JP2700888B2

JP2700888B2 - 光磁気記録素子の製法

Info

Publication number: JP2700888B2
Application number: JP63020025A
Authority: JP
Inventors: 俊幸柴田; 久雄有宗
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 1988-01-29
Filing date: 1988-01-29
Publication date: 1998-01-21
Anticipated expiration: 2013-01-21
Also published as: JPH01194153A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は２種類の基板を備えた光磁気記録素子並びに
２種類の光磁気記録部材を貼り合わせて成る光磁気記録
素子の製法に関するものである。

（従来技術及びその問題点）近時、希土類金属元素と遷移金属元素から成る非晶質
金属合金を用いた高密度光磁気記録が盛んに研究されて
おり、その記録方式は集束レーザー光を記録媒体に投光
して局部加熱し、これによってビットを書き込み、次に
磁気光学効果を利用して読み出しており、更に記録ビッ
トを消去し、改めてビットを書き込むこともできる。

このような光磁気記録方式においては、第４図に示す
ように２種類の光磁気記録部材を接着用樹脂層を介して
貼り合わせ、その光磁気記録の利用度を著しく高めるこ
とができる。

同図において、基板1aの上には磁性体層2a、紫外線硬
化型保護樹脂層3aが順次積層して成る光磁気記録部材Ａ
がつくられており、一方、基板1bの上には磁性体層2b、
紫外線硬化型保護樹脂層3bが順次積層して成る光磁気記
録部材Ｂがつくられており、両者の記録部材A,Bは接着
用樹脂層４を介して貼り合わされている。そして、この
ような光磁気記録素子においては、基板1a又は基板1bよ
り集束レーザー光を投光して記録・再生・書き換えを行
うことができる。

上記構成の光磁気記録素子に用いられる接着用樹脂層
４には紫外線硬化型樹脂やエポキシ系、アクリル系、ウ
レタン系、シリコーン系などの樹脂接着剤が使用されて
いる。

しかしながら、これらの樹脂を紫外線硬化型保護樹脂
層3a,3bの上に塗布し、次いで硬化させた場合、その硬
化に伴って樹脂層４が収縮し、この樹脂層４及び保護樹
脂層3a,3bに応力歪みが生じ、これにより、磁性体層2a,
2bに応力腐蝕が発生し、その結果、光磁気記録特性が経
時的に劣化する。また、この光磁気記録素子に複屈折が
ある基板1a,1bを用いた場合には上記応力に起因して複
屈折が増加し、その結果、光磁気記録の初期特性が劣化
する。

このような問題点を解決するために上記樹脂層４に硬
化収縮率の小さい樹脂、例えば無溶剤タイプの樹脂や比
較的大きな分子量の樹脂を用いることが考えられる。

しかしながら、このような樹脂を接着剤に用いて両部
材A,Bを貼り合わせた位では根本的な解決には至らず、
上記問題点は依然として残っている。

上述した樹脂に代わって熱可塑性樹脂から成るホット
メルト型接着剤を用いた場合には上記問題点が解決でき
るが、その反面、この接着剤は高温環境下で軟化及び流
動し、そのために接着性能が著しく劣る。

（発明の目的）従って本発明は上記事情に鑑みて完成されたものであ
り、その目的は光磁気記録部材に応力歪みが生じなくな
り、そのために優れた光磁気記録特性が得られると共に
その初期特性が維持された光磁気記録素子の製法を提供
することにある。

（問題点を解決するための手段）本発明によれば、第１基板上に少なくとも磁性体層及
び硬化収縮率が10％以下で、且つ弾性率が５×10⁹dyn/c
m²以下のエラストマー系樹脂層を順次形成し、次いで該
エラストマー系樹脂層の上に接着用樹脂層を介して保護
用の第２基板を貼り付けることを特徴とする光磁気記録
素子の製法が提供される。

更に本発明によれば、基板上に少なくとも磁性体層を
形成して成る第１光磁気記録部材をつくり、基板上に少
なくとも磁性体層を形成して成る第２光磁気記録部材を
つくり、次いで、第１光磁気記録部材及び第２光磁気記
録部材のそれぞれの磁性体層上に、いずれも硬化収縮率
が10％以下で、且つ弾性率が５×10⁹dyn/cm²以下の第１
エラストマー系樹脂層及び第２エラストマー系樹脂層を
形成し、然る後、第１エラストマー系樹脂層と第２エラ
ストマー系樹脂層を接着用樹脂層を介して接着し、第１
光磁気記録部材と第２光磁気記録部材の第1,第２エラス
トマー系樹脂層を対面させて貼り合わせることを特徴と
する光磁気記録素子の製法が提供される。

以下、本発明を詳細に説明する。

第１図は本発明光磁気記録素子の個々の光磁気記録部
材であり、第２図はその光磁気記録部材を貼り合わせた
場合の層構成を示す。

第１図によれば、基板1cの上に磁性体層2cを形成して
成る光磁気記録部材Ｃがつくられており、一方、基板1d
の上に磁性体層2dを形成して成る光磁気記録部材Ｄがつ
くられている。

そして、上記光磁気記録部材C,Dにおいて、それぞれ
の磁性体層2c,2dの上にエラストマー系樹脂を塗布し、
室温下で自然に硬化させたり或いは加熱又は紫外線照射
などにより硬化させてエラストマー系樹脂層を形成し、
この層を応力緩和層3c、3dとした。

次に上記応力緩和層3c,3dの少なくとも一方の層の上
に接着用樹脂５を塗布し、応力緩和層3c,3dを対面させ
て貼り付け室温下における自然硬化或いは加熱により硬
化させると第２図に示す通りの光磁気記録素子が得られ
る。

上記応力緩和層3c,3dを形成した場合には、エラスト
マー系樹脂の塗布後に硬化に伴って収縮する傾向にあ
り、そのため、この硬化収縮のできるだけ小さいエラス
トマー系樹脂を用いるのが望ましい。

しかも、上記のような応力緩和が最も効果的に作用す
るように上記応力緩和層に弾性率ができるだけ小さいエ
ラストマー系樹脂を用いるのが望ましい。

本発明者等が繰り返し行った実験によれば、上記エラ
ストマー系樹脂の硬化収縮率は10％以下が必要で、望ま
しくは５％以下がよく、しかも、弾性率は５×10⁹dyn/c
m²以下が必要で、望ましくは１×10⁹dyn/cm²以下がよ
い。

このような応力緩和層3c,3dにはシリコーンゴム、ウ
レタンゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、ブチル
ゴム、スチレンブタジエンゴムなどのエラストマー系樹
脂があり、就中、シリコーンゴムが最も応力緩和の効果
が大きいという点で望ましい。

接着用樹脂層５には上記エラストマー系樹脂或いはア
クリル系樹脂接着剤やエポキシ系樹脂接着剤がある。

磁性体層2c,2dは膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有
する非晶質金属垂直磁化膜、例えばTbFe、GdCo、TbFeC
o、GdGyFe、DyFeCo、GdTbFeCo、GdDyFeCoなどの希土類
金属−遷移金属の合金から成る薄膜がある。

基板1c,1dにはガラス板又はプラスチック板が用いら
れ、このプラスチック基板用材料としてポリカーボネー
ト樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂などがある。

また本発明の製法により得られる光磁気記録素子にお
いては、基板1c,1dと磁性体層2c,2dの間に誘電体層を形
成してもよく、これにより、基板側よりレーザー光を投
光させるとエンハンスメント効果によりみかけのカー回
転角を増大させて性能指数を高めることができる。

この誘電体層はサイアロン、SiN、AlN、SiC、CdS、Ti
C、TiN、ZnS、MgF₂、Al₂O₃、CeO₂、ZrO₂、SiO、SiO₂、C
dO、Bi₂O₃などの材料により形成される。

また、磁性体層2c,2dと応力緩和層3c,3dの間に上記誘
電体層用材料又はTi、Cr、Zr、Ta、Al等の耐蝕性金属或
いはそれらの酸化物、窒化物、炭化物、硫化物などの化
合物を単独で又は組合わせて形成してもよく、更に加え
て、紫外線硬化型樹脂層を形成してもよい。

かくして上記構成の光磁気記録素子によれば、接着用
樹脂層５の硬化に伴って生じる応力が応力緩和層3c,3d
によって緩和され、これにより、応力腐蝕が発生しなく
なり、その結果、優れた光磁気記録特性が得られ、更に
光磁気記録初期特性が維持される。

また本発明によれば、第３図に示すように２種類の基
板を備えた光磁気記録素子についても同様な効果を奏す
る。

同図においては、第１基板としての基板６の上に磁性
体層７が形成されており、そして、この層７の上にエラ
ストマー系樹脂を塗布し、この層を応力緩和層８とし
た。

また、保護用の第２基板としての保護基板10を用意
し、その基板10の上に接着用樹脂を塗布し、そして、こ
の基板10を接着用樹脂を介して貼り合わせ、次いで室温
下における自然硬化或いは加熱により硬化させると接着
用樹脂層９が形成され、かくして第３図に示す通りの光
磁気記録素子が得られる。

このような保護基板10には前記基板６と同様なガラス
板又はプラスチック板を用いることができる。

（実施例）次に本発明の実施例を述べる。

交流三源マグネトロンスパッタリング装置を用いてポ
リカーボネート製ディスク基板に誘電体層（窒化シリコ
ンを主要成分とし、これにＹ原子、Al原子及びＯ原子が
含まれた層であり、これは所謂、YSiAlON層・・・イッ
トリウムサイアロン層と呼ばれる層である）を725Åの
厚みで形成し、この層に上にGdDyFe垂直磁化膜を300Å
の厚みで形成し、そして、同装置内で続けて酸化チタン
層（チタン原子に対する酸素原子比率が0.05〜0.90の範
囲内に設定されている）を650Åの厚みで形成して光磁
気記録部材をつくった。

この光磁気記録部材の酸化チタン層の上に第１表に示
すような樹脂を塗布して完全に硬化させ、次いで、この
ような光磁気記録部材をそれぞれ２個用意し、更にそれ
ぞれ同じ樹脂を介して接着させた。

かくして得られる６種類の光磁気記録素子（No.1〜N
o.6）について偏光顕微鏡を用いて基板面全体に亘る複
屈折の分布状態を調べたところ、第１表に示す通りの結
果Ａが得られた。

また、比較例として上記光磁気記録素子を製作するに
当たって、一方の光磁気記録部材の酸化チタン層の上に
第１表に示すような樹脂を塗布し、直ちに他方の光磁気
記録部材の酸化チタン層と貼り合わせて得られた光磁気
記録素子についても同様に調べたところ、結果Ｂが得ら
れた。

同表中、○印は基板面全体に亘って均一な複屈折が得
られた場合であり、×印は基板面の一部に異常な複屈折
が認められた場合であり、△印は基板面の一部にわずか
に異常な複屈折が認められた場合を示す。

第１表より明らかな通り、素子No.4、素子No.5及び素
子No.6については応力緩和層を形成したことによって基
板面全体に亘って均一な複屈折が得られた。

然るに素子No.1〜素子No.3については応力緩和をねら
ったものであるが、応力緩和効果が得られなかった。

また、素子No.1〜素子No.6のそれぞれより応力緩和層
が除かれた比較例の素子については、基板面の一部に異
常な複屈折が認められた。

次に上記光磁気記録素子のなかで（ｉ）・・・素子６（ii）・・・素子５（iii）・・・素子１（iv）・・・素子５のうち応力緩和層が除かれた比較例
の素子を高温高湿下（75℃、85％RH）に設置し、そのビット・
エラー・レートの経時変化を追ったところ、第５図に示
す通りの結果が得られた。

同図中、横軸は放置時間であり、縦軸は放置開始時の
ビット・エラー・レートBER（Ｏ）に対する放置後のビ
ット・エラー・レートBET（Ｔ）の比率であり、また、
▲印、○印、●印及び△印はそれぞれ上記（ｉ）、（i
i）、（iii）及び（iv）に対応するプロットであり、そ
して、図中の特性曲線の表示はいずれも（ｉ）（ii）
（iii）（iv）に対応する。

第５図より明らかな通り、本発明の素子５、６につい
ては応力腐蝕がなく、長期間に亘って優れた光磁気記録
特性が得られることが判る。

また、上記実施例においては応力緩和層3c、3dと接着
用樹脂層５に同一のエラストマー系樹脂が用いられてい
るが、応力緩和層3c、3dと接着用樹脂層５の間で異なる
樹脂を用いても同じような効果が得られることが確認さ
れた。

更に上記応力緩和層3cと3dの間で異なるエラストマー
系樹脂を用いても同じような効果が得られることも確認
された。

更にまた本発明者等は上記実施例以外に第３図に示す
光磁気記録素子についても同様な結果が得られることを
確認した。

〔発明の効果〕

以上の通り、本発明の製法によれば、エラストマー系
樹脂から成る応力緩和層を形成しており、これによって
応力腐蝕がなくなり、その結果、優れた光磁気記録特性
が得られると共にその初期特性が維持された高性能且つ
長期信頼性の光磁気記録素子が提供できた。

【図面の簡単な説明】

第１図は貼り合わせ前の各々の光磁気記録部材の層構成
を示す断面図、第２図は本発明光磁気記録素子の層構成
を示す断面図、第３図は本発明光磁気記録素子の他の層
構成を示す断面図、第４図は従来の光磁気記録素子の層
構成を示す断面図、第５図はビット・エラー・レートの
経時変化を示す線図である。 1a,1b,1c,1d,6……基板 2a,2b,2c,2d,7……磁性体層 3a,3b,・・・……紫外線硬化型保護樹脂層 3c,3d,8……応力緩和層 4,5,9……接着用樹脂層 A,B,C,D……光磁気記録部材

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】第１基板上に少なくとも磁性体層及び硬化
収縮率が10％以下で、且つ弾性率が５×10⁹dyn/cm²以下
のエラストマー系樹脂層を順次形成し、次いで該エラス
トマー系樹脂層の上に接着用樹脂層を介して保護用の第
２基板を貼り付けることを特徴とする光磁気記録素子の
製法。
【請求項２】基板上に少なくとも磁性体層を形成して成
る第１光磁気記録部材をつくり、基板上に少なくとも磁
性体層を形成して成る第２光磁気記録部材をつくり、次
いで、第１光磁気記録部材及び第２光磁気記録部材のそ
れぞれの磁性体層上に、いずれも硬化収縮率が10％以下
で、且つ弾性率が５×10⁹dyn/cm²以下の第１エラストマ
ー系樹脂層及び第２エラストマー系樹脂層を形成し、然
る後、第１エラストマー系樹脂層と第２エラストマー系
樹脂層を接着用樹脂層を介して接着し、第１光磁気記録
部材と第２光磁気記録部材の第1,第２エラストマー系樹
脂層を対面させて貼り合わせることを特徴とする光磁気
記録素子の製法。