JP3997038B2 - スペーサー付カラーフィルタと液晶素子の製造方法 - Google Patents

スペーサー付カラーフィルタと液晶素子の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーテレビ、パーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用されるカラー表示の液晶素子と、該液晶素子の構成部材であるカラーフィルタとその製造方法、該製造方法に用いるインクジェット用のインクに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、パーソナルコンピュータの発達、特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、カラー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のためには、コストダウンが必要不可欠となっている。
【0003】
従来、液晶素子の製造方法としては、一対の透明な絶縁性基板であるガラス基板上にTFT(薄膜トランジスタ)のような液晶駆動用素子、或いはカラーフィルタのような着色用光学素子などを設けた後、透明電極及び配向膜をそれぞれ形成する。次に、透明電極及び配向膜が形成された一方のガラス基板全面に一般に3〜10μm程度のシリカ、アルミナ、合成樹脂等からなる真球或いは円筒状の粒子をスペーサーとして分散させる。透明電極を対向させた状態で上記一対のガラス基板を上記スペーサーを介して重ね合わせ、その間隙に液晶を封入することにより液晶素子が構成される。
【0004】
ところが、有効画素部(透光部)では透過/遮光状態が表示状態によって変化するため、上記スペーサーを無色透明な素材で形成した場合には、遮光時に輝点として、また、黒色に着色した場合には透過時に黒点として観察されることとなり、表示品位が低下するという問題があった。
【0005】
上記問題を解決するために、特開昭61−173221号公報、特開平2−223922号公報などに示されるように、配向膜に配向処理を行った後、感光性ポリイミドやフォトレジストを塗布し、マスクを通して露光することで有効画素部以外にポリイミドやレジストからなるスペーサーを形成するという方法が提案されている。これらの方法によれば、任意の場所に、任意の密度でスペーサーを形成することができるため、液晶を封入した際の液晶セルギャップの不均一性を改善できる。また、特開平3−94230号公報には、有効画素部以外の領域の遮光層上にビーズスペーサーを固定する方法が述べられている。
【0006】
その他にも、膜厚の大きなブラックマトリクスをスペーサーとする方法(特開昭63−237032号公報、特開平3−184022号公報、特開平4−122914号公報等)、重ねた着色レジストをスペーサーとする方法(特開昭63−82405号公報)、ブラックマトリクス上にも着色パターンを形成し、スペーサーとする方法(特開昭63−237032号公報)などが提案されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記各公報に提案された改善方法は、いずれもフォトリソグラフィーを用いた方法であるため、高価な露光機が必要であり、また現像などのウエットプロセスの導入により、製造ラインが長くなるという問題があった。
【0008】
また、上記各改善方法では、全面に感光性ポリイミドやフォトレジストを塗布し、塗工後は不要部を溶剤などにより除去することから、有効画素部の汚染が問題であった。特に、ラビング法などにより配向処理を行ったポリイミド膜などの配向膜上にスペーサーを形成する場合には、スペーサー形成工程において配向膜に施された配向処理状態を著しく汚染、破壊してしまう場合があり、液晶セル内に注入された液晶の配向が不均一となる懸念があった。
【0009】
また、スペーサーは、基板間の距離(セルギャップ)を一定に保持する上で少なくとも一方の基板表面に確実に固定されていることが望ましい。
【0010】
本発明の目的は、セルギャップ保持機能が良好で、表示に影響の無いスペーサーを備え、表示品位に優れた液晶素子をより安価に提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方法は、複数の開口部を有する遮光層を設けた透明基板上の全面に、樹脂組成物からなるインク受容層を形成し、該インク受容層にインクジェット方式により着色インクを付与して着色し、カラーフィルタを形成する工程、
該カラーフィルタ上に、保護膜、透明導電膜をこの順に形成する工程、
該透明導電膜上の上記遮光層に重複する領域に部分的にインクジェット方式によりスペーサー形成材を付与し、該ビーズをカラーフィルタ上に固定してスペーサーを形成する工程と、
を少なくとも有し、
該スペーサー形成材は、ビーズと接着剤より形成され、
接着剤がN,N−ジメチロールアクリルアミドとメタクリル酸メチルの2元共重合体を含み、ビーズがジビニルベンゼン架橋ポリスチレンであり、
ビーズの比重と接着剤の比重との比が0.9〜1.1であることを特徴とする。
また本発明の液晶素子の製造方法は、複数の開口部を有する遮光層を設けた透明基板上の全面に、樹脂組成物からなるインク受容層を形成し、該インク受容層にインクジェット方式により着色インクを付与して着色し、カラーフィルタを形成する工程、
該カラーフィルタ上に、保護膜、透明導電膜をこの順に形成する工程、
該透明導電膜上の上記遮光層に重複する領域に部分的にインクジェット方式によりスペーサー形成材を付与し、該ビーズをカラーフィルタ上に固定してスペーサーを形成する工程と、
スペーサー付きカラーフィルタと対向基板との間に液晶を封入する工程と、
を有し、
該スペーサー形成材は、ビーズと接着剤より形成され、
接着剤がN,N−ジメチロールアクリルアミドとメタクリル酸メチルの2元共重合体を含み、ビーズがジビニルベンゼン架橋ポリスチレンであり、
ビーズの比重と接着剤の比重との比が0.9〜1.1であることを特徴とする。
【0018】
本発明においては、スペーサーをインクジェット方式により形成するため、遮光層上の表示に影響を及ぼさない領域にのみ選択的に形成することができ、また、スペーサーとしてビーズがカラーフィルタに固定されているため、配向膜形成工程等液晶素子製造工程中、及び製造後の該スペーサーの脱離が防止される。
【0019】
また、本発明のビーズ入りスペーサー形成材は、ビーズと接着剤の比重を規定することによって、該形成材中でビーズの沈降または浮上がなく、カラーフィルタ上に均一にビーズを散布することができるため、所望の位置に所望の個数のビーズを配置させることができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して本発明を詳細に説明する。
【0021】
図1〜図2は、本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方法の一実施形態の工程図である。図中、1は透明基板、2はブラックマトリクス、3はインク受容層、4はフォトマスク、5は非着色部、6は被着色部、7はインクジェットヘッド、8は着色インク、9は着色部、10は保護層、11は透明電極、12はインクジェットヘッド、17はビーズ15を接着剤16に分散してなる本発明のビーズ入りスペーサー形成材、18はビーズ15を固定してなるスペーサーである。尚、図1〜図2の(a)〜(g)はそれぞれ以下の工程(a)〜(g)にそれぞれ対応する断面模式図である。
【0022】
工程(a)
透明基板1上に、開口部を有する遮光層としてブラックマトリクス2を形成し、その上に樹脂組成物からなるインク受容層3を全面に形成する。本発明において透明基板1としては、一般にガラス基板が用いられるが、液晶素子としての透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであればガラス基板に限定されるものではなく、プラスチック基板なども用いることができる。本発明にかかる遮光層は、ブラックストライプであっても良い。
【0023】
ブラックマトリクス2としては特に制限はなく、公知のものを用いることができる。例えば、透明基板1上に形成したCr等の金属や金属酸化物などの積層膜をパターン状にエッチングしたり、透明基板1上に塗布した黒色レジストをパターニングすることにより、形成することができる。
【0024】
インク受容層3は、光照射や熱処理、或いはその両方により硬化する樹脂組成物からなり、インク吸収性を有する。特に好ましくは、光照射によってインク吸収性が増加或いは低減する感光性樹脂組成物で形成し、後述するパターン露光によって隣接する被着色部6間に非着色部5を形成して混色防止を図る。このような感光性樹脂組成物としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレン系樹脂などが必要に応じて光開始剤(架橋剤)と併せて用いられる。本実施形態は、光照射によってインク吸収性が低下するネガ型の感光性樹脂組成物を用いた例である。
【0025】
上記感光性樹脂組成物は透明基板1上にスピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、バーコート法、スリットコート法等の公知の手段により塗布し、必要に応じてプリベークしてインク受容層3とする。
【0026】
尚、インク受容層3は光照射によってインク吸収性が増加または低減すると同時に、インクぬれ性も増加または低減するものが好ましい。
【0027】
工程(b)
フォトマスク4を介してパターン露光を行うことにより、インク吸収性を有する被着色部6とインク吸収性が被着色部6より低い(或いは無い)非着色部5を形成する。本例では、インク受容層3の感光性がネガ型であり、この場合、ブラックマトリクス2の開口部における色抜けを防止するために、着色部9をブラックマトリクス2の開口部よりも広く形成する意味から、ブラックマトリクス2の幅よりも非着色部5の幅が狭くなるような開口パターンを有するフォトマスクを用いることが好ましい。
【0028】
また、インク受容層3の感光性がポジ型の場合には、ブラックマトリクス2をフォトマスクとして用い、透明基板1の裏面から露光することにより、フォトマスクを用いずにパターン露光することが可能である。
【0029】
工程(c)
インク受容層の被着色部6にインクジェットヘッド7より、所定の着色パターンに沿ってR(赤)、G(緑)、B(青)の各着色インク8を付与する。本実施形態では、隣接する被着色部6間にはインク吸収性が低い(或いはない)非着色部5が介在するため、被着色部6からはみ出したインクは非着色部5においてはじかれ、隣接する被着色部6間での混色が防止される。
【0030】
本発明において用いられる着色インク8としては、染料系、顔料系のいずれでも用いることができ、インクジェット方式によって吐出が可能なものであれば好ましく用いることができる。
【0031】
また、本発明において用いられるインクジェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着色面積及び着色パターンは任意に設定することができる。
【0032】
工程(d)
着色インク8が被着色部6に吸収され十分に拡散した後、必要に応じて乾燥処理を施し、さらに光照射、熱処理等必要な処理を施してインク受容層全体を硬化させ、非着色部5と着色部9からなる着色層を形成する。
【0033】
工程(e)
護層10及び液晶を駆動するための電極となる透明導電膜11を形成する。保護層10としては、光硬化型、熱硬化型、或いは熱・光併用硬化型の樹脂組成物層、或いは蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることができる。いずれの場合も、カラーフィルタとしての透明性を有し、その後の透明導電膜形成工程や配向膜形成工程等液晶素子の製造工程に耐えるものであれば使用することができる。透明導電膜11としては、通常ITO(インジウム・チン・オキサイド)膜が用いられ、スパッタ法等により成膜することができる。
【0035】
工程(f)
インクジェットヘッド12より、ビーズ入りスペーサー形成材17をブラックマトリクス2に重複する領域に部分的に付与する。
【0036】
本発明のビーズ入りスペーサー形成材は当該工程において好ましく用いられるスペーサー形成材であり、接着剤16にビーズ15を分散してなり、カラーフィルタ上に付与した後に該接着剤16を硬化させることによってビーズ15をカラーフィルタ上に固定し、スペーサー18とするものである。
【0037】
本発明のビーズ入りスペーサー形成材は、インク中におけるビーズの沈降或いは浮上を防止する上で、ビーズの比重と接着剤の比重との比が0.9〜1.1であり、望ましくは0.95〜1.05である。
【0038】
また、本発明のビーズ入りスペーサー形成材中に含まれるビーズとしては、液晶素子のセルギャップを保持する上で、粒径が0.8〜10μmのものが好ましく用いられ、スペーサー形成材中に好ましくは0.1〜50重量%、さらに好ましくは1〜30重量%の割合で含有させる。また、該スペーサー形成材を良好に吐出する上で、接着剤の粘性は好ましくは2〜100cps、さらに好ましくは3〜50cpsに調製される。
【0039】
本発明のビーズ入りスペーサー形成材に用いられるビーズとしては、例えば、ガラス、シリカ、金属酸化物(MgO、Al23)などの無機化合物の多孔質体もしくは非多孔質体、中空体や、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアクリル、ナイロン、シリコーン樹脂などのプラスチック類などが好ましく用いられ、特に多孔質素材のビーズを適宜選択することで比重の調整を行うことができる。
【0040】
また、本発明のビーズ入りスペーサー形成材に用いられる接着剤は、カラーフィルタ上に付与した後に硬化してビーズを固定しうるものであり、好ましくは光照射や熱処理、或いはその両方により硬化する樹脂組成物が用いられる。具体的には、以下に挙げるような単量体の単独重合体或いは該単量体と他のビニル系単量体との共重合体を含有する組成物が好ましく、該単量体及び共重合体の接着剤中の含有量は0.01〜30重量%が好ましく、特に0.1〜10重量%が望ましい。
【0041】
上記接着剤に含有される重合体或いは共重合体の構成成分である単量体としては、例えば、N,N−ジメチロールアクリルアミド、N,N−ジメトキシメチルアクリルアミド、N,N−ジエトキシメチルアクリルアミド、N,N−ジメチロールメタクリルアミド、N,N−ジメトキシメチルメタクリルアミド、N,N−ジエトキシメチルメタクリルアミド等が挙げられるが、これらに限られるものではない。これらの単量体は単独重合体、或いは、他のビニル系単量体との共重体で用いられる。他のビニル系単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、ヒドロキシメチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基を含有したビニル系単量体、その他スチレン、α−メチルスチレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、アリルアミン、ビニルアミン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等を挙げることができる。
【0042】
上記共重合体における、上記単量体と他のビニル系単量体との共重合割合(重量%)は、100%:0%〜5%:95%が好ましく、特に90%:10%〜10%:90%が望ましい。
【0043】
さらに、光硬化させる場合には、各種光硬化性樹脂、光重合開始剤を加えても良い。また、スペーサー形成材中で固着等の問題を起こすものでなければ、他の成分として、様々な市販の樹脂や添加剤を加えても良い。具体的には、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等が好適に用いられる。
【0044】
接着剤の調製に際しては、上記各成分を水/または公知の溶剤で混合、溶解する。この操作は、それ自体公知のものが利用できる。望ましくは、カラーフィルタ表面の材質(本実施形態では透明導電膜11)によって添加溶剤或いは界面活性剤などの添加剤を加えて比重や粘性を調製する。
【0045】
また、ビーズ入りスペーサー形成材17は、液晶素子を構成した際にセルギャップを保持するために必要な部位にのみ、基板内に複数箇所、分散して付与すればよい。
【0046】
ビーズ入りスペーサー形成材17の付与に用いるインクジェット方式としては、圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ等が好ましく使用できる。また、ビーズ入りスペーサー形成材の打ち込み位置、及び打ち込み量は任意に設定することができる。
【0047】
工程(g)
光照射、熱処理、或いは光照射と熱処理の両方を行ってビーズ入りスペーサー形成材17の接着剤16を硬化させて透明導電膜11にビーズ15を固定し、スペーサー18とし、本発明のスペーサー付カラーフィルタを得る。光照射や熱処理の方法は公知の方法による。
【0048】
次に、図4に本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方法の他の実施形態の工程を示す。図中、図1〜図2と同じ部材には同じ符号を付して説明を省略する。また、図中、32はブラックマトリクス、37はインクジェットヘッド、38は硬化型着色インク、39は着色部である。尚、図4の(a)〜(f)はそれぞれ以下の工程(a)〜(f)にそれぞれ対応する断面模式図である。
【0049】
工程(a)
透明基板1上に開口部を有するブラックマトリクス32を黒色樹脂組成物で形成する。該ブラックマトリクス32は、着色部39を形成するための硬化型着色インク38の混色を防止する隔壁機能を備えている。このような黒色樹脂組成物としては、感光性を備えたものが好ましく、具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレン系樹脂などが必要に応じて光開始剤(架橋剤)と併せて用いられ、黒色染料或いは顔料を混合して用いる。
【0050】
上記感光性黒色樹脂組成物は、スピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、バーコート法、スリットコート法等の公知の手段により塗布され、必要に応じてプリベークした後、パターン露光、現像して所定のパターンを有するブラックマトリクス32が得られる。
【0051】
工程(b)
ブラックマトリクス32の開口部にインクジェットヘッド37より硬化型着色インク38を付与する。硬化型着色インク38としては、光照射や熱処理などのエネルギー付与により硬化する樹脂とR、G、Bの染料或いは顔料を含有する着色樹脂組成物が用いられる。上記樹脂としては、メラミン樹脂、水酸基或いはカルボキシル基含有ポリマーとメラミン、水酸基或いはカルボキシル基含有ポリマーと多官能エポキシ化合物、水酸基或いはカルボキシル基含有ポリマーと繊維素反応型化合物、エポキシ樹脂とレゾール型樹脂、エポキシ樹脂とアミン類、エポキシ樹脂とカルボン酸又は酸無水物、エポキシ化合物、ネガ型レジストなどが用いられる。
【0052】
また、インクジェット方式としては、前記第一の実施形態における着色インクの付与工程と同様に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着色パターンは任意に設定することができる。
【0053】
工程(c)
必要に応じて、乾燥処理を施し、光照射及び熱処理等必要な処理を施して硬化型着色インク38を硬化し、着色部39を形成する。本実施形態では、着色部39がカラーフィルタの着色層に相当する。
【0054】
工程(d)
図1(e)と同様に、保護層10及び透明導電膜11を形成する。
【0055】
工程(e)
図2(f)と同様に、インクジェットヘッド12よりビーズ入りスペーサー形成材17をブラックマトリクス2に重複する領域に部分的に付与する。
【0056】
工程(f)
図2(g)と同様に、必要な処理を施してビーズ入りスペーサー形成材17の接着剤16を硬化し、透明導電膜11にビーズ15を固定してスペーサー18とし、本発明のスペーサー付カラーフィルタを得る。
【0057】
上記図1〜図2、図4には、インクジェット方式によりカラーフィルタの着色層を形成する工程を示したが、本発明においては特にこれに限定されるものではなく、従来の顔料分散法等により着色層を形成したカラーフィルタにも好ましく適用される。尚、インクジェット方式による製造方法に従えば、顔料分散法等によって製造されたカラーフィルタに比較して、凹凸の少ない平坦な着色層を得ることが可能であるため、本発明をより効果的に実施することができる。
【0058】
次に、本発明の液晶素子の一例を図3に示す。図3は、図2(g)に示した本発明のスペーサー付カラーフィルタを用いて構成した液晶素子の一例の断面模式図である。図中、21は対向基板、22は画素電極、23,25は配向膜、24は液晶である。本液晶素子は、画素毎にTFT(薄膜トランジスタ)を配置したアクティブマトリクスタイプ(いわゆるTFT型)の液晶素子の一例である。
【0059】
カラー表示の液晶素子は、一般的にカラーフィルタ側の基板1と対向基板21を合わせ込み、液晶24を封入することにより形成される。対向基板21の内側に、TFT(図示しない)と透明な画素電極22がマトリクス状に形成される。また、透明基板1の内側には、画素電極22に対向する位置に、R、G、Bが配列するようにカラーフィルタの着色部9が設置され、その上に透明導電膜11(共通電極)が一面に形成される。さらに、両基板の面内には配向膜23,25が形成されており、これらをラビング処理することにより液晶分子を一定方向に配列させることができる。これらの基板間の距離はスペーサー18により一定に保持され、対向配置されてシール材(図示しない)によって貼り合わされ、その間隙に液晶24が充填される。液晶としては一般的に用いられているTN型液晶や強誘電性液晶等いずれも用いることができる。
【0060】
上記液晶素子は、透過型の場合には両基板の外側に偏光板を設置し、一般的に蛍光灯と散乱板を組み合わせたバックライトを用い、反射型の場合には透明基板1の外側に偏光板を設置して、それぞれ液晶24を光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行う。
【0061】
上記実施形態においては、TFT型の液晶素子について説明したが、本発明は単純マトリクス型等他の駆動タイプの液晶素子にも好ましく適用される。また、本発明の液晶素子は直視型でも投写型でも好適に用いられる。
【0062】
【実施例】
開口部の大きさが60μm×150μmで幅が20μm及び35μmのCrからなるブラックマトリクスの形成されたガラス基板上に、下記に示す組成からなるアクリル系共重合体97重量部及びトリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート3重量部をエチルセルソロブに溶解してなる樹脂組成物を膜厚2μmとなるようスピンコートし、90℃で20分間のプリベークを行ってインク受容層を形成した。
【0063】
〔アクリル系共重合体の組成〕
メチルメタクリレート 50重量部
ヒドロキシエチルメタクリレート 30重量部
N−メチロールアクリルアミド 20重量部
【0064】
次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭いストライプ状の開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリクス上のインク受容層の一部をストライプ状にパターン露光し、さらに120℃のホットプレート上で1分間の熱処理を施した。次いで、未露光部に対して,インクジェット記録装置を用いてR(赤)、G(緑)、B(青)の染料インクにより、連続するドットでストライプ状のパターンを着色した後、90℃で5分間のインク乾燥を行った。引き続き200℃で60分間の熱処理を行ってインク受容層全体を硬化させ、着色層を得た。
【0065】
上記着色層上に、二液型の熱硬化型樹脂組成物(JSR社製「SS6699G」)を膜厚1μmとなるようスピンコートし、90℃で30分間のプリベークを行った後、250℃で60分間の熱処理を行って保護層を形成した。次いで、スパッタによりITOを厚さ1500Åとなるよう成膜し、カラーフィルターを得た。
【0066】
N,N−ジメチロールアクリルアミドとメタクリル酸メチルの2元共重合体(重量比;40:60)を10重量%、純水80重量%、エチレングリコール10重量%からなる接着剤(比重:0.98)に、粒径が5.5μmのビーズ(ジビニルベンゼン架橋ポリスチレン、比重:1.02)を該ビーズが形成材中で10重量%となるように分散させ、ビーズ入りスペーサー形成材を調製した。このスペーサー形成材の粘度は19cps(25℃)であった。このビーズ入りスペーサー形成材をインクジェットヘッドよりブラックマトリクスに重複する領域内にビーズが部分的に配置するように、上記ITO膜上に付与した。該付与工程において、スペーサー形成材中のビーズは均一であり、ブラックマトリクス上の所望の位置にビーズを付与することができた。さらに、150℃で20分間の加熱処理を行い、上記接着剤を硬化させてビーズをITO膜上に固定し、スペーサー付カラーフィルタを得た。
【0067】
得られたスペーサー付カラーフィルタを用い、カラー表示の液晶素子を作製したところ、良好なカラー画像が表示された。
【0068】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、インクジェット方式により表示に影響しない遮光領域にのみ選択的にスペーサーを形成することができるため、スペーサー形成材の無駄が無く、また、スペーサー下層を現像液等で汚染する心配もない。さらに、スペーサーとしてビーズがカラーフィルタに固定されているため、配向膜形成等後工程及び液晶素子構成後に脱離する恐れが無く、セルギャップが均一に保持された信頼性の高い液晶素子を歩留まり良く、より安価に提供することができる。また、スペーサー形成時に本発明のビーズ入りスペーサー形成材を用いることにより、所望の位置に効率よくビーズを付与してスペーサーを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方法の一実施形態の工程図である。
【図2】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方法の一実施形態の工程図である。
【図3】図2のスペーサー付カラーフィルタを用いて構成した本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図である。
【図4】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方法の他の実施形態の工程図である。
【符号の説明】
1 透明基板
2 ブラックマトリクス
3 インク受容層
4 フォトマスク
5 非着色部
6 被着色部
7 インクジェットヘッド
8 着色インク
9 着色部
10 保護層
11 透明導電膜
12 インクジェットヘッド
15 ビーズ
16 接着剤
17 ビーズ入りスペーサー形成材
18 スペーサー
21 対向基板
22 画素電極
23,25 配向膜
24 液晶
32 ブラックマトリクス
37 インクジェットヘッド
38 硬化型着色インク
39 着色部

Claims (2)

  1. 複数の開口部を有する遮光層を設けた透明基板上の全面に、樹脂組成物からなるインク受容層を形成し、該インク受容層にインクジェット方式により着色インクを付与して着色し、カラーフィルタを形成する工程、
    該カラーフィルタ上に、保護膜、透明導電膜をこの順に形成する工程、
    該透明導電膜上の上記遮光層に重複する領域に部分的にインクジェット方式によりスペーサー形成材を付与し、該ビーズをカラーフィルタ上に固定してスペーサーを形成する工程と、
    を少なくとも有し、
    該スペーサー形成材は、ビーズと接着剤より形成され、
    接着剤がN,N−ジメチロールアクリルアミドとメタクリル酸メチルの2元共重合体を含み、ビーズがジビニルベンゼン架橋ポリスチレンであり、
    ビーズの比重と接着剤の比重との比が0.9〜1.1であることを特徴とするスペーサー付カラーフィルタの製造方法。
  2. 複数の開口部を有する遮光層を設けた透明基板上の全面に、樹脂組成物からなるインク受容層を形成し、該インク受容層にインクジェット方式により着色インクを付与して着色し、カラーフィルタを形成する工程、
    該カラーフィルタ上に、保護膜、透明導電膜をこの順に形成する工程、
    該透明導電膜上の上記遮光層に重複する領域に部分的にインクジェット方式によりスペーサー形成材を付与し、該ビーズをカラーフィルタ上に固定してスペーサーを形成する工程と、
    スペーサー付きカラーフィルタと対向基板との間に液晶を封入する工程と、
    を有し、
    該スペーサー形成材は、ビーズと接着剤より形成され、
    接着剤がN,N−ジメチロールアクリルアミドとメタクリル酸メチルの2元共重合体を含み、ビーズがジビニルベンゼン架橋ポリスチレンであり、
    ビーズの比重と接着剤の比重との比が0.9〜1.1であることを特徴とする液晶素子の製造方法。
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