JPH01112539A - 光学的記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光ビームにより記録、再生を行なうことが可
能な光学的記録層に関し、特に記録層上に形成される保
護膜に関する。

〔従来の技術〕

従来より、光ディスクに用いられる光メモリー材料とし
ては希土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質へ
の相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物
薄膜、ヒートモード記録媒体、熱可塑性記録媒体等が知
られている。例えば、希土類−遷移金属の合金薄膜で形
成される光磁気記録媒体としては、ＭｎＢ１．ＭｎＣｕ
Ｂ１などの多結晶薄膜、Ｇ　ｄ　Ｃｏ　、　Ｇ　ｄ　Ｆ
　ｅ　、　Ｔ　ｂＦｅ、ＤｙＦｅ、ＧｄＴｂＦｅ、Ｔｂ
ＤｙＦｅ。

ＧｄＦｅＣｏ、ＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＴｂＣｏなどの非晶
質薄膜、ＧｄＩＧなどの単結晶薄膜などが知られている
。これらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近傍の温度
で製作する際の製膜性、信号を小さな光熱エネルギーで
書き込むための書き込み効率、および書き込まれた信号
をＳ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率を勘案して
、最近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体として優れ
ていると考えられている。特に、ＧｄＴｂＦｅはカー回
転角も大きく、１５６℃前後のキューリー点を持つので
光磁気記録媒体として最適である。

しかしながら、一般にＧｄＴｂＦｅ等の光磁気記録媒体
をはじめとする磁気記録媒体に用いられる非晶質磁性体
は耐食性が悪いという欠点を持っている。すなわち、大
気、水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的には完
全に酸化されて透明化するに至る。

このような欠点を除くために、従来から光メモリー材料
層の上に５ｉ０２．ＳｉＯなどの無機系の保護層や有機
樹脂系の保護層を設けることが提案されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上述した従来のＳｉＯ２，ＳｉＯなどの無機系の保護膜
は、蒸着、スパッタ等の真空装置を使って成膜しなけれ
ばならず、また、その成膜にも時間がかかるため、設備
投資および人件費が膨大なものとなり、記録媒体のコス
トを上昇させる原因となっている。また、これら無機物
の保護膜は、有機物に比べると、熱伝導率が高く、メモ
リー材料膜への記録時に、保護膜側に散逸してしまうエ
ネルギーが多く、これが書き込み感度を低下させる原因
となっていた。

また、有機樹脂を保護膜として記録層上に塗布すること
も試みられているが、次のような問題点があった。

１）樹脂から記録層をおかす物質が記録層へ拡散して来
て記録層の劣化を促進する。

２）保護膜の耐湿性が悪く保護膜としての機能をはだす
までに至らない。

３）塗布後樹脂が硬化するまでに時間がかかり、製造コ
ストアップの原因になっていた。

本発明は、以上の問題点を解決するためになされたもの
であり、短時間で、しかも簡単な操作で形成することが
でき、かつ書き込み感度の低下が少ない、耐食性保護膜
を有する光学的記録媒体を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の光学的記録媒体は、基板上に光学的記録層が設
けられており、この光学的記録層上に、光カチオン重合
体を主成分とする保護膜が形成されている。

ここで、本発明の光学的記録媒体の基板としては、ガラ
スまたはアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等のプラ
スッチックが用いられる。

基板上に光学的記録層を設けるには、記録層の各層を順
次その物性に応じた層形成手段、例えば、スパッタリン
グ法、真空蒸着法などにより積層してゆく。

本発明の光学的記録媒体を形成するには、上述の方法で
記録層を設けた後、保護層としてカチオン重合体の樹脂
組成物を用いる。用いられる樹脂としては、環状ビニル
エーテル類、多官能ビニルエーテル類、エポキシ系化合
物等が挙げられるが、耐熱性、耐湿性、機械的性質の維
持などの長期信頼性、各種基板への接着性などの点から
、エポキシ系化合物が特に好ましい。

このカチオン重合タイプのエポキシ系化合物の組成には
、（Ａ）エポキシ樹脂成分と（Ｂ）光重合開始剤成分と
の混合物が用いられる。

（Ａ）成分としては、グリシジルエーテル型樹脂（例え
ばビスフェノールＡ、ジグリシジンエーテル、ネオベン
チルグリコールジグリシジエーテル、ポリプロピレング
リコールジグリシジエーテル）や脂環族エポキサイド型
樹脂（３，４エポキシ−６メチルシクロヘキシルメチル
カルボキシレート、３．４エポキシシクロヘキシルメチ
ルカルボキレート）等がある。（Ｂ）成分として、芳香
族ジアゾニウム塩系光開始剤は、極めて短時間の紫外線
照射で分解して、非求核性アニオンから活性なルイス酸
が発生し、これがエポキシ樹脂などのカチオン重合性物
質を重合させる。また、芳香族オニウム塩系光開始剤（
例えばスルホニウム塩）は光分解でブレンステッド（Ｂ
ｒφｎ５ｔｅｄ）酸が生成し、これがエポキシ樹脂など
をカチオン的に重合させる。また、本発明の必須成分で
はないが、液状エポキシ樹脂の粘度は比較的高いので反
応性希釈剤を含有してもよい。例えばフェニルグリシジ
ルエーテル、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、スチレン
オキシド、アリルグリシジエーテル等がある。

〔作用〕 このように、光カチオン重合タイプのエポキシ系化合物
を、光学的記録層の保護層として用いることにより、保
護層の形成に要する時間が短縮されるとともに、耐熱性
、耐湿性、耐薬品性の優れた光学的記録媒体が得られる
。

（実施例〕 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

実施例１ 第１図は本発明の光学的記録媒体の実施例１の模式断面
図である。

本実施例の光学的記録媒体においては、基板１の上に下
地層２、光メモリ材料層３を順に積層した後、その上に
光カチオン樹脂組成分を塗布し、紫外線照射を行ない保
護層４を作成する。

以上の方法により短時間で光学的記録媒体を作成でき、
媒体コストを低下させることができ、また、エポキシ硬
化樹脂の利点として接着性、耐熱性、耐薬品性に優れた
媒体が作成でき、環境耐久試験後の磁気記録層のキュー
リー湿度の変化がなく、Ｃ／Ｎ、記録感度の低下を少な
くすることができた。

以下に更に詳細に説明する。

インジェクション成形法によりその表面にスパイラル状
の案内溝をもったポリカーボネート樹脂基板１を作製し
、その上に真空蒸着法で９００人の厚さのＳｉ０層２を
成膜し、引き続きＲＦスパッタ法によりＧｄＴｂＦｅＣ
ｏの光メモリー材料層３を７００人成１摸した。この上
に保護層４として（Ａ）脂環式エポキシ樹脂ＵＶＲ−６
１００（商品名、米国ユニオンカーバイド社）と（Ｂ）
光カチオン重合開始剤ジフェニルヨードニウムへキサフ
ルオロホスフェートの、（Ａ）：　（Ｂ）＝１００：３
の割合の混合物をスピンナーコーティングを行ない、厚
さ約３０μｍに塗布し、紫外線を照射して硬化させるこ
とにより発明の光学的記録媒体が得られた。

実施例２ 樹脂として、（Ａ）オプトマーＫＲ４００（商品名、旭
電化社）と（Ｂ）光カチオン重合開始剤トリフェニルス
ルホニウムへキサフルオロホスフェートＦＣ−５０８（
商品名、３Ｍ社）の、（Ａ）：　（Ｂ）＝１ｏｏ　：　
３の混合物を用いて保護層４を形成する以外は実施例１
と同様にして光学的記録媒体を作成した。

実施例３ 第２図に、本発明の光学的記録媒体の実施例３の模式断
面図を示す。

光メモリー材料層３を成膜するまでは実施例１と同様に
行ない、その上に保護膜５としてＳｉＯを５００人真空
蒸着法で形成した。ついで、実施例１と同様な方法で光
カチオン重合体の保護膜４を形成し、本発明の光学的記
録媒体を得た。なお、保護層（保護膜４．５）の形成に
要した時間は約１０分であった。

比較のために、第３図に示す従来の方法による光学的記
録媒体を作成した。この場合は光メモリー記録層３を成
膜するまでは実施例１と同様に行ない、その上に保護膜
５としてＳｉＯを３０００人真空蒸着法で形成したもの
である。この場合の保護膜形成の所要時間は約３０分で
あった。

このようにして得られた２個の記録媒体を７０℃、８５
％Ｒ，Ｈ，の環境試験器中に１０００時間放置後、記録
層の劣化の程度を比較したが、両者に殆ど差がなかった
。

本発明の光カチオン重合タイプの保護膜と比較するため
、ラジカル重合タイプの保護膜を作成したので比較例と
して以下に示す。

比較例１ 実施例１において（Ａ）アロニックス、ＵＶ−３７００
（商品名、東亜合成社）と、（Ｂ）重合開始剤、１−ヒ
ドロキシシクロへキシルフェニルケトン、イルガキュア
１８４（商品名、日本チバガイギー社）の（Ａ）：　（
Ｂ）＝１００：３の混合物を用いる以外は、実施例１と
同様にして光学的記録媒体を作成した。

比較例２ 実施例１において（Ａ）アクリル変性ウレタン樹脂、Ｖ
ＤＡ２２５０　（商品名、大日精化社）、（Ｂ）重合開
始剤、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、
イルガキュア１８４（商品名、日本チバガイギー社）の
（Ａ）：　（Ｂ）＝１００：３の混合物を用いる以外は
、実施例１と同様にして光学的記録媒体を作成した。

比較として、耐久結果を以下に示す。

７０℃、８５％、１０００ｈｒ耐久結果以上説明した各
実施例、比較例、従来技術による例を比較した結果、光
カチオン重合体を用いた保護膜は、従来の無機保護膜や
、比較例１および２等の保護膜に比べて、耐熱性、耐湿
性、速硬化性、接着性が優れていることが明らかになっ
た。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、光カチオン重合タイプの
エポキシ系化合物を保護膜に用いることにより、耐熱性
、耐湿性、速硬化性、接着性の優れた保護膜を短時間に
形成することが可能となり、°記録層の保護性能を向上
し、低コストの長期信頼性を有する光学的記録媒体が得
られる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光学的記録媒体の一例の模式断面図、
第２図は他の例の模式断面図、第３図は従来の方法の一
例を示す模式断面図である。 １：　基板 ２：　下地層 ３：　光学的記録層 ４．５：　保護層 特許出願人　　キャノン株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基板上に光学的記録層が設けられている光学的記録媒体
   において、 該光学的記録層上に、光カチオン重合体を主成分とする
   保護膜が形成されていることを特徴とする光学的記録媒
   体。