JP2001083499A - スペーサー付カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 - Google Patents
スペーサー付カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーフィルタ上に少ない工程数で高さが均
一なスペーサーを表示領域に影響しないように形成す
る。 【解決手段】 透明基板１上に、ブラックマトリクス２
と、着色部９と非着色部５からなる着色層と、保護層１
０と、透明導電膜１１を順次形成し、該透明導電膜１１
上に形成したフォトレジスト層１２をパターン露光して
形成したスルーホール１４にインクジェットヘッド１５
より硬化型樹脂組成物１６を付与して硬化し、スペーサ
ー１７を形成する。
一なスペーサーを表示領域に影響しないように形成す
る。 【解決手段】 透明基板１上に、ブラックマトリクス２
と、着色部９と非着色部５からなる着色層と、保護層１
０と、透明導電膜１１を順次形成し、該透明導電膜１１
上に形成したフォトレジスト層１２をパターン露光して
形成したスルーホール１４にインクジェットヘッド１５
より硬化型樹脂組成物１６を付与して硬化し、スペーサ
ー１７を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用される
カラー表示の液晶素子と、該液晶素子の構成部材である
カラーフィルタとその製造方法に関する。
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用される
カラー表示の液晶素子と、該液晶素子の構成部材である
カラーフィルタとその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、カラ
ー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しか
しながら、さらなる普及のためには、コストダウンが必
要不可欠となっている。
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、カラ
ー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しか
しながら、さらなる普及のためには、コストダウンが必
要不可欠となっている。
【０００３】従来、液晶素子の製造方法としては、一対
の透明な絶縁性基板であるガラス基板上にＴＦＴ（薄膜
トランジスタ）のような液晶駆動用素子、或いはカラー
フィルタのような着色用光学素子などを設けた後、透明
電極及び配向膜をそれぞれ形成する。次に、透明電極及
び配向膜が形成された一方のガラス基板面側の全面に一
般に３〜１０μｍ程度のシリカ、アルミナ、合成樹脂等
からなる真球或いは円筒状の粒子をスペーサーとして分
散させる。透明電極を対向させた状態で上記一対のガラ
ス基板を上記スペーサーを介して重ね合わせ、その間隙
に液晶を封入することにより液晶素子が構成される。
の透明な絶縁性基板であるガラス基板上にＴＦＴ（薄膜
トランジスタ）のような液晶駆動用素子、或いはカラー
フィルタのような着色用光学素子などを設けた後、透明
電極及び配向膜をそれぞれ形成する。次に、透明電極及
び配向膜が形成された一方のガラス基板面側の全面に一
般に３〜１０μｍ程度のシリカ、アルミナ、合成樹脂等
からなる真球或いは円筒状の粒子をスペーサーとして分
散させる。透明電極を対向させた状態で上記一対のガラ
ス基板を上記スペーサーを介して重ね合わせ、その間隙
に液晶を封入することにより液晶素子が構成される。
【０００４】ところが、有効画素部（透光部）では透過
／遮光状態が表示状態によって変化するため、上記スペ
ーサーを無色透明な素材で形成した場合には、遮光時に
輝点として、また、黒色に着色した場合には透過時に黒
点として観察されることとなり、表示品位が低下すると
いう問題があった。
／遮光状態が表示状態によって変化するため、上記スペ
ーサーを無色透明な素材で形成した場合には、遮光時に
輝点として、また、黒色に着色した場合には透過時に黒
点として観察されることとなり、表示品位が低下すると
いう問題があった。
【０００５】上記問題を解決するために、特開昭６１−
１７３２２１号公報、特開平２−２２３９２２号公報な
どに示されるように、配向膜に配向処理を行った後、感
光性ポリイミドやフォトレジストを塗布し、マスクを通
して露光することで有効画素部以外にポリイミドやレジ
ストからなるスペーサーを形成するという方法が提案さ
れている。これらの方法によれば、任意の場所に、任意
の密度でスペーサーを形成することができるため、液晶
を封入した際の液晶セルギャップの不均一性を改善でき
る。また、特開平３−９４２３０号公報には、有効画素
部以外の領域の遮光層上にビーズスペーサーを固定する
方法が述べられている。
１７３２２１号公報、特開平２−２２３９２２号公報な
どに示されるように、配向膜に配向処理を行った後、感
光性ポリイミドやフォトレジストを塗布し、マスクを通
して露光することで有効画素部以外にポリイミドやレジ
ストからなるスペーサーを形成するという方法が提案さ
れている。これらの方法によれば、任意の場所に、任意
の密度でスペーサーを形成することができるため、液晶
を封入した際の液晶セルギャップの不均一性を改善でき
る。また、特開平３−９４２３０号公報には、有効画素
部以外の領域の遮光層上にビーズスペーサーを固定する
方法が述べられている。
【０００６】その他にも、膜厚の大きなブラックマトリ
クスをスペーサーとする方法（特開昭６３−２３７０３
２号公報、特開平３−１８４０２２号公報、特開平４−
１２２９１４号公報等）、重ねた着色レジストをスペー
サーとする方法（特開昭６３−８２４０５号公報）、ブ
ラックマトリクス上にも着色パターンを形成し、スペー
サーとする方法（特開昭６３−２３７０３２号公報）な
どが提案されている。
クスをスペーサーとする方法（特開昭６３−２３７０３
２号公報、特開平３−１８４０２２号公報、特開平４−
１２２９１４号公報等）、重ねた着色レジストをスペー
サーとする方法（特開昭６３−８２４０５号公報）、ブ
ラックマトリクス上にも着色パターンを形成し、スペー
サーとする方法（特開昭６３−２３７０３２号公報）な
どが提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記各公報に提案され
た改善方法は、いずれもフォトリソグラフィーを用いた
方法であるため、高価な露光機が必要であり、また現像
などのウエットプロセスの導入により、製造ラインが長
くなるという問題があった。
た改善方法は、いずれもフォトリソグラフィーを用いた
方法であるため、高価な露光機が必要であり、また現像
などのウエットプロセスの導入により、製造ラインが長
くなるという問題があった。
【０００８】また、スペーサーは、基板間の距離（セル
ギャップ）を一定に保持する上で高さが均一であること
が要求される。
ギャップ）を一定に保持する上で高さが均一であること
が要求される。
【０００９】本発明の目的は、セルギャップ保持機能が
良好で、表示に影響の無いスペーサーを備え、表示品位
に優れた液晶素子をより安価に提供することにある。
良好で、表示に影響の無いスペーサーを備え、表示品位
に優れた液晶素子をより安価に提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のスペーサー付カ
ラーフィルタの製造方法は、透明基板上に、複数の開口
部を有する遮光層と、該遮光層の各開口部に配置された
着色部を有する着色層と、透明導電膜と、を少なくとも
形成してカラーフィルタを形成する工程と、上記透明導
電膜上にフォトレジスト層を形成し、該フォトレジスト
層が上記遮光層に重複する領域内に透明導電膜に達する
スルーホールを有するようにパターニングし、該スルー
ホールにインクジェット方式により硬化型樹脂組成物を
付与して硬化させ、フォトレジスト層を除去してスペー
サーを形成する工程と、を少なくとも有することを特徴
とする。
ラーフィルタの製造方法は、透明基板上に、複数の開口
部を有する遮光層と、該遮光層の各開口部に配置された
着色部を有する着色層と、透明導電膜と、を少なくとも
形成してカラーフィルタを形成する工程と、上記透明導
電膜上にフォトレジスト層を形成し、該フォトレジスト
層が上記遮光層に重複する領域内に透明導電膜に達する
スルーホールを有するようにパターニングし、該スルー
ホールにインクジェット方式により硬化型樹脂組成物を
付与して硬化させ、フォトレジスト層を除去してスペー
サーを形成する工程と、を少なくとも有することを特徴
とする。
【００１１】本発明は、フォトレジスト層を、透明導電
膜をパターニングするためのマスクパターンとなるよう
にパターニングし、スルーホールへの硬化型樹脂組成物
の付与前或いは付与後に上記フォトレジスト層をマスク
として透明導電膜のエッチングを行うことを好ましい態
様として含むものである。また、上記本発明は、着色層
上に保護層を形成した後、透明導電膜を形成することを
好ましい態様として含むものである。また、上記本発明
は、透明基板上に全面に樹脂組成物からなるインク受容
層を形成し、該インク受容層にインクジェット方式によ
り着色インクを付与して着色し、着色部を形成するこ
と、或いは、黒色樹脂組成物により開口部を有する遮光
層を形成し、該遮光層の開口部に着色樹脂組成物からな
る硬化型着色インクを付与して硬化し、着色部を形成す
ること、を好ましい態様として含むものである。
膜をパターニングするためのマスクパターンとなるよう
にパターニングし、スルーホールへの硬化型樹脂組成物
の付与前或いは付与後に上記フォトレジスト層をマスク
として透明導電膜のエッチングを行うことを好ましい態
様として含むものである。また、上記本発明は、着色層
上に保護層を形成した後、透明導電膜を形成することを
好ましい態様として含むものである。また、上記本発明
は、透明基板上に全面に樹脂組成物からなるインク受容
層を形成し、該インク受容層にインクジェット方式によ
り着色インクを付与して着色し、着色部を形成するこ
と、或いは、黒色樹脂組成物により開口部を有する遮光
層を形成し、該遮光層の開口部に着色樹脂組成物からな
る硬化型着色インクを付与して硬化し、着色部を形成す
ること、を好ましい態様として含むものである。
【００１２】また、本発明は、透明基板上に、複数の開
口部を有する遮光層と、該遮光層の各開口部に配置され
た着色部を有する着色層と、該着色層上に形成された透
明導電膜と、を少なくとも備えたカラーフィルタと、該
カラーフィルタ上の遮光層に重複する領域内に部分的に
形成された樹脂組成物からなるスペーサーと、を備え、
上記本発明の製造方法により製造されたことを特徴とす
るスペーサー付カラーフィルタを提供するものである。
口部を有する遮光層と、該遮光層の各開口部に配置され
た着色部を有する着色層と、該着色層上に形成された透
明導電膜と、を少なくとも備えたカラーフィルタと、該
カラーフィルタ上の遮光層に重複する領域内に部分的に
形成された樹脂組成物からなるスペーサーと、を備え、
上記本発明の製造方法により製造されたことを特徴とす
るスペーサー付カラーフィルタを提供するものである。
【００１３】上記本発明は、スペーサーの高さが２〜１
０μｍであることを好ましい態様として含むものであ
る。
０μｍであることを好ましい態様として含むものであ
る。
【００１４】またさらに、本発明は、一対の基板間に液
晶を狭持してなり、一方の基板が上記本発明のスペーサ
ー付カラーフィルタであって、一対の基板間の距離が該
スペーサーにより保持されていることを特徴とする液晶
素子を提供するものである。
晶を狭持してなり、一方の基板が上記本発明のスペーサ
ー付カラーフィルタであって、一対の基板間の距離が該
スペーサーにより保持されていることを特徴とする液晶
素子を提供するものである。
【００１５】本発明においては、スペーサーをフォトレ
ジスト層に設けたスルーホールにインクジェット方式に
より硬化型樹脂組成物を付与して形成するため、遮光層
上の表示に影響を及ぼさない領域にのみ選択的に形成す
ることができ、また、スペーサー形成素材を無駄なく有
効利用することができる。さらに、フォトレジスト層の
厚さや付与する硬化型樹脂組成物の特性及び付与量を制
御することによって、任意の高さのスペーサーを形成す
ることができる上、複数個のスペーサーを均一な高さで
形成することができる。
ジスト層に設けたスルーホールにインクジェット方式に
より硬化型樹脂組成物を付与して形成するため、遮光層
上の表示に影響を及ぼさない領域にのみ選択的に形成す
ることができ、また、スペーサー形成素材を無駄なく有
効利用することができる。さらに、フォトレジスト層の
厚さや付与する硬化型樹脂組成物の特性及び付与量を制
御することによって、任意の高さのスペーサーを形成す
ることができる上、複数個のスペーサーを均一な高さで
形成することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明を詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１７】図１〜図２は、本発明のスペーサー付カラ
ーフィルタの製造方法の一実施形態の工程図である。図
中、１は透明基板、２はブラックマトリクス、３はイン
ク受容層、４はフォトマスク、５は非着色部、６は被着
色部、７はインクジェットヘッド、８は着色インク、９
は着色部、１０は保護層、１１は透明電極、１２はフォ
トレジスト層、１３はフォトマスク、１４はスルーホー
ル、１５はインクジェットヘッド、１６は硬化型樹脂組
成物、１７はスペーサーである。尚、図１〜図２の
（ａ）〜（ｋ）はそれぞれ以下の工程（ａ）〜（ｋ）に
それぞれ対応する断面模式図である。
ーフィルタの製造方法の一実施形態の工程図である。図
中、１は透明基板、２はブラックマトリクス、３はイン
ク受容層、４はフォトマスク、５は非着色部、６は被着
色部、７はインクジェットヘッド、８は着色インク、９
は着色部、１０は保護層、１１は透明電極、１２はフォ
トレジスト層、１３はフォトマスク、１４はスルーホー
ル、１５はインクジェットヘッド、１６は硬化型樹脂組
成物、１７はスペーサーである。尚、図１〜図２の
（ａ）〜（ｋ）はそれぞれ以下の工程（ａ）〜（ｋ）に
それぞれ対応する断面模式図である。
【００１８】工程（ａ） 透明基板１上に、開口部を有する遮光層としてブラック
マトリクス２を形成し、その上に樹脂組成物からなるイ
ンク受容層３を全面に形成する。本発明において透明基
板１としては、一般にガラス基板が用いられるが、液晶
素子としての透明性、機械的強度等の必要特性を有する
ものであればガラス基板に限定されるものではなく、プ
ラスチック基板なども用いることができる。本発明にか
かる遮光層は、ブラックストライプであっても良い。
マトリクス２を形成し、その上に樹脂組成物からなるイ
ンク受容層３を全面に形成する。本発明において透明基
板１としては、一般にガラス基板が用いられるが、液晶
素子としての透明性、機械的強度等の必要特性を有する
ものであればガラス基板に限定されるものではなく、プ
ラスチック基板なども用いることができる。本発明にか
かる遮光層は、ブラックストライプであっても良い。
【００１９】ブラックマトリクス２としては特に制限は
なく、公知のものを用いることができる。例えば、透明
基板１上に形成したＣｒ等の金属や金属酸化物などの積
層膜をパターン状にエッチングしたり、透明基板１上に
塗布した黒色レジストをパターニングすることにより、
形成することができる。
なく、公知のものを用いることができる。例えば、透明
基板１上に形成したＣｒ等の金属や金属酸化物などの積
層膜をパターン状にエッチングしたり、透明基板１上に
塗布した黒色レジストをパターニングすることにより、
形成することができる。
【００２０】インク受容層３は、光照射や熱処理、或い
はその両方により硬化する樹脂組成物からなり、インク
吸収性を有する。特に好ましくは、光照射によってイン
ク吸収性が増加或いは低減する感光性樹脂組成物で形成
し、後述するパターン露光によって隣接する被着色部６
間に非着色部５を形成して混色防止を図る。このような
感光性樹脂組成物としては、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、アミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂などが必要に応じて光開始剤（架橋剤）と併せ
て用いられる。本実施形態は、光照射によってインク吸
収性が低下するネガ型の感光性樹脂組成物を用いた例で
ある。
はその両方により硬化する樹脂組成物からなり、インク
吸収性を有する。特に好ましくは、光照射によってイン
ク吸収性が増加或いは低減する感光性樹脂組成物で形成
し、後述するパターン露光によって隣接する被着色部６
間に非着色部５を形成して混色防止を図る。このような
感光性樹脂組成物としては、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、アミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂などが必要に応じて光開始剤（架橋剤）と併せ
て用いられる。本実施形態は、光照射によってインク吸
収性が低下するネガ型の感光性樹脂組成物を用いた例で
ある。
【００２１】上記感光性樹脂組成物は透明基板１上にス
ピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、バー
コート法、スリットコート法等の公知の手段により塗布
し、必要に応じてプリベークしてインク受容層３とす
る。
ピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、バー
コート法、スリットコート法等の公知の手段により塗布
し、必要に応じてプリベークしてインク受容層３とす
る。
【００２２】尚、インク受容層３は光照射によってイン
ク吸収性が増加または低減すると同時に、インクぬれ性
も増加または低減するものが好ましい。
ク吸収性が増加または低減すると同時に、インクぬれ性
も増加または低減するものが好ましい。
【００２３】工程（ｂ） フォトマスク４を介してパターン露光を行うことによ
り、インク吸収性を有する被着色部６とインク吸収性が
被着色部６より低い（或いは無い）非着色部５を形成す
る。本例では、インク受容層３の感光性がネガ型であ
り、この場合、ブラックマトリクス２の開口部における
色抜けを防止するために、着色部９をブラックマトリク
ス２の開口部よりも広く形成する意味から、ブラックマ
トリクス２の幅よりも非着色部５の幅が狭くなるような
開口パターンを有するフォトマスクを用いることが好ま
しい。
り、インク吸収性を有する被着色部６とインク吸収性が
被着色部６より低い（或いは無い）非着色部５を形成す
る。本例では、インク受容層３の感光性がネガ型であ
り、この場合、ブラックマトリクス２の開口部における
色抜けを防止するために、着色部９をブラックマトリク
ス２の開口部よりも広く形成する意味から、ブラックマ
トリクス２の幅よりも非着色部５の幅が狭くなるような
開口パターンを有するフォトマスクを用いることが好ま
しい。
【００２４】また、インク受容層３の感光性がポジ型の
場合には、ブラックマトリクス２をフォトマスクとして
用い、透明基板１の裏面から露光することにより、フォ
トマスクを用いずにパターン露光することが可能であ
る。
場合には、ブラックマトリクス２をフォトマスクとして
用い、透明基板１の裏面から露光することにより、フォ
トマスクを用いずにパターン露光することが可能であ
る。
【００２５】工程（ｃ） インク受容層の被着色部６にインクジェットヘッド７よ
り、所定の着色パターンに沿ってＲ（赤）、Ｇ（緑）、
Ｂ（青）の各着色インク８を付与する。本実施形態で
は、隣接する被着色部６間にはインク吸収性が低い（或
いはない）非着色部５が介在するため、被着色部６から
はみ出したインクは非着色部５においてはじかれ、隣接
する被着色部６間での混色が防止される。
り、所定の着色パターンに沿ってＲ（赤）、Ｇ（緑）、
Ｂ（青）の各着色インク８を付与する。本実施形態で
は、隣接する被着色部６間にはインク吸収性が低い（或
いはない）非着色部５が介在するため、被着色部６から
はみ出したインクは非着色部５においてはじかれ、隣接
する被着色部６間での混色が防止される。
【００２６】本発明において用いられる着色インク８と
しては、染料系、顔料系のいずれでも用いることがで
き、インクジェット方式によって吐出が可能なものであ
れば好ましく用いることができる。
しては、染料系、顔料系のいずれでも用いることがで
き、インクジェット方式によって吐出が可能なものであ
れば好ましく用いることができる。
【００２７】また、本発明において用いられるインクジ
ェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱
変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子
を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着
色面積及び着色パターンは任意に設定することができ
る。
ェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱
変換体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子
を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着
色面積及び着色パターンは任意に設定することができ
る。
【００２８】工程（ｄ） 着色インク８が被着色部６に吸収され十分に拡散した
後、必要に応じて乾燥処理を施し、さらに光照射、熱処
理等必要な処理を施してインク受容層全体を硬化させ、
非着色部５と着色部９からなる着色層を形成する。
後、必要に応じて乾燥処理を施し、さらに光照射、熱処
理等必要な処理を施してインク受容層全体を硬化させ、
非着色部５と着色部９からなる着色層を形成する。
【００２９】工程（ｅ） 必要に応じて保護層１０を形成した後、液晶を駆動する
ための電極となる透明導電膜１１を形成する。保護層１
０としては、光硬化型、熱硬化型、或いは熱・光併用硬
化型の樹脂組成物層、或いは蒸着、スパッタ等によって
形成された無機膜等を用いることができる。いずれの場
合も、カラーフィルタとしての透明性を有し、その後の
透明導電膜形成工程や配向膜形成工程等液晶素子の製造
工程に耐えるものであれば使用することができる。
ための電極となる透明導電膜１１を形成する。保護層１
０としては、光硬化型、熱硬化型、或いは熱・光併用硬
化型の樹脂組成物層、或いは蒸着、スパッタ等によって
形成された無機膜等を用いることができる。いずれの場
合も、カラーフィルタとしての透明性を有し、その後の
透明導電膜形成工程や配向膜形成工程等液晶素子の製造
工程に耐えるものであれば使用することができる。
【００３０】透明導電膜１１としては、通常ＩＴＯ（イ
ンジウム・チン・オキサイド）膜が用いられ、スパッタ
法等により成膜することができる。
ンジウム・チン・オキサイド）膜が用いられ、スパッタ
法等により成膜することができる。
【００３１】工程（ｆ） 透明導電膜１１上にフォトレジスト層１２を形成する。
フォトレジスト層１２としては、市販の素材を好ましく
用いることができるが、後述する硬化型インク１６に溶
解しないものを用いる必要がある。
フォトレジスト層１２としては、市販の素材を好ましく
用いることができるが、後述する硬化型インク１６に溶
解しないものを用いる必要がある。
【００３２】工程（ｇ） フォトレジスト層１２をフォトマスク１３を用いてパタ
ーン露光する。本実施形態は、ポジ型のフォトレジスト
層１２を用いた場合を示し、スルーホール１４を形成す
る領域を露光する。
ーン露光する。本実施形態は、ポジ型のフォトレジスト
層１２を用いた場合を示し、スルーホール１４を形成す
る領域を露光する。
【００３３】尚、透明導電膜１１は例えば電極取り出し
口等のパターニングが必要な場合があり、このパターニ
ング用のレジストとしてフォトレジスト層１２を兼用す
ることができ、その場合には、当該工程においてフォト
レジスト層１２を透明導電膜１１のパターニング用のマ
スクとなるようにパターン露光すればよい。
口等のパターニングが必要な場合があり、このパターニ
ング用のレジストとしてフォトレジスト層１２を兼用す
ることができ、その場合には、当該工程においてフォト
レジスト層１２を透明導電膜１１のパターニング用のマ
スクとなるようにパターン露光すればよい。
【００３４】工程（ｈ） 所定の現像処理等を行って、フォトレジスト層１２にブ
ラックマトリクス２に重複する領域内に透明導電膜１１
に達するスルーホール１４を形成する。
ラックマトリクス２に重複する領域内に透明導電膜１１
に達するスルーホール１４を形成する。
【００３５】工程（ｉ） インクジェットヘッド１５より、硬化型樹脂組成物１６
を、フォトレジスト層１２に形成されたスルーホール１
４に付与する。硬化型樹脂組成物１６は、光照射や熱処
理或いはその両方で硬化し、硬化後にスペーサー１７と
なるスペーサー形成素材であり、熱硬化型、或いは光硬
化型の樹脂組成物が使用可能であり、さらにインクジェ
ット方式により吐出可能なものであれば、溶剤含有の可
否は特に限定されるものではなく、エポキシ系樹脂、ア
クリル系樹脂、シリコーン系樹脂、イミド系樹脂等が使
用可能である。
を、フォトレジスト層１２に形成されたスルーホール１
４に付与する。硬化型樹脂組成物１６は、光照射や熱処
理或いはその両方で硬化し、硬化後にスペーサー１７と
なるスペーサー形成素材であり、熱硬化型、或いは光硬
化型の樹脂組成物が使用可能であり、さらにインクジェ
ット方式により吐出可能なものであれば、溶剤含有の可
否は特に限定されるものではなく、エポキシ系樹脂、ア
クリル系樹脂、シリコーン系樹脂、イミド系樹脂等が使
用可能である。
【００３６】スルーホール１４に対する硬化型樹脂組成
物１６の付与量としては、硬化後に所望の高さとなるよ
う任意の付与量を設定可能であるが、未硬化の流動性を
有する状態において、スルーホール１４を形成するフォ
トレジスト層１２の表面に流れ出さない範囲内に留める
必要がある。例えば、硬化型樹脂組成物１６の流動性が
低く、さらにフォトレジスト層１２に対する接触角が大
きい場合には、図２（ｉ）に示すようにスルーホール１
４からはみ出すような形状にしてもフォトレジスト層１
２表面に流れだすことはないが、溶剤を多量に含有し流
動性の大きな硬化型樹脂組成物１６を用いる場合には、
スルーホール１４からはみ出さないような形状になるよ
う付与する量を調整することが好ましい。
物１６の付与量としては、硬化後に所望の高さとなるよ
う任意の付与量を設定可能であるが、未硬化の流動性を
有する状態において、スルーホール１４を形成するフォ
トレジスト層１２の表面に流れ出さない範囲内に留める
必要がある。例えば、硬化型樹脂組成物１６の流動性が
低く、さらにフォトレジスト層１２に対する接触角が大
きい場合には、図２（ｉ）に示すようにスルーホール１
４からはみ出すような形状にしてもフォトレジスト層１
２表面に流れだすことはないが、溶剤を多量に含有し流
動性の大きな硬化型樹脂組成物１６を用いる場合には、
スルーホール１４からはみ出さないような形状になるよ
う付与する量を調整することが好ましい。
【００３７】即ち、硬化後のスペーサー１７の高さを調
整するためには、スルーホール１４を形成するためのフ
ォトレジスト層１２の厚さ及びスルーホール１４に対す
る硬化型樹脂組成物１６の付与量の増減によって調整を
行うことが好ましく、両者を厳密に制御することによ
り、大型の基板においても面内全域にバラツキ１μｍ以
下で均一な高さを有するスペーサー１７を形成すること
ができる。一般的には、液晶素子のセルギャップを保持
する上で、スペーサー１７の高さは２〜１０μｍの範囲
で設定される。
整するためには、スルーホール１４を形成するためのフ
ォトレジスト層１２の厚さ及びスルーホール１４に対す
る硬化型樹脂組成物１６の付与量の増減によって調整を
行うことが好ましく、両者を厳密に制御することによ
り、大型の基板においても面内全域にバラツキ１μｍ以
下で均一な高さを有するスペーサー１７を形成すること
ができる。一般的には、液晶素子のセルギャップを保持
する上で、スペーサー１７の高さは２〜１０μｍの範囲
で設定される。
【００３８】硬化型樹脂組成物１６の付与に用いるイン
クジェット方式としては、先の着色インク８の付与工程
と同様に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用
いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピ
エゾジェットタイプ等が使用可能である。
クジェット方式としては、先の着色インク８の付与工程
と同様に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用
いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピ
エゾジェットタイプ等が使用可能である。
【００３９】工程（ｊ） 光照射、熱処理、或いは光照射と熱処理等、所定の処理
を施して硬化型樹脂組成物１６を硬化させてスペーサー
１７を形成する。光照射や熱処理の方法は公知の方法に
よる。
を施して硬化型樹脂組成物１６を硬化させてスペーサー
１７を形成する。光照射や熱処理の方法は公知の方法に
よる。
【００４０】尚、透明導電膜１１をパターニングする場
合には、上記工程（ｉ）におけるスルーホール１４への
硬化型樹脂組成物１６の付与前、或いは本工程における
硬化型樹脂組成物１６の硬化後に、フォトレジスト層１
２をマスクとして透明導電膜１１のエッチング処理を行
えば良い。
合には、上記工程（ｉ）におけるスルーホール１４への
硬化型樹脂組成物１６の付与前、或いは本工程における
硬化型樹脂組成物１６の硬化後に、フォトレジスト層１
２をマスクとして透明導電膜１１のエッチング処理を行
えば良い。
【００４１】工程（ｋ） 溶剤等によりフォトレジスト層１２を除去し、本発明の
スペーサー付カラーフィルタを得る。また、硬化型樹脂
組成物１６を上記工程（ｊ）で一旦仮硬化した後、本工
程においてフォトレジスト層１２を除去し、さらに熱処
理等必要な処理を施して本硬化させても良い。
スペーサー付カラーフィルタを得る。また、硬化型樹脂
組成物１６を上記工程（ｊ）で一旦仮硬化した後、本工
程においてフォトレジスト層１２を除去し、さらに熱処
理等必要な処理を施して本硬化させても良い。
【００４２】次に、図４〜図５に本発明のスペーサー付
カラーフィルタの製造方法の他の実施形態の工程を示
す。図中、図１〜図２と同じ部材には同じ符号を付して
説明を省略する。また、図中、３２はブラックマトリク
ス、３７はインクジェットヘッド、３８は硬化型着色イ
ンク、３９は着色部である。尚、図４の（ａ）〜（ｊ）
はそれぞれ以下の工程（ａ）〜（ｊ）にそれぞれ対応す
る断面模式図である。
カラーフィルタの製造方法の他の実施形態の工程を示
す。図中、図１〜図２と同じ部材には同じ符号を付して
説明を省略する。また、図中、３２はブラックマトリク
ス、３７はインクジェットヘッド、３８は硬化型着色イ
ンク、３９は着色部である。尚、図４の（ａ）〜（ｊ）
はそれぞれ以下の工程（ａ）〜（ｊ）にそれぞれ対応す
る断面模式図である。
【００４３】工程（ａ） 透明基板１上に開口部を有するブラックマトリクス３２
を黒色樹脂組成物で形成する。該ブラックマトリクス３
２は、着色部３９を形成するための硬化型着色インク３
８の混色を防止する隔壁機能を備えている。このような
黒色樹脂組成物としては、感光性を備えたものが好まし
く、具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ア
ミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレン系樹脂な
どが必要に応じて光開始剤（架橋剤）と併せて用いら
れ、黒色染料或いは顔料を混合して用いる。
を黒色樹脂組成物で形成する。該ブラックマトリクス３
２は、着色部３９を形成するための硬化型着色インク３
８の混色を防止する隔壁機能を備えている。このような
黒色樹脂組成物としては、感光性を備えたものが好まし
く、具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ア
ミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレン系樹脂な
どが必要に応じて光開始剤（架橋剤）と併せて用いら
れ、黒色染料或いは顔料を混合して用いる。
【００４４】上記感光性黒色樹脂組成物は、スピンコー
ト法、ディッピング法、ロールコート法、バーコート
法、スリットコート法等の公知の手段により塗布され、
必要に応じてプリベークした後、パターン露光、現像し
て所定のパターンを有するブラックマトリクス３２が得
られる。
ト法、ディッピング法、ロールコート法、バーコート
法、スリットコート法等の公知の手段により塗布され、
必要に応じてプリベークした後、パターン露光、現像し
て所定のパターンを有するブラックマトリクス３２が得
られる。
【００４５】工程（ｂ） ブラックマトリクス３２の開口部にインクジェットヘッ
ド３７より硬化型着色インク３８を付与する。硬化型着
色インク３８としては、光照射や熱処理などのエネルギ
ー付与により硬化する樹脂とＲ、Ｇ、Ｂの染料或いは顔
料を含有する着色樹脂組成物が用いられる。上記樹脂と
しては、メラミン樹脂、水酸基或いはカルボキシル基含
有ポリマーとメラミン、水酸基或いはカルボキシル基含
有ポリマーと多官能エポキシ化合物、水酸基或いはカル
ボキシル基含有ポリマーと繊維素反応型化合物、エポキ
シ樹脂とレゾール型樹脂、エポキシ樹脂とアミン類、エ
ポキシ樹脂とカルボン酸又は酸無水物、エポキシ化合
物、ネガ型レジストなどが用いられる。
ド３７より硬化型着色インク３８を付与する。硬化型着
色インク３８としては、光照射や熱処理などのエネルギ
ー付与により硬化する樹脂とＲ、Ｇ、Ｂの染料或いは顔
料を含有する着色樹脂組成物が用いられる。上記樹脂と
しては、メラミン樹脂、水酸基或いはカルボキシル基含
有ポリマーとメラミン、水酸基或いはカルボキシル基含
有ポリマーと多官能エポキシ化合物、水酸基或いはカル
ボキシル基含有ポリマーと繊維素反応型化合物、エポキ
シ樹脂とレゾール型樹脂、エポキシ樹脂とアミン類、エ
ポキシ樹脂とカルボン酸又は酸無水物、エポキシ化合
物、ネガ型レジストなどが用いられる。
【００４６】また、インクジェット方式としては、前記
第一の実施形態における着色インクの付与工程と同様
に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバ
ブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能であり、着色パターンは任意
に設定することができる。
第一の実施形態における着色インクの付与工程と同様
に、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバ
ブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能であり、着色パターンは任意
に設定することができる。
【００４７】工程（ｃ） 必要に応じて、乾燥処理を施し、光照射及び熱処理等必
要な処理を施して硬化型着色インク３８を硬化し、着色
部３９を形成する。本実施形態では、着色部３９がカラ
ーフィルタの着色層に相当する。
要な処理を施して硬化型着色インク３８を硬化し、着色
部３９を形成する。本実施形態では、着色部３９がカラ
ーフィルタの着色層に相当する。
【００４８】工程（ｄ）〜工程（ｊ） 図１（ｅ）〜図２（ｋ）と同様に行う。即ち、着色層上
に必要に応じて保護層１０を形成した後、透明導電膜１
１、フォトレジスト層１２を形成し、パターン露光して
フォトレジスト層１２にスルーホール１４を形成した
後、スルーホール１４にインクジェットヘッド１５を用
いて硬化型樹脂組成物１６を付与し、硬化させてスペー
サー１７を形成し、フォトレジスト層１２を除去し、本
発明のスペーサー付カラーフィルタを得る。
に必要に応じて保護層１０を形成した後、透明導電膜１
１、フォトレジスト層１２を形成し、パターン露光して
フォトレジスト層１２にスルーホール１４を形成した
後、スルーホール１４にインクジェットヘッド１５を用
いて硬化型樹脂組成物１６を付与し、硬化させてスペー
サー１７を形成し、フォトレジスト層１２を除去し、本
発明のスペーサー付カラーフィルタを得る。
【００４９】上記図１〜図２、図４〜図５には、インク
ジェット方式によりカラーフィルタの着色層を形成する
工程を示したが、本発明においては特にこれに限定され
るものではなく、従来の顔料分散法等により着色層を形
成したカラーフィルタにも好ましく適用される。尚、イ
ンクジェット方式による製造方法に従えば、顔料分散法
等によって製造されたカラーフィルタに比較して、凹凸
の少ない平坦な着色層を得ることが可能であるため、本
発明をより効果的に実施することができる。
ジェット方式によりカラーフィルタの着色層を形成する
工程を示したが、本発明においては特にこれに限定され
るものではなく、従来の顔料分散法等により着色層を形
成したカラーフィルタにも好ましく適用される。尚、イ
ンクジェット方式による製造方法に従えば、顔料分散法
等によって製造されたカラーフィルタに比較して、凹凸
の少ない平坦な着色層を得ることが可能であるため、本
発明をより効果的に実施することができる。
【００５０】次に、本発明の液晶素子の一例を図３に示
す。図３は、図２（ｋ）に示した本発明のスペーサー付
カラーフィルタを用いて構成した液晶素子の一例の断面
模式図である。図中、２１は対向基板、２２は画素電
極、１８，２３は配向膜、２４は液晶である。本液晶素
子は、画素毎にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を配置した
アクティブマトリクスタイプ（いわゆるＴＦＴ型）の液
晶素子の一例である。
す。図３は、図２（ｋ）に示した本発明のスペーサー付
カラーフィルタを用いて構成した液晶素子の一例の断面
模式図である。図中、２１は対向基板、２２は画素電
極、１８，２３は配向膜、２４は液晶である。本液晶素
子は、画素毎にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を配置した
アクティブマトリクスタイプ（いわゆるＴＦＴ型）の液
晶素子の一例である。
【００５１】カラー表示の液晶素子は、一般的にカラー
フィルタ側の基板１と対向基板２１を合わせ込み、液晶
２４を封入することにより形成される。対向基板２１の
内側に、ＴＦＴ（図示しない）と透明な画素電極２２が
マトリクス状に形成される。また、透明基板１の内側に
は、画素電極２２に対向する位置に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列
するようにカラーフィルタの着色部９が設置され、その
上に透明導電膜１１（共通電極）が一面に形成される。
さらに、両基板の面内には配向膜１８，２３が形成され
ており、これらをラビング処理することにより液晶分子
を一定方向に配列させることができる。これらの基板間
の距離はスペーサー１７により一定に保持され、対向配
置されてシール材（図示しない）によって貼り合わさ
れ、その間隙に液晶２４が充填される。液晶としては一
般的に用いられているＴＮ型液晶や強誘電性液晶等いず
れも用いることができる。
フィルタ側の基板１と対向基板２１を合わせ込み、液晶
２４を封入することにより形成される。対向基板２１の
内側に、ＴＦＴ（図示しない）と透明な画素電極２２が
マトリクス状に形成される。また、透明基板１の内側に
は、画素電極２２に対向する位置に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列
するようにカラーフィルタの着色部９が設置され、その
上に透明導電膜１１（共通電極）が一面に形成される。
さらに、両基板の面内には配向膜１８，２３が形成され
ており、これらをラビング処理することにより液晶分子
を一定方向に配列させることができる。これらの基板間
の距離はスペーサー１７により一定に保持され、対向配
置されてシール材（図示しない）によって貼り合わさ
れ、その間隙に液晶２４が充填される。液晶としては一
般的に用いられているＴＮ型液晶や強誘電性液晶等いず
れも用いることができる。
【００５２】上記液晶素子は、透過型の場合には両基板
の外側に偏光板を設置し、一般的に蛍光灯と散乱板を組
み合わせたバックライトを用い、反射型の場合には透明
基板１の外側に偏光板を設置して、それぞれ液晶２４を
光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させる
ことにより表示を行う。
の外側に偏光板を設置し、一般的に蛍光灯と散乱板を組
み合わせたバックライトを用い、反射型の場合には透明
基板１の外側に偏光板を設置して、それぞれ液晶２４を
光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させる
ことにより表示を行う。
【００５３】上記実施形態においては、ＴＦＴ型の液晶
素子について説明したが、本発明は単純マトリクス型等
他の駆動タイプの液晶素子にも好ましく適用される。ま
た、本発明の液晶素子は直視型でも投写型でも好適に用
いられる。
素子について説明したが、本発明は単純マトリクス型等
他の駆動タイプの液晶素子にも好ましく適用される。ま
た、本発明の液晶素子は直視型でも投写型でも好適に用
いられる。
【００５４】
【実施例】（実施例１）開口部の大きさが７５μｍ×２
５０μｍで幅が２５μｍ及び５０μｍの多層クロムから
なるブラックマトリクスの形成されたガラス基板上に、
下記に示す組成からなるアクリル系共重合体９７重量部
及びトリフェニルスルフォニウムトリフラート３重量部
をエチルセルソロブに溶解してなる樹脂組成物を膜厚２
μｍとなるようスピンコートし、９０℃で２０分間のプ
リベークを行ってインク受容層を形成した。
５０μｍで幅が２５μｍ及び５０μｍの多層クロムから
なるブラックマトリクスの形成されたガラス基板上に、
下記に示す組成からなるアクリル系共重合体９７重量部
及びトリフェニルスルフォニウムトリフラート３重量部
をエチルセルソロブに溶解してなる樹脂組成物を膜厚２
μｍとなるようスピンコートし、９０℃で２０分間のプ
リベークを行ってインク受容層を形成した。
【００５５】〔アクリル系共重合体の組成〕 メチルメタクリレート ５０重量部 ヒドロキシエチルメタクリレート ３０重量部 Ｎ−メチロールアクリルアミド ２０重量部
【００５６】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
いストライプ状の開口部を有するフォトマスクを介して
ブラックマトリクス上のインク受容層の一部をストライ
プ状にパターン露光し、さらに１２０℃のホットプレー
ト上で１分間の熱処理を施した。次いで、未露光部に対
して，インクジェット記録装置を用いてＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の染料インクにより、連続するドット
でストライプ状のパターンを着色した後、９０℃で５分
間のインク乾燥を行った。引き続き２００℃で６０分間
の熱処理を行ってインク受容層全体を硬化させ、着色層
を得た。
いストライプ状の開口部を有するフォトマスクを介して
ブラックマトリクス上のインク受容層の一部をストライ
プ状にパターン露光し、さらに１２０℃のホットプレー
ト上で１分間の熱処理を施した。次いで、未露光部に対
して，インクジェット記録装置を用いてＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の染料インクにより、連続するドット
でストライプ状のパターンを着色した後、９０℃で５分
間のインク乾燥を行った。引き続き２００℃で６０分間
の熱処理を行ってインク受容層全体を硬化させ、着色層
を得た。
【００５７】上記着色層上に、二液型の熱硬化型樹脂組
成物（ＪＳＲ社製「ＳＳ６６９９Ｇ」）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、９０℃で３０分間のプリベー
クを行った後、２５０℃で６０分間の熱処理を行って保
護層を形成した。次いで、スパッタによりＩＴＯを厚さ
１５００Åとなるよう成膜し、カラーフィルターを得
た。
成物（ＪＳＲ社製「ＳＳ６６９９Ｇ」）を膜厚１μｍと
なるようスピンコートし、９０℃で３０分間のプリベー
クを行った後、２５０℃で６０分間の熱処理を行って保
護層を形成した。次いで、スパッタによりＩＴＯを厚さ
１５００Åとなるよう成膜し、カラーフィルターを得
た。
【００５８】上記の工程により得られたカラーフィルタ
ー上に、ポジ型フォトレジスト（東京応化社製「ＰＭＥ
Ｒレジスト」）を膜厚２μｍとなるよう塗布し、所定の
露光および現像処理を行って、ＩＴＯエッチング用パタ
ーンおよび幅５０μｍのブラックマトリクス上にスペー
サー形成用のスルーホールパターンを形成した。次い
で、インクジェット記録装置を用いてスルーホールに対
して、エポキシ樹脂及び酸無水物からなる熱硬化型樹脂
組成物を所定量付与し、１２０℃で２０分間の熱処理を
行って仮硬化した。
ー上に、ポジ型フォトレジスト（東京応化社製「ＰＭＥ
Ｒレジスト」）を膜厚２μｍとなるよう塗布し、所定の
露光および現像処理を行って、ＩＴＯエッチング用パタ
ーンおよび幅５０μｍのブラックマトリクス上にスペー
サー形成用のスルーホールパターンを形成した。次い
で、インクジェット記録装置を用いてスルーホールに対
して、エポキシ樹脂及び酸無水物からなる熱硬化型樹脂
組成物を所定量付与し、１２０℃で２０分間の熱処理を
行って仮硬化した。
【００５９】次にＩＴＯ用のエッチング液（関東化学社
製「ＩＴＯ−０２」）にてＩＴＯのエッチングを行った
後、アセトンを用いてフォトレジストを溶解除去した。
さらに、２００℃で３０分間の熱処理を行って熱硬化型
樹脂組成物を完全に硬化させ、スペーサーを形成した。
このようにして得られたスペーサー１００箇所に関して
ＩＴＯからの高さを測定したところ、直径が２０μｍの
円柱状で、平均高さは４．０μｍ、高さのばらつきは
１．０μｍ以下であった。
製「ＩＴＯ−０２」）にてＩＴＯのエッチングを行った
後、アセトンを用いてフォトレジストを溶解除去した。
さらに、２００℃で３０分間の熱処理を行って熱硬化型
樹脂組成物を完全に硬化させ、スペーサーを形成した。
このようにして得られたスペーサー１００箇所に関して
ＩＴＯからの高さを測定したところ、直径が２０μｍの
円柱状で、平均高さは４．０μｍ、高さのばらつきは
１．０μｍ以下であった。
【００６０】（実施例２）ＩＴＯのエッチングを、熱硬
化型樹脂組成物の付与前に行った以外は実施例１と同様
にして、スペーサーを形成した。
化型樹脂組成物の付与前に行った以外は実施例１と同様
にして、スペーサーを形成した。
【００６１】このようにして形成されたスペーサー１０
０箇所に関してＩＴＯからの高さを測定したところ、直
径が２０μｍの円柱状で、平均高さは３．８５μｍ、高
さのばらつきは１．０μｍ以下であった。
０箇所に関してＩＴＯからの高さを測定したところ、直
径が２０μｍの円柱状で、平均高さは３．８５μｍ、高
さのばらつきは１．０μｍ以下であった。
【００６２】（実施例３）スペーサーを形成する前の実
施例１のカラーフィルター上に、実施例１で用いたポジ
型フォトレジストを膜厚４μｍとなるよう塗布し、所定
の露光および現像処理を行って、ＩＴＯエッチング用パ
ターンおよびスペーサー形成用のスルーホールパターン
を形成した。次いで、インクジェット記録装置を用いて
スルーホールに対して硬化型樹脂組成物としてポリイミ
ドを所定量付与し、１５０℃で２０分間の熱処理を行っ
てポリイミドを仮硬化した。
施例１のカラーフィルター上に、実施例１で用いたポジ
型フォトレジストを膜厚４μｍとなるよう塗布し、所定
の露光および現像処理を行って、ＩＴＯエッチング用パ
ターンおよびスペーサー形成用のスルーホールパターン
を形成した。次いで、インクジェット記録装置を用いて
スルーホールに対して硬化型樹脂組成物としてポリイミ
ドを所定量付与し、１５０℃で２０分間の熱処理を行っ
てポリイミドを仮硬化した。
【００６３】次にＩＴＯ用のエッチング液にてＩＴＯの
エッチングを行った後、剥離液を用いてフォトレジスト
を除去した。さらに、２５０℃で６０分間の熱処理を行
ってポリイミドを完全に硬化させ、スペーサーを形成し
た。このようにして形成されたスペーサー１００箇所に
関してＩＴＯからの高さを測定したところ、直径が２０
μｍの円柱状で、平均高さは４．０μｍ、高さのばらつ
きは１．０μｍ以下であった。
エッチングを行った後、剥離液を用いてフォトレジスト
を除去した。さらに、２５０℃で６０分間の熱処理を行
ってポリイミドを完全に硬化させ、スペーサーを形成し
た。このようにして形成されたスペーサー１００箇所に
関してＩＴＯからの高さを測定したところ、直径が２０
μｍの円柱状で、平均高さは４．０μｍ、高さのばらつ
きは１．０μｍ以下であった。
【００６４】（実施例４）ＩＴＯのエッチングを、ポリ
イミドの付与前に行った以外は実施例３と同様にして、
スペーサーを形成した。
イミドの付与前に行った以外は実施例３と同様にして、
スペーサーを形成した。
【００６５】このようにして形成されたスペーサー１０
０箇所に関してＩＴＯからの高さを測定したところ、直
径が２０μｍの円柱状で、平均高さは３．８５μｍ、高
さのばらつきは１．０μｍ以下であった。
０箇所に関してＩＴＯからの高さを測定したところ、直
径が２０μｍの円柱状で、平均高さは３．８５μｍ、高
さのばらつきは１．０μｍ以下であった。
【００６６】（実施例５）スペーサーを形成する前の実
施例１のカラーフィルター上に、実施例１で用いたポジ
型フォトレジストを膜厚４μｍとなるよう塗布し、所定
の露光および現像処理を行って、ＩＴＯエッチング用パ
ターンおよびスペーサー形成用のスルーホールパターン
を形成した。
施例１のカラーフィルター上に、実施例１で用いたポジ
型フォトレジストを膜厚４μｍとなるよう塗布し、所定
の露光および現像処理を行って、ＩＴＯエッチング用パ
ターンおよびスペーサー形成用のスルーホールパターン
を形成した。
【００６７】次に、ＩＴＯ用のエッチング液にてＩＴＯ
のエッチングを行った後、インクジェット記録装置を用
いてスルーホールに対して硬化型樹脂組成物としてアク
リル系の光硬化型樹脂を所定量付与し、９０℃で２０分
間の熱処理を行って上記硬化型樹脂のプリベークを行っ
た後、全面露光を行って光硬化させた。さらに、現像液
にてフォトレジストを除去した後、２５０℃で６０分間
の熱処理を行ってキュアし、スペーサーを形成した。こ
のようにして形成されたスペーサー１００箇所に関して
ＩＴＯからの高さを測定したところ、直径が２０μｍの
円柱状で、平均高さは４．０μｍ、高さのばらつきは
１．０μｍ以下であった。
のエッチングを行った後、インクジェット記録装置を用
いてスルーホールに対して硬化型樹脂組成物としてアク
リル系の光硬化型樹脂を所定量付与し、９０℃で２０分
間の熱処理を行って上記硬化型樹脂のプリベークを行っ
た後、全面露光を行って光硬化させた。さらに、現像液
にてフォトレジストを除去した後、２５０℃で６０分間
の熱処理を行ってキュアし、スペーサーを形成した。こ
のようにして形成されたスペーサー１００箇所に関して
ＩＴＯからの高さを測定したところ、直径が２０μｍの
円柱状で、平均高さは４．０μｍ、高さのばらつきは
１．０μｍ以下であった。
【００６８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
表示に影響のない領域に選択的に且つ均一な高さのスペ
ーサーを少ない工程で容易に形成することができ、特
に、ＩＴＯをエッチングするためのフォトレジストをス
ペーサー形成用の型枠として使用することにより、少な
い工程数でスペーサーを形成することができる。よっ
て、本発明によれば、セルギャップが均一に保持された
信頼性の高い液晶素子を歩留まり良く、より安価に提供
することができる。
表示に影響のない領域に選択的に且つ均一な高さのスペ
ーサーを少ない工程で容易に形成することができ、特
に、ＩＴＯをエッチングするためのフォトレジストをス
ペーサー形成用の型枠として使用することにより、少な
い工程数でスペーサーを形成することができる。よっ
て、本発明によれば、セルギャップが均一に保持された
信頼性の高い液晶素子を歩留まり良く、より安価に提供
することができる。
【図１】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の一実施形態の工程図である。
法の一実施形態の工程図である。
【図２】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の一実施形態の工程図である。
法の一実施形態の工程図である。
【図３】図２のスペーサー付カラーフィルタを用いて構
成した本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図であ
る。
成した本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図であ
る。
【図４】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の他の実施形態の工程図である。
法の他の実施形態の工程図である。
【図５】本発明のスペーサー付カラーフィルタの製造方
法の他の実施形態の工程図である。
法の他の実施形態の工程図である。
１ 透明基板 ２ ブラックマトリクス ３ インク受容層 ４ フォトマスク ５ 非着色部 ６ 被着色部 ７ インクジェットヘッド ８ 着色インク ９ 着色部 １０ 保護層 １１ 透明導電膜 １２ フォトレジスト層 １３ フォトマスク １４ スルーホール １５ インクジェットヘッド １６ 硬化型樹脂組成物 １７ スペーサー １８ 配向膜 ２１ 対向基板 ２２ 画素電極 ２３ 配向膜 ２４ 液晶 ３２ ブラックマトリクス ３７ インクジェットヘッド ３８ 硬化型着色インク ３９ 着色部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA11 BA57 BA60 BB02 BB08 BB14 BB15 BB22 BB35 BB44 2H089 LA09 MA04X NA05 NA12 PA05 QA12 QA14 SA01 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA35Y FB04 FC01 FC12 FC18 FC23 FD04 FD05 GA08 LA12
Claims (8)
- 【請求項１】 透明基板上に、複数の開口部を有する遮
光層と、該遮光層の各開口部に配置された着色部を有す
る着色層と、透明導電膜と、を少なくとも形成してカラ
ーフィルタを形成する工程と、上記透明導電膜上にフォ
トレジスト層を形成し、該フォトレジスト層が上記遮光
層に重複する領域内に透明導電膜に達するスルーホール
を有するようにパターニングし、該スルーホールにイン
クジェット方式により硬化型樹脂組成物を付与して硬化
させ、フォトレジスト層を除去してスペーサーを形成す
る工程と、を少なくとも有することを特徴とするスペー
サー付カラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２】 フォトレジスト層を、透明導電膜をパタ
ーニングするためのマスクパターンとなるようにパター
ニングし、スルーホールへの硬化型樹脂組成物の付与前
或いは付与後に上記フォトレジスト層をマスクとして透
明導電膜のエッチングを行う請求項１記載のスペーサー
付カラーフィルタの製造方法。 - 【請求項３】 着色層上に保護層を形成した後、透明導
電膜を形成する請求項１または２に記載のスペーサー付
カラーフィルタの製造方法。 - 【請求項４】 透明基板上に全面に樹脂組成物からなる
インク受容層を形成し、該インク受容層にインクジェッ
ト方式により着色インクを付与して着色し、着色部を形
成する請求項１〜３のいずれかに記載のスペーサー付カ
ラーフィルタの製造方法。 - 【請求項５】 黒色樹脂組成物により開口部を有する遮
光層を形成し、該遮光層の開口部に着色樹脂組成物から
なる硬化型着色インクを付与して硬化し、着色部を形成
する請求項１〜３のいずれかに記載のスペーサー付カラ
ーフィルタの製造方法。 - 【請求項６】 透明基板上に、複数の開口部を有する遮
光層と、該遮光層の各開口部に配置された着色部を有す
る着色層と、該着色層上に形成された透明導電膜と、を
少なくとも備えたカラーフィルタと、該カラーフィルタ
上の遮光層に重複する領域内に部分的に形成された樹脂
組成物からなるスペーサーと、を備え、請求項１〜５の
いずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴
とするスペーサー付カラーフィルタ。 - 【請求項７】 スペーサーの高さが２〜１０μｍである
請求項６記載のスペーサー付カラーフィルタ。 - 【請求項８】 一対の基板間に液晶を狭持してなり、一
方の基板が請求項６または７に記載のスペーサー付カラ
ーフィルタであって、一対の基板間の距離が該スペーサ
ーにより保持されていることを特徴とする液晶素子。
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|---|---|---|---|
| JP25500899A JP4208356B2 (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | スペーサー付カラーフィルタとその製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP25500899A JP4208356B2 (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | スペーサー付カラーフィルタとその製造方法 |
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|---|---|
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