JP2592207B2 - パターン化可能な上塗層を有するカラーフィルターアレイ素子の製造方法 - Google Patents
パターン化可能な上塗層を有するカラーフィルターアレイ素子の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カラーフィルターアレ
イ素子の製造方法に関する。さらに詳細には、本発明は
光重合可能で選択的に除去可能な上塗層を上塗りしたカ
ラーフィルターアレイ素子の製造方法に関する。
イ素子の製造方法に関する。さらに詳細には、本発明は
光重合可能で選択的に除去可能な上塗層を上塗りしたカ
ラーフィルターアレイ素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、カラービデオカメラで電気的につ
くり出される画像をプリントすることを目的とする熱転
写系が開発された。開発された方法のひとつによれば、
まずカラーフィルターによって電気的な画像の色を分け
て、それぞれの色の画像を電気信号に変換する。その
後、これらの電気信号からシアン、マゼンタおよびイエ
ローの電気信号をつくり出して、これらの電気信号をサ
ーマルプリンターへ送る。サーマルプリンターにおいて
プリントするために、シアン、マゼンタおよびイエロー
の染料供与素子を染料受容素子に重ね合わせておく。こ
の重ね合わせた２つの素子をサーマルプリントヘッドと
熱盤ローラーとの間に挿入し、染料供与シートの裏側か
ら線形サーマルプリントヘッドによって熱を与える。サ
ーマルプリントヘッドは多くの加熱素子からなってお
り、シアン、マゼンタおよびイエローの信号に応じて断
続的に熱を発する。こうして、画面上の画像に対応した
カラーハードコピーが得られる。この工程およびこの工
程を実施するための装置は米国特許第４,６２１,２７１
号にさらに詳しく記載されている。
くり出される画像をプリントすることを目的とする熱転
写系が開発された。開発された方法のひとつによれば、
まずカラーフィルターによって電気的な画像の色を分け
て、それぞれの色の画像を電気信号に変換する。その
後、これらの電気信号からシアン、マゼンタおよびイエ
ローの電気信号をつくり出して、これらの電気信号をサ
ーマルプリンターへ送る。サーマルプリンターにおいて
プリントするために、シアン、マゼンタおよびイエロー
の染料供与素子を染料受容素子に重ね合わせておく。こ
の重ね合わせた２つの素子をサーマルプリントヘッドと
熱盤ローラーとの間に挿入し、染料供与シートの裏側か
ら線形サーマルプリントヘッドによって熱を与える。サ
ーマルプリントヘッドは多くの加熱素子からなってお
り、シアン、マゼンタおよびイエローの信号に応じて断
続的に熱を発する。こうして、画面上の画像に対応した
カラーハードコピーが得られる。この工程およびこの工
程を実施するための装置は米国特許第４,６２１,２７１
号にさらに詳しく記載されている。
【０００３】電気信号を用いて熱的手段によって画像を
形成する方法として、サーマルプリントヘッドの代わり
にレーザーを使用する方法もある。この方法では、レー
ザーの波長に強力な吸収を示す物質を含有する供与素子
シートを使用する。供与素子を照射したとき、この吸収
物質は光エネルギーを熱エネルギーに変換し、真近にあ
る染料を蒸発温度に加熱して受容素子に転写する。吸収
物質は染料の下に存在させても、染料と混合して使用し
てもよい。レーザービームは、原像の形と色を表す電気
信号によって変調し、画像を描くために受容素子への転
写が必要とされる場所の染料のみを加熱し転写する。こ
の工程の詳細は英国特許第２,０８３,７２６Ａ号明細書
に記載されている。
形成する方法として、サーマルプリントヘッドの代わり
にレーザーを使用する方法もある。この方法では、レー
ザーの波長に強力な吸収を示す物質を含有する供与素子
シートを使用する。供与素子を照射したとき、この吸収
物質は光エネルギーを熱エネルギーに変換し、真近にあ
る染料を蒸発温度に加熱して受容素子に転写する。吸収
物質は染料の下に存在させても、染料と混合して使用し
てもよい。レーザービームは、原像の形と色を表す電気
信号によって変調し、画像を描くために受容素子への転
写が必要とされる場所の染料のみを加熱し転写する。こ
の工程の詳細は英国特許第２,０８３,７２６Ａ号明細書
に記載されている。
【０００４】液晶表示素子は、電子計算機、時計、家庭
用具、オーディオ機器などのデジタル表示用素子として
知られている。液晶表示素子は、ディスプレイターミナ
ルのためのブラウン管に代わるものとして開発されたも
のである。同じスクリーンエリアで比較した場合、液晶
表示素子はブラウン管よりも占有面積が小さくてすむ。
また、一般に消費電力も少なくてすむ。
用具、オーディオ機器などのデジタル表示用素子として
知られている。液晶表示素子は、ディスプレイターミナ
ルのためのブラウン管に代わるものとして開発されたも
のである。同じスクリーンエリアで比較した場合、液晶
表示素子はブラウン管よりも占有面積が小さくてすむ。
また、一般に消費電力も少なくてすむ。
【０００５】このようなモノクロの表示素子にカラー表
示能を持たせることが必要とされている。とくに光電管
表示素子、固定電気表示素子やテレビ像表示素子などの
様々な機器を使用した周辺ターミナルの場合に、その必
要性が高い。カラーフィルターアレイ素子を用いたカラ
ー表示素子をこれらのデバイスに適用するために、様々
な試みがなされてきた。しかし、従来試みられた液晶表
示素子用カラーアレイ素子はいずれも、使用者のニーズ
を完全に満たすものではなかった。
示能を持たせることが必要とされている。とくに光電管
表示素子、固定電気表示素子やテレビ像表示素子などの
様々な機器を使用した周辺ターミナルの場合に、その必
要性が高い。カラーフィルターアレイ素子を用いたカラ
ー表示素子をこれらのデバイスに適用するために、様々
な試みがなされてきた。しかし、従来試みられた液晶表
示素子用カラーアレイ素子はいずれも、使用者のニーズ
を完全に満たすものではなかった。
【０００６】カラー表示能を有し、商業的に入手可能
な、液晶表示素子に使用するカラーフィルターアレイ素
子として、加法混色の原色であるレッド、グリーンおよ
びブルー染料からなるモザイクパターンのゼラチン層を
表面に有する透明な支持体がある。この素子は、写真平
板法を使用して得られる。このようなカラーフィルター
アレイ素子を製造するためには、ゼラチン層を増感し、
モザイクパターンの一色用のマスクに露光し、現像して
露光した部分のゼラチンを硬化して、洗浄して非露光
（架橋していないゼラチン）を除去することによってゼ
ラチンのパターンをつくり、これをさらに所望の色で着
色する操作が必要である。また、この素子を再度コーテ
ィングして、他の２つの色についても上記の工程を繰り
返す必要もある。このような労働集約型の製造方法は、
慎重な整合を要すとともに、時間と費用がかかるもので
ある。この工程の詳細は、米国特許第４,０８１,２７７
号明細書にさらに記載されている。米国特許第４,７８
６,１４８号明細書には、さらに特定の顔料を用いたカ
ラーフィルターアレイ素子が開示されている。
な、液晶表示素子に使用するカラーフィルターアレイ素
子として、加法混色の原色であるレッド、グリーンおよ
びブルー染料からなるモザイクパターンのゼラチン層を
表面に有する透明な支持体がある。この素子は、写真平
板法を使用して得られる。このようなカラーフィルター
アレイ素子を製造するためには、ゼラチン層を増感し、
モザイクパターンの一色用のマスクに露光し、現像して
露光した部分のゼラチンを硬化して、洗浄して非露光
（架橋していないゼラチン）を除去することによってゼ
ラチンのパターンをつくり、これをさらに所望の色で着
色する操作が必要である。また、この素子を再度コーテ
ィングして、他の２つの色についても上記の工程を繰り
返す必要もある。このような労働集約型の製造方法は、
慎重な整合を要すとともに、時間と費用がかかるもので
ある。この工程の詳細は、米国特許第４,０８１,２７７
号明細書にさらに記載されている。米国特許第４,７８
６,１４８号明細書には、さらに特定の顔料を用いたカ
ラーフィルターアレイ素子が開示されている。
【０００７】カラー液晶表示素子は、液晶材料で充填し
た密封キャビティを画定する２つの隔離ガラスパネルを
有するのが普通である。液晶表示素子が活発に機能する
ように、このガラスパネルの一方の表面に透明な電極
（この電極はパターン化されていてもされていなくても
よい）が取り付けられ、もう一方のガラスパネル表面に
方向付け可能な電極を取り付ける。電極はそれぞれ、ひ
とつの画素またはピクセルエリアに対応した表面エリア
を有する。カラー表示素子にしたい場合には、例えば、
赤色、緑色、青色のエリアを有するカラーフィルターア
レイをそれぞれのピクセルとともに配列する必要があ
る。表示する像によって、表示操作中に１以上のピクセ
ル電極を活性化してそれぞれ無発光、全発光または部分
発光させ、そのピクセルにつけられたカラーフィルター
エリアを通す。これによって、とりつけられたカラーフ
ィルターエリアを通した光が形成する色の集合体を像と
して見ることができる。
た密封キャビティを画定する２つの隔離ガラスパネルを
有するのが普通である。液晶表示素子が活発に機能する
ように、このガラスパネルの一方の表面に透明な電極
（この電極はパターン化されていてもされていなくても
よい）が取り付けられ、もう一方のガラスパネル表面に
方向付け可能な電極を取り付ける。電極はそれぞれ、ひ
とつの画素またはピクセルエリアに対応した表面エリア
を有する。カラー表示素子にしたい場合には、例えば、
赤色、緑色、青色のエリアを有するカラーフィルターア
レイをそれぞれのピクセルとともに配列する必要があ
る。表示する像によって、表示操作中に１以上のピクセ
ル電極を活性化してそれぞれ無発光、全発光または部分
発光させ、そのピクセルにつけられたカラーフィルター
エリアを通す。これによって、とりつけられたカラーフ
ィルターエリアを通した光が形成する色の集合体を像と
して見ることができる。
【０００８】このような液晶表示素子を形成するとき、
その液晶表示素子に使用するカラーフィルターアレイ素
子は、比較的苛酷な加熱や処理工程を経て製造されるこ
とがある。例えば、透明層（酸化インジウム錫ＩＴＯな
ど）をカラーフィルターアレイ上に通常真空スパッタリ
ングして硬化し、エッチングによりパターン化する。こ
の工程の温度は、２００℃にも達し、処理時間は１時間
以上に及ぶ。その後、例えばポリイミドなどの液晶用高
分子整合薄層でコーティングして、高温で数時間処理し
たりする。これらの処理工程は、多くのカラーフィルタ
ーアレイ素子に悪影響を及ぼすものである。
その液晶表示素子に使用するカラーフィルターアレイ素
子は、比較的苛酷な加熱や処理工程を経て製造されるこ
とがある。例えば、透明層（酸化インジウム錫ＩＴＯな
ど）をカラーフィルターアレイ上に通常真空スパッタリ
ングして硬化し、エッチングによりパターン化する。こ
の工程の温度は、２００℃にも達し、処理時間は１時間
以上に及ぶ。その後、例えばポリイミドなどの液晶用高
分子整合薄層でコーティングして、高温で数時間処理し
たりする。これらの処理工程は、多くのカラーフィルタ
ーアレイ素子に悪影響を及ぼすものである。
【０００９】カラーフィルターアレイ素子用のポリカー
ボネート染料像受容層材料について、米国特許第４,９
６２,０８１号に記載されている。この高分子材料をカ
ラーフィルターアレイ素子の材料として使用する際は、
高分子材料をガラス支持体上に均一にコーティングする
ためにスピンコーティングするのが普通である。
ボネート染料像受容層材料について、米国特許第４,９
６２,０８１号に記載されている。この高分子材料をカ
ラーフィルターアレイ素子の材料として使用する際は、
高分子材料をガラス支持体上に均一にコーティングする
ためにスピンコーティングするのが普通である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】カラーフィルターアレ
イの製造工程には、高温工程やさまざまな溶媒に適用す
る工程がある。このような工程条件は、高分子染料像受
容層にかなりのダメージを与える要因になる。光重合可
能な上塗層は、このような多段階工程を経る間に像受容
層が劣化するのを防ぐのに効果的である。
イの製造工程には、高温工程やさまざまな溶媒に適用す
る工程がある。このような工程条件は、高分子染料像受
容層にかなりのダメージを与える要因になる。光重合可
能な上塗層は、このような多段階工程を経る間に像受容
層が劣化するのを防ぐのに効果的である。
【００１１】液晶表示素子には、カラーフィルターアレ
イを有する支持体上の表示部分外にも幾つかの電子チッ
プが存在することが多い。チップが機能しない場合や適
当な箇所に設置されていない場合には、液晶表示素子全
体を廃棄してしまうよりもそのチップを除去したり、設
置し直したり、交換したりするのが経済的で好ましい。
そこで本発明は、高分子像受容層に悪影響を及ぼさず
に、チップの修繕を行う方法を提供することを目的とし
ている。
イを有する支持体上の表示部分外にも幾つかの電子チッ
プが存在することが多い。チップが機能しない場合や適
当な箇所に設置されていない場合には、液晶表示素子全
体を廃棄してしまうよりもそのチップを除去したり、設
置し直したり、交換したりするのが経済的で好ましい。
そこで本発明は、高分子像受容層に悪影響を及ぼさず
に、チップの修繕を行う方法を提供することを目的とし
ている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の工程か
らなるカラーフィルターアレイ素子の製造方法をその内
容とする。
らなるカラーフィルターアレイ素子の製造方法をその内
容とする。
【００１３】（ａ）染料層を表面に有する支持体を含む
染料供与素子を画像に対応させて、すなわち、像状に加
熱しかつ、その際、この染料供与素子を、高分子染料像
受容層を表面に有する透明な支持体を含む染料受容素子
と接触させ、よって、 （ｂ）前記染料層の一部を前記染料受容素子へ転写し
て、当該染料受容素子上に染料の繰返しモザイクパター
ンを形成し、 （ｃ）前記染料像受容層の上に、少なくとも２５重量％
の脂環式エポキシド化合物及び少なくとも４重量％の、
光重合開始剤としてのルイス酸のオニウム塩を含有する
光重合可能な上塗層をコーティングし、 （ｄ）前記光重合可能な上塗層の領域を選択的に、その
領域内の前記エポキシド化合物の重合が行われる条件の
下に置き、そして （ｅ）前記上塗層のうち重合せしめられなかった領域
を、その領域に対応する下地の前記像受容層の領域とと
もに、溶媒で処理することによって除去する工程。上述
のように、本発明の方法によって調製した染料像受容層
は、高分子染料像受容層上に繰返し着色剤パターン、好
ましくはモザイクパターンを有する熱転写像を保有す
る。好ましい１態様において、モザイクパターンは、加
法混色の原色たるレッド、グリーンおよびブルーのセッ
トからなる。
染料供与素子を画像に対応させて、すなわち、像状に加
熱しかつ、その際、この染料供与素子を、高分子染料像
受容層を表面に有する透明な支持体を含む染料受容素子
と接触させ、よって、 （ｂ）前記染料層の一部を前記染料受容素子へ転写し
て、当該染料受容素子上に染料の繰返しモザイクパター
ンを形成し、 （ｃ）前記染料像受容層の上に、少なくとも２５重量％
の脂環式エポキシド化合物及び少なくとも４重量％の、
光重合開始剤としてのルイス酸のオニウム塩を含有する
光重合可能な上塗層をコーティングし、 （ｄ）前記光重合可能な上塗層の領域を選択的に、その
領域内の前記エポキシド化合物の重合が行われる条件の
下に置き、そして （ｅ）前記上塗層のうち重合せしめられなかった領域
を、その領域に対応する下地の前記像受容層の領域とと
もに、溶媒で処理することによって除去する工程。上述
のように、本発明の方法によって調製した染料像受容層
は、高分子染料像受容層上に繰返し着色剤パターン、好
ましくはモザイクパターンを有する熱転写像を保有す
る。好ましい１態様において、モザイクパターンは、加
法混色の原色たるレッド、グリーンおよびブルーのセッ
トからなる。
【００１４】モザイクセットの大きさは、視点からの距
離に依存するので本発明にとって制限的ではない。概し
て、セットの個々のピクセルは約５０から約６００μm
であり、すべて同じ大きさにする必要はない。
離に依存するので本発明にとって制限的ではない。概し
て、セットの個々のピクセルは約５０から約６００μm
であり、すべて同じ大きさにする必要はない。
【００１５】液晶表示素子は、通常はガラスなどの基材
上に酸化インジウム錫をコーティングした２つの透明電
極の間に素子の操作温度では液晶状態にある材料を入
れ、電極に電流を流すことによって作動させる。配向層
は、２つの基材上に存在する透明電極層上に調製し、液
晶分子を配向して基材間でツイスト（例えば９０°）さ
せる。セルの一表面から他表面へ偏光を通すと、偏光の
偏光面はツイストした液晶組成物の間を通ることによっ
て９０°回転する。セルの特定電極に電場をかけること
によって液晶はツイストし、特定電極間のセルの位置に
て一時的に離れる。セルの各側面に偏光体を使用した場
合は、偏光が透過するか否かは電場をかけるか否かによ
って決まる。
上に酸化インジウム錫をコーティングした２つの透明電
極の間に素子の操作温度では液晶状態にある材料を入
れ、電極に電流を流すことによって作動させる。配向層
は、２つの基材上に存在する透明電極層上に調製し、液
晶分子を配向して基材間でツイスト（例えば９０°）さ
せる。セルの一表面から他表面へ偏光を通すと、偏光の
偏光面はツイストした液晶組成物の間を通ることによっ
て９０°回転する。セルの特定電極に電場をかけること
によって液晶はツイストし、特定電極間のセルの位置に
て一時的に離れる。セルの各側面に偏光体を使用した場
合は、偏光が透過するか否かは電場をかけるか否かによ
って決まる。
【００１６】上記の高分子配向層には、液晶技術の分野
で通常用いられているものであればいかなるものでも使
用することができる。例えば、ポリイミド、ポリビニル
アルコールやメチルセルロースなどを使用することがで
きる。
で通常用いられているものであればいかなるものでも使
用することができる。例えば、ポリイミド、ポリビニル
アルコールやメチルセルロースなどを使用することがで
きる。
【００１７】上記の透明な電動層も、液晶技術の分野で
通常用いられるものである。例えば、酸化インジウム
錫、酸化インジウム、酸化錫やカドミウム錫を使用する
ことができる。
通常用いられるものである。例えば、酸化インジウム
錫、酸化インジウム、酸化錫やカドミウム錫を使用する
ことができる。
【００１８】図１は、ガラス、石英などの適当な材料か
らなるプレート２を有する液晶表示素子の一部分の略図
である。カラーフィルターアレイ３は、ピクセルに対応
するレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）のセ
ル４からなる。ブラック格子ライン５はそれぞれのカラ
ーセルを仕切っている。カラーフィルターアレイ３の上
には、上塗層６とＩＴＯの透明導電層７がある。
らなるプレート２を有する液晶表示素子の一部分の略図
である。カラーフィルターアレイ３は、ピクセルに対応
するレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）のセ
ル４からなる。ブラック格子ライン５はそれぞれのカラ
ーセルを仕切っている。カラーフィルターアレイ３の上
には、上塗層６とＩＴＯの透明導電層７がある。
【００１９】本発明のカラーフィルターアレイにおい
て、上塗層６は後に詳述する３,４−エポキシシクロヘ
キシルメチル−３,４−エポキシシクロヘキシルカルボ
キシレートなどの脂環式エポキシドと光重合開始剤たる
ルイス酸のオニウム塩からなる光重合可能な層である。
て、上塗層６は後に詳述する３,４−エポキシシクロヘ
キシルメチル−３,４−エポキシシクロヘキシルカルボ
キシレートなどの脂環式エポキシドと光重合開始剤たる
ルイス酸のオニウム塩からなる光重合可能な層である。
【００２０】他のプレート８の上には電極９があり、こ
の電極によってピクセルが画定される。これは、電極９
とＩＴＯの透明電動層７がクロスバー系を形成し、その
系の中の交差部がピクセルを画定するか（受動作動）、
あるいは、単一の平面構造を有していてもよい電極９が
スイッチ素子、ドライブおよびデータラインの系（表示
されていない）によって作動する画像電極を形成するこ
とによる（能動作動）。
の電極によってピクセルが画定される。これは、電極９
とＩＴＯの透明電動層７がクロスバー系を形成し、その
系の中の交差部がピクセルを画定するか（受動作動）、
あるいは、単一の平面構造を有していてもよい電極９が
スイッチ素子、ドライブおよびデータラインの系（表示
されていない）によって作動する画像電極を形成するこ
とによる（能動作動）。
【００２１】液晶材料層１１は、配向層１０とともに２
つの基材プレート２と８の間に存在する。これらの基材
は、密封エッジ１２とスペーサー１３によって互いに実
質的に一定の距離に維持されている。実際には、素子は
さらに通常のように偏光子や反射板を有する。
つの基材プレート２と８の間に存在する。これらの基材
は、密封エッジ１２とスペーサー１３によって互いに実
質的に一定の距離に維持されている。実際には、素子は
さらに通常のように偏光子や反射板を有する。
【００２２】液晶表示素子のカラーフィルターアレイを
有するプレート上に存在する電子チップや電子ハードウ
エアーは、エッチングして表示エリア外のリード線のパ
ターンを形成している透明なＩＴＯ層（酸化インジウム
錫層）によって接続している。チップが機能しない場合
や適当な箇所に設置されていない場合には、液晶表示素
子全体を廃棄していしまうよりもそのチップを除去した
り、設置し直したり、交換したりする方が好ましい。し
かしながら、このようなチップの修繕は、電流リード線
を損傷し表示素子の一部に障害をもたらすことになるた
め高分子像受容層に悪影響を及ぼすものであってはなら
ない。
有するプレート上に存在する電子チップや電子ハードウ
エアーは、エッチングして表示エリア外のリード線のパ
ターンを形成している透明なＩＴＯ層（酸化インジウム
錫層）によって接続している。チップが機能しない場合
や適当な箇所に設置されていない場合には、液晶表示素
子全体を廃棄していしまうよりもそのチップを除去した
り、設置し直したり、交換したりする方が好ましい。し
かしながら、このようなチップの修繕は、電流リード線
を損傷し表示素子の一部に障害をもたらすことになるた
め高分子像受容層に悪影響を及ぼすものであってはなら
ない。
【００２３】本発明の方法によれば、像受容層に悪影響
を及ぼすことなくチップを修繕することができる。すな
わち、所望のパターンを有するマスクを通して、光重合
可能な上塗層６を有するカラーフィルターアレイ素子に
紫外線を照射し；マスクしていたために光重合していな
い上塗層エリアをその下にある像受容層エリアとともに
除去することによって、チップを効果的に修繕しうる。
例えば、液晶表示素子の表示部分内にある上塗層エリア
を紫外線照射して光重合させることによって、像受容層
中の転写染料の上に保護層を形成することができる。そ
して、表示部分外にある上塗層のエリアについてはマス
クすることによって紫外線が当たらないようにすること
ができる。このような本発明の方法をとることよって、
上塗層の所望のエリアとその下に存在する像受容層エリ
アを光重合させないで除去し、欠陥のあるチップを修繕
したり除去したりすることができる。
を及ぼすことなくチップを修繕することができる。すな
わち、所望のパターンを有するマスクを通して、光重合
可能な上塗層６を有するカラーフィルターアレイ素子に
紫外線を照射し；マスクしていたために光重合していな
い上塗層エリアをその下にある像受容層エリアとともに
除去することによって、チップを効果的に修繕しうる。
例えば、液晶表示素子の表示部分内にある上塗層エリア
を紫外線照射して光重合させることによって、像受容層
中の転写染料の上に保護層を形成することができる。そ
して、表示部分外にある上塗層のエリアについてはマス
クすることによって紫外線が当たらないようにすること
ができる。このような本発明の方法をとることよって、
上塗層の所望のエリアとその下に存在する像受容層エリ
アを光重合させないで除去し、欠陥のあるチップを修繕
したり除去したりすることができる。
【００２４】本発明に係るカラーフィルターアレイ素子
を形成するのに使用する染料像受容層は、例えば米国特
許第４,６９５,２８６号、同第４,７４０,７９７号、同
第４,７７５,６５７号や同第４,９６２,０８１号に記載
されるポリマーなどのシクロヘキサノンなどの有機溶剤
に可溶性のポリマーを含有する。中でも、ガラス転移温
度が約２００℃以上であるものを使用するのが好まし
い。また、４,４'−（ヘキサヒドロー４,７−メタノイ
ンダン−５−イリデン）ビスフェノールなどのメチレン
置換ビスフェノールＡも好ましい。概して、約０.２５
から約５mg/m2で使用すれば良好な結果が得られる。
を形成するのに使用する染料像受容層は、例えば米国特
許第４,６９５,２８６号、同第４,７４０,７９７号、同
第４,７７５,６５７号や同第４,９６２,０８１号に記載
されるポリマーなどのシクロヘキサノンなどの有機溶剤
に可溶性のポリマーを含有する。中でも、ガラス転移温
度が約２００℃以上であるものを使用するのが好まし
い。また、４,４'−（ヘキサヒドロー４,７−メタノイ
ンダン−５−イリデン）ビスフェノールなどのメチレン
置換ビスフェノールＡも好ましい。概して、約０.２５
から約５mg/m2で使用すれば良好な結果が得られる。
【００２５】本発明に使用する支持体は、ボラックスガ
ラス、ボロシリケートガラス、クロミウムガラス、クラ
ウンガラス、フリントガラス、ライムガラス、カリガラ
ス、シリカーフリントガラス、ソーダガラス、亜鉛−ク
ラウンガラスなどのガラスであるのが好ましい。中で
も、ボロシリケートガラスを用いるのが好ましい。
ラス、ボロシリケートガラス、クロミウムガラス、クラ
ウンガラス、フリントガラス、ライムガラス、カリガラ
ス、シリカーフリントガラス、ソーダガラス、亜鉛−ク
ラウンガラスなどのガラスであるのが好ましい。中で
も、ボロシリケートガラスを用いるのが好ましい。
【００２６】本発明に係るカラーフィルターアレイ素子
を形成するのに使用する染料供与素子は、表面に染料層
を有する支持体からなる。染料としては、熱によって本
発明に係るカラーフィルターアレイ素子に転写すること
ができるものであればいかなる染料や混合物でも使用す
ることができる。特に下記の昇華性染料を用いれば良好
な結果が得られる。
を形成するのに使用する染料供与素子は、表面に染料層
を有する支持体からなる。染料としては、熱によって本
発明に係るカラーフィルターアレイ素子に転写すること
ができるものであればいかなる染料や混合物でも使用す
ることができる。特に下記の昇華性染料を用いれば良好
な結果が得られる。
【００２７】
【化１】マゼンタ
【化２】シアン
【化３】イエロー 上記の減法混色の原色染料はそれぞれ適当に混合して、
米国特許第４,９５７,８９８号、同第４,９７５,４１０
号や同第４,９８８,６５５号に記載されるように所望の
レッド、グリーンおよびレッドの加法混色の原色にして
もよい。これらの染料は染料層中で混合してもいし、別
個の染料層中にコーティングした場合には連続して転写
してもよい。使用量は約０.０５から約１g/m2にするこ
とができる。
米国特許第４,９５７,８９８号、同第４,９７５,４１０
号や同第４,９８８,６５５号に記載されるように所望の
レッド、グリーンおよびレッドの加法混色の原色にして
もよい。これらの染料は染料層中で混合してもいし、別
個の染料層中にコーティングした場合には連続して転写
してもよい。使用量は約０.０５から約１g/m2にするこ
とができる。
【００２８】染料供与素子から支持体上の像受容層へ染
料を転写して本発明に係るカラーフィルターアレイ素子
を形成するために、さまざまな方法を用いることができ
る。例えば、強度光閃光法を、カーボンブラックまたは
光吸収性染料を有する染料供与素子に対して用いること
ができる。このような染料供与素子は、光抵抗性材料と
ともにエッチングすることによって形成した格子パター
ンを有するミラーと組み合わせて使用する。この方法に
ついては、米国特許第４,９２３,８６０号に十分に記載
されている。
料を転写して本発明に係るカラーフィルターアレイ素子
を形成するために、さまざまな方法を用いることができ
る。例えば、強度光閃光法を、カーボンブラックまたは
光吸収性染料を有する染料供与素子に対して用いること
ができる。このような染料供与素子は、光抵抗性材料と
ともにエッチングすることによって形成した格子パター
ンを有するミラーと組み合わせて使用する。この方法に
ついては、米国特許第４,９２３,８６０号に十分に記載
されている。
【００２９】染料を染料供与素子から透明な支持体に転
写して本発明に係るカラーフィルターアレイ素子を形成
する方法として、他に米国特許第４,９７８,６５２号に
記載される加熱エンボスローラーを使用する方法があ
る。
写して本発明に係るカラーフィルターアレイ素子を形成
する方法として、他に米国特許第４,９７８,６５２号に
記載される加熱エンボスローラーを使用する方法があ
る。
【００３０】像の形に加熱する操作は、染料層とレーザ
ー吸収性材料とを表面に有する支持体からなる染料供与
素子に対してレーザーを照射して行うのが好ましい。本
発明に係るカラーフィルターアレイ素子を形成するのに
これらの既知の染料熱転写法のいずれを選択したとして
も、像のかたちに加熱することによって染料は転写し、
繰返し色パターンが受容層上に形成される。
ー吸収性材料とを表面に有する支持体からなる染料供与
素子に対してレーザーを照射して行うのが好ましい。本
発明に係るカラーフィルターアレイ素子を形成するのに
これらの既知の染料熱転写法のいずれを選択したとして
も、像のかたちに加熱することによって染料は転写し、
繰返し色パターンが受容層上に形成される。
【００３１】上記のレーザーか強度閃光を吸収する材料
としては、いかなる吸収性材料を使用してもよい。例え
ば、カーボンブラック、非揮発性赤外線吸収染料、当業
者に周知の顔料を使用することができる。中でも、米国
特許第４,９７３,５７２号に記載されるシアニン赤外線
吸収染料を使用するのが好ましい。
としては、いかなる吸収性材料を使用してもよい。例え
ば、カーボンブラック、非揮発性赤外線吸収染料、当業
者に周知の顔料を使用することができる。中でも、米国
特許第４,９７３,５７２号に記載されるシアニン赤外線
吸収染料を使用するのが好ましい。
【００３２】染料を受容素子に転写した後、さらに染料
を染料受容層中に拡散させて安定化するために像処理さ
れる。安定化は、輻射加熱や溶媒蒸気によって行った
り、加熱ローラーに接触させることによって行うことが
できる。この拡散工程を経ることによって、光にさらし
たときに像が褪色したり表面磨耗したりするのを防止
し、染料の結晶化を防ぐことができる。また、熱溶融の
代わりに溶媒蒸気溶融を用いてもよい。
を染料受容層中に拡散させて安定化するために像処理さ
れる。安定化は、輻射加熱や溶媒蒸気によって行った
り、加熱ローラーに接触させることによって行うことが
できる。この拡散工程を経ることによって、光にさらし
たときに像が褪色したり表面磨耗したりするのを防止
し、染料の結晶化を防ぐことができる。また、熱溶融の
代わりに溶媒蒸気溶融を用いてもよい。
【００３３】染料を像受容層に転写してカラーフィルタ
ーアレイを調製した後、そのカラーフィルターアレイの
上に光重合可能な上塗層を適用する。この光重合可能な
上塗層の適用のため、脂環式エポキシド化合物、例えば
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ
キシシクロヘキシルカルボキシレート及び光重合開始
剤、好ましくは例えばトリアリールスルホニウム塩のよ
うなルイス酸のオニウム塩を含む組成物を使用する。こ
の上塗層組成物は、好ましくは、少なくとも約２５重量
％の脂環式エポキシド化合物及び少なくとも約４重量％
の光重合開始剤を含有する。
ーアレイを調製した後、そのカラーフィルターアレイの
上に光重合可能な上塗層を適用する。この光重合可能な
上塗層の適用のため、脂環式エポキシド化合物、例えば
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ
キシシクロヘキシルカルボキシレート及び光重合開始
剤、好ましくは例えばトリアリールスルホニウム塩のよ
うなルイス酸のオニウム塩を含む組成物を使用する。こ
の上塗層組成物は、好ましくは、少なくとも約２５重量
％の脂環式エポキシド化合物及び少なくとも約４重量％
の光重合開始剤を含有する。
【００３４】本発明で用いることができる光重合開始剤
としてとくに有用なのは、ユニオンカーバイド社のＣｙ
ｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ−６９７４TMトリアリールスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネートおよびＣｙｒａ
ｃｕｒｅ ＵＶＩ−６９９０TMトリアリールスルホニウ
ム ヘキサフルオロホスフェートである。この他の有用
な光重合開始剤は、米国特許第４,１６１,４７８号、同
第４,３７４,０６６号および同第４,６８４,６７１号に
記載されている。
としてとくに有用なのは、ユニオンカーバイド社のＣｙ
ｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ−６９７４TMトリアリールスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネートおよびＣｙｒａ
ｃｕｒｅ ＵＶＩ−６９９０TMトリアリールスルホニウ
ム ヘキサフルオロホスフェートである。この他の有用
な光重合開始剤は、米国特許第４,１６１,４７８号、同
第４,３７４,０６６号および同第４,６８４,６７１号に
記載されている。
【００３５】エポキシド化合物と光重合開始剤に加え
て、さらに本発明に係る上塗層には、希釈剤や溶媒を加
えておくことができる。例えば、１,４−ブタンジオー
ル、ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテルなどのエーテルを加えておくことができ
る。
て、さらに本発明に係る上塗層には、希釈剤や溶媒を加
えておくことができる。例えば、１,４−ブタンジオー
ル、ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテルなどのエーテルを加えておくことができ
る。
【００３６】本発明の方法では、光重合可能な上塗層を
適用した後、所望のパターンを有するマスクを通してカ
ラーフィルターアレイに紫外線を照射する。紫外線を照
射したカラーフィルターアレイ素子は、重合を促進する
ために加熱する。そして、紫外線を照射しなかった上塗
層部分とその下にある染料像受容層エリアをシクロヘキ
サノンなどの適当な溶媒を用いて一段階で溶解すること
によって、パターン化する。紫外線照射により重合した
硬化上塗層エリアとその下の像受容層エリアは、溶媒に
よる劣化を受けない。
適用した後、所望のパターンを有するマスクを通してカ
ラーフィルターアレイに紫外線を照射する。紫外線を照
射したカラーフィルターアレイ素子は、重合を促進する
ために加熱する。そして、紫外線を照射しなかった上塗
層部分とその下にある染料像受容層エリアをシクロヘキ
サノンなどの適当な溶媒を用いて一段階で溶解すること
によって、パターン化する。紫外線照射により重合した
硬化上塗層エリアとその下の像受容層エリアは、溶媒に
よる劣化を受けない。
【００３７】本発明の方法で用いる脂環式エポキシド化
合物からなる上塗層の除去しやすさを示すために、一連
の上塗りした素子を調製して試験した。また、対照用素
子も調製して試験した。結果は後述のとおりであった。
合物からなる上塗層の除去しやすさを示すために、一連
の上塗りした素子を調製して試験した。また、対照用素
子も調製して試験した。結果は後述のとおりであった。
【００３８】上塗りした素子の一般的な調製法 カラーフィルターアレイモデルサンプルを以下の手順で
調製した。
調製した。
【００３９】９５％メタノールと５％蒸留水の混合溶媒
に溶解した０.１％ＶＭ６５１TMシロキサン接着促進剤
（デュポン社製）を、きれいなガラス片上に２分間１０
０ｒｐｍでスピンコーティングした。接着促進層は厚さ
０.１μm未満であった。次に、この接着促進層上にシク
ロヘキサン中に溶解した１２％受容ポリマー４，４'−
（ヘキサヒドロー４,７−メタノインデン−５−イリデ
ン）ビスフェノールポリカーボネート溶液を２分間１０
００ｒｐｍでスピンコーティングした。染料受容層の厚
さは約３.５μmであった。コーティングしたサンプルを
オーブン中９０℃で１時間加熱した。
に溶解した０.１％ＶＭ６５１TMシロキサン接着促進剤
（デュポン社製）を、きれいなガラス片上に２分間１０
０ｒｐｍでスピンコーティングした。接着促進層は厚さ
０.１μm未満であった。次に、この接着促進層上にシク
ロヘキサン中に溶解した１２％受容ポリマー４，４'−
（ヘキサヒドロー４,７−メタノインデン−５−イリデ
ン）ビスフェノールポリカーボネート溶液を２分間１０
００ｒｐｍでスピンコーティングした。染料受容層の厚
さは約３.５μmであった。コーティングしたサンプルを
オーブン中９０℃で１時間加熱した。
【００４０】以下に示す実施例や比較例では、簡単にす
るために染料像を像受容層上に転写しなかった。これ
は、本発明の優位性を示すうえで、染料を存在させる必
要がないためである。特定の試験に限っては、染料を像
受容層に転写したものについて行なったが、試験結果は
染料を有するサンプルでも染料を有しないサンプルでも
同じであった。
るために染料像を像受容層上に転写しなかった。これ
は、本発明の優位性を示すうえで、染料を存在させる必
要がないためである。特定の試験に限っては、染料を像
受容層に転写したものについて行なったが、試験結果は
染料を有するサンプルでも染料を有しないサンプルでも
同じであった。
【００４１】紫外線で硬化する上塗層は、本発明で用い
る脂環式エポキシド化合物と光重合開始剤の溶液を４３
００ｒｐｍで２分間スピンコーティングし、厚さ３.３
μmの層を形成することによって調製することができ
る。層の厚さを厚くしたい場合には、スピンコーティン
グを１０００ｒｐｍで行えばよい。
る脂環式エポキシド化合物と光重合開始剤の溶液を４３
００ｒｐｍで２分間スピンコーティングし、厚さ３.３
μmの層を形成することによって調製することができ
る。層の厚さを厚くしたい場合には、スピンコーティン
グを１０００ｒｐｍで行えばよい。
【００４２】以下の実施例や比較例において特に断りが
なければ、光重合可能な上塗層には、Ｃｙｒａｃｕｒｅ
ＵＶＲ−６１１０TM ３,４−エポキシシクロヘキシル
メチル−３,４−エポキシシクロヘキエイルカルボキシ
レートと光重合開始剤たるＣｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ−
６９７４TMトリアリールスルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネートまたはＣｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ−６９９
０TMトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ートが含まれている。これらの成分はいずれもユニオン
カーバイド社製である。
なければ、光重合可能な上塗層には、Ｃｙｒａｃｕｒｅ
ＵＶＲ−６１１０TM ３,４−エポキシシクロヘキシル
メチル−３,４−エポキシシクロヘキエイルカルボキシ
レートと光重合開始剤たるＣｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ−
６９７４TMトリアリールスルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネートまたはＣｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ−６９９
０TMトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ートが含まれている。これらの成分はいずれもユニオン
カーバイド社製である。
【００４３】
【実施例】以下に実施例を記載するが、本発明の内容は
下記の実施例によってなんら制限を受けるものではな
い。
下記の実施例によってなんら制限を受けるものではな
い。
【００４４】試験方法 ５.２ｃｍ四方の透明な中心部を有する不透明な縁取材
を通して、上塗りしたサンプルにＭｏｄｅｌ Ｍ−２１
８照射系（コライト社製：主波長３６６nm、４０５nmの
中圧水銀ランプ）を用いて紫外線を５分間照射した。特
定の場合については、照射時間を長くした。サンプルに
照射した後、オーブン中で６０℃で１５分間加熱した。
を通して、上塗りしたサンプルにＭｏｄｅｌ Ｍ−２１
８照射系（コライト社製：主波長３６６nm、４０５nmの
中圧水銀ランプ）を用いて紫外線を５分間照射した。特
定の場合については、照射時間を長くした。サンプルに
照射した後、オーブン中で６０℃で１５分間加熱した。
【００４５】マスクを通して紫外線照射した後、サンプ
ルをスピンコーター上に２分間静置して、シクロヘキサ
ノンで１０から６０秒洗浄した。光重合した上塗層部分
はその下に存在する像受容層とともにガラスプレート上
にとどまった。光重合していないコーティングはすべて
速やかに洗い流された。
ルをスピンコーター上に２分間静置して、シクロヘキサ
ノンで１０から６０秒洗浄した。光重合した上塗層部分
はその下に存在する像受容層とともにガラスプレート上
にとどまった。光重合していないコーティングはすべて
速やかに洗い流された。
【００４６】（実施例１）受容層上に、９６重量％の
３,４−エポキシシクロヘキシルメチル−３,４−エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレートと４重量％のトリア
リールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートの溶
液をスピンコーティングして、厚さ３.３μmの上塗層を
形成した。紫外線を５分間照射した後、６０℃で５分間
加熱し、サンプルをシクロヘキサノンで洗い流した。硬
化した上塗層はガラスプレート上に残った。このこと
は、パターン化したサンプルから選択的にコーティング
を除去することができることを示している。
３,４−エポキシシクロヘキシルメチル−３,４−エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレートと４重量％のトリア
リールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートの溶
液をスピンコーティングして、厚さ３.３μmの上塗層を
形成した。紫外線を５分間照射した後、６０℃で５分間
加熱し、サンプルをシクロヘキサノンで洗い流した。硬
化した上塗層はガラスプレート上に残った。このこと
は、パターン化したサンプルから選択的にコーティング
を除去することができることを示している。
【００４７】（実施例２）スピンコーティングの速度を
調節して厚さ１８.８μmの上塗層を形成する点を除い
て、実施例１と同一の操作を行った。紫外線を照射して
サンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はガラスプレー
ト上に残った。このことは、パターン化したサンプルか
ら選択的にコーティングを除去することができることを
示している。
調節して厚さ１８.８μmの上塗層を形成する点を除い
て、実施例１と同一の操作を行った。紫外線を照射して
サンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はガラスプレー
ト上に残った。このことは、パターン化したサンプルか
ら選択的にコーティングを除去することができることを
示している。
【００４８】（実施例３）９０重量％の脂環式エポキシ
ド化合物と１０重量％の光重合開始剤を含有する溶液を
用いた点を除いて実施例１と同一の操作を行った。紫外
線を照射してサンプルを洗浄した後、硬化した上塗層は
ガラスプレート上に残った。このことは、パターン化し
たサンプルから選択的にコーティングを除去することが
できることを示している。
ド化合物と１０重量％の光重合開始剤を含有する溶液を
用いた点を除いて実施例１と同一の操作を行った。紫外
線を照射してサンプルを洗浄した後、硬化した上塗層は
ガラスプレート上に残った。このことは、パターン化し
たサンプルから選択的にコーティングを除去することが
できることを示している。
【００４９】（実施例４）８０重量％の脂環式エポキシ
ド化合物と２０重量％の光重合開始剤を含有する溶液を
用いた点を除いて実施例１と同一の操作を行った。紫外
線を照射してサンプルを洗浄した後、硬化した上塗層は
ガラスプレート上に残った。このことは、パターン化し
たサンプルから選択的にコーティングを除去することが
できることを示している。
ド化合物と２０重量％の光重合開始剤を含有する溶液を
用いた点を除いて実施例１と同一の操作を行った。紫外
線を照射してサンプルを洗浄した後、硬化した上塗層は
ガラスプレート上に残った。このことは、パターン化し
たサンプルから選択的にコーティングを除去することが
できることを示している。
【００５０】（実施例５）７１重量％の脂環式エポキシ
ド化合物、４重量％の光重合開始剤および２５重量％の
アラルダイトＧＹ６０１０TMビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテル（チバガイギー）を含有する溶液を用いた
点を除いて実施例１と同一の操作を行った。紫外線を照
射してサンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はガラス
プレート上に残った。このことは、７１重量％の脂環式
エポキシド化合物を含有するパターン化したサンプルか
ら選択的にコーティングを除去することができることを
示している。同様の試験を、脂環式エポキシド化合物を
わずか２５重量％しか含有しない上塗用組成物を用いて
行ったところ、このような少量の脂環式エポキシド化合
物しか用いなくても上塗層はパターン化するのに十分な
程度に硬化することが明らかになった。
ド化合物、４重量％の光重合開始剤および２５重量％の
アラルダイトＧＹ６０１０TMビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテル（チバガイギー）を含有する溶液を用いた
点を除いて実施例１と同一の操作を行った。紫外線を照
射してサンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はガラス
プレート上に残った。このことは、７１重量％の脂環式
エポキシド化合物を含有するパターン化したサンプルか
ら選択的にコーティングを除去することができることを
示している。同様の試験を、脂環式エポキシド化合物を
わずか２５重量％しか含有しない上塗用組成物を用いて
行ったところ、このような少量の脂環式エポキシド化合
物しか用いなくても上塗層はパターン化するのに十分な
程度に硬化することが明らかになった。
【００５１】（実施例６）９０重量％の脂環式エポキシ
ド化合物と１０重量％のトリアリールスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェートを含有する溶液を用いた点を除
いて実施例１と同一の操作を行った。紫外線を照射して
サンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はガラスプレー
ト上に残った。このことは、パターン化したサンプルか
ら選択的にコーティングを除去することができることを
示している。
ド化合物と１０重量％のトリアリールスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェートを含有する溶液を用いた点を除
いて実施例１と同一の操作を行った。紫外線を照射して
サンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はガラスプレー
ト上に残った。このことは、パターン化したサンプルか
ら選択的にコーティングを除去することができることを
示している。
【００５２】（実施例７）８０重量％の脂環式エポキシ
ド化合物と２０重量％のトリアリールスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェートを含有する溶液を用いた点と、
スピンコーティングの速度を調節して厚さ３７μmの上
塗層を形成した点を除いて実施例１と同一の操作を行っ
た。紫外線を照射してサンプルを洗浄した後、硬化した
上塗層はガラスプレート上に残った。このことは、パタ
ーン化したサンプルから選択的にコーティングを除去す
ることができることを示している。
ド化合物と２０重量％のトリアリールスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェートを含有する溶液を用いた点と、
スピンコーティングの速度を調節して厚さ３７μmの上
塗層を形成した点を除いて実施例１と同一の操作を行っ
た。紫外線を照射してサンプルを洗浄した後、硬化した
上塗層はガラスプレート上に残った。このことは、パタ
ーン化したサンプルから選択的にコーティングを除去す
ることができることを示している。
【００５３】（比較例Ａ）９９重量％の脂環式エポキシ
ド化合物と１重量％の重合開始剤を含有する溶液を用い
た点を除いて実施例１と同一の操作を行った。紫外線を
照射してサンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はまっ
たくガラスプレート上に残らなかった。このことは、５
分間の紫外線照射中に上塗層を硬化させるには、重合開
始剤の量が明らかに少なかったことを示している。
ド化合物と１重量％の重合開始剤を含有する溶液を用い
た点を除いて実施例１と同一の操作を行った。紫外線を
照射してサンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はまっ
たくガラスプレート上に残らなかった。このことは、５
分間の紫外線照射中に上塗層を硬化させるには、重合開
始剤の量が明らかに少なかったことを示している。
【００５４】（比較例Ｂ）９９重量％の脂環式エポキシ
ド化合物と１重量％のトリアリールスルホニウムヘキサ
フルオロホスフェートを含有する溶液を用いた点を除い
て実施例１と同一の操作を行った。紫外線を照射してサ
ンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はまったくガラス
プレート上に残らなかった。このことは、５分間の紫外
線照射中に上塗層を硬化させるには、重合開始剤の量が
明らかに少なかったことを示している。
ド化合物と１重量％のトリアリールスルホニウムヘキサ
フルオロホスフェートを含有する溶液を用いた点を除い
て実施例１と同一の操作を行った。紫外線を照射してサ
ンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はまったくガラス
プレート上に残らなかった。このことは、５分間の紫外
線照射中に上塗層を硬化させるには、重合開始剤の量が
明らかに少なかったことを示している。
【００５５】（比較例Ｃ）９６重量％の脂環式エポキシ
ド化合物と４重量％のトリアリールスルホニウムヘキサ
フルオロホスフェートを含有する溶液を用いた点を除い
て実施例１と同一の操作を行った。紫外線を照射してサ
ンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はまったくガラス
プレート上に残らなかった。このことは、５分間の紫外
線照射中に上塗層を硬化させるには、重合開始剤の量が
明らかに少なかったことを示している。
ド化合物と４重量％のトリアリールスルホニウムヘキサ
フルオロホスフェートを含有する溶液を用いた点を除い
て実施例１と同一の操作を行った。紫外線を照射してサ
ンプルを洗浄した後、硬化した上塗層はまったくガラス
プレート上に残らなかった。このことは、５分間の紫外
線照射中に上塗層を硬化させるには、重合開始剤の量が
明らかに少なかったことを示している。
【００５６】（比較例Ｄ）９９重量％の脂環式エポキシ
ド化合物と１重量％のトリフェニルスルホニウムヘキサ
フルオロアルゼネート（ジョンソン−マッセイアルファ
製）を含有する溶液を用いた点を除いて実施例１と同一
の操作を行った。紫外線を照射してサンプルを洗浄した
後、硬化した上塗層はまったくガラスプレート上に残ら
なかった。このことは、５分間の紫外線照射中に上塗層
を硬化させるには、重合開始剤の量が明らかに少なかっ
たことを示している。
ド化合物と１重量％のトリフェニルスルホニウムヘキサ
フルオロアルゼネート（ジョンソン−マッセイアルファ
製）を含有する溶液を用いた点を除いて実施例１と同一
の操作を行った。紫外線を照射してサンプルを洗浄した
後、硬化した上塗層はまったくガラスプレート上に残ら
なかった。このことは、５分間の紫外線照射中に上塗層
を硬化させるには、重合開始剤の量が明らかに少なかっ
たことを示している。
【００５７】像受容層上に、脂環式エポキシド化合物と
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルゼネート
（後者の濃度が４重量％、１０重量％、２０重量％のも
の）の混合物をコーティングした。紫外線を５分間照射
して洗浄した後、プレート上にはなにも残らなかった。
続いて、８０重量％の脂環式エポキシド化合物と２０重
量％のトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルゼ
ネートの混合物で上塗りしたサンプルに、３０分および
６０分紫外線照射して洗浄した。このような長い時間照
射したにもかかわらず、プレート上には何も残らなかっ
た。このことは、実用的な量を用いて実際的な時間硬化
のために紫外線を照射しても、トリフェニルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルゼネートは反応性が極めて乏しい
ことを示している。
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルゼネート
（後者の濃度が４重量％、１０重量％、２０重量％のも
の）の混合物をコーティングした。紫外線を５分間照射
して洗浄した後、プレート上にはなにも残らなかった。
続いて、８０重量％の脂環式エポキシド化合物と２０重
量％のトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルゼ
ネートの混合物で上塗りしたサンプルに、３０分および
６０分紫外線照射して洗浄した。このような長い時間照
射したにもかかわらず、プレート上には何も残らなかっ
た。このことは、実用的な量を用いて実際的な時間硬化
のために紫外線を照射しても、トリフェニルスルホニウ
ムヘキサフルオロアルゼネートは反応性が極めて乏しい
ことを示している。
【００５８】
【発明の効果】上記の実施例と比較例から明らかなよう
に、本発明にしたがって、脂環式エポキシド化合物と約
４％以上の光重合開始剤を含有する光重合可能な上塗層
を用いれば、上塗層とその下にある像受容層エリアを選
択的に除去することができる。
に、本発明にしたがって、脂環式エポキシド化合物と約
４％以上の光重合開始剤を含有する光重合可能な上塗層
を用いれば、上塗層とその下にある像受容層エリアを選
択的に除去することができる。
【図１】図１は、本発明のカラーフィルターアレイ素子
の略図である。
の略図である。
１：液晶表示素子 ２：ガラスプレート ３：カラーフィルターアレイ ４：カラーセル ５：ブラック格子 ６：上塗層 ７：ＩＴＯ ８：ガラスプレート ９：電極 １０：配向層 １１：液晶材料 １２：密封エッジ １３：スペーサー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−296303（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−166607（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−293703（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−176708（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−112539（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−86949（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−132928（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−24256（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−315103（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−133001（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−236212（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 カラーフィルターアレイ素子を製造する
ためのものであって、下記の工程： （ａ）染料層を表面に有する支持体を含む染料供与素子
を像状に加熱しかつ、その際、この染料供与素子を、高
分子染料像受容層を表面に有する透明な支持体を含む染
料受容素子と接触させ、よって、 （ｂ）前記染料層の一部を前記染料受容素子へ転写し
て、当該染料受容素子上に染料の繰返しモザイクパター
ンを形成し、 （ｃ）前記染料像受容層の上に、少なくとも２５重量％
の脂環式エポキシド化合物及び少なくとも４重量％の、
光重合開始剤としてのルイス酸のオニウム塩を含有する
光重合可能な上塗層をコーティングし、 （ｄ）前記光重合可能な上塗層の領域を選択的に、その
領域内の前記エポキシド化合物の重合が行われる条件の
下に置き、そして （ｅ）前記上塗層のうち重合せしめられなかった領域
を、その領域に対応する下地の前記像受容層の領域とと
もに、溶媒で処理することによって除去すること、を含
んでなることを特徴とするカラーフィルターアレイ素子
の製造方法。
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| US838624 | 1992-02-19 |
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|---|---|
| JPH0611614A JPH0611614A (ja) | 1994-01-21 |
| JP2592207B2 true JP2592207B2 (ja) | 1997-03-19 |
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| EP (1) | EP0559004B1 (ja) |
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| DE (1) | DE69303515T2 (ja) |
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