JP2001183517A

JP2001183517A - カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子

Info

Publication number: JP2001183517A
Application number: JP36867899A
Authority: JP
Inventors: Shoji Shiba; 昭二芝; Hiroshi Sato; 博佐藤
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1999-12-27
Filing date: 1999-12-27
Publication date: 2001-07-06

Abstract

(57)【要約】【課題】カラーフィルタ上の所望の位置に所望の高さ
のスペーサーを均一に形成し、表示不良のない液晶素子
を構成する。【解決手段】透明基板２上に着色部４を形成した基材
１上の所望の領域に、ポジ型フォトレジストパターン８
を形成し、パターン露光してスルーホール１０を形成
し、該スルーホール１０にインクジェットヘッド１１よ
り硬化型樹脂組成物１２を充填して硬化させ、スペーサ
ー１３を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用されて
いるカラー液晶ディスプレイの構成部材であるカラーフ
ィルタとその製造方法に関し、さらには、該カラーフィ
ルタを用いた液晶素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高ま
っている。

【０００３】そこで、これらの要求を満足すべく、イン
クジェット記録技術を利用したカラーフィルタの製造方
法がさかんに検討されており（特開昭５９−７５２０５
号公報、特開昭６３−２３５９０１号公報、特開平１−
２１７３２０号公報）、本発明者等も、先にインクジェ
ット記録技術を利用して赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
の着色部を形成する方法として、特許第２８７２５９４
号、同２８７２５９５号、同２８７２５９６号等の提案
を行っている。

【０００４】しかしながら、ここ数年の液晶ディスプレ
イの小型化、高精細化は著しく、さらなるコストダウン
はもちろんのこと、表示の信頼性向上に対する要求が高
まっている。液晶ディスプレイにおける表示不良の原因
の一つとして、セルギャップ（液晶層の厚さ）の不均一
性に起因するものがある。通常、セルギャップを均一に
するためには、スペーサーを用い、液晶層を狭持する基
板間にスペーサーを均一に分散させる方法をとっている
が、スペーサーの分散が不均一な場合、液晶層の厚みが
部分的に異なり、表示ムラが発生する。また、スペーサ
ーが部分的に塊状になった場合には、光が散乱し、やは
り表示ムラが発生する。

【０００５】スペーサーには、一般的に樹脂やシリカの
ビーズ、或いはガラスファイバー等が用いられ、これら
を基板上に均一に分布させる方法としては、（１）フロ
ンやアルコールなどの低沸点溶媒中に超音波などを利用
してスペーサーを分散させておき、該分散液を基板上に
噴霧した後溶媒を除去する方法、（２）静電気や気流を
利用して基板上に分散させる方法、等がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た分散方法を用いた場合、スペーサーを基板上にランダ
ムに分布させるために、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素部上にもスペ
ーサーが乗ってしまい、表示不良の原因となるという問
題があった。特に、上記方法では、スペーサーの凝集を
完全に防止することが困難であり、部分的に塊状になっ
たスペーサーによって光が散乱し、表示不良の原因とな
ってしまう。

【０００７】そこで、近年、これらの問題を解決するス
ペーサーの形成方法として、ネガ型の感光性樹脂組成物
を直接パターニングする方法が検討されている。この方
法においては、画素部上を避けて所定の場所に、所定数
のスペーサーを再現性良く形成することが可能である。

【０００８】しかしながら、この方法で均一な高さを有
するスペーサーを大型基板上に形成するためには、基板
上に塗布する感光性樹脂組成物層の厚さを極めて精度良
く制御する必要がある。そのため、感光性樹脂組成物層
の形成にはスピンコート法を用いる必要があり、材料の
大半が無駄になってしまう。また、下地基板の表面凹凸
が大きい場合には、膜厚の制御が困難であるという問題
もあった。

【０００９】本発明の課題は、上記問題点を解決し、カ
ラーフィルター上に任意の領域に任意の高さで精度良く
スペーサーを形成しうる製造方法を実現し、該方法を用
いて安価にスペーサー付きのカラーフィルタを提供し、
均一なセルギャップで表示特性に優れたカラー表示の液
晶素子を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造方法は、透明基板上に複数の着色部を有する着色
層を少なくとも備えた基材上にスペーサーを有するカラ
ーフィルタの製造方法であって、上記基材上にポジ型フ
ォトレジストパターンを印刷する工程と、上記ポジ型フ
ォトレジストパターンに基材まで達するスルーホールを
形成する工程と、上記スルーホールにインクジェット方
式により硬化型樹脂組成物を充填する工程と、上記硬化
型樹脂組成物を硬化させてスペーサーを形成する工程
と、上記フォトレジストパターンを除去する工程と、を
少なくとも有することを特徴とする。

【００１１】上記本発明は、スクリーン印刷、凹版印
刷、凹版オフセット印刷またはスリットコートにより、
ポジ型フォトレジストパターンを印刷すること、上記基
材が着色層上に保護層、透明導電膜の少なくとも一方を
有すること、該基材が保護層或いは透明導電膜上に配向
膜を有すること、を好ましい態様として含むものであ
る。

【００１２】また、本発明は、透明基板と、該基板上に
形成された複数の着色部を有する着色層と、該着色層上
に形成された樹脂組成物からなるスペーサーとを少なく
とも有し、上記本発明の製造方法により製造されたこと
を特徴とするカラーフィルタ、及び、一対の基板間に液
晶を狭持してなり、一方の基板が上記本発明のカラーフ
ィルタを用いて構成されていることを特徴とする液晶素
子を提供するものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタの製造方
法は、透明基板上に複数の着色部を有する着色層を少な
くとも備えた基材上にスペーサーを形成したスペーサー
付きのカラーフィルタを製造する方法であり、該基材と
しては、顔料分散法や染色法、電着法などによるカラー
フィルタ等、従来のカラーフィルタをいずれも用いるこ
とができるが、特に、先に挙げたインクジェット方式を
用いて形成したカラーフィルタは、顔料分散法によるカ
ラーフィルタに比較して、凹凸の少ない平坦な着色層を
得ることが可能であるため、本発明をより効果的に実施
することができ、好ましい。

【００１４】また、本発明に用いる基材としては、上記
着色層上に保護層を備えたカラーフィルタ、着色層上或
いは上記保護層上に液晶素子を構成した際の液晶の駆動
用電極となる透明導電膜を形成したカラーフィルタ、或
いは、さらに配向膜を形成したカラーフィルタのいずれ
でも用いることができる。

【００１５】以下、本発明のカラーフィルタの製造方法
を実施形態を挙げて説明する。本実施形態は、インクジ
ェット方式により着色層を形成した基材を用いて本発明
のカラーフィルタを製造する方法である。インクジェッ
ト方式によりカラーフィルタの着色層を形成する方法と
しては、透明基板上に感光性樹脂組成物からなるインク
受容層を形成し、該インク受容層をパターン露光してイ
ンク受容能を有する被着色部と、該被着色部よりもイン
ク受容能の低い非着色部を形成し、該被着色部にインク
ジェットヘッドよりインクを吐出して着色し、着色部を
形成する方法、或いは、透明基板上に開口部を有する樹
脂層を形成し、該樹脂層の開口部を被着色部としてイン
クジェットヘッドより硬化型着色樹脂組成物からなるイ
ンクを吐出して硬化し、着色部を形成する方法が好まし
く用いられる。以下に示す実施形態は、インク受容層を
着色する形態である。

【００１６】図１に本実施形態の工程を模式的に示す。
図中の１は基材、２は透明基板、３はブラックマトリク
ス、４は着色部、５は非着色部、６は保護層、７は透明
導電膜、８はポジ型フォトレジストパターン、９はフォ
トマスク、１０はスルーホール、１１はインクジェット
ヘッド、１２は硬化型樹脂組成物、１３はスペーサーで
ある。尚、図１の（ａ）〜（ｄ）はそれぞれ、下記工程
（ａ）〜（ｄ）に対応する断面模式図である。

【００１７】工程（ａ）基材１上にポジ型フォトレジストパターン８を印刷す
る。本実施形態に用いられる基材１は、透明基板２上に
ブラックマトリクス３と、着色部４と非着色部５からな
る着色層と、保護層６と、透明導電膜７を備えている。

【００１８】本発明で用いられる透明基板２としては、
一般にガラスが用いられるが、カラーフィルタの透明性
を損なわず、強度等必要な特性を備えたものであれば、
プラスチック等も用いることができる。また、ブラック
マトリクス３は必要に応じて形成され、ブラックストラ
イプでも良く、その膜厚は、通常０．１〜０．５μｍ程
度であり、透明基板１上にクロム等金属をスパッタ或い
は蒸着等により成膜し、フォトリソ工程によりパターニ
ングして得られる。また、ブラックマトリクス３は後述
するインク受容層上に形成しても良く、金属以外にも黒
色樹脂等を用いて形成しても良い。

【００１９】透明基板１上に全面に光照射によりインク
受容能が変化する感光性樹脂組成物からなるインク受容
層を形成し、パターン露光してインク受容能の有する被
着色部と該被着色部よりもインク受容能の低い（或いは
ない）非着色部５を形成する。被着色部にはインクジェ
ット方式により所定の着色パターンに従って、Ｒ、Ｇ、
Ｂの各インクを付与して着色して着色部とし、必要に応
じて乾燥、加熱、光照射等の処理を施して着色部４と非
着色部５からなる着色層を形成する。

【００２０】上記着色層上に必要に応じて、光硬化型、
熱硬化型、或いは熱・光併用硬化型の樹脂組成物層、或
いは蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等、カ
ラーフィルタとしての透明性を有し、その後のＩＴＯ形
成工程、配向膜形成工程等に耐える素材からなる保護層
６を形成する。

【００２１】さらに、保護層６上に、必要に応じてＩＴ
Ｏ等透明導電材からなる透明導電膜７を形成する。

【００２２】上記基材１上に、印刷によりポジ型フォト
レジストパターン８を形成する。ポジ型フォトレジスト
としては、一般に市販されているレジスト素材を用いる
ことができるが、ここで用いられるフォトレジストは、
後述するスペーサー形成素材である硬化型樹脂組成物に
対して溶解性のないものを用いる必要がある。また、該
フォトレジストは、少なくとも形成するスペーサーの高
さと同じ膜厚に形成する必要があることから、フォトレ
ジストパターンの形成方法としては、比較的厚膜の形成
が可能な、スクリーン印刷、凹版印刷、凹版オフセット
印刷、或いはスリットコート法のいずれかが好ましく選
択される。

【００２３】工程（ｂ）フォトマスク９を介してポジ型フォトレジストパターン
８にパターン露光を施し、露光された領域のフォトレジ
ストを除去してレジストパターン８に基材１に達するス
ルーホール１０を形成する。

【００２４】工程（ｃ）レジストパターン８に形成したスルーホール１０に、イ
ンクジェットヘッド１１から硬化型樹脂組成物１２を付
与し、充填する。スペーサー１３の高さはスルーホール
１０内に充填する硬化型樹脂組成物１２の量によって規
定される。即ち、各スルーホール１０内に充填する硬化
型樹脂組成物１２の量を一定にすることにより、一定の
高さのスペーサーを再現性良く形成することが可能であ
る。そのため、各スルーホール１０に対する硬化型樹脂
組成物１２の付与量は、厳密に制御する必要があるが、
印刷により形成するフォトレジストパターン８の膜厚
は、硬化型樹脂組成物１２がスルーホール１０から溢れ
出さないように、形成するスペーサー１３の高さよりも
厚く設定しておけば良く、特に厳密に制御する必要はな
い。

【００２５】さらに、レジストパターン８は、スペーサ
ー１３を形成しようとする場所にのみ形成すれば良く、
効率よくレジスト材を使用することができる。

【００２６】本発明で用いられるスペーサー１３の形成
素材である硬化型樹脂組成物１２としては、熱硬化型或
いは光硬化型の樹脂組成物が使用可能であり、さらにイ
ンクジェット方式により吐出可能なものであれば、溶剤
含有の可否は特に限定されるものではなく、エポキシ系
樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、イミド系樹
脂等が使用可能である。

【００２７】また、インクジェットヘッドとしては、エ
ネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジ
ェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェット
タイプ等が使用可能である。

【００２８】工程（ｄ）次いで、スルーホール１０内の硬化型樹脂組成物１２を
熱処理や光照射等必要な処理を施して硬化させた後、レ
ジストパターン８を除去し、スペーサー１３を得る。硬
化型樹脂組成物１２の硬化時に施す熱処理或いは光照射
によって、レジストパターン８が変質し、その除去性が
低下する場合には、少ないエネルギーで樹脂組成物１２
を仮硬化させておき、レジストパターン８の除去後にさ
らにエネルギーを付与して樹脂組成物１２を本硬化させ
ることが好ましい。

【００２９】本発明において、スペーサー１３の形成場
所としては、ブラックマトリクス３上の対応する場所に
選択的に形成することが好ましいが、その形状や単位面
積当たりのスペーサー数は、特に限定されるものではな
い。また、スペーサー１３の断面積は、ブラックマトリ
クス３により遮光される部分の面積よりも小さくするこ
とが好ましい。

【００３０】図２に上記実施形態で得られるカラーフィ
ルタの平面模式図を示す。図中、図１と同じ部材には同
じ符号を付した。また、１４はブラックマトリクス３の
開口部で規定される着色画素部である。

【００３１】次に、図３に本発明の液晶素子の一実施形
態の断面模式図を示す。本実施形態は、図１の工程によ
り得られた本発明のカラーフィルタを用いて、ＴＦＴ型
カラー液晶素子を構成した例である。図中、２１は対向
基板、２２は画素電極、２３，２４は配向膜、２５は液
晶であり、図１と同じ部材には同じ符号を付して説明を
省略する。

【００３２】カラー液晶素子は、一般的にカラーフィル
タ側の基板１と対向基板２１とを合わせ込み、液晶２５
を封入することにより形成される。液晶素子の一方の基
板２１の内側に、ＴＦＴ（不図示）と画素電極２２がマ
トリクス状に形成されている。また、カラーフィルタ側
の基板１の内側には、画素電極２２に対向する位置に、
Ｒ、Ｇ、Ｂが配列するように、カラーフィルタの着色部
４が形成され、その上に透明な共通電極７が形成され
る。ブラックマトリクス３は、通常カラーフィルタ側に
形成されるが、ＢＭオンアレイタイプの液晶素子等対向
基板２１側に形成される場合もある。さらに、両基板の
面内には配向膜２３，２４が形成されており、液晶分子
を一定方向に配列させている。これらの基板は、スペー
サー１３を介して対向配置され、シール材（不図示）に
よって貼り合わされ、その間隙に液晶２５が充填され
る。

【００３３】上記液晶素子は、透過型の場合には、基板
２１及び画素電極２２を透明素材で形成し、それぞれの
基板の外側に偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板
を組み合わせたバックライトを用い、液晶化合物をバッ
クライトの光の透過率を変化させる光シャッターとして
機能させることにより表示を行う。また、反射型の場合
には、基板２１或いは画素電極２２を反射機能を備えた
素材で形成するか、或いは、基板２１上に反射層を設
け、透明基板１の外側に偏光板を設け、カラーフィルタ
側から入射した光を反射して表示を行う。

【００３４】また、本発明の液晶素子においては、本発
明のカラーフィルタを用いて構成されていれば、他の部
材については従来の技術をそのまま用いることができる
ことは言うまでもない。

【００３５】

【実施例】（実施例１）（１）基材の形成ブラックマトリクスの形成されたガラス基板上に、下記
に示す組成からなるアクリル系共重合体９７重量部及び
トリフェニルスルホニウムトリフラート３重量部をエチ
ルセロソルブに溶解してなる樹脂組成物を膜厚が２μｍ
となるようにスピンコートし、９０℃で２０分間のプリ
ベークを行ってインク受容層を形成した。

【００３６】〔アクリル系共重合体の組成〕メチルメタクリレート５０重量部ヒドロキシエチルメタクリレート３０重量部Ｎ−メチロールアクリルアミド２０重量部

【００３７】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
いストライプ状の開口部を有するフォトマスクを介し
て、ブラックマトリクス上のインク受容層の一部をスト
ライプ状にパターン露光し、さらに１２０℃のホットプ
レート上で１分間の熱処理を施し、非着色部を形成し
た。次に、上記インク受容層の未露光部に対して、イン
クジェット記録装置を用いて、Ｒ、Ｇ、Ｂの染料インク
を付与し、連続するドットでストライプ状のパターンを
着色した後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引
き続き、３００℃で６０分間の熱処理を行って、インク
受容層全体を硬化させ、着色層を得た。

【００３８】上記着色層上に、二液型の熱硬化型樹脂組
成物（ＪＳＲ製「ＳＳ６６９９Ｇ」）を膜厚が１μｍと
なるようにスピンコートし、９０℃で３０分間のプリベ
ークを行った後、２５０℃で６０分間の熱処理を行っ
て、保護層を形成した。次いで、スパッタ法によりＩＴ
Ｏを厚さ１５００Åとなるように成膜し、スペーサー形
成基材であるカラーフィルタを形成した。

【００３９】（２）スペーサーの形成上記の工程で得られた基材上のブラックマトリクスに対
応する位置に、１００μｍ×１００μｍのポジ型フォト
レジストパターンを複数個、膜厚が５μｍとなるように
スクリーン印刷により形成し、所定の露光及び現像処理
を行って、直径２０μｍのスルーホールを形成した。次
いで、インクジェット記録装置を用い、各スルーホール
に対してエポキシ化合物及び酸無水物からなる熱硬化型
の樹脂組成物を、スルーホールの容積よりも少なくなる
ように所定量付与し、１２０℃で２０分間の熱処理を行
って、該樹脂組成物を仮硬化させた。

【００４０】次いで、アセトンを用いて上記レジストパ
ターンを熔解除去した後、２００℃で３０分間の熱処理
を行って、熱硬化型の樹脂組成物を完全に硬化させ、ス
ペーサーを形成した。このようにして形成されたスペー
サー１００箇所に関して、ＩＴＯ膜からの高さを測定し
たところ、平均高さは３．０μｍ、高さのバラツキは
０．２μｍ以下であった。

【００４１】（実施例２）ＩＴＯ膜を形成していない基
材を用いた以外は、実施例１と同様にしてスペーサー付
きのカラーフィルタを形成した。得られたスペーサー１
００箇所に関して、ＩＴＯ膜からの高さを測定したとこ
ろ、平均高さは３．０μｍ、高さのバラツキは０．２μ
ｍ以下であった。

【００４２】（実施例３）保護層及びＩＴＯ膜を形成し
ていない基材を用いた以外は、実施例１と同様にしてス
ペーサー付きのカラーフィルタを形成した。得られたス
ペーサー１００箇所に関して、ＩＴＯ膜からの高さを測
定したところ、平均高さは３．０μｍ、高さのバラツキ
は０．２μｍ以下であった。

【００４３】（実施例４）実施例１と同じ基材に、１５
０μｍ×１５０μｍのポジ型フォトレジストパターンを
膜厚が７μｍとなるように凹版印刷により形成し、所定
の露光及び現像処理を行って、直径２０μｍのスルーホ
ールを形成した。次いで、インクジェット記録装置を用
いて各スルーホールに対してポリイミド樹脂を、スルー
ホールの容積より少なくなるように所定量付与し、１５
０℃で２０分間の熱処理を行って、上記ポリイミド樹脂
を仮硬化させた。

【００４４】次いで、剥離液を用いて上記レジストパタ
ーンを除去した。さらに、２５０℃で６０分間の熱処理
を行って、ポリイミド樹脂を完全に硬化させ、スペーサ
ーを形成した。このようにして形成されたスペーサー１
００箇所に関して、ＩＴＯ膜からの高さを測定したとこ
ろ、平均高さは３．２μｍ、高さのバラツキは０．２μ
ｍ以下であった。

【００４５】（実施例５）実施例１と同じ基材に、直径
１５０μｍのポジ型フォトレジストパターンを膜厚が６
μｍとなるように凹版オフセット印刷により形成し、所
定の露光及び現像処理を行って、直径２０μｍのスルー
ホールを形成した。次いで、インクジェット記録装置を
用いて各スルーホールに対してアクリル系の光硬化型樹
脂を、スルーホールの容積より少なくなるように所定量
付与し、９０℃で２０分間の熱処理を行って、上記光硬
化型樹脂のプリベークを行った後、全面露光を行って光
硬化型樹脂を光硬化させた。

【００４６】次いで、現像液にて上記レジストパターン
を除去した後、２５０℃で６０分間の熱処理を行って、
光硬化型樹脂をキュアし、スペーサーを形成した。この
ようにして形成されたスペーサー１００箇所に関して、
ＩＴＯ膜からの高さを測定したところ、平均高さは３．
５μｍ、高さのバラツキは０．２μｍ以下であった。

【００４７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
所望の位置に均一で所望の高さのスペーサーを、材料を
効率良く用いて形成したカラーフィルタを簡易な工程で
得ることが可能となり、該カラーフィルタを用いて、表
示不良のない信頼性に優れた液晶素子をより安価に提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形
態の工程図である。

【図２】図１の工程で得られるカラーフィルタの平面模
式図である。

【図３】図１のカラーフィルタを用いて構成される、本
発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図である。

【符号の説明】

１基材２透明基板３ブラックマトリクス４着色部５非着色部６保護層７透明導電膜８ポジ型フォトレジストパターン９フォトマスク１０スルーホール１１インクジェットヘッド１２硬化型樹脂組成物１３スペーサー１４着色画素部２１対向基板２２画素電極２３，２４配向膜２５液晶

フロントページの続きＦターム(参考） 2H048 BA64 BB02 BB08 BB14 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FC01 FC12 FD06 GA03 GA06 GA08 GA16 LA12 LA16

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板上に複数の着色部を有する着色
層を少なくとも備えた基材上にスペーサーを有するカラ
ーフィルタの製造方法であって、上記基材上にポジ型フ
ォトレジストパターンを印刷する工程と、上記ポジ型フ
ォトレジストパターンに基材まで達するスルーホールを
形成する工程と、上記スルーホールにインクジェット方
式により硬化型樹脂組成物を充填する工程と、上記硬化
型樹脂組成物を硬化させてスペーサーを形成する工程
と、上記フォトレジストパターンを除去する工程と、を
少なくとも有することを特徴とするカラーフィルタの製
造方法。
【請求項２】スクリーン印刷、凹版印刷、凹版オフセ
ット印刷またはスリットコートにより、ポジ型フォトレ
ジストパターンを印刷する請求項１記載のカラーフィル
タの製造方法。
【請求項３】上記基材が着色層上に保護層、透明導電
膜の少なくとも一方を有する請求項１または２に記載の
カラーフィルタの製造方法。
【請求項４】上記基材が保護層或いは透明導電膜上に
配向膜を有する請求項３記載のカラーフィルタの製造方
法。
【請求項５】透明基板と、該基板上に形成された複数
の着色部を有する着色層と、該着色層上に形成された樹
脂組成物からなるスペーサーとを少なくとも有し、請求
項１〜４のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法
により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項６】一対の基板間に液晶を狭持してなり、一
方の基板が請求項５に記載のカラーフィルタを用いて構
成されていることを特徴とする液晶素子。