JP2872594B2 - カラーフィルターの製造方法及び液晶パネルの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法及び液晶パネルの製造方法Info
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- JP2872594B2 JP2872594B2 JP28661694A JP28661694A JP2872594B2 JP 2872594 B2 JP2872594 B2 JP 2872594B2 JP 28661694 A JP28661694 A JP 28661694A JP 28661694 A JP28661694 A JP 28661694A JP 2872594 B2 JP2872594 B2 JP 2872594B2
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Duplication Or Marking (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カラーテレビ、パーソ
ナルコンピューター、パチンコ遊戯台等に使用されてい
るカラー液晶ディスプレイに好適に使用されるカラーフ
ィルタの製造方法及び液晶パネルの製造方法に関し、と
りわけインクジェット記録技術を利用したカラーフィル
タの製造方法及び液晶パネルの製造方法に関する。
ナルコンピューター、パチンコ遊戯台等に使用されてい
るカラー液晶ディスプレイに好適に使用されるカラーフ
ィルタの製造方法及び液晶パネルの製造方法に関し、と
りわけインクジェット記録技術を利用したカラーフィル
タの製造方法及び液晶パネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要
が増加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及の
ためには液晶ディスプレイのコストダウンが必要であ
り、特にコスト的に比重の高いカラーフィルタのコスト
ダウンに対する要求が高まっている。従来から、カラー
フィルタの要求特性を満足しつつ上記の要求に応えるべ
く種々の方法が試みられているが、いまだすべての要求
特性を満足する方法は確立されていない。以下にそれぞ
れの方法を説明する。
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要
が増加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及の
ためには液晶ディスプレイのコストダウンが必要であ
り、特にコスト的に比重の高いカラーフィルタのコスト
ダウンに対する要求が高まっている。従来から、カラー
フィルタの要求特性を満足しつつ上記の要求に応えるべ
く種々の方法が試みられているが、いまだすべての要求
特性を満足する方法は確立されていない。以下にそれぞ
れの方法を説明する。
【０００３】最も多く用いられている第１の方法が染色
法である。染色法は、ガラス基板上に染色用の材料であ
る水溶性高分子材料を塗布し、これをフォトリソグラフ
ィー工程により所望の形状にパターニングした後、得ら
れたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを
得る。これを３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂの着色
層を形成する。
法である。染色法は、ガラス基板上に染色用の材料であ
る水溶性高分子材料を塗布し、これをフォトリソグラフ
ィー工程により所望の形状にパターニングした後、得ら
れたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを
得る。これを３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂの着色
層を形成する。
【０００４】この染色法の別の例として、特開平５−２
８８９１３号公報には、基板上に感光層を設け、これを
パターン状に露光した後、未露光部を染色する方法が記
載され、この工程を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂ
の３色からなるカラーフィルタを製造することが記載さ
れている。
８８９１３号公報には、基板上に感光層を設け、これを
パターン状に露光した後、未露光部を染色する方法が記
載され、この工程を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂ
の３色からなるカラーフィルタを製造することが記載さ
れている。
【０００５】第２の方法は顔料分散法であり、近年染色
法に取って代わりつつある。この方法は、基板上に顔料
を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターンニン
グすることにより単色のパターンを得る。更にこの工程
を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂの着色層を形成す
る。
法に取って代わりつつある。この方法は、基板上に顔料
を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターンニン
グすることにより単色のパターンを得る。更にこの工程
を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂの着色層を形成す
る。
【０００６】第３の方法としては電着法がある。この方
法は、基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹
脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第１の色を
電着する。この工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂの着色
層を形成し、最後に焼成するものである。
法は、基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹
脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第１の色を
電着する。この工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂの着色
層を形成し、最後に焼成するものである。
【０００７】第４の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。又、いずれの方法においても
着色層上に保護層を形成するのが一般的である。
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。又、いずれの方法においても
着色層上に保護層を形成するのが一般的である。
【０００８】これらの方法に共通している点は、Ｒ、
Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。又、工程が
多いほど歩留りが低下するという問題を有している。更
に、電着法においては、形成可能なパターン形状が限定
されるため、現状の技術ではＴＦＴ用には適用困難であ
る。又、印刷法は、解像性、平滑性が悪いためファイン
ピッチのパターンの形成には不向きである。
Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。又、工程が
多いほど歩留りが低下するという問題を有している。更
に、電着法においては、形成可能なパターン形状が限定
されるため、現状の技術ではＴＦＴ用には適用困難であ
る。又、印刷法は、解像性、平滑性が悪いためファイン
ピッチのパターンの形成には不向きである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】これらの欠点を補うべ
く、特開昭５９−７５２０５号公報、特開昭６３−２３
５９０１号公報あるいは特開平１−２１７３０２号公報
等には、インクジェット方式を用いてカラーフィルタを
製造する方法が記載されているが、いまだ十分満足でき
るものは得られていない。
く、特開昭５９−７５２０５号公報、特開昭６３−２３
５９０１号公報あるいは特開平１−２１７３０２号公報
等には、インクジェット方式を用いてカラーフィルタを
製造する方法が記載されているが、いまだ十分満足でき
るものは得られていない。
【００１０】そこで本発明の目的は、従来法の有する耐
熱性、耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、かつイ
ンクジェット適性をも満足し、更に工程の短縮された安
価なカラーフィルタの製造方法を提供するものである。
とりわけ、インクジェット方式を用いてインク滴を吐出
させて着色剤の配列を行う際、混色、色抜けを防止し、
高精細で信頼性の高いカラーフィルタの製造方法を提供
するものである。
熱性、耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、かつイ
ンクジェット適性をも満足し、更に工程の短縮された安
価なカラーフィルタの製造方法を提供するものである。
とりわけ、インクジェット方式を用いてインク滴を吐出
させて着色剤の配列を行う際、混色、色抜けを防止し、
高精細で信頼性の高いカラーフィルタの製造方法を提供
するものである。
【００１１】更に本発明の目的は、高精細な表示を可能
とする液晶パネルの製造方法を提供することにある。
とする液晶パネルの製造方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】かかる目的は、次に示す
手段により達成することができる。
手段により達成することができる。
【００１３】本発明は、インクジェット方式によって基
板上に着色剤を配列させるカラーフィルタの製造方法に
おいて、（１）基板上に光照射又は光照射と熱処理によ
り硬化して親水基の量の減少する樹脂層を設ける工程、
（２）該基板上の樹脂層に、未硬化の部分と、光照射又
は光照射と熱処理を施すことにより硬化して親水基の量
の減少した部分とを形成する工程、（３）該樹脂層に、
インクジェット方式によって色の異なる複数種の着色剤
を付与して、前記未硬化部分を前記着色剤の各色で着色
する工程及び（４）該樹脂層を光照射及び／又は熱処理
により硬化させる工程を含むことを特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法である。
板上に着色剤を配列させるカラーフィルタの製造方法に
おいて、（１）基板上に光照射又は光照射と熱処理によ
り硬化して親水基の量の減少する樹脂層を設ける工程、
（２）該基板上の樹脂層に、未硬化の部分と、光照射又
は光照射と熱処理を施すことにより硬化して親水基の量
の減少した部分とを形成する工程、（３）該樹脂層に、
インクジェット方式によって色の異なる複数種の着色剤
を付与して、前記未硬化部分を前記着色剤の各色で着色
する工程及び（４）該樹脂層を光照射及び／又は熱処理
により硬化させる工程を含むことを特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法である。
【００１４】更に本発明は、上記に記載されたカラーフ
ィルタと、これと対向する基板を有し、両基板間に液晶
化合物を封入したことを特徴とする液晶パネルである。
ィルタと、これと対向する基板を有し、両基板間に液晶
化合物を封入したことを特徴とする液晶パネルである。
【００１５】
【本発明の好ましい態様】以下、図面を参照して本発明
を詳細に説明する。
を詳細に説明する。
【００１６】図１は、本発明におけるカラーフィルタの
製造工程を示したものである。
製造工程を示したものである。
【００１７】本発明においては、基板として透光性の基
板が好ましく、一般にガラス基板が用いられるが、液晶
用カラーフィルタとしての透明性、機械的強度等の必要
特性を有するものであればガラス基板に限定されるもの
ではない。
板が好ましく、一般にガラス基板が用いられるが、液晶
用カラーフィルタとしての透明性、機械的強度等の必要
特性を有するものであればガラス基板に限定されるもの
ではない。
【００１８】図１（ａ）は光透過部７と遮光部であるブ
ラックマトリクス２を備えたガラス基板１を表す。ま
ず、ブラックマトリマス２の形成された基板１上に光照
射又は光照射と熱処理により硬化して親水基の量の減少
するものであり、これによりインク吸収性が低下する樹
脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを行って樹
脂層３を形成する（図１（ｂ））。樹脂層３の形成に
は、スピンコート、ロールコート、バーコート、スプレ
ーコート、ディップコート等の塗布方法を用いることが
でき、特に限定されるものではない。
ラックマトリクス２を備えたガラス基板１を表す。ま
ず、ブラックマトリマス２の形成された基板１上に光照
射又は光照射と熱処理により硬化して親水基の量の減少
するものであり、これによりインク吸収性が低下する樹
脂組成物を塗布し、必要に応じてプリベークを行って樹
脂層３を形成する（図１（ｂ））。樹脂層３の形成に
は、スピンコート、ロールコート、バーコート、スプレ
ーコート、ディップコート等の塗布方法を用いることが
でき、特に限定されるものではない。
【００１９】次に、ブラックマトリクス２により遮光さ
れる部分の樹脂層をフォトマスク４を使用して予めパタ
ーン露光を行うことにより樹脂層の一部を硬化させてイ
ンクを吸収しない部位８（非着色部位）を形成し（図１
（ｃ））、その後インクジェットヘッド５を用いてＲ、
Ｇ、Ｂの各色を同一層に着色（図１（ｄ））、必要に応
じてインクの乾燥を行う。
れる部分の樹脂層をフォトマスク４を使用して予めパタ
ーン露光を行うことにより樹脂層の一部を硬化させてイ
ンクを吸収しない部位８（非着色部位）を形成し（図１
（ｃ））、その後インクジェットヘッド５を用いてＲ、
Ｇ、Ｂの各色を同一層に着色（図１（ｄ））、必要に応
じてインクの乾燥を行う。
【００２０】パターン露光の際に使用されるフォトマス
ク４としては、ブラックマトリマクスによる遮光部上の
樹脂層を硬化させるための開口部を有するものを使用す
る。この際、ブラックマトリクスに接する部分での着色
剤の色抜けを防止するために、比較的多くのインクを付
与することが必要である。そのためブラックマトリクス
の（遮光）幅よりも狭い開口部を有するマスクを用いる
ことが好ましい。
ク４としては、ブラックマトリマクスによる遮光部上の
樹脂層を硬化させるための開口部を有するものを使用す
る。この際、ブラックマトリクスに接する部分での着色
剤の色抜けを防止するために、比較的多くのインクを付
与することが必要である。そのためブラックマトリクス
の（遮光）幅よりも狭い開口部を有するマスクを用いる
ことが好ましい。
【００２１】着色に用いるインクとして、色素系、顔料
系共に用いることが可能であり、又液状インク、ソリッ
ドインク共に使用可能である。
系共に用いることが可能であり、又液状インク、ソリッ
ドインク共に使用可能である。
【００２２】本発明で使用する硬化して親水基の量の減
少する樹脂組成物としては、インク受容性を有し、且つ
光照射又は光照射と熱処理の少なくとも一方の処理によ
り硬化し得るものであればいずれでも使用可能であり、
樹脂としては例えばアクリル系樹脂；シリコン樹脂；ヒ
ドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
等のセルロース誘導体あるいはその変性物；等が挙げら
れる。
少する樹脂組成物としては、インク受容性を有し、且つ
光照射又は光照射と熱処理の少なくとも一方の処理によ
り硬化し得るものであればいずれでも使用可能であり、
樹脂としては例えばアクリル系樹脂；シリコン樹脂；ヒ
ドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
等のセルロース誘導体あるいはその変性物；等が挙げら
れる。
【００２３】これらの樹脂を光あるいは光と熱により架
橋反応を進行させるために光開始剤（架橋剤）を用いる
ことも可能である。光開始剤としては、重クロム酸塩、
ビスアジド化合物、ラジカル系開始剤、カチオン系開始
剤、アニオン系開始剤等が使用可能である。又これらの
光開始剤を混合して、あるいは他の増感剤と組み合わせ
て使用することもできる。尚、架橋反応をより進行させ
るために光照射の後に熱処理を施しても良い。
橋反応を進行させるために光開始剤（架橋剤）を用いる
ことも可能である。光開始剤としては、重クロム酸塩、
ビスアジド化合物、ラジカル系開始剤、カチオン系開始
剤、アニオン系開始剤等が使用可能である。又これらの
光開始剤を混合して、あるいは他の増感剤と組み合わせ
て使用することもできる。尚、架橋反応をより進行させ
るために光照射の後に熱処理を施しても良い。
【００２４】これらの組成物を含む樹脂層は、非常に耐
熱性、耐水性等に優れており、後工程における高温ある
いは洗浄工程に十分耐え得るものである。
熱性、耐水性等に優れており、後工程における高温ある
いは洗浄工程に十分耐え得るものである。
【００２５】本発明で使用するインクジェット方式とし
ては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた
バブルジェットタイプ、あるいは圧電素子を用いたピエ
ゾジェットタイプ等が使用可能であり、着色面積及び着
色パターンは任意に設定することができる。
ては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた
バブルジェットタイプ、あるいは圧電素子を用いたピエ
ゾジェットタイプ等が使用可能であり、着色面積及び着
色パターンは任意に設定することができる。
【００２６】又、本例においては基板上にブラックマト
リクスが形成された例を示してあるが、ブラックマトリ
クスは、硬化可能な樹脂層を形成後、あるいは着色後に
樹脂層上に形成されたものであっても特に問題はなく、
その形態は本例に限定されるものではない。又、その形
状方法としては、基板上にスパッタもしくは蒸着により
金属薄膜を形成し、フォトリソ工程によりパターニング
すること、あるいは感光性樹脂の黒色樹脂をパターニン
グすることが好ましいが、これに限定されるものではな
い。
リクスが形成された例を示してあるが、ブラックマトリ
クスは、硬化可能な樹脂層を形成後、あるいは着色後に
樹脂層上に形成されたものであっても特に問題はなく、
その形態は本例に限定されるものではない。又、その形
状方法としては、基板上にスパッタもしくは蒸着により
金属薄膜を形成し、フォトリソ工程によりパターニング
すること、あるいは感光性樹脂の黒色樹脂をパターニン
グすることが好ましいが、これに限定されるものではな
い。
【００２７】次いで光照射又は光照射及び熱処理を行っ
て硬化可能な樹脂層を硬化させ（図１（ｅ））、必要に
応じて保護層６を形成（図１（ｆ））する。保護層６と
しては、光硬化タイプ、熱硬化タイプあるいは光熱併用
タイプの第２の樹脂組成物を用いて形成するか、あるい
は無機材料を用いて蒸着又はスパッタによって形成する
ことができ、カラーフィルタとした場合の透明性を有
し、その後のＩＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス
等に十分耐えうるものであれば使用可能である。
て硬化可能な樹脂層を硬化させ（図１（ｅ））、必要に
応じて保護層６を形成（図１（ｆ））する。保護層６と
しては、光硬化タイプ、熱硬化タイプあるいは光熱併用
タイプの第２の樹脂組成物を用いて形成するか、あるい
は無機材料を用いて蒸着又はスパッタによって形成する
ことができ、カラーフィルタとした場合の透明性を有
し、その後のＩＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス
等に十分耐えうるものであれば使用可能である。
【００２８】図２に、対向する基板にブラックマトリク
スを設けた液晶パネルに用いるカラーフィルタの製造方
法を示す。
スを設けた液晶パネルに用いるカラーフィルタの製造方
法を示す。
【００２９】カラーフィルタ側にではなく、対向する基
板にブラックマトリクスを設ける方法は、開口率を向上
させる方法として有効である。
板にブラックマトリクスを設ける方法は、開口率を向上
させる方法として有効である。
【００３０】図２（ａ）に示すガラス基板１上に、光照
射あるいは光照射及び熱処理により光照射部分のインク
吸収性が低下する樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプ
リベークを行って光照射あるいは光照射及び熱処理によ
り光照射部分のインク吸収性が低下する樹脂層３を形成
する（図２（ｂ））。
射あるいは光照射及び熱処理により光照射部分のインク
吸収性が低下する樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプ
リベークを行って光照射あるいは光照射及び熱処理によ
り光照射部分のインク吸収性が低下する樹脂層３を形成
する（図２（ｂ））。
【００３１】次いでフォトマスク４を使用してパターン
露光を行うことにより樹脂層３の露光部のインク吸収性
を低下させた後（図２（ｃ））、インクジェットヘッド
５を用いて未露光部をＲ、Ｇ、Ｂの各色で同一層を着色
し（図２（ｄ））、必要に応じて乾燥させる。色抜けを
防止するために、非着色部８の幅は対向する基板に設け
られたブラックマトリクス（不図示）の幅よりも狭くす
ることが重要である。
露光を行うことにより樹脂層３の露光部のインク吸収性
を低下させた後（図２（ｃ））、インクジェットヘッド
５を用いて未露光部をＲ、Ｇ、Ｂの各色で同一層を着色
し（図２（ｄ））、必要に応じて乾燥させる。色抜けを
防止するために、非着色部８の幅は対向する基板に設け
られたブラックマトリクス（不図示）の幅よりも狭くす
ることが重要である。
【００３２】次いで着色された樹脂層を光照射及び／又
は熱処理により硬化させ（図２（ｅ））、必要に応じて
保護層６を形成（図２（ｆ））してカラーフィルタを得
る。保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプある
いは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によ
って形成された無機膜等を用いることができ、カラーフ
ィルタとした場合の透明性を有し、その後のＩＴＯ形成
プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるものであれ
ば使用可能である。
は熱処理により硬化させ（図２（ｅ））、必要に応じて
保護層６を形成（図２（ｆ））してカラーフィルタを得
る。保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプある
いは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によ
って形成された無機膜等を用いることができ、カラーフ
ィルタとした場合の透明性を有し、その後のＩＴＯ形成
プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるものであれ
ば使用可能である。
【００３３】このようにして、基板上に樹脂層を有し、
該樹脂層が異なる色で着色された複数の着色部と非着色
部を有するカラーフィルタが製造される。
該樹脂層が異なる色で着色された複数の着色部と非着色
部を有するカラーフィルタが製造される。
【００３４】図３、図４に、本発明によるカラーフィル
タを組み込んだＴＦＴカラー液晶パネルの断面を示す。
尚、その形態は本例に限定されるものではない。
タを組み込んだＴＦＴカラー液晶パネルの断面を示す。
尚、その形態は本例に限定されるものではない。
【００３５】カラー液晶パネルは、一般的にカラーフィ
ルタ基板１と対向基板１４を合わせ込み、液晶化合物１
２を封入することにより形成される。液晶パネルの一方
の基板１４の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素電
極１３がマトリックス状に形成される。又、もう一方の
基板１の内側には、画素電極に対向する位置にＲＧＢの
色材が配列するようカラーフィルタ９が設置され、その
上に透明な対向電極（共通電極）１０が一面に形成され
る。ブラックマトリクスは、通常カラーフィルタ基板側
に形成されるが（図３）、ＢＭオンアレイタイプの液晶
パネルにおいては対向するＴＦＴ基板側に形成される
（図４）。更に、両基板の面内には配向膜１１が形成さ
れており、これをラビング処理することにより液晶分子
を一定方向に配列させることができる。又、それぞれの
ガラス基板の外側には偏光板１５が接着されており、液
晶化合物１２は、これらのガラス基板の間隙（２〜５μ
ｍ程度）に充填される。又、バックライトとしては蛍光
灯（不図示）と散乱板（不図示）の組み合わせが一般的
に用いられており、液晶化合物をバックライト光の透過
率を変化させる光シャッターとして機能させることによ
り表示を行う。
ルタ基板１と対向基板１４を合わせ込み、液晶化合物１
２を封入することにより形成される。液晶パネルの一方
の基板１４の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素電
極１３がマトリックス状に形成される。又、もう一方の
基板１の内側には、画素電極に対向する位置にＲＧＢの
色材が配列するようカラーフィルタ９が設置され、その
上に透明な対向電極（共通電極）１０が一面に形成され
る。ブラックマトリクスは、通常カラーフィルタ基板側
に形成されるが（図３）、ＢＭオンアレイタイプの液晶
パネルにおいては対向するＴＦＴ基板側に形成される
（図４）。更に、両基板の面内には配向膜１１が形成さ
れており、これをラビング処理することにより液晶分子
を一定方向に配列させることができる。又、それぞれの
ガラス基板の外側には偏光板１５が接着されており、液
晶化合物１２は、これらのガラス基板の間隙（２〜５μ
ｍ程度）に充填される。又、バックライトとしては蛍光
灯（不図示）と散乱板（不図示）の組み合わせが一般的
に用いられており、液晶化合物をバックライト光の透過
率を変化させる光シャッターとして機能させることによ
り表示を行う。
【００３６】光照射又は光照射と加熱により硬化して親
水基の量の減少する樹脂組成物について更に詳しく説明
すると、水酸基、アルコキシ基、アミノ基等の親水基を
介して架橋を生じる、あるいは該親水基に対して付加反
応を生じるような樹脂組成物を用いることが好ましい。
本発明で使用する樹脂組成物は、光照射のみにより硬化
して親水基の量の減少するものでもよいし、光照射と熱
処理を併用してもよい。
水基の量の減少する樹脂組成物について更に詳しく説明
すると、水酸基、アルコキシ基、アミノ基等の親水基を
介して架橋を生じる、あるいは該親水基に対して付加反
応を生じるような樹脂組成物を用いることが好ましい。
本発明で使用する樹脂組成物は、光照射のみにより硬化
して親水基の量の減少するものでもよいし、光照射と熱
処理を併用してもよい。
【００３７】本発明に用いられる樹脂組成物の組成例と
しては、具体的には化学増幅による架橋反応を利用する
系が好ましく、基材樹脂としては、ヒドロキシプロピル
セルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロー
ス誘導体、ポリビニルアルコール等の高分子アルコール
及びそれらの誘導体、クレゾールノボラック等のノボラ
ック樹脂及びそれらの誘導体、ヒドロキシエチルメタク
リレート等の水酸基を含有するアクリルモノマー単位を
含むアクリル系樹脂、等が挙げられ、又架橋剤として
は、メチロール化メラミン等のメラミン誘導体、光開始
剤としては、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート等のオニウム塩、トリクロロメチルト
リアジン等のハロゲン化有機化合物が好適に用いられる
が、これらに限定されるものではない。
しては、具体的には化学増幅による架橋反応を利用する
系が好ましく、基材樹脂としては、ヒドロキシプロピル
セルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロー
ス誘導体、ポリビニルアルコール等の高分子アルコール
及びそれらの誘導体、クレゾールノボラック等のノボラ
ック樹脂及びそれらの誘導体、ヒドロキシエチルメタク
リレート等の水酸基を含有するアクリルモノマー単位を
含むアクリル系樹脂、等が挙げられ、又架橋剤として
は、メチロール化メラミン等のメラミン誘導体、光開始
剤としては、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート等のオニウム塩、トリクロロメチルト
リアジン等のハロゲン化有機化合物が好適に用いられる
が、これらに限定されるものではない。
【００３８】ブラックマトリクスにより遮光される部分
の樹脂層を予めパターン露光を行い（図１（ｃ））、イ
ンクジェットヘッド５を用いてＲ、Ｇ、Ｂの各色を着色
し（図１（ｄ））、必要に応じてインク乾燥を行う。露
光部分は、反応の進行に伴って水酸基、アルコキシ基、
アミノ基等の親水基の量が減少し、インクを吸収しにく
くなり、これによって色間におけるインクの混色を防止
することができる。インク吸収性に差を生じさせるため
には、露光部における親水基の量を未露光部の７０％以
下にすることが好ましく、この際の親水基の定量方法と
しては、ＩＲ、ＮＭＲ等によるスペクトル分析が有効で
ある。又、パターン露光の際のフォトマスクとしては、
ブラックマトリクスによる遮光部分を露光するための開
口部を有するものを使用する。この際、ブラックマトリ
クスに接する部分での色抜けを防止するためには、多め
のインクを吐出する必要があることを考慮すると、ブラ
ックマトリクスの遮光幅よりも狭い開口部を有するマス
クを用いることが好ましい。
の樹脂層を予めパターン露光を行い（図１（ｃ））、イ
ンクジェットヘッド５を用いてＲ、Ｇ、Ｂの各色を着色
し（図１（ｄ））、必要に応じてインク乾燥を行う。露
光部分は、反応の進行に伴って水酸基、アルコキシ基、
アミノ基等の親水基の量が減少し、インクを吸収しにく
くなり、これによって色間におけるインクの混色を防止
することができる。インク吸収性に差を生じさせるため
には、露光部における親水基の量を未露光部の７０％以
下にすることが好ましく、この際の親水基の定量方法と
しては、ＩＲ、ＮＭＲ等によるスペクトル分析が有効で
ある。又、パターン露光の際のフォトマスクとしては、
ブラックマトリクスによる遮光部分を露光するための開
口部を有するものを使用する。この際、ブラックマトリ
クスに接する部分での色抜けを防止するためには、多め
のインクを吐出する必要があることを考慮すると、ブラ
ックマトリクスの遮光幅よりも狭い開口部を有するマス
クを用いることが好ましい。
【００３９】次いで光照射、熱処理あるいは、光照射と
熱処理を行って着色された樹脂層を硬化させ（図１
（ｅ））、必要に応じて保護層を形成（図１（ｆ））す
る。保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプある
いは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によ
って形成された無機膜等を用いることができ、カラーフ
ィルタとした場合の透明性を有し、その後のＩＴＯ形成
プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるものであれ
ば使用可能である。
熱処理を行って着色された樹脂層を硬化させ（図１
（ｅ））、必要に応じて保護層を形成（図１（ｆ））す
る。保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプある
いは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によ
って形成された無機膜等を用いることができ、カラーフ
ィルタとした場合の透明性を有し、その後のＩＴＯ形成
プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるものであれ
ば使用可能である。
【００４０】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
る。
【００４１】実施例１ ・ビトロキシプロピルセルロース（日本曹達製ＨＰＣ−
Ｈ） ５ｇ ・メチロール化メラミン誘導体（住友化成製スミテック
スＭ−３） ５ｇ ・カチオン系光開始剤（アデカ製ＳＰ−１７０） ０．
２５ｇ からなり、水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と
熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下する樹脂
組成物をシリコン基板上に膜厚１μｍとなるようスピン
コートし、９０℃で２０分間のプリベークを行った。次
いで、１Ｊ／ｃｍ2 の露光量で全面露光を行った後、Ｆ
Ｔ−ＩＲ（日本分光工業製Ｍｉｃｒｏ ＦＴＩＲ−１０
０）を用いて反射モードにより赤外吸収スペクトルを測
定し、露光前のスペクトルと比較することにより水酸基
の量の比較を行ったところ、露光前の７０％に減少して
いることが確認された。
Ｈ） ５ｇ ・メチロール化メラミン誘導体（住友化成製スミテック
スＭ−３） ５ｇ ・カチオン系光開始剤（アデカ製ＳＰ−１７０） ０．
２５ｇ からなり、水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と
熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下する樹脂
組成物をシリコン基板上に膜厚１μｍとなるようスピン
コートし、９０℃で２０分間のプリベークを行った。次
いで、１Ｊ／ｃｍ2 の露光量で全面露光を行った後、Ｆ
Ｔ−ＩＲ（日本分光工業製Ｍｉｃｒｏ ＦＴＩＲ−１０
０）を用いて反射モードにより赤外吸収スペクトルを測
定し、露光前のスペクトルと比較することにより水酸基
の量の比較を行ったところ、露光前の７０％に減少して
いることが確認された。
【００４２】次に、ブラックマトリクスの形成されたガ
ラス基板上に、上記の樹脂組成物を、膜厚２μｍとなる
ようスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを
行った。
ラス基板上に、上記の樹脂組成物を、膜厚２μｍとなる
ようスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを
行った。
【００４３】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光し、硬化させた。更にインクジェットヘッド５
を用いて未露光部を染料インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマト
リクスパターンを着色した後、９０℃で５分間のインク
乾燥を行った。引き続き全面露光を行った。
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光し、硬化させた。更にインクジェットヘッド５
を用いて未露光部を染料インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマト
リクスパターンを着色した後、９０℃で５分間のインク
乾燥を行った。引き続き全面露光を行った。
【００４４】更に、樹脂層上に保護層として二液型の熱
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようにスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理
を行って硬化させた。
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようにスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理
を行って硬化させた。
【００４５】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００４６】実施例２ 実施例１と全く同様の樹脂組成物をシリコン基板上に膜
厚１μｍとなるようスピンコートし、９０℃で２０分間
のプリベークを行った。次いで、１Ｊ／ｃｍ2の露光量
で全面露光を行った後、１５０℃のホットプレート上で
１分間の熱処理を行い、実施例１と同様にして水酸基の
量の比較を行ったところ、露光前の５０％に減少してい
ることが確認された。
厚１μｍとなるようスピンコートし、９０℃で２０分間
のプリベークを行った。次いで、１Ｊ／ｃｍ2の露光量
で全面露光を行った後、１５０℃のホットプレート上で
１分間の熱処理を行い、実施例１と同様にして水酸基の
量の比較を行ったところ、露光前の５０％に減少してい
ることが確認された。
【００４７】次に、ブラックマトリクスの形成されたガ
ラス基板上に、上記の樹脂組成物を膜厚２μｍとなるよ
うスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行
って樹脂層を形成した。
ラス基板上に、上記の樹脂組成物を膜厚２μｍとなるよ
うスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行
って樹脂層を形成した。
【００４８】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光し、ホットプレート上１５０℃で１分間の熱処
理を行った。更にインクジェットヘッド５を用いて染料
インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパターンを着色し
た後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引き続き
全面露光を行った後２００℃で１時間の熱処理を施し樹
脂層を硬化させた。
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光し、ホットプレート上１５０℃で１分間の熱処
理を行った。更にインクジェットヘッド５を用いて染料
インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパターンを着色し
た後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引き続き
全面露光を行った後２００℃で１時間の熱処理を施し樹
脂層を硬化させた。
【００４９】更に、樹脂層上に保護層として二液型の熱
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を
行って硬化させた。
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を
行って硬化させた。
【００５０】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００５１】又、このカラーフィルタを用いて図３に示
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
【００５２】実施例３ ブラックマトリクスの形成されたガラス基板上に、実施
例１と全く同様の樹脂組成物を膜厚２μｍとなるようス
ピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行って
樹脂層を形成した。
例１と全く同様の樹脂組成物を膜厚２μｍとなるようス
ピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行って
樹脂層を形成した。
【００５３】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光し、ホットプレート上１５０℃で１分間の熱処
理を行った。更にインクジェットヘッド５を用いて顔料
インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパターンを着色し
た後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引き続き
２３０℃で１時間の熱処理を施し樹脂層を硬化させた。
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光し、ホットプレート上１５０℃で１分間の熱処
理を行った。更にインクジェットヘッド５を用いて顔料
インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパターンを着色し
た後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引き続き
２３０℃で１時間の熱処理を施し樹脂層を硬化させた。
【００５４】更に、樹脂層上に保護層として二液型の熱
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を
行って硬化させた。
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を
行って硬化させた。
【００５５】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００５６】実施例４ ・ビトロキシエチルセルロース（フジケミカル製ＡＨ−
１５） ５ｇ ・メチロール化メラミン誘導体（住友化学製スミテック
スＭ−３） ５ｇ ・１−ナフチル−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリア
ジン ０．２５ｇ からなり、水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と
熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下する樹脂
組成物を用い、実施例１と同様にして赤外吸収スペクト
ルを測定し、露光前のスペクトルと比較することにより
水酸基の量の比較を行ったところ、露光前の６５％に減
少していることが確認された。
１５） ５ｇ ・メチロール化メラミン誘導体（住友化学製スミテック
スＭ−３） ５ｇ ・１−ナフチル−ビス−トリクロロメチル−Ｓ−トリア
ジン ０．２５ｇ からなり、水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と
熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下する樹脂
組成物を用い、実施例１と同様にして赤外吸収スペクト
ルを測定し、露光前のスペクトルと比較することにより
水酸基の量の比較を行ったところ、露光前の６５％に減
少していることが確認された。
【００５７】次に、ブラックマトリクスの形成されたガ
ラス基板上に、上記の樹脂組成物を膜厚２μｍとなるよ
うスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行
った。
ラス基板上に、上記の樹脂組成物を膜厚２μｍとなるよ
うスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行
った。
【００５８】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光した。更にインクジェットヘッド５を用いて未
露光部を染料インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパタ
ーンを着色した後、９０℃で５分間のインク乾燥を行っ
た。引き続き全面露光を行って樹脂層を硬化させた。
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光した。更にインクジェットヘッド５を用いて未
露光部を染料インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパタ
ーンを着色した後、９０℃で５分間のインク乾燥を行っ
た。引き続き全面露光を行って樹脂層を硬化させた。
【００５９】更に、樹脂層上に保護層として二液型の熱
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を
行って硬化させた。
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を
行って硬化させた。
【００６０】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００６１】実施例５ 実施例４と全く同様の樹脂組成物を用い、実施例２と全
く同様にして全面露光、熱処理を行い、赤外吸収スペク
トルを測定し、露光前のスペクトルと比較することによ
り水酸基の量の比較を行ったところ、露光前の４８％に
減少していることが確認された。
く同様にして全面露光、熱処理を行い、赤外吸収スペク
トルを測定し、露光前のスペクトルと比較することによ
り水酸基の量の比較を行ったところ、露光前の４８％に
減少していることが確認された。
【００６２】次に、ブラックマトリクスの形成されたガ
ラス基板上に、上記の樹脂組成物を膜厚２μｍとなるよ
うスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行
って樹脂層を作成した。
ラス基板上に、上記の樹脂組成物を膜厚２μｍとなるよ
うスピンコートし、９０℃で２０分間のプリベークを行
って樹脂層を作成した。
【００６３】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光し、ホットプレート上１５０℃で１分間の熱処
理を行った。更にインクジェットヘッド５を用いて染料
インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパターンを着色し
た後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引き続き
全面露光を行った後２００℃で１時間の熱処理を施し樹
脂層を硬化させた。
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光し、ホットプレート上１５０℃で１分間の熱処
理を行った。更にインクジェットヘッド５を用いて染料
インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパターンを着色し
た後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引き続き
全面露光を行った後２００℃で１時間の熱処理を施し樹
脂層を硬化させた。
【００６４】更に、樹脂層上に保護層として二液型の熱
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を
行って硬化させた。
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を
行って硬化させた。
【００６５】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００６６】又、このカラーフィルタを用いて図３に示
す液晶パネルを作成し、駆動したところ高精細なカラー
表示が可能であった。
す液晶パネルを作成し、駆動したところ高精細なカラー
表示が可能であった。
【００６７】実施例６ ブラックマトリクスの形成されたガラス基板上に、実施
例４の樹脂組成物を膜厚２μｍとなるようスピンコート
し、９０℃で２０分間のプリベークを行って樹脂層を作
成した。
例４の樹脂組成物を膜厚２μｍとなるようスピンコート
し、９０℃で２０分間のプリベークを行って樹脂層を作
成した。
【００６８】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光し、ホットプレート上１５０℃で１分間の熱処
理を行った。更にインクジェットヘッド５を用いて顔料
インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパターンを着色し
た後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引き続き
２３０℃で１時間の熱処理を施し樹脂層を硬化させた。
い開口部を有するフォトマスクを介して、１Ｊ／ｃｍ2
の露光量でブラックマトリクス上の樹脂層の一部をパタ
ーン露光し、ホットプレート上１５０℃で１分間の熱処
理を行った。更にインクジェットヘッド５を用いて顔料
インクによりＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパターンを着色し
た後、９０℃で５分間のインク乾燥を行った。引き続き
２３０℃で１時間の熱処理を施し樹脂層を硬化させた。
【００６９】更に、樹脂層上に保護層として二液型の熱
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を
行って硬化させた。
硬化性樹脂ＳＳ−７６２５（ＪＳＲ製）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、２３０℃で１時間の熱処理を
行って硬化させた。
【００７０】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００７１】実施例７ ・ヒドロキシエチルメタクリレート−メチルメタクリレ
ート共重合体 ５ｇ ・メチロール化メラミン誘導体（住友化学製スミテック
スＭ−３） ５ｇ ・カチオン系光開始剤（アデカ製 ＳＰ−１７０）
０．２５ｇ からなり、水性インク吸収性を有し光照射又は熱処理に
より、光照射部分のインク吸収性が低下する樹脂組成物
を用い、実施例１と全く同様にしてサンプルを作成し、
赤外吸収スペクトルを測定し、露光前のスペクトルと比
較することにより水酸基の量の比較を行ったところ、露
光前の４０％に減少していることが確認された。
ート共重合体 ５ｇ ・メチロール化メラミン誘導体（住友化学製スミテック
スＭ−３） ５ｇ ・カチオン系光開始剤（アデカ製 ＳＰ−１７０）
０．２５ｇ からなり、水性インク吸収性を有し光照射又は熱処理に
より、光照射部分のインク吸収性が低下する樹脂組成物
を用い、実施例１と全く同様にしてサンプルを作成し、
赤外吸収スペクトルを測定し、露光前のスペクトルと比
較することにより水酸基の量の比較を行ったところ、露
光前の４０％に減少していることが確認された。
【００７２】次に、実施例１と全く同様にして液晶用カ
ラーフィルタを作成し、光学顕微鏡により観察したとこ
ろ、混色、色ムラ、色抜け等の障害は観察されなかっ
た。
ラーフィルタを作成し、光学顕微鏡により観察したとこ
ろ、混色、色ムラ、色抜け等の障害は観察されなかっ
た。
【００７３】又、このカラーフィルタを用いて図３に示
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
【００７４】実施例８ ・ヒドロキシプロピルセルロース（日本曹達製 ＨＰＣ
−Ｈ） ５ｇ ・ジメチロール尿素（三井東圧化学製、Ｔ−２５１）
５ｇ ・カチオン系光開始剤（アデカ製、ＳＰ−１７０）
０．２５ｇ からなり、水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と
熱処理により、光照射部分のインク吸収性が低下する樹
脂組成物を用い、実施例１と全く同様にしてサンプルを
作成し、赤外吸収スペクトルを測定し、露光前のスペク
トルと比較することにより水酸基残量の比較を行ったと
ころ、露光前の６０％に減少していることが確認され
た。
−Ｈ） ５ｇ ・ジメチロール尿素（三井東圧化学製、Ｔ−２５１）
５ｇ ・カチオン系光開始剤（アデカ製、ＳＰ−１７０）
０．２５ｇ からなり、水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と
熱処理により、光照射部分のインク吸収性が低下する樹
脂組成物を用い、実施例１と全く同様にしてサンプルを
作成し、赤外吸収スペクトルを測定し、露光前のスペク
トルと比較することにより水酸基残量の比較を行ったと
ころ、露光前の６０％に減少していることが確認され
た。
【００７５】次に、実施例１と全く同様にして液晶用カ
ラーフィルタを作成し、光学顕微鏡により観察したとこ
ろ、混色、色ムラ、色抜け等の障害は観察されなかっ
た。
ラーフィルタを作成し、光学顕微鏡により観察したとこ
ろ、混色、色ムラ、色抜け等の障害は観察されなかっ
た。
【００７６】又、このカラーフィルタを用いて図３に示
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
【００７７】実施例９ 実施例１の組成物を図２に示すとおり、ガラス基板１上
に塗布し、樹脂層３を形成した。次いでフォトマスク４
を用いて樹脂層３側からパターン露光し、露光部の樹脂
インク吸収性を低下させた。更にインクジェットヘッド
５を用いて染料インクにより露光部にＲ、Ｇ、Ｂのマト
リクスパターンを着色した後、各実施例と同様の条件で
熱処理を行った。
に塗布し、樹脂層３を形成した。次いでフォトマスク４
を用いて樹脂層３側からパターン露光し、露光部の樹脂
インク吸収性を低下させた。更にインクジェットヘッド
５を用いて染料インクにより露光部にＲ、Ｇ、Ｂのマト
リクスパターンを着色した後、各実施例と同様の条件で
熱処理を行った。
【００７８】更にエポキシアクリレート及び光開始剤よ
りなる光硬化型樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようにス
ピンコートし、９０℃で３０分間のブリベークを行って
保護層６を形成し、液晶用のカラーフィルタを作成し
た。
りなる光硬化型樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようにス
ピンコートし、９０℃で３０分間のブリベークを行って
保護層６を形成し、液晶用のカラーフィルタを作成し
た。
【００７９】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００８０】又、このカラーフィルタを用いて図４に示
す液晶パネルを作成し、駆動させたところ、高精細なカ
ラー表示が可能であった。
す液晶パネルを作成し、駆動させたところ、高精細なカ
ラー表示が可能であった。
【００８１】
【発明の効果】本発明によれば、混色、色ムラ、色抜け
等の欠陥のない信頼性の高い液晶用カラーフィルタ及び
高精細なカラー表示を可能とする液晶パネルを提供する
ことができる。
等の欠陥のない信頼性の高い液晶用カラーフィルタ及び
高精細なカラー表示を可能とする液晶パネルを提供する
ことができる。
【図１】本発明による液晶用カラーフィルタの製造工程
を示す図である。
を示す図である。
【図２】本発明による液晶用カラーフィルタの別の製造
工程を示す図である。
工程を示す図である。
【図３】液晶パネルの構造を示す断面図である。
【図４】別の液晶パネルの構造を示す断面図である。
１ 基板 ２ ブラックマトリクス ３ 樹脂層 ４ フォトマスク ５ インクジェットヘッド ６ 保護層 ７ 光透過部 ８ 非着色部 ９ カラーフィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮▲崎▼ 健 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 横井 英人 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 佐藤 博 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平１−217302（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−77014（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−241012（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 5/20 - 5/28
Claims (7)
- 【請求項１】 インクジェット方式によって基板上に着
色剤を配列させるカラーフィルタの製造方法において、 （１）基板上に、光照射又は光照射と熱処理により硬化
して親水基の量の減少する樹脂層を設ける工程、 （２）該基板上の樹脂層に、未硬化の部分と、光照射又
は光照射と熱処理を施すことにより硬化して親水基の量
の減少した部分とを形成する工程、 （３）該樹脂層に、インクジェット方式によって色の異
なる複数種の着色剤を付与して、前記未硬化部分を前記
着色剤の各色で着色する工程及び、 （４）該樹脂層を光照射及び／又は熱処理により硬化さ
せる工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造
方法。 - 【請求項２】 基板に遮光部を有し、該遮光部上の樹脂
層の一部を硬化させる請求項１に記載のカラーフィルタ
の製造方法。 - 【請求項３】 （２）の工程で硬化させる遮光部上の樹
脂層の幅が、遮光部の幅より狭い請求項２に記載のカラ
ーフィルタの製造方法。 - 【請求項４】 前記樹脂層上に、硬化可能な第２の樹脂
層を形成する請求項１に記載のカラーフィルタの製造方
法。 - 【請求項５】 第２の硬化可能な樹脂層が、光照射及び
／又は熱処理により硬化可能な樹脂組成物を含む請求項
４に記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項６】 前記樹脂層上に、蒸着又はスパッタによ
り無機層を形成する請求項１に記載のカラーフィルタの
製造方法。 - 【請求項７】 （１）基板上に、光照射又は光照射と熱
処理により硬化して親水基の減少する樹脂層を設ける工
程と、 （２）該基板上の樹脂層に、未硬化の部分と、光照射又
は光照射と熱処理により硬化して親水基の量の減少した
部分とを形成する工程と、 （３）該樹脂層に、インクジェット方式によって色の異
なる複数種の着色剤を付与して、前記未硬化部分を前記
着色剤の各色で着色する工程と、 （４）該樹脂層を光照射及び／又は熱処理により硬化さ
せる工程と、 （５）前記基板に対向する基板を配し、両基板間に液晶
化合物を封入する工程と、 を有することを特徴とする液晶パネルの製造方法。
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| JP28661694A JP2872594B2 (ja) | 1993-11-24 | 1994-11-21 | カラーフィルターの製造方法及び液晶パネルの製造方法 |
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| JP6-150870 | 1994-07-01 | ||
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| JP28661694A Expired - Fee Related JP2872594B2 (ja) | 1993-11-24 | 1994-11-21 | カラーフィルターの製造方法及び液晶パネルの製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1994
- 1994-11-21 JP JP28661694A patent/JP2872594B2/ja not_active Expired - Fee Related
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