JPH09105946A - 液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示素子及びその製造方法Info
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- JPH09105946A JPH09105946A JP26578095A JP26578095A JPH09105946A JP H09105946 A JPH09105946 A JP H09105946A JP 26578095 A JP26578095 A JP 26578095A JP 26578095 A JP26578095 A JP 26578095A JP H09105946 A JPH09105946 A JP H09105946A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表示品位が可及的に高い液晶表示素子を得る
ことを可能にする。 【解決手段】 各々に配向膜が形成された2枚の基板の
うち少なくとも一方の基板上の所定の位置に、インクジ
ェットノズルを用いて、前記基板間の間隙を調整するた
めのスペーサと樹脂との混合液を塗布する工程と、前記
樹脂を硬化させる工程とを備えていることを特徴とす
る。
ことを可能にする。 【解決手段】 各々に配向膜が形成された2枚の基板の
うち少なくとも一方の基板上の所定の位置に、インクジ
ェットノズルを用いて、前記基板間の間隙を調整するた
めのスペーサと樹脂との混合液を塗布する工程と、前記
樹脂を硬化させる工程とを備えていることを特徴とす
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子及びそ
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、液晶表示素子は、各々に電極が
設けられた2枚の透明基板の間に液晶組成物を挟持し、
上記2枚の基板の周囲を液晶注入口部を除いて接着剤で
固定し、上記液晶注入口部が封止材で封止される構成と
なっている。
設けられた2枚の透明基板の間に液晶組成物を挟持し、
上記2枚の基板の周囲を液晶注入口部を除いて接着剤で
固定し、上記液晶注入口部が封止材で封止される構成と
なっている。
【0003】このような液晶表示素子の内、カラー表示
用液晶表示素子は、上記2枚の基板のうちの一方の基板
にR(赤)、G(緑)、B(青)の着色層からなるカラ
ーフィルタが形成されている。例えば単純マトリクス駆
動方式のカラー液晶表示素子においては、帯状にパター
ニングされた信号電極を有する信号電極基板と、帯状に
パターニングされた走査電極及びこの走査電極の下に着
色層を有する走査電極基板とを、上記走査電極と信号電
極が直交するように対向配置し、これらの基板間に間隙
調整のためのスペーサが散在されて液晶組成物が挟持さ
れる構成となっている。
用液晶表示素子は、上記2枚の基板のうちの一方の基板
にR(赤)、G(緑)、B(青)の着色層からなるカラ
ーフィルタが形成されている。例えば単純マトリクス駆
動方式のカラー液晶表示素子においては、帯状にパター
ニングされた信号電極を有する信号電極基板と、帯状に
パターニングされた走査電極及びこの走査電極の下に着
色層を有する走査電極基板とを、上記走査電極と信号電
極が直交するように対向配置し、これらの基板間に間隙
調整のためのスペーサが散在されて液晶組成物が挟持さ
れる構成となっている。
【0004】液晶としてはTN(twisted nematic)型、
STN(super-twisted nematic )型、GH(guest-ho
st)型、ECB(electrically controlled birefringe
nce)型、あるいは強誘電性液晶などが用いられる。封
止材としては、熱または紫外線硬化型のアクリル系ある
いはエポキシ系の接着剤が用いられる。
STN(super-twisted nematic )型、GH(guest-ho
st)型、ECB(electrically controlled birefringe
nce)型、あるいは強誘電性液晶などが用いられる。封
止材としては、熱または紫外線硬化型のアクリル系ある
いはエポキシ系の接着剤が用いられる。
【0005】また、カラー型アクティブマトリクス駆動
液晶表示素子においては、例えばアモルファスシリコン
層を半導体層とした薄膜トランジスタ(以下、TFTと
もいう)、このTFTに接続された画素電極、信号線電
極、及びゲート電極が形成されたアレイ基板と、上記画
素電極に対向配置された対向電極を有する対向基板とを
備え、RGBカラーフィルタが対向基板またはアレイ基
板の一方の基板に形成され、これらの2枚の基板間にス
ペーサが散在されて液晶組成物が挟持された構成となっ
ている。そしてこれらの2枚の基板を偏光板で挟持し、
この偏光板を光シャッタとして用い、カラー画像として
表示している。
液晶表示素子においては、例えばアモルファスシリコン
層を半導体層とした薄膜トランジスタ(以下、TFTと
もいう)、このTFTに接続された画素電極、信号線電
極、及びゲート電極が形成されたアレイ基板と、上記画
素電極に対向配置された対向電極を有する対向基板とを
備え、RGBカラーフィルタが対向基板またはアレイ基
板の一方の基板に形成され、これらの2枚の基板間にス
ペーサが散在されて液晶組成物が挟持された構成となっ
ている。そしてこれらの2枚の基板を偏光板で挟持し、
この偏光板を光シャッタとして用い、カラー画像として
表示している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来、このような液晶
表示素子を製造する場合は、スペーサを基板上に散在さ
せる工程で、スペーサが不均一に配置されたり、画素部
にまで散布されることが多い。スペーサが不均一に配置
されると所望の基板間隙が得られず、均一な表示が得ら
れなくなり歩留りが低下するという問題があった。また
スペーサが画素部にまで散布されると、スペーサ周辺の
配向の乱れによりスペーサ周辺部から光が漏れコントラ
スが低下するという問題があった。光漏れ対策として黒
色のスペーサに置き換えることも行われているが、散布
むらを解消させることができず、依然として均一な表示
を得ることができなかった。
表示素子を製造する場合は、スペーサを基板上に散在さ
せる工程で、スペーサが不均一に配置されたり、画素部
にまで散布されることが多い。スペーサが不均一に配置
されると所望の基板間隙が得られず、均一な表示が得ら
れなくなり歩留りが低下するという問題があった。また
スペーサが画素部にまで散布されると、スペーサ周辺の
配向の乱れによりスペーサ周辺部から光が漏れコントラ
スが低下するという問題があった。光漏れ対策として黒
色のスペーサに置き換えることも行われているが、散布
むらを解消させることができず、依然として均一な表示
を得ることができなかった。
【0007】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
であって、表示品位が可及的に高い液晶表示素子及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
であって、表示品位が可及的に高い液晶表示素子及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示素
子の製造方法の第1の態様は、各々に配向膜が形成され
た2枚の基板のうち少なくとも一方の基板上の所定の位
置に、インクジェットノズルを用いて、前記基板間の間
隙を調整するためのスペーサと樹脂との混合液を塗布す
る工程と、前記樹脂を硬化させる工程とを備えているこ
とを特徴とする。
子の製造方法の第1の態様は、各々に配向膜が形成され
た2枚の基板のうち少なくとも一方の基板上の所定の位
置に、インクジェットノズルを用いて、前記基板間の間
隙を調整するためのスペーサと樹脂との混合液を塗布す
る工程と、前記樹脂を硬化させる工程とを備えているこ
とを特徴とする。
【0009】また本発明による液晶表示素子の製造方法
の第2の態様は、第1の態様の製造方法において、前記
樹脂は熱硬化性の樹脂であることを特徴とする。
の第2の態様は、第1の態様の製造方法において、前記
樹脂は熱硬化性の樹脂であることを特徴とする。
【0010】また本発明による液晶表示素子の製造方法
の第3の態様は、第1の態様の製造方法において、前記
樹脂は光硬化性の樹脂であることを特徴とする。
の第3の態様は、第1の態様の製造方法において、前記
樹脂は光硬化性の樹脂であることを特徴とする。
【0011】また本発明による液晶表示素子の製造方法
の第4の態様は、各々に電極が形成された2枚の基板の
うち少なくとも一方の基板上にインクジェットノズルを
用いて、前記基板間の間隙を調整するためのスペーサと
配向膜形成溶液との混合液を塗布する工程と、前記配向
膜形成溶液を硬化させる工程とを備えていることを特徴
とする。
の第4の態様は、各々に電極が形成された2枚の基板の
うち少なくとも一方の基板上にインクジェットノズルを
用いて、前記基板間の間隙を調整するためのスペーサと
配向膜形成溶液との混合液を塗布する工程と、前記配向
膜形成溶液を硬化させる工程とを備えていることを特徴
とする。
【0012】本発明による液晶表示素子の第1の態様
は、各々の主面に電極が形成された第1および第2の基
板と、前記第1および第2の基板のうちの少なくとも一
方の基板の主面上に、インクジェットノズルにより形成
された、基板間の間隙調整用スペーサが含有された配向
膜材料と、前記第1および第2の基板間に挟持される液
晶層と、を備えていることを特徴とする。
は、各々の主面に電極が形成された第1および第2の基
板と、前記第1および第2の基板のうちの少なくとも一
方の基板の主面上に、インクジェットノズルにより形成
された、基板間の間隙調整用スペーサが含有された配向
膜材料と、前記第1および第2の基板間に挟持される液
晶層と、を備えていることを特徴とする。
【0013】また本発明による液晶表示素子の第2の態
様は、第1の態様の液晶表示素子において、前記スペー
サは非画素領域に配置されていることを特徴とする。
様は、第1の態様の液晶表示素子において、前記スペー
サは非画素領域に配置されていることを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明による液晶表示素子の製造
方法の一実施の形態を図1及び図2を参照して説明す
る。図1は本実施の形態の製造方法の製造工程断面であ
り、図2は本実施の形態の製造方法によって製造された
液晶表示素子の構成断面図である。
方法の一実施の形態を図1及び図2を参照して説明す
る。図1は本実施の形態の製造方法の製造工程断面であ
り、図2は本実施の形態の製造方法によって製造された
液晶表示素子の構成断面図である。
【0015】まずガラス基板12上にアモルファスシリ
コンからなる薄膜トランジスタ(以下TFTともいう)
13と画素電極14を形成した後、これらのTFT13
および画素電極14を例えばポリイミドからなる配向膜
15で覆い、この配向膜15にラビング処理することに
よってアレイ基板11を形成する。
コンからなる薄膜トランジスタ(以下TFTともいう)
13と画素電極14を形成した後、これらのTFT13
および画素電極14を例えばポリイミドからなる配向膜
15で覆い、この配向膜15にラビング処理することに
よってアレイ基板11を形成する。
【0016】次に、図2に示すようにガラス基板2上
の、アレイ基板11の画素電極14に対応する位置に
R.G.Bの3色を順に配置した着色層3を形成し、こ
の着色層3の周囲に遮光膜4を形成する。そして着色層
3及び遮光膜4を保護層5で被覆する。次にこの保護層
5上にITO(Indium Tin Oxide)からなる対向電極6
を形成し、この対向電極6上に例えばポリイミドからな
る配向膜7を形成し、この配向膜7にラビング処理を施
す。ここまでは周知の製造方法によって行う。
の、アレイ基板11の画素電極14に対応する位置に
R.G.Bの3色を順に配置した着色層3を形成し、こ
の着色層3の周囲に遮光膜4を形成する。そして着色層
3及び遮光膜4を保護層5で被覆する。次にこの保護層
5上にITO(Indium Tin Oxide)からなる対向電極6
を形成し、この対向電極6上に例えばポリイミドからな
る配向膜7を形成し、この配向膜7にラビング処理を施
す。ここまでは周知の製造方法によって行う。
【0017】次に上述のようにして配向膜7が形成され
た対向基板1上の所望の領域(遮光膜4上に対応する領
域)に、図1に示すようにインクジェットノズル30を
用いて、スペーサ20(例えばミクロパール(積水ファ
インケミカル社製))と、接着剤となる熱硬化形エポキ
シ樹脂21との混合液を塗布する。インクジェットノズ
ル30は30孔のピエゾ式インクジェットノズルであ
り、上記混合液の供給量は0.01ml/minであっ
て塗布時間は5秒(ガラス基板2のサイズが10.4イ
ンチの場合)である。続いて対向基板1を180℃で1
0分間加熱し、樹脂21を硬化させる。なお使用した樹
脂21の粘度は7cpで混合液の粘度は10cpであっ
た。
た対向基板1上の所望の領域(遮光膜4上に対応する領
域)に、図1に示すようにインクジェットノズル30を
用いて、スペーサ20(例えばミクロパール(積水ファ
インケミカル社製))と、接着剤となる熱硬化形エポキ
シ樹脂21との混合液を塗布する。インクジェットノズ
ル30は30孔のピエゾ式インクジェットノズルであ
り、上記混合液の供給量は0.01ml/minであっ
て塗布時間は5秒(ガラス基板2のサイズが10.4イ
ンチの場合)である。続いて対向基板1を180℃で1
0分間加熱し、樹脂21を硬化させる。なお使用した樹
脂21の粘度は7cpで混合液の粘度は10cpであっ
た。
【0018】次に図2に示すようにアレイ基板11上の
配向膜15の周辺に沿って接着剤22を、液晶注入口
(図示せず)を除いて印刷するとともに、アレイ基板1
1から対向基板1に電圧を印加するための転移電極(図
示せず)を上記接着剤22の周辺に形成する。
配向膜15の周辺に沿って接着剤22を、液晶注入口
(図示せず)を除いて印刷するとともに、アレイ基板1
1から対向基板1に電圧を印加するための転移電極(図
示せず)を上記接着剤22の周辺に形成する。
【0019】そして対向基板1上の配向膜7とアレイ基
板11の配向膜15が対向する、すなわち対向基板1の
主面とアレイ基板11の主面が対向するとともに、各々
のラビング方向が直交するように基板1、11を配置
し、加熱することによって接着剤22を硬化させ、貼り
合わせる。
板11の配向膜15が対向する、すなわち対向基板1の
主面とアレイ基板11の主面が対向するとともに、各々
のラビング方向が直交するように基板1、11を配置
し、加熱することによって接着剤22を硬化させ、貼り
合わせる。
【0020】次に周知の方法により、上記注入口より液
晶組成物24を注入した後、上記注入口を紫外線硬化樹
脂を用いて封止し、対向基板1、アレイ基板11の外側
に偏光板25a、25bを張り付けることによって液晶
表示素子を完成する。
晶組成物24を注入した後、上記注入口を紫外線硬化樹
脂を用いて封止し、対向基板1、アレイ基板11の外側
に偏光板25a、25bを張り付けることによって液晶
表示素子を完成する。
【0021】この実施の形態の製造方法においては、基
板上へのスペーサ20の散布は、所望の位置に塗布が可
能なインクジェットノズル30を用いて接着剤との混合
液を塗布することによって行われるのでスペーサ20を
画素領域に散布することなく、また、非画素領域に均一
に散布することが可能となり、表示品位の優れた液晶表
示素子を得ることができる。
板上へのスペーサ20の散布は、所望の位置に塗布が可
能なインクジェットノズル30を用いて接着剤との混合
液を塗布することによって行われるのでスペーサ20を
画素領域に散布することなく、また、非画素領域に均一
に散布することが可能となり、表示品位の優れた液晶表
示素子を得ることができる。
【0022】次に本発明による液晶表示素子の製造方法
の第2の実施の形態を説明する。この第2の実施の形態
の製造方法は、第1の実施の形態において、熱硬化形エ
ポキシ樹脂21の代わりに光硬化形アクリル変性エポキ
シ樹脂を用いたものである。そしてこの光硬化形アクリ
ル変性エポキシ樹脂とスペーサ20との混合液をインク
ジェットノズル30を用いて対向基板1の、遮光膜4上
の領域に塗布した後、遮光膜4に対応したパターンで光
を通すマスクを介して光を照射することにより樹脂を硬
化させる以外は第1の実施の形態と同様にして行う。
の第2の実施の形態を説明する。この第2の実施の形態
の製造方法は、第1の実施の形態において、熱硬化形エ
ポキシ樹脂21の代わりに光硬化形アクリル変性エポキ
シ樹脂を用いたものである。そしてこの光硬化形アクリ
ル変性エポキシ樹脂とスペーサ20との混合液をインク
ジェットノズル30を用いて対向基板1の、遮光膜4上
の領域に塗布した後、遮光膜4に対応したパターンで光
を通すマスクを介して光を照射することにより樹脂を硬
化させる以外は第1の実施の形態と同様にして行う。
【0023】この第2の実施の形態の製造方法も第1の
実施の形態と同様の効果を奏することは言うまでもな
い。
実施の形態と同様の効果を奏することは言うまでもな
い。
【0024】なお、上記第1および第2の実施の形態の
製造方法においては、スペーサ20と接着剤となる樹脂
21との混合液は対向基板1上に塗布したが、アレイ基
板11側に塗布しても良い。この場合、対向基板1とア
レイ基板11とを貼着するための接着剤22は対向基板
1側に印刷されるのが一般的である。
製造方法においては、スペーサ20と接着剤となる樹脂
21との混合液は対向基板1上に塗布したが、アレイ基
板11側に塗布しても良い。この場合、対向基板1とア
レイ基板11とを貼着するための接着剤22は対向基板
1側に印刷されるのが一般的である。
【0025】なお、上記実施の形態の製造方法において
は、配合膜のラビングは混合液の塗布前に行ったが樹脂
21の硬化後に行っても良い。
は、配合膜のラビングは混合液の塗布前に行ったが樹脂
21の硬化後に行っても良い。
【0026】なお、上記実施の形態の製造方法において
はスペーサ20と接着剤となる樹脂21との混合液は対
向基板1およびアレイ基板11のうちの一方の基板に塗
布したが、図3(a)に示すように両方の基板上に塗布
して硬化させた後、図3(b)に示すようにこれらのス
ペーサ20が接するように基板1と基板11とを貼着し
ても良い。このように両方の基板にスペーサ20を配置
する場合は、この配置を配向膜のラビング処理前に行う
と、ラビングされない領域が小となり、より良好な表示
品位を得ることができる。またこの場合、スペーサの粒
径は、図2に示すように片側の基板にしか配置しない場
合のスペーサの粒径の半分とする必要がある。
はスペーサ20と接着剤となる樹脂21との混合液は対
向基板1およびアレイ基板11のうちの一方の基板に塗
布したが、図3(a)に示すように両方の基板上に塗布
して硬化させた後、図3(b)に示すようにこれらのス
ペーサ20が接するように基板1と基板11とを貼着し
ても良い。このように両方の基板にスペーサ20を配置
する場合は、この配置を配向膜のラビング処理前に行う
と、ラビングされない領域が小となり、より良好な表示
品位を得ることができる。またこの場合、スペーサの粒
径は、図2に示すように片側の基板にしか配置しない場
合のスペーサの粒径の半分とする必要がある。
【0027】なお、上記実施の形態の製造方法において
は、スペーサ20を配向膜7が形成された基板上に樹脂
21とともに塗布したが、配向膜が形成されていない基
板上に、インクジェットノズル30を用いて、スペーサ
20と配向膜形成溶液の混合液を塗布し、加熱焼成する
ことによってスペーサ20が塗布された配向膜を成形し
ても良い。なお、配向膜形成溶液は、配向膜材料、例え
ばAL−1051(商品名(日本合成ゴム社製))を溶
媒、例えばγ−ブチルラクトンで溶かしたものである。
この場合、混合液の塗布は非画素領域に塗布されるが配
向膜形成溶液の粘度が低いため画素領域上にも配向膜形
成溶液が流れ、画素領域上にも配向膜が形成される。
は、スペーサ20を配向膜7が形成された基板上に樹脂
21とともに塗布したが、配向膜が形成されていない基
板上に、インクジェットノズル30を用いて、スペーサ
20と配向膜形成溶液の混合液を塗布し、加熱焼成する
ことによってスペーサ20が塗布された配向膜を成形し
ても良い。なお、配向膜形成溶液は、配向膜材料、例え
ばAL−1051(商品名(日本合成ゴム社製))を溶
媒、例えばγ−ブチルラクトンで溶かしたものである。
この場合、混合液の塗布は非画素領域に塗布されるが配
向膜形成溶液の粘度が低いため画素領域上にも配向膜形
成溶液が流れ、画素領域上にも配向膜が形成される。
【0028】また、上記実施の第1の形態の製造方法に
おいて、熱硬化エポキシ樹脂の代わりに上記の配向膜形
成溶液を用いても良い。この場合、スペーサ混合液の塗
布時に溶媒が既に形成された配向膜表面を溶融させ、そ
の後硬化させることによりスヘーサをより強固に配向膜
に固着させることが可能となる。
おいて、熱硬化エポキシ樹脂の代わりに上記の配向膜形
成溶液を用いても良い。この場合、スペーサ混合液の塗
布時に溶媒が既に形成された配向膜表面を溶融させ、そ
の後硬化させることによりスヘーサをより強固に配向膜
に固着させることが可能となる。
【0029】なお、上記実施の形態の製造方法において
は、アクティブマトリス型液晶表示素子を例にとって説
明したが、本発明はこれに限られるものではない。
は、アクティブマトリス型液晶表示素子を例にとって説
明したが、本発明はこれに限られるものではない。
【0030】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、表示
品位を可及的に高くすることができる。
品位を可及的に高くすることができる。
【図1】本発明による液晶表示素子の製造方法の一実施
の形態の工程断面図。
の形態の工程断面図。
【図2】本発明の製造方法によって製造される液晶表示
素子の構成断面図。
素子の構成断面図。
【図3】本発明による製造方法の他の実施の形態を説明
する説明図。
する説明図。
1 対向基板 2 ガラス基板 3 着色層 4 遮光膜 5 保護層 6 対向電極 7 配向膜 11 アレイ基板 12 ガラス基板 13 薄膜トランジスタ 14 画素電極 15 配向膜 20 スペーサ 21 樹脂 22 接着剤 24 液晶組成物 25a,25b 偏光板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山 本 武 志 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 長谷川 誠 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 上 埜 亜希子 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内
Claims (6)
- 【請求項1】各々に配向膜が形成された2枚の基板のう
ち少なくとも一方の基板上の所定の位置に、インクジェ
ットノズルを用いて、前記基板間の間隙を調整するため
のスペーサと樹脂との混合液を塗布する工程と、前記樹
脂を硬化させる工程とを備えていることを特徴とする液
晶表示素子の製造方法。 - 【請求項2】前記樹脂は熱硬化性の樹脂であることを特
徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項3】前記樹脂は光硬化性の樹脂であることを特
徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項4】各々に電極が形成された2枚の基板のうち
少なくとも一方の基板上にインクジェットノズルを用い
て、前記基板間の間隙を調整するためのスペーサと配向
膜形成溶液との混合液を塗布する工程と、前記配向膜形
成溶液を硬化させる工程とを備えていることを特徴とす
る液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項5】各々の主面に電極が形成された第1および
第2の基板と、 前記第1および第2の基板のうちの少なくとも一方の基
板の主面上に、インクジェットノズルにより形成され
た、基板間の間隙調整用スペーサが含有された配向膜材
料と、 前記第1および第2の基板間に挟持される液晶層と、 を備えていることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項6】前記スペーサは非画素領域に配置されてい
ることを特徴とする請求項5記載の液晶表示素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26578095A JPH09105946A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26578095A JPH09105946A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09105946A true JPH09105946A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=17421940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26578095A Pending JPH09105946A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
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