JP2001109002A - スペーサー付カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 - Google Patents
スペーサー付カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 遮光層上にのみ所望の高さのスペーサーを容
易に形成し、均一なセルギャップで表示特性に優れた液
晶素子を提供する。 【解決手段】 透明基板１上に、ブラックマトリクス２
と、着色部９と非着色部５からなる着色層と、保護層１
０と、透明導電膜１１とを形成し、透明導電膜１１上の
ブラックマトリクス２に重複する領域内に部分的に、イ
ンクジェットヘッド１２より、溶剤成分の含有量が５０
質量％以下の高濃度のスペーサー形成材１３を付与し、
硬化させてスペーサー１４を形成する。
易に形成し、均一なセルギャップで表示特性に優れた液
晶素子を提供する。 【解決手段】 透明基板１上に、ブラックマトリクス２
と、着色部９と非着色部５からなる着色層と、保護層１
０と、透明導電膜１１とを形成し、透明導電膜１１上の
ブラックマトリクス２に重複する領域内に部分的に、イ
ンクジェットヘッド１２より、溶剤成分の含有量が５０
質量％以下の高濃度のスペーサー形成材１３を付与し、
硬化させてスペーサー１４を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用される
カラー表示の液晶素子と、該液晶素子の構成部材である
カラーフィルタとその製造方法に関する。
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用される
カラー表示の液晶素子と、該液晶素子の構成部材である
カラーフィルタとその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、カラ
ー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しか
しながら、さらなる普及のためには、コストダウンが必
要不可欠となっている。
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、カラ
ー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しか
しながら、さらなる普及のためには、コストダウンが必
要不可欠となっている。
【０００３】従来、液晶素子の製造方法としては、一対
の透明な絶縁性基板であるガラス基板上にＴＦＴ（薄膜
トランジスタ）のような液晶駆動用素子、或いはカラー
フィルタのような着色用光学素子などを設けた後、透明
電極及び配向膜をそれぞれ形成する。次に、透明電極及
び配向膜が形成された一方のガラス基板全面に一般に３
〜１０μｍ程度のシリカ、アルミナ、合成樹脂等からな
る真球或いは円筒状の粒子をスペーサーとして分散させ
る。透明電極を対向させた状態で上記一対のガラス基板
を上記スペーサーを介して重ね合わせ、その間隙に液晶
を封入することにより液晶素子が構成される。
の透明な絶縁性基板であるガラス基板上にＴＦＴ（薄膜
トランジスタ）のような液晶駆動用素子、或いはカラー
フィルタのような着色用光学素子などを設けた後、透明
電極及び配向膜をそれぞれ形成する。次に、透明電極及
び配向膜が形成された一方のガラス基板全面に一般に３
〜１０μｍ程度のシリカ、アルミナ、合成樹脂等からな
る真球或いは円筒状の粒子をスペーサーとして分散させ
る。透明電極を対向させた状態で上記一対のガラス基板
を上記スペーサーを介して重ね合わせ、その間隙に液晶
を封入することにより液晶素子が構成される。
【０００４】ところが、有効画素部（透光部）では透過
／遮光状態が表示状態によって変化するため、上記スペ
ーサーを無色透明な素材で形成した場合には、遮光時に
輝点として、また、黒色に着色した場合には透過時に黒
点として観察されることとなり、表示品位が低下すると
いう問題があった。
／遮光状態が表示状態によって変化するため、上記スペ
ーサーを無色透明な素材で形成した場合には、遮光時に
輝点として、また、黒色に着色した場合には透過時に黒
点として観察されることとなり、表示品位が低下すると
いう問題があった。
【０００５】上記問題を解決するために、特開昭６１−
１７３２２１号公報、特開平２−２２３９２２号公報な
どに示されるように、配向膜に配向処理を行った後、感
光性ポリイミドやフォトレジストを塗布し、マスクを通
して露光することで有効画素部以外にポリイミドやレジ
ストからなるスペーサーを形成するという方法が提案さ
れている。これらの方法によれば、任意の場所に、任意
の密度でスペーサーを形成することができるため、液晶
を封入した際の液晶セルギャップの不均一性を改善でき
る。また、特開平３−９４２３０号公報には、有効画素
部以外の領域の遮光層上にビーズスペーサーを固定する
方法が述べられている。
１７３２２１号公報、特開平２−２２３９２２号公報な
どに示されるように、配向膜に配向処理を行った後、感
光性ポリイミドやフォトレジストを塗布し、マスクを通
して露光することで有効画素部以外にポリイミドやレジ
ストからなるスペーサーを形成するという方法が提案さ
れている。これらの方法によれば、任意の場所に、任意
の密度でスペーサーを形成することができるため、液晶
を封入した際の液晶セルギャップの不均一性を改善でき
る。また、特開平３−９４２３０号公報には、有効画素
部以外の領域の遮光層上にビーズスペーサーを固定する
方法が述べられている。
【０００６】その他にも、膜厚の大きなブラックマトリ
クスをスペーサーとする方法（特開昭６３−２３７０３
２号公報、特開平３−１８４０２２号公報、特開平４−
１２２９１４号公報等）、重ねた着色レジストをスペー
サーとする方法（特開昭６３−８２４０５号公報）、ブ
ラックマトリクス上にも着色パターンを形成し、スペー
サーとする方法（特開昭６３−２３７０３２号公報）な
どが提案されている。
クスをスペーサーとする方法（特開昭６３−２３７０３
２号公報、特開平３−１８４０２２号公報、特開平４−
１２２９１４号公報等）、重ねた着色レジストをスペー
サーとする方法（特開昭６３−８２４０５号公報）、ブ
ラックマトリクス上にも着色パターンを形成し、スペー
サーとする方法（特開昭６３−２３７０３２号公報）な
どが提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記各公報に提案され
た改善方法は、いずれもフォトリソグラフィーを用いた
方法であるため、高価な露光機が必要であり、また現像
などのウエットプロセスの導入により、製造ラインが長
くなるという問題があった。
た改善方法は、いずれもフォトリソグラフィーを用いた
方法であるため、高価な露光機が必要であり、また現像
などのウエットプロセスの導入により、製造ラインが長
くなるという問題があった。
【０００８】また、上記各改善方法では、全面に感光性
ポリイミドやフォトレジストを塗布し、塗工後は不要部
を溶剤などにより除去することから、有効画素部の汚染
が問題であった。特に、ラビング法などにより配向処理
を行ったポリイミド膜などの配向膜上にスペーサーを形
成する場合には、スペーサー形成工程において配向膜に
施された配向処理状態を著しく汚染、破壊してしまう場
合があり、液晶セル内に注入された液晶の配向が不均一
となる懸念があった。
ポリイミドやフォトレジストを塗布し、塗工後は不要部
を溶剤などにより除去することから、有効画素部の汚染
が問題であった。特に、ラビング法などにより配向処理
を行ったポリイミド膜などの配向膜上にスペーサーを形
成する場合には、スペーサー形成工程において配向膜に
施された配向処理状態を著しく汚染、破壊してしまう場
合があり、液晶セル内に注入された液晶の配向が不均一
となる懸念があった。
【０００９】本発明の目的は、セルギャップ保持機能が
良好で、表示に影響の無いスペーサーを容易に形成し、
表示品位に優れた液晶素子をより安価に提供することに
ある。
良好で、表示に影響の無いスペーサーを容易に形成し、
表示品位に優れた液晶素子をより安価に提供することに
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のスペーサー付カ
ラーフィルタの製造方法は、透明基板上に、複数の開口
部を有する遮光層と、該遮光層の各開口部に配置された
着色部を有する着色層と、を少なくとも形成してカラー
フィルタを形成する工程と、該カラーフィルタ上の上記
遮光層に重複する領域に部分的にインクジェット方式に
より樹脂組成物からなるスペーサー形成材を付与して硬
化させ、スペーサーを形成する工程と、を少なくとも有
し、上記スペーサー形成材に含有される溶剤成分が５０
質量％以下であることを特徴とする。
ラーフィルタの製造方法は、透明基板上に、複数の開口
部を有する遮光層と、該遮光層の各開口部に配置された
着色部を有する着色層と、を少なくとも形成してカラー
フィルタを形成する工程と、該カラーフィルタ上の上記
遮光層に重複する領域に部分的にインクジェット方式に
より樹脂組成物からなるスペーサー形成材を付与して硬
化させ、スペーサーを形成する工程と、を少なくとも有
し、上記スペーサー形成材に含有される溶剤成分が５０
質量％以下であることを特徴とする。
【００１１】本発明は、着色層上に保護層を形成し、該
保護層上にスペーサーを形成すること、及び／または、
着色層上に透明導電膜を形成し、該透明導電膜上にスペ
ーサーを形成することを、好ましい態様として含むもの
である。
保護層上にスペーサーを形成すること、及び／または、
着色層上に透明導電膜を形成し、該透明導電膜上にスペ
ーサーを形成することを、好ましい態様として含むもの
である。
【００１２】また、上記本発明は、透明基板上に全面に
樹脂組成物からなるインク受容層を形成し、該インク受
容層にインクジェット方式により着色インクを付与して
着色し、着色部を形成すること、或いは、黒色樹脂組成
物により開口部を有する遮光層を形成し、該遮光層の開
口部に着色樹脂組成物からなる硬化型着色インクを付与
して硬化し、着色部を形成することを、好ましい態様と
して含むものである。
樹脂組成物からなるインク受容層を形成し、該インク受
容層にインクジェット方式により着色インクを付与して
着色し、着色部を形成すること、或いは、黒色樹脂組成
物により開口部を有する遮光層を形成し、該遮光層の開
口部に着色樹脂組成物からなる硬化型着色インクを付与
して硬化し、着色部を形成することを、好ましい態様と
して含むものである。
【００１３】さらに、本発明は、透明基板上に、複数の
開口部を有する遮光層と、該遮光層の各開口部に配置さ
れた着色部を有する着色層と、を少なくとも有するカラ
ーフィルタと、該カラーフィルタ上の上記遮光層に重複
する領域に部分的に樹脂組成物を硬化してなるスペーサ
ーを備え、上記本発明の製造方法により製造されたこと
を特徴とするスペーサー付カラーフィルタを提供するも
のである。
開口部を有する遮光層と、該遮光層の各開口部に配置さ
れた着色部を有する着色層と、を少なくとも有するカラ
ーフィルタと、該カラーフィルタ上の上記遮光層に重複
する領域に部分的に樹脂組成物を硬化してなるスペーサ
ーを備え、上記本発明の製造方法により製造されたこと
を特徴とするスペーサー付カラーフィルタを提供するも
のである。
【００１４】さらにまた、本発明は、一対の基板間に液
晶を狭持してなり、一方の基板が上記本発明のスペーサ
ー付カラーフィルタであって、一対の基板間の距離が該
スペーサーにより保持されていることを特徴とする液晶
素子を提供するものである。
晶を狭持してなり、一方の基板が上記本発明のスペーサ
ー付カラーフィルタであって、一対の基板間の距離が該
スペーサーにより保持されていることを特徴とする液晶
素子を提供するものである。
【００１５】本発明においては、スペーサー形成時に、
溶剤成分の含有量が５０質量％以下の樹脂組成物からな
る高濃度のスペーサー形成材を用いることにより、イン
クジェット方式によりカラーフィルタ上に付与する際
に、高さを稼ぎ易く、遮光層上にのみ選択的に所望の高
さのスペーサーを容易に形成することができる。
溶剤成分の含有量が５０質量％以下の樹脂組成物からな
る高濃度のスペーサー形成材を用いることにより、イン
クジェット方式によりカラーフィルタ上に付与する際
に、高さを稼ぎ易く、遮光層上にのみ選択的に所望の高
さのスペーサーを容易に形成することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明を詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１７】図１〜図２は、本発明のスペーサー付カラ
ーフィルタの製造方法の一実施形態の工程図である。図
中、１は透明基板、２はブラックマトリクス、３はイン
ク受容層、４はフォトマスク、５は非着色部、６は被着
色部、７はインクジェットヘッド、８は着色インク、９
は着色部、１０は保護層、１１は透明電極、１２はイン
クジェットヘッド、１３はスペーサー形成材、１４はス
ペーサーである。尚、図１〜図２の（ａ）〜（ｇ）はそ
れぞれ以下の工程（ａ）〜（ｇ）にそれぞれ対応する断
面模式図である。
ーフィルタの製造方法の一実施形態の工程図である。図
中、１は透明基板、２はブラックマトリクス、３はイン
ク受容層、４はフォトマスク、５は非着色部、６は被着
色部、７はインクジェットヘッド、８は着色インク、９
は着色部、１０は保護層、１１は透明電極、１２はイン
クジェットヘッド、１３はスペーサー形成材、１４はス
ペーサーである。尚、図１〜図２の（ａ）〜（ｇ）はそ
れぞれ以下の工程（ａ）〜（ｇ）にそれぞれ対応する断
面模式図である。
【００１８】工程（ａ） 透明基板１上に、開口部を有する遮光層としてブラック
マトリクス２を形成し、その上に樹脂組成物からなるイ
ンク受容層３を全面に形成する。本発明において透明基
板１としては、一般にガラス基板が用いられるが、液晶
素子としての透明性、機械的強度等の必要特性を有する
ものであればガラス基板に限定されるものではなく、プ
ラスチック基板なども用いることができる。本発明にか
かる遮光層は、ブラックストライプであっても良い。
マトリクス２を形成し、その上に樹脂組成物からなるイ
ンク受容層３を全面に形成する。本発明において透明基
板１としては、一般にガラス基板が用いられるが、液晶
素子としての透明性、機械的強度等の必要特性を有する
ものであればガラス基板に限定されるものではなく、プ
ラスチック基板なども用いることができる。本発明にか
かる遮光層は、ブラックストライプであっても良い。
【００１９】ブラックマトリクス２としては特に制限は
なく、公知のものを用いることができる。例えば、透明
基板１上に形成したＣｒ等の金属や金属酸化物などの積
層膜をパターン状にエッチングしたり、透明基板１上に
塗布した黒色レジストをパターニングすることにより、
形成することができる。
なく、公知のものを用いることができる。例えば、透明
基板１上に形成したＣｒ等の金属や金属酸化物などの積
層膜をパターン状にエッチングしたり、透明基板１上に
塗布した黒色レジストをパターニングすることにより、
形成することができる。
【００２０】インク受容層３は、光照射や熱処理、或い
はその両方により硬化する樹脂組成物からなり、インク
吸収性を有する。特に好ましくは、光照射によってイン
ク吸収性が増加或いは低減する感光性樹脂組成物で形成
し、後述するパターン露光によって隣接する被着色部６
間に非着色部５を形成して混色防止を図る。このような
感光性樹脂組成物としては、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、アミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂などが必要に応じて光開始剤（架橋剤）と併せ
て用いられる。本実施形態は、光照射によってインク吸
収性が低下するネガ型の感光性樹脂組成物を用いた例で
ある。
はその両方により硬化する樹脂組成物からなり、インク
吸収性を有する。特に好ましくは、光照射によってイン
ク吸収性が増加或いは低減する感光性樹脂組成物で形成
し、後述するパターン露光によって隣接する被着色部６
間に非着色部５を形成して混色防止を図る。このような
感光性樹脂組成物としては、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、アミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂などが必要に応じて光開始剤（架橋剤）と併せ
て用いられる。本実施形態は、光照射によってインク吸
収性が低下するネガ型の感光性樹脂組成物を用いた例で
ある。
【００２１】上記感光性樹脂組成物は透明基板１上にス
ピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、バー
コート法、スリットコート法等の公知の手段により塗布
し、必要に応じてプリベークしてインク受容層３とす
る。
ピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、バー
コート法、スリットコート法等の公知の手段により塗布
し、必要に応じてプリベークしてインク受容層３とす
る。
【００２２】尚、インク受容層３は光照射によってイン
ク吸収性が増加または低減すると同時に、インクぬれ性
も増加または低減するものが好ましい。
ク吸収性が増加または低減すると同時に、インクぬれ性
も増加または低減するものが好ましい。
【００２３】工程（ｂ） フォトマスク４を介してパターン露光を行うことによ
り、インク吸収性を有する被着色部６とインク吸収性が
被着色部６より低い（或いは無い）非着色部５を形成す
る。本例では、インク受容層３の感光性がネガ型であ
り、この場合、ブラックマトリクス２の開口部における
色抜けを防止するために、着色部９をブラックマトリク
ス２の開口部よりも広く形成する意味から、ブラックマ
トリクス２の幅よりも非着色部５の幅が狭くなるような
開口パターンを有するフォトマスクを用いることが好ま
しい。
り、インク吸収性を有する被着色部６とインク吸収性が
被着色部６より低い（或いは無い）非着色部５を形成す
る。本例では、インク受容層３の感光性がネガ型であ
り、この場合、ブラックマトリクス２の開口部における
色抜けを防止するために、着色部９をブラックマトリク
ス２の開口部よりも広く形成する意味から、ブラックマ
トリクス２の幅よりも非着色部５の幅が狭くなるような
開口パターンを有するフォトマスクを用いることが好ま
しい。
【００２４】また、インク受容層３の感光性がポジ型の
場合には、ブラックマトリクス２をフォトマスクとして
用い、透明基板１の裏面から露光することにより、フォ
トマスクを用いずにパターン露光することが可能であ
る。
場合には、ブラックマトリクス２をフォトマスクとして
用い、透明基板１の裏面から露光することにより、フォ
トマスクを用いずにパターン露光することが可能であ
る。
【００２５】工程（ｃ） インク受容層の被着色部６にインクジェットヘッド７よ
り、所定の着色パターンに沿ってＲ（赤）、Ｇ（緑）、
Ｂ（青）の各着色インク８を付与する。本実施形態で
は、隣接する被着色部６間にはインク吸収性が低い（或
いはない）非着色部５が介在するため、被着色部６から
はみ出したインクは非着色部５においてはじかれ、隣接
する被着色部６間での混色が防止される。
り、所定の着色パターンに沿ってＲ（赤）、Ｇ（緑）、
Ｂ（青）の各着色インク８を付与する。本実施形態で
は、隣接する被着色部６間にはインク吸収性が低い（或
いはない）非着色部５が介在するため、被着色部６から
はみ出したインクは非着色部５においてはじかれ、隣接
する被着色部６間での混色が防止される。
【００２６】本発明において用いられる着色インク８と
しては、染料系、顔料系のいずれでも用いることがで
き、インクジェット方式によって吐出が可能なものであ
れば好ましく用いることができる。
しては、染料系、顔料系のいずれでも用いることがで
き、インクジェット方式によって吐出が可能なものであ
れば好ましく用いることができる。
【００２７】また、本発明において用いられるインクジ
ェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱
変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子
を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着
色面積及び着色パターンは任意に設定することができ
る。
ェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱
変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子
を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着
色面積及び着色パターンは任意に設定することができ
る。
【００２８】工程（ｄ） 着色インク８が被着色部６に吸収され十分に拡散した
後、必要に応じて乾燥処理を施し、さらに光照射、熱処
理等必要な処理を施してインク受容層全体を硬化させ、
非着色部５と着色部９からなる着色層を形成する。
後、必要に応じて乾燥処理を施し、さらに光照射、熱処
理等必要な処理を施してインク受容層全体を硬化させ、
非着色部５と着色部９からなる着色層を形成する。
【００２９】工程（ｅ） 必要に応じて保護層１０を形成した後、液晶を駆動する
ための電極となる透明導電膜１１を形成する。保護層１
０としては、光硬化型、熱硬化型、或いは熱・光併用硬
化型の樹脂組成物層、或いは蒸着、スパッタ等によって
形成された無機膜等を用いることができる。いずれの場
合も、カラーフィルタとしての透明性を有し、その後の
透明導電膜形成工程や配向膜形成工程等液晶素子の製造
工程に耐えるものであれば使用することができる。
ための電極となる透明導電膜１１を形成する。保護層１
０としては、光硬化型、熱硬化型、或いは熱・光併用硬
化型の樹脂組成物層、或いは蒸着、スパッタ等によって
形成された無機膜等を用いることができる。いずれの場
合も、カラーフィルタとしての透明性を有し、その後の
透明導電膜形成工程や配向膜形成工程等液晶素子の製造
工程に耐えるものであれば使用することができる。
【００３０】透明導電膜１１としては、通常ＩＴＯ（イ
ンジウム・チン・オキサイド）膜が用いられ、スパッタ
法等により成膜することができる。
ンジウム・チン・オキサイド）膜が用いられ、スパッタ
法等により成膜することができる。
【００３１】工程（ｆ） インクジェットヘッド１２より、樹脂組成物からなるス
ペーサー形成材１３を、ブラックマトリクス２に重複す
る領域に部分的に付与する。スペーサー形成材１３は、
硬化後にスペーサー１４となるスペーサー形成素材であ
り、光照射や熱処理により硬化する重合体、共重合体、
或いは単量体成分等を含み、溶剤成分の含有量が５０質
量％以下の高濃度に調製される。
ペーサー形成材１３を、ブラックマトリクス２に重複す
る領域に部分的に付与する。スペーサー形成材１３は、
硬化後にスペーサー１４となるスペーサー形成素材であ
り、光照射や熱処理により硬化する重合体、共重合体、
或いは単量体成分等を含み、溶剤成分の含有量が５０質
量％以下の高濃度に調製される。
【００３２】上記スペーサー形成材１３に含有される成
分としては具体的には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等
が挙げられるが、インクジェットでの吐出性を考慮する
と粘度があまり高くならないものが好ましく、光照射あ
るいは熱処理により硬化するモノマーあるいはオリゴマ
ー材料が好ましい。具体的には、２個以上のエチレン性
不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー、２個以上の
グリシジル基を有するモノマー、オリゴマー等が挙げら
れるがこれらに限られるものではない。
分としては具体的には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等
が挙げられるが、インクジェットでの吐出性を考慮する
と粘度があまり高くならないものが好ましく、光照射あ
るいは熱処理により硬化するモノマーあるいはオリゴマ
ー材料が好ましい。具体的には、２個以上のエチレン性
不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー、２個以上の
グリシジル基を有するモノマー、オリゴマー等が挙げら
れるがこれらに限られるものではない。
【００３３】さらに、光硬化させる場合には、各種光硬
化性樹脂、光重合開始剤を加えても良い。また、スペー
サー形成材中で固着等の問題を起こすものでなければ、
他の成分として、様々な市販の樹脂や添加剤を加えても
良い。
化性樹脂、光重合開始剤を加えても良い。また、スペー
サー形成材中で固着等の問題を起こすものでなければ、
他の成分として、様々な市販の樹脂や添加剤を加えても
良い。
【００３４】スペーサー形成材１３の調製に際しては、
上記各成分を水／または公知の溶剤で混合、溶解する。
この操作は、それ自体公知のものが利用できる。望まし
くは、スペーサー１４を形成する基板表面の材質（透明
導電膜１１）によって添加溶剤或いは界面活性剤などの
添加剤を加えて吐出されたスペーサー形成材１３の形成
するドットの径を調整することにより、スペーサーの径
の調整が可能である。
上記各成分を水／または公知の溶剤で混合、溶解する。
この操作は、それ自体公知のものが利用できる。望まし
くは、スペーサー１４を形成する基板表面の材質（透明
導電膜１１）によって添加溶剤或いは界面活性剤などの
添加剤を加えて吐出されたスペーサー形成材１３の形成
するドットの径を調整することにより、スペーサーの径
の調整が可能である。
【００３５】本発明においてスペーサー形成材１３の溶
剤含有量は５０質量％以下であり、好ましくは３０質量
％以下、より好ましくは２０質量％以下である。このよ
うに、スペーサー形成材１３に含まれる溶剤成分を少な
くして高濃度にすることにより、インクジェットヘッド
１２よりカラーフィルタ上に付与した際に、フィルタ上
での液滴の高さを稼ぐことができ、狭い底面積で高さの
あるスペーサーを形成することができる。よって、幅の
狭いブラックマトリクス２上にのみ選択的に所望の高さ
のスペーサーを形成することが容易になる。
剤含有量は５０質量％以下であり、好ましくは３０質量
％以下、より好ましくは２０質量％以下である。このよ
うに、スペーサー形成材１３に含まれる溶剤成分を少な
くして高濃度にすることにより、インクジェットヘッド
１２よりカラーフィルタ上に付与した際に、フィルタ上
での液滴の高さを稼ぐことができ、狭い底面積で高さの
あるスペーサーを形成することができる。よって、幅の
狭いブラックマトリクス２上にのみ選択的に所望の高さ
のスペーサーを形成することが容易になる。
【００３６】一般に液晶素子のセルギャップは２〜１０
μｍであり、本発明においても当該範囲の高さのスペー
サーが好ましく形成される。
μｍであり、本発明においても当該範囲の高さのスペー
サーが好ましく形成される。
【００３７】スペーサー形成材１３は、液晶素子を構成
した際にセルギャップを保持するために必要な部位にの
み、ドット状或いはライン状で基板内に複数個、分散し
て形成すればよく、好ましくは略円柱状に形成する。
した際にセルギャップを保持するために必要な部位にの
み、ドット状或いはライン状で基板内に複数個、分散し
て形成すればよく、好ましくは略円柱状に形成する。
【００３８】スペーサー形成材１３の付与に用いるイン
クジェット方式としては、先の着色インク８の付与工程
と同様に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用
いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピ
エゾジェットタイプ等が使用可能である。スペーサー形
成材の打ち込み位置、及び打ち込み量は任意に設定する
ことができる。
クジェット方式としては、先の着色インク８の付与工程
と同様に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用
いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピ
エゾジェットタイプ等が使用可能である。スペーサー形
成材の打ち込み位置、及び打ち込み量は任意に設定する
ことができる。
【００３９】工程（ｇ） 光照射、熱処理、或いは光照射と熱処理の両方等、必要
な処理を施してスペーサー形成材１３を硬化させてスペ
ーサー１４を形成し、本発明のスペーサー付カラーフィ
ルタを得る。光照射や熱処理の方法は公知の方法によ
る。
な処理を施してスペーサー形成材１３を硬化させてスペ
ーサー１４を形成し、本発明のスペーサー付カラーフィ
ルタを得る。光照射や熱処理の方法は公知の方法によ
る。
【００４０】特に厳密な平坦性が必要な場合には、スペ
ーサー１４の表面を研磨テープ等を用いて研磨してもか
まわない。
ーサー１４の表面を研磨テープ等を用いて研磨してもか
まわない。
【００４１】次に、図４に本発明のスペーサー付カラー
フィルタの製造方法の他の実施形態の工程を示す。図
中、図１〜図２と同じ部材には同じ符号を付して説明を
省略する。また、図中、３２はブラックマトリクス、３
７はインクジェットヘッド、３８は硬化型着色インク、
３９は着色部である。尚、図４の（ａ）〜（ｆ）はそれ
ぞれ以下の工程（ａ）〜（ｆ）にそれぞれ対応する断面
模式図である。
フィルタの製造方法の他の実施形態の工程を示す。図
中、図１〜図２と同じ部材には同じ符号を付して説明を
省略する。また、図中、３２はブラックマトリクス、３
７はインクジェットヘッド、３８は硬化型着色インク、
３９は着色部である。尚、図４の（ａ）〜（ｆ）はそれ
ぞれ以下の工程（ａ）〜（ｆ）にそれぞれ対応する断面
模式図である。
【００４２】工程（ａ） 透明基板１上に開口部を有するブラックマトリクス３２
を黒色樹脂組成物で形成する。該ブラックマトリクス３
２は、着色部３９を形成するための硬化型着色インク３
８の混色を防止する隔壁機能を備えている。このような
黒色樹脂組成物としては、感光性を備えたものが好まし
く、具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ア
ミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレン系樹脂な
どが必要に応じて光開始剤（架橋剤）と併せて用いら
れ、黒色染料或いは顔料を混合して用いる。
を黒色樹脂組成物で形成する。該ブラックマトリクス３
２は、着色部３９を形成するための硬化型着色インク３
８の混色を防止する隔壁機能を備えている。このような
黒色樹脂組成物としては、感光性を備えたものが好まし
く、具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ア
ミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレン系樹脂な
どが必要に応じて光開始剤（架橋剤）と併せて用いら
れ、黒色染料或いは顔料を混合して用いる。
【００４３】上記感光性黒色樹脂組成物は、スピンコー
ト法、ディッピング法、ロールコート法、バーコート
法、スリットコート法等の公知の手段により塗布され、
必要に応じてプリベークした後、パターン露光、現像し
て所定のパターンを有するブラックマトリクス３２が得
られる。
ト法、ディッピング法、ロールコート法、バーコート
法、スリットコート法等の公知の手段により塗布され、
必要に応じてプリベークした後、パターン露光、現像し
て所定のパターンを有するブラックマトリクス３２が得
られる。
【００４４】工程（ｂ） ブラックマトリクス３２の開口部にインクジェットヘッ
ド３７より硬化型着色インク３８を付与する。硬化型着
色インク３８としては、光照射や熱処理などのエネルギ
ー付与により硬化する樹脂とＲ、Ｇ、Ｂの染料或いは顔
料を含有する着色樹脂組成物が用いられる。上記樹脂と
しては、メラミン樹脂、水酸基或いはカルボキシル基含
有ポリマーとメラミン、水酸基或いはカルボキシル基含
有ポリマーと多官能エポキシ化合物、水酸基或いはカル
ボキシル基含有ポリマーと繊維素反応型化合物、エポキ
シ樹脂とレゾール型樹脂、エポキシ樹脂とアミン類、エ
ポキシ樹脂とカルボン酸又は酸無水物、エポキシ化合
物、ネガ型レジストなどが用いられる。
ド３７より硬化型着色インク３８を付与する。硬化型着
色インク３８としては、光照射や熱処理などのエネルギ
ー付与により硬化する樹脂とＲ、Ｇ、Ｂの染料或いは顔
料を含有する着色樹脂組成物が用いられる。上記樹脂と
しては、メラミン樹脂、水酸基或いはカルボキシル基含
有ポリマーとメラミン、水酸基或いはカルボキシル基含
有ポリマーと多官能エポキシ化合物、水酸基或いはカル
ボキシル基含有ポリマーと繊維素反応型化合物、エポキ
シ樹脂とレゾール型樹脂、エポキシ樹脂とアミン類、エ
ポキシ樹脂とカルボン酸又は酸無水物、エポキシ化合
物、ネガ型レジストなどが用いられる。
【００４５】また、インクジェット方式としては、前記
第一の実施形態における着色インクの付与工程と同様
に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバ
ブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能であり、着色パターンは任意
に設定することができる。
第一の実施形態における着色インクの付与工程と同様
に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバ
ブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能であり、着色パターンは任意
に設定することができる。
【００４６】工程（ｃ） 必要に応じて、乾燥処理を施し、光照射及び熱処理等必
要な処理を施して硬化型着色インク３８を硬化し、着色
部３９を形成する。本実施形態では、着色部３９がカラ
ーフィルタの着色層に相当する。
要な処理を施して硬化型着色インク３８を硬化し、着色
部３９を形成する。本実施形態では、着色部３９がカラ
ーフィルタの着色層に相当する。
【００４７】工程（ｄ） 図１（ｅ）と同様に、必要に応じて保護層１０を形成し
た後、透明導電膜１１を形成し、表面処理を施す。
た後、透明導電膜１１を形成し、表面処理を施す。
【００４８】工程（ｅ） 図２（ｆ）と同様に、インクジェットヘッド１２よりス
ペーサー形成材１３をブラックマトリクス２に重複する
領域に部分的に付与する。
ペーサー形成材１３をブラックマトリクス２に重複する
領域に部分的に付与する。
【００４９】工程（ｆ） 図２（ｇ）と同様に、必要な処理を施してスペーサー形
成材１３を硬化してスペーサー１４を形成し、本発明の
スペーサー付カラーフィルタを得る。
成材１３を硬化してスペーサー１４を形成し、本発明の
スペーサー付カラーフィルタを得る。
【００５０】上記図１〜図２、図４には、インクジェッ
ト方式によりカラーフィルタの着色層を形成する工程を
示したが、本発明においては特にこれに限定されるもの
ではなく、従来の顔料分散法等により着色層を形成した
カラーフィルタにも好ましく適用される。尚、インクジ
ェット方式による製造方法に従えば、顔料分散法等によ
って製造されたカラーフィルタに比較して、凹凸の少な
い平坦な着色層を得ることが可能であるため、本発明を
より効果的に実施することができる。
ト方式によりカラーフィルタの着色層を形成する工程を
示したが、本発明においては特にこれに限定されるもの
ではなく、従来の顔料分散法等により着色層を形成した
カラーフィルタにも好ましく適用される。尚、インクジ
ェット方式による製造方法に従えば、顔料分散法等によ
って製造されたカラーフィルタに比較して、凹凸の少な
い平坦な着色層を得ることが可能であるため、本発明を
より効果的に実施することができる。
【００５１】次に、本発明の液晶素子の一例を図３に示
す。図３は、図２（ｇ）に示した本発明のスペーサー付
カラーフィルタを用いて構成した液晶素子の一例の断面
模式図である。図中、２１は対向基板、２２は画素電
極、１５，２３は配向膜、２４は液晶である。本液晶素
子は、画素毎にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を配置した
アクティブマトリクスタイプ（いわゆるＴＦＴ型）の液
晶素子の一例である。
す。図３は、図２（ｇ）に示した本発明のスペーサー付
カラーフィルタを用いて構成した液晶素子の一例の断面
模式図である。図中、２１は対向基板、２２は画素電
極、１５，２３は配向膜、２４は液晶である。本液晶素
子は、画素毎にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を配置した
アクティブマトリクスタイプ（いわゆるＴＦＴ型）の液
晶素子の一例である。
【００５２】カラー表示の液晶素子は、一般的にカラー
フィルタ側の基板１と対向基板２１を合わせ込み、液晶
２４を封入することにより形成される。対向基板２１の
内側に、ＴＦＴ（図示しない）と透明な画素電極２２が
マトリクス状に形成される。また、透明基板１の内側に
は、画素電極２２に対向する位置に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列
するようにカラーフィルタの着色部９が設置され、その
上に透明導電膜１１（共通電極）が一面に形成される。
さらに、両基板の面内には配向膜１５，２３が形成され
ており、これらをラビング処理することにより液晶分子
を一定方向に配列させることができる。これらの基板間
の距離はスペーサー１４により一定に保持され、対向配
置されてシール材（図示しない）によって貼り合わさ
れ、その間隙に液晶２４が充填される。液晶としては一
般的に用いられているＴＮ型液晶や強誘電性液晶等いず
れも用いることができる。
フィルタ側の基板１と対向基板２１を合わせ込み、液晶
２４を封入することにより形成される。対向基板２１の
内側に、ＴＦＴ（図示しない）と透明な画素電極２２が
マトリクス状に形成される。また、透明基板１の内側に
は、画素電極２２に対向する位置に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列
するようにカラーフィルタの着色部９が設置され、その
上に透明導電膜１１（共通電極）が一面に形成される。
さらに、両基板の面内には配向膜１５，２３が形成され
ており、これらをラビング処理することにより液晶分子
を一定方向に配列させることができる。これらの基板間
の距離はスペーサー１４により一定に保持され、対向配
置されてシール材（図示しない）によって貼り合わさ
れ、その間隙に液晶２４が充填される。液晶としては一
般的に用いられているＴＮ型液晶や強誘電性液晶等いず
れも用いることができる。
【００５３】上記液晶素子は、透過型の場合には両基板
の外側に偏光板を設置し、一般的に蛍光灯と散乱板を組
み合わせたバックライトを用い、反射型の場合には透明
基板１の外側に偏光板を設置して、それぞれ液晶２４を
光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させる
ことにより表示を行う。
の外側に偏光板を設置し、一般的に蛍光灯と散乱板を組
み合わせたバックライトを用い、反射型の場合には透明
基板１の外側に偏光板を設置して、それぞれ液晶２４を
光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させる
ことにより表示を行う。
【００５４】上記実施形態においては、ＴＦＴ型の液晶
素子について説明したが、本発明は単純マトリクス型等
他の駆動タイプの液晶素子にも好ましく適用される。ま
た、本発明の液晶素子は直視型でも投写型でも好適に用
いられる。
素子について説明したが、本発明は単純マトリクス型等
他の駆動タイプの液晶素子にも好ましく適用される。ま
た、本発明の液晶素子は直視型でも投写型でも好適に用
いられる。
【００５５】
【実施例】開口部の大きさが１００μｍ×３００μｍで
幅が２０μｍ及び４０μｍのＣｒからなるブラックマト
リクスの形成されたガラス基板上に、下記に示す組成か
らなるアクリル系共重合体９７質量部及びトリフェニル
スルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート３質量部
をエチルセルソロブに溶解してなる樹脂組成物を膜厚２
μｍとなるようスピンコートし、９０℃で２０分間のプ
リベークを行ってインク受容層を形成した。
幅が２０μｍ及び４０μｍのＣｒからなるブラックマト
リクスの形成されたガラス基板上に、下記に示す組成か
らなるアクリル系共重合体９７質量部及びトリフェニル
スルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート３質量部
をエチルセルソロブに溶解してなる樹脂組成物を膜厚２
μｍとなるようスピンコートし、９０℃で２０分間のプ
リベークを行ってインク受容層を形成した。
【００５６】〔アクリル系共重合体の組成〕 メチルメタクリレート ５０質量部 ヒドロキシエチルメタクリレート ３０質量部 Ｎ−メチロールアクリルアミド ２０質量部
【００５７】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
いストライプ状の開口部を有するフォトマスクを介して
ブラックマトリクス上のインク受容層の一部をストライ
プ状にパターン露光し、さらに１２０℃のホットプレー
ト上で１分間の熱処理を施した。次いで、未露光部に対
して，インクジェット記録装置を用いてＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の染料インクにより、連続するドット
でストライプ状のパターンを着色した後、９０℃で５分
間のインク乾燥を行った。引き続き２００℃で６０分間
の熱処理を行ってインク受容層全体を硬化させ、着色層
を得た。
いストライプ状の開口部を有するフォトマスクを介して
ブラックマトリクス上のインク受容層の一部をストライ
プ状にパターン露光し、さらに１２０℃のホットプレー
ト上で１分間の熱処理を施した。次いで、未露光部に対
して，インクジェット記録装置を用いてＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の染料インクにより、連続するドット
でストライプ状のパターンを着色した後、９０℃で５分
間のインク乾燥を行った。引き続き２００℃で６０分間
の熱処理を行ってインク受容層全体を硬化させ、着色層
を得た。
【００５８】上記着色層上に、二液型の熱硬化型樹脂組
成物（ＪＳＲ社製「ＳＳ６６９９Ｇ」）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、９０℃で３０分間のプリベー
クを行った後、２５０℃で６０分間の熱処理を行って保
護層を形成した。次いで、スパッタによりＩＴＯを厚さ
１５０ｎｍとなるよう成膜し、カラーフィルターを得
た。
成物（ＪＳＲ社製「ＳＳ６６９９Ｇ」）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、９０℃で３０分間のプリベー
クを行った後、２５０℃で６０分間の熱処理を行って保
護層を形成した。次いで、スパッタによりＩＴＯを厚さ
１５０ｎｍとなるよう成膜し、カラーフィルターを得
た。
【００５９】得られたカラーフィルタ上のブラックマト
リクスに重複する領域内に、下記組成からなるスペーサ
ー形成材をインクジェット方式により１箇所当たり５ｐ
ｌ付与し、熱処理して硬化させた。
リクスに重複する領域内に、下記組成からなるスペーサ
ー形成材をインクジェット方式により１箇所当たり５ｐ
ｌ付与し、熱処理して硬化させた。
【００６０】 〔硬化型インクの組成〕 ポリプロピレン／グリコールジグリシジルエーテル ８０質量％ （ナガセ化成（株）製「ＥＸ−９２０」） 水 ２０質量％
【００６１】得られたスペーサーは、直径が２０μｍで
高さが５μｍの略円柱状であった。
高さが５μｍの略円柱状であった。
【００６２】上記スペーサー付カラーフィルタを用いて
液晶素子を形成したところ、スペーサーによる表示への
影響がなく、良好な表示が実現した。
液晶素子を形成したところ、スペーサーによる表示への
影響がなく、良好な表示が実現した。
【００６３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
インクジェット方式により所望の高さのスペーサーを狭
い遮光領域上にのみ選択的に容易に形成することがで
き、スペーサー形成素材の無駄が無く、また、スペーサ
ー下層を現像液等で汚染する心配もない。よって、セル
ギャップが均一で表示上スペーサーの影響がない、良好
な表示特性を有する液晶素子をより安価に提供すること
ができる。
インクジェット方式により所望の高さのスペーサーを狭
い遮光領域上にのみ選択的に容易に形成することがで
き、スペーサー形成素材の無駄が無く、また、スペーサ
ー下層を現像液等で汚染する心配もない。よって、セル
ギャップが均一で表示上スペーサーの影響がない、良好
な表示特性を有する液晶素子をより安価に提供すること
ができる。
【図１】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の一実施形態の工程図である。
法の一実施形態の工程図である。
【図２】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の一実施形態の工程図である。
法の一実施形態の工程図である。
【図３】図２のスペーサー付カラーフィルタを用いて構
成した本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図であ
る。
成した本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図であ
る。
【図４】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の他の実施形態の工程図である。
法の他の実施形態の工程図である。
１ 透明基板 ２ ブラックマトリクス ３ インク受容層 ４ フォトマスク ５ 非着色部 ６ 被着色部 ７ インクジェットヘッド ８ 着色インク ９ 着色部 １０ 保護層 １１ 透明導電膜 １２ インクジェットヘッド １３ スペーサー形成材 １４ スペーサー １５ 配向膜 ２１ 対向基板 ２２ 画素電極 ２３ 配向膜 ２４ 液晶 ３２ ブラックマトリクス ３７ インクジェットヘッド ３８ 硬化型着色インク ３９ 着色部
フロントページの続き (72)発明者 山下 佳久 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 中澤 広一郎 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 広瀬 雅史 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 宮崎 健 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA43 BB01 BB02 BB08 BB22 BB44 2H089 LA09 LA11 MA04X MA05X NA07 QA13 QA16 TA05 TA09 TA12 TA13 TA17 2H091 FA02Y FA14Y FA35Y FB03 FB04 FB12 FC10 FC12 FC22 FC23 FD05 GA07 GA08 GA13 GA16 LA13
Claims (7)
- 【請求項１】 透明基板上に、複数の開口部を有する遮
光層と、該遮光層の各開口部に配置された着色部を有す
る着色層と、を少なくとも形成してカラーフィルタを形
成する工程と、該カラーフィルタ上の上記遮光層に重複
する領域に部分的にインクジェット方式により樹脂組成
物からなるスペーサー形成材を付与して硬化させ、スペ
ーサーを形成する工程と、を少なくとも有し、上記スペ
ーサー形成材に含有される溶剤成分が５０質量％以下で
あることを特徴とするスペーサー付カラーフィルタの製
造方法。 - 【請求項２】 着色層上に保護層を形成し、該保護層上
にスペーサーを形成する請求項１に記載のカラーフィル
タの製造方法。 - 【請求項３】 着色層上に透明導電膜を形成し、該透明
導電膜上にスペーサーを形成する請求項１または２に記
載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項４】 透明基板上に全面に樹脂組成物からなる
インク受容層を形成し、該インク受容層にインクジェッ
ト方式により着色インクを付与して着色し、着色部を形
成する請求項１〜３のいずれかに記載のスペーサー付カ
ラーフィルタの製造方法。 - 【請求項５】 黒色樹脂組成物により開口部を有する遮
光層を形成し、該遮光層の開口部に着色樹脂組成物から
なる硬化型着色インクを付与して硬化し、着色部を形成
する請求項１〜３のいずれかに記載のスペーサー付カラ
ーフィルタの製造方法。 - 【請求項６】 透明基板上に、複数の開口部を有する遮
光層と、該遮光層の各開口部に配置された着色部を有す
る着色層と、を少なくとも有するカラーフィルタと、該
カラーフィルタ上の上記遮光層に重複する領域に部分的
に樹脂組成物を硬化してなるスペーサーを備え、請求項
１〜５のいずれかに記載の製造方法により製造されたこ
とを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ。 - 【請求項７】 一対の基板間に液晶を狭持してなり、一
方の基板が請求項６記載のスペーサー付カラーフィルタ
であって、一対の基板間の距離が該スペーサーにより保
持されていることを特徴とする液晶素子。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28615899A JP2001109002A (ja) | 1999-10-07 | 1999-10-07 | スペーサー付カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 |
| DE60036668T DE60036668T2 (de) | 1999-07-29 | 2000-07-27 | Flüssigkristallvorrichtung, Verfahren zu ihrer Herstellung und abstandshaltertragendes Substrat |
| US09/624,379 US6501527B1 (en) | 1999-07-29 | 2000-07-27 | Liquid crystal elemental device, production process thereof and spacer-bearing substrate |
| EP00116308A EP1072932B1 (en) | 1999-07-29 | 2000-07-27 | Liquid crystal device, production process thereof and spacer-bearing substrate |
| TW089115179A TW548493B (en) | 1999-07-29 | 2000-07-28 | Liquid crystal elemental device, production process thereof and spacer-bearing substrate |
| KR10-2000-0044050A KR100377701B1 (ko) | 1999-07-29 | 2000-07-29 | 액정 소자의 제조 방법과 스페이서 부착 기판의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28615899A JP2001109002A (ja) | 1999-10-07 | 1999-10-07 | スペーサー付カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001109002A true JP2001109002A (ja) | 2001-04-20 |
Family
ID=17700698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28615899A Pending JP2001109002A (ja) | 1999-07-29 | 1999-10-07 | スペーサー付カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001109002A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100475164B1 (ko) * | 2002-05-16 | 2005-03-08 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| JP2006323393A (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| JP2007011335A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US7328988B2 (en) | 2003-01-22 | 2008-02-12 | Lg Chem, Ltd. | Ink composition for inkjet spacer formation and spacer element using the same |
| US8932666B2 (en) | 2002-09-24 | 2015-01-13 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Method and apparatus for manufacturing active-matrix organic el display, active matrix organic el display, method for manufacturing liquid crystal array, liquid crystal array, method and apparatus for manufacturing color filter substrate, and color filter substrate |
-
1999
- 1999-10-07 JP JP28615899A patent/JP2001109002A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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