層を形成するためのレジスト材がスルーホール１
１６に詰まることがない。
順において、カラーフィルタ層である赤色（Ｒ）着色層
１１７、緑色（Ｇ）着色層１１８および青（Ｂ）着色層
１１９のそれぞれを図１に示したと同様に、アクリル樹
脂レジスト層の形成、パターンの露光および現像により
構成してもよい。この場合、レーザショット法によるス
ルーホール１１６の形成工程（図２（ｄ））は、カラー
フィルタ層の形成の後の工程に実施されることにより、
各着色層を形成するためのレジスト材がスルーホール１
１６に詰まることがない。
【００４０】以上説明したように、アクティブマトリク
ス駆動型液晶表示装置のアクティブマトリクス基板の画
素電極とＴＦＴのドレイン電極とを接続するためのスル
ーホールは、ＴＦＴを覆う遮光部分に設けられることか
ら、着色層の色（材質）に拘わりなく、均一な大きさに
形成される。
ス駆動型液晶表示装置のアクティブマトリクス基板の画
素電極とＴＦＴのドレイン電極とを接続するためのスル
ーホールは、ＴＦＴを覆う遮光部分に設けられることか
ら、着色層の色（材質）に拘わりなく、均一な大きさに
形成される。
【００４１】また、スルーホールは、遮光部分を形成す
る工程と同一の工程で形成されることから、工数の増加
がない。なお、スルーホールをレーザショット法により
形成する場合には、遮光部分の形成とスルーホールの形
成は、それぞれ別工程となるが、従来からレーザショッ
トによりスルーホールを形成する方法に比較して工程数
は、同一であり、均一な大きさのスルーホールが得られ
ることで歩留まりが向上する。
る工程と同一の工程で形成されることから、工数の増加
がない。なお、スルーホールをレーザショット法により
形成する場合には、遮光部分の形成とスルーホールの形
成は、それぞれ別工程となるが、従来からレーザショッ
トによりスルーホールを形成する方法に比較して工程数
は、同一であり、均一な大きさのスルーホールが得られ
ることで歩留まりが向上する。
【００４２】従って、工程の低減あるいは歩留まりの向
上により、液晶表示装置のコストが低減される。また、
いづれの方法によっても、均一の大きさのスルーホール
が得られ、表示品質が向上される。
上により、液晶表示装置のコストが低減される。また、
いづれの方法によっても、均一の大きさのスルーホール
が得られ、表示品質が向上される。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の液晶表
示装置の製造方法によれば、画素電極とＴＦＴのドレイ
ン電極とを接続するためのスルーホールは、ＴＦＴを覆
う遮光部分に設けられることから、着色層の色（材質）
に拘わりなく、均一な大きさに形成される。
示装置の製造方法によれば、画素電極とＴＦＴのドレイ
ン電極とを接続するためのスルーホールは、ＴＦＴを覆
う遮光部分に設けられることから、着色層の色（材質）
に拘わりなく、均一な大きさに形成される。
【００４４】また、スルーホールは、遮光部分を形成す
る工程と同一の工程で形成されることから、工数の増加
がない。なお、スルーホールをレーザショット法により
形成する場合には、遮光部分の形成とスルーホールの形
成は、それぞれ別工程となるが、従来からレーザショッ
トによりスルーホールを形成する方法に比較して工程数
は、同一であり、均一な大きさのスルーホールが得られ
ることで歩留まりが向上する。
る工程と同一の工程で形成されることから、工数の増加
がない。なお、スルーホールをレーザショット法により
形成する場合には、遮光部分の形成とスルーホールの形
成は、それぞれ別工程となるが、従来からレーザショッ
トによりスルーホールを形成する方法に比較して工程数
は、同一であり、均一な大きさのスルーホールが得られ
ることで歩留まりが向上する。
【００４５】従って、工程の低減あるいは歩留まりの向
上により、液晶表示装置のコストが低減される。また、
均一の大きさのスルーホールが非表示部に得られること
から、表示品質が向上される。
上により、液晶表示装置のコストが低減される。また、
均一の大きさのスルーホールが非表示部に得られること
から、表示品質が向上される。
【図１】この発明の製造方法により提供されるアクティ
ブマトリクス駆動形液晶表示装置の概略断面の一例を示
す概略図。
ブマトリクス駆動形液晶表示装置の概略断面の一例を示
す概略図。
【図２】図１に示した液晶表示装置に類似した構成のア
クティブマトリクス液晶表示装置の製造手順を説明する
概略図。
クティブマトリクス液晶表示装置の製造手順を説明する
概略図。
１ …アクティブマトリクス形駆動液晶表示装置、 ２ …アクティブマトリクス基板、 ２ａ…ガラス板、 ３ …対向基板、 ３ａ…ガラス板、 ４ …液晶組成物、 １１ …薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、 １２ …信号線、 １３ …ゲート電極（走査線）、 １４ …遮光層（黒色樹脂層）、 １５ …画素電極（表示電極）、 １６ …スルーホール、 １７ …Ｒ着色層、 １８ …Ｇ着色層、 １９ …Ｂ着色層、 ２０ …配向膜（第一の基板側）、 ２１ …共通電極（対向電極）、 ２２ …配向膜（第二の基板側）、 ２３ …スペーサ。
Claims (9)
- 【請求項１】一主面上にマトリクス状に設けられた走査
線および信号線とその交差位置のそれぞれに設けられた
スイッチング素子とを含むアクテイブマトリクス基板と
一主面上に共通電極を有する対向基板とを有し、前記ア
クティブマトリクス基板の同一主面上には、さらにカラ
ーフィルタ層と画素電極層が順に設けられ、この画素電
極と前記スイッチング素子がスルーホールで接続されて
おり、前記２枚の基板の主面相互を対向させて、間に液
晶組成物を挟持した液晶表示装置において、前記スルー
ホールが１種類の特定の材質からなる単一の層に形成さ
れていることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】前記スルーホールが遮光層に形成されてい
ることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項３】前記スルーホールがフォトリソグラフィー
により形成されていることを特徴とする請求項１記載の
液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項４】前記スルーホールがレーザ加工法で形成さ
れていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置
の製造方法。 - 【請求項５】前記カラーフィルターがインクジェット法
で形成されていることを特徴とする請求項１記載の液晶
表示装置の製造方法。 - 【請求項６】走査線とこの走査線と直交する信号線と両
者の交差する位置にスイッチング素子を設け、上記走査
線と上記信号線により区切られた領域とそれに対応され
る上記スイッチング素子を単位として所定の色に着色し
た複数の画素と、この画素のそれぞれを覆うように設け
られた複数の画素電極とを有するマトリクスアレイ基板
と、対向電極を含む対向基板と、両基板間に封入された
液晶材とからなる液晶表示装置の製造方法において、 上記マトリクスアレイ基板の上記スイッチング素子を覆
うように、黒色の材質を含む遮光層を形成し、 この遮光層を所定のパターンにパターニングし、 このパターニングと同一工程において、上記画素電極と
上記スイッチング素子の所定の領域を電気的に導通させ
るスルーホールを上記遮光層に形成し、 上記パターニングされた上記遮光層の所定の位置に、赤
色（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層および青色
（Ｂ）の着色層を、アクリル樹脂レジスト材を用いたフ
ォトリソグラフィー法により形成することを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項７】走査線とこの走査線と直交する信号線と両
者の交差する位置にスイッチング素子を設け、上記走査
線と上記信号線により区切られた領域とそれに対応され
る上記スイッチング素子を単位として所定の色に着色し
た複数の画素と、この画素のそれぞれを覆うように設け
られた複数の画素電極とを有するマトリクスアレイ基板
と、対向電極を含む対向基板と、両基板間に封入された
液晶材とからなる液晶表示装置の製造方法において、 上記マトリクスアレイ基板の上記スイッチング素子を覆
うように、黒色の材質を含む遮光層を形成し、 この遮光層を所定のパターンにパターニングし、 このパターニングされた上記遮光層の所定の位置に、イ
ンクジェット法により色材を供給して、赤色（Ｒ）の着
色層、緑色（Ｇ）の着色層および青色（Ｂ）の着色層を
形成し、 上記遮光層に、レーザ光を照射して、上記画素電極と上
記スイッチング素子の所定の領域を電気的に導通させる
スルーホールを上記遮光層に形成することを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項８】走査線とこの走査線と直交する信号線と両
者の交差する位置にスイッチング素子を設け、上記走査
線と上記信号線により区切られた領域とそれに対応され
る上記スイッチング素子を単位として所定の色に着色し
た複数の画素と、この画素のそれぞれを覆うように設け
られた複数の画素電極とを有するマトリクスアレイ基板
と、対向電極を含む対向基板と、両基板間に封入された
液晶材とからなる液晶表示装置の製造方法において、 上記マトリクスアレイ基板の上記スイッチング素子を覆
うように、黒色の材質を含む遮光層を形成し、 この遮光層を所定のパターンにパターニングし、 このパターニングされた上記遮光層の所定の位置に、赤
色（Ｒ）の着色層、緑色（Ｇ）の着色層および青色
（Ｂ）の着色層を、アクリル樹脂レジスト材を用いたフ
ォトリソグラフィー法により形成し、 上記遮光層に、レーザ光を照射して、上記画素電極と上
記スイッチング素子の所定の領域を電気的に導通させる
スルーホールを上記遮光層に形成することを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項９】走査線とこの走査線と直交する信号線と両
者の交差する位置にスイッチング素子を設け、上記走査
線と上記信号線により区切られた領域とそれに対応され
る上記スイッチング素子を単位として所定の色に着色し
た複数の画素と、この画素のそれぞれを覆うように設け
られた複数の画素電極とを有するマトリクスアレイ基板
と、対向電極を含む対向基板と、両基板間に封入された
液晶材とからなる液晶表示装置の製造方法において、 上記マトリクスアレイ基板の上記スイッチング素子を覆
うように、黒色の材質を含む遮光層を形成し、 この遮光層を所定のパターンにパターニングするととも
に、上記画素電極と上記スイッチング素子の所定の領域
を電気的に導通させるスルーホールとを同時に形成し、 このパターニングされた上記遮光層の所定の位置に、イ
ンクジェット法により色材を供給して、赤色（Ｒ）の着
色層、緑色（Ｇ）の着色層および青色（Ｂ）の着色層を
形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9358777A JPH11190859A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9358777A JPH11190859A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11190859A true JPH11190859A (ja) | 1999-07-13 |
Family
ID=18461060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9358777A Pending JPH11190859A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11190859A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002055363A (ja) * | 2000-05-31 | 2002-02-20 | Nec Corp | カラー液晶表示装置及びその製造方法 |
| JP2002131735A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-09 | Canon Inc | 液晶素子とその製造方法 |
| KR100623980B1 (ko) * | 1999-07-22 | 2006-09-13 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 |
| US7208764B2 (en) | 2002-04-22 | 2007-04-24 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal display device having partition walls |
| USRE40162E1 (en) | 1999-06-03 | 2008-03-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Thin film transistor array substrate for a liquid crystal display |
| KR100930918B1 (ko) * | 2003-06-27 | 2009-12-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 |
| KR100968339B1 (ko) | 2004-06-30 | 2010-07-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| US7884366B2 (en) | 2007-12-07 | 2011-02-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Thin film transistor array panel and method for manufacturing the same |
| JP2012098618A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ付ｔｆｔ基板 |
-
1997
- 1997-12-26 JP JP9358777A patent/JPH11190859A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE40162E1 (en) | 1999-06-03 | 2008-03-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Thin film transistor array substrate for a liquid crystal display |
| KR100623980B1 (ko) * | 1999-07-22 | 2006-09-13 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 |
| JP2002055363A (ja) * | 2000-05-31 | 2002-02-20 | Nec Corp | カラー液晶表示装置及びその製造方法 |
| US6897927B2 (en) | 2000-05-31 | 2005-05-24 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Color liquid crystal display device and manufacturing method of the same |
| US7041522B2 (en) | 2000-05-31 | 2006-05-09 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Color liquid crystal display device and manufacturing method of the same |
| JP2002131735A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-09 | Canon Inc | 液晶素子とその製造方法 |
| US7208764B2 (en) | 2002-04-22 | 2007-04-24 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal display device having partition walls |
| KR100930918B1 (ko) * | 2003-06-27 | 2009-12-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 |
| KR100968339B1 (ko) | 2004-06-30 | 2010-07-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| US7884366B2 (en) | 2007-12-07 | 2011-02-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Thin film transistor array panel and method for manufacturing the same |
| JP2012098618A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ付ｔｆｔ基板 |
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