JPS6310353A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPS6310353A JPS6310353A JP15383286A JP15383286A JPS6310353A JP S6310353 A JPS6310353 A JP S6310353A JP 15383286 A JP15383286 A JP 15383286A JP 15383286 A JP15383286 A JP 15383286A JP S6310353 A JPS6310353 A JP S6310353A
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- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、反りの発生を防止した光磁気記録媒体に関す
る。
る。
光磁気記録は、記録密度が高く、非接触で記録・読み出
しができるなどの種々の利点があるため、近年、特に注
目され、その開発・改善が盛んである。
しができるなどの種々の利点があるため、近年、特に注
目され、その開発・改善が盛んである。
周知のように、光磁気記録媒体は、透明樹脂板またはガ
ラス等を基板とし、希土類−遷移金属アモルファス合金
、たとえばＧｄＦｅやＧｄＴｂＦｅ等で磁性薄膜を形成
し、さらに必要により誘電体膜、反射膜、保護膜などを
形成したものである。
ラス等を基板とし、希土類−遷移金属アモルファス合金
、たとえばＧｄＦｅやＧｄＴｂＦｅ等で磁性薄膜を形成
し、さらに必要により誘電体膜、反射膜、保護膜などを
形成したものである。
一般に、基板として、ガラスを用いることもできるけれ
ども、ガラスは、熱伝導率が大きく、記録時に与えたエ
ネルギーが流出する割合が高い、割れ易い、高価である
などの難点があるため、ＰＭＭＡ （ポリメチルメタク
リレート）またはポリカーボネート等の透明樹脂基板が
好ましい。
ども、ガラスは、熱伝導率が大きく、記録時に与えたエ
ネルギーが流出する割合が高い、割れ易い、高価である
などの難点があるため、ＰＭＭＡ （ポリメチルメタク
リレート）またはポリカーボネート等の透明樹脂基板が
好ましい。
また、樹脂基板であっても、ポリカーボネートハＰＭＭ
Ａに比較して、複屈折が大きくなり易く、コンパクトデ
ィスクのような再生方式では十分使用できるとしても、
光磁気のように、入射レーザー光の直線偏向のごくわず
かな回転を検出する場合には、読み出し不良を生じ、重
大な支障となることがある。
Ａに比較して、複屈折が大きくなり易く、コンパクトデ
ィスクのような再生方式では十分使用できるとしても、
光磁気のように、入射レーザー光の直線偏向のごくわず
かな回転を検出する場合には、読み出し不良を生じ、重
大な支障となることがある。
この点、ＰＭＭＡは複屈折が小さい点で優れているけれ
ども、吸湿により変形し易＜ 、ＰＭＭＡ板上に光磁気
記録膜を設けた場合、記録膜を設けたがわと、設けない
がねとで吸湿の割合が異なるため、特に高温高温条件下
では反りを生じ、記録膜にクラックを生じる欠点がある
。
ども、吸湿により変形し易＜ 、ＰＭＭＡ板上に光磁気
記録膜を設けた場合、記録膜を設けたがわと、設けない
がねとで吸湿の割合が異なるため、特に高温高温条件下
では反りを生じ、記録膜にクラックを生じる欠点がある
。
この反りの問題に対して、特開昭５８−１５８０５５号
公報では、記録膜のない側の基板上に塩化ビニリデンの
ような透湿率の低い膜を形成することが提案されている
が、基板両面での反りについての非対称性は解消されて
いなかった。また、記録膜を形成した基板同志を貼り合
せた後、その全体に樹脂をコートする方法も考えられる
が、この方法では、樹脂コート処理液が記録膜に対して
悪影響を及ぼし、記録膜の腐食や膜はがれが生じること
がある。
公報では、記録膜のない側の基板上に塩化ビニリデンの
ような透湿率の低い膜を形成することが提案されている
が、基板両面での反りについての非対称性は解消されて
いなかった。また、記録膜を形成した基板同志を貼り合
せた後、その全体に樹脂をコートする方法も考えられる
が、この方法では、樹脂コート処理液が記録膜に対して
悪影響を及ぼし、記録膜の腐食や膜はがれが生じること
がある。
そこで、本発明の主たる目的は、光学的に良好な特性を
もったＰＭＭＡ樹脂板を用いてその特性を生かしながら
、しかもその最大のネックとなっている反りを確実に防
止できる光磁気記録媒体を提供することにある。
もったＰＭＭＡ樹脂板を用いてその特性を生かしながら
、しかもその最大のネックとなっている反りを確実に防
止できる光磁気記録媒体を提供することにある。
上記目的は、透明基板上に少くとも磁性薄膜を有する光
磁気記録媒体において；ポリメチルクリレートからなる
基板に、少くともその上下全面に透湿率の低い層を設け
、さらにその一方の層上に紫外線硬化樹脂を用いて案内
溝を有するグルーブ層を形成し、これを基板としたこと
で達成される。
磁気記録媒体において；ポリメチルクリレートからなる
基板に、少くともその上下全面に透湿率の低い層を設け
、さらにその一方の層上に紫外線硬化樹脂を用いて案内
溝を有するグルーブ層を形成し、これを基板としたこと
で達成される。
以下本発明をさらに詳述する。
本発明では、ポリメチルメタクリレート（以下ＰＭＭＡ
という）の樹脂板を原基板とする。これは、ガラスと比
較して、熱伝導率が小さい、割れ難い、安価でなるなど
の点と、ポリカーボネート比較して、複屈折が小さく読
み出し不良を生じる虞れがないなどのためである。
という）の樹脂板を原基板とする。これは、ガラスと比
較して、熱伝導率が小さい、割れ難い、安価でなるなど
の点と、ポリカーボネート比較して、複屈折が小さく読
み出し不良を生じる虞れがないなどのためである。
しかし、ＰＨＭＡは吸湿量が大きいため、このままでは
反りを生じ、光磁気記録膜にクラックを生じさせる虞れ
がある。そこで、本発明では、ＰＨＭＡの原基板の少く
とも上下全面に透湿率の低い層を設ける。これによって
、ＰＭＭＡの吸湿を防止でき、しかも上下両全面が低吸
湿層で覆われ、わずか吸湿するとしてもその割合は対称
であるから、反り発生を防止できる。低透湿層としては
、透湿率が、ＪＩＳＺ２０Ｂで、４０℃において１ｍｍ
厚当たり２ｇ／ｒｒｌ・２４ｈｒｓ以上であることが望
まれ、その膜厚としては１０８ｍ以上であるのが好まし
い。また、上下両面の層厚は同一であるのがよい。基板
の両端面にも低吸湿率材料膜を形成すると特に好適であ
る。
反りを生じ、光磁気記録膜にクラックを生じさせる虞れ
がある。そこで、本発明では、ＰＨＭＡの原基板の少く
とも上下全面に透湿率の低い層を設ける。これによって
、ＰＭＭＡの吸湿を防止でき、しかも上下両全面が低吸
湿層で覆われ、わずか吸湿するとしてもその割合は対称
であるから、反り発生を防止できる。低透湿層としては
、透湿率が、ＪＩＳＺ２０Ｂで、４０℃において１ｍｍ
厚当たり２ｇ／ｒｒｌ・２４ｈｒｓ以上であることが望
まれ、その膜厚としては１０８ｍ以上であるのが好まし
い。また、上下両面の層厚は同一であるのがよい。基板
の両端面にも低吸湿率材料膜を形成すると特に好適であ
る。
低吸湿率層の形成する材料としては、塩素を含む樹脂、
たとえば塩化ビニリデンが特に好ましく、その他部化ビ
ニリデン、弗化塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合
体も用いることができる。
たとえば塩化ビニリデンが特に好ましく、その他部化ビ
ニリデン、弗化塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合
体も用いることができる。
一方、トラッキング用案内溝を基板に形成することは、
トラッキング精度を高め、高精度な送り機構を必要とな
い利点があるため有効である。しかし、本発明に従って
、ＰＭＭ＾原基板上に低透湿率層を形成すると、たとえ
原基板に案内溝を形成したとしても、それが低透湿率層
によって埋ってしまい、案内溝としての役目を果さなく
なる。
トラッキング精度を高め、高精度な送り機構を必要とな
い利点があるため有効である。しかし、本発明に従って
、ＰＭＭ＾原基板上に低透湿率層を形成すると、たとえ
原基板に案内溝を形成したとしても、それが低透湿率層
によって埋ってしまい、案内溝としての役目を果さなく
なる。
そこで、本発明では、低吸湿率層上に紫外線硬化樹脂を
用いる転写法による案内溝を有するグルーブ層を形成す
ることとした。 紫外線硬化樹脂としては、ラジカル重
合によるアクリル系のものも用いることができるけれど
も、エポキシ基を有しカチオン重合により硬化するエポ
キシ系の方が好ましい。
用いる転写法による案内溝を有するグルーブ層を形成す
ることとした。 紫外線硬化樹脂としては、ラジカル重
合によるアクリル系のものも用いることができるけれど
も、エポキシ基を有しカチオン重合により硬化するエポ
キシ系の方が好ましい。
前述のように、低吸湿率層の材料としては、塩化ビニリ
デン樹脂が好ましいが、この樹脂中に遊離したＣＸ−等
が微量存在し、これらが記録層へ拡散し腐食される作用
があるが、本発明では紫外線硬化樹脂からなるグルーブ
層が間に介在しているため、これがバリアーとなって腐
食を防止する。
デン樹脂が好ましいが、この樹脂中に遊離したＣＸ−等
が微量存在し、これらが記録層へ拡散し腐食される作用
があるが、本発明では紫外線硬化樹脂からなるグルーブ
層が間に介在しているため、これがバリアーとなって腐
食を防止する。
特に、紫外線硬化樹脂がエポキシ系のカチオン重合型で
あると、バリアー効果に優れているのが好ましい。
あると、バリアー効果に優れているのが好ましい。
グルーブ層の存在は、次の面でも望ましい。すなわち、
塩化ビニリデン膜等の低透湿率層が存在するとしても、
完全に吸湿を防止できるわけではないので、この上に＾
１等の誘電体膜、ＧｄＴｂＦｅ等の磁性薄膜などを形成
すると、やはり基板の上下面において透湿率の差異によ
る反りを生じるので、Ａｎや塩化ビニリデン膜より大き
な透湿性を示すす紫外線硬化樹脂層がある程度厚く存在
すると、基板両側面の環境を等しくでき、反りを防止で
きる。
塩化ビニリデン膜等の低透湿率層が存在するとしても、
完全に吸湿を防止できるわけではないので、この上に＾
１等の誘電体膜、ＧｄＴｂＦｅ等の磁性薄膜などを形成
すると、やはり基板の上下面において透湿率の差異によ
る反りを生じるので、Ａｎや塩化ビニリデン膜より大き
な透湿性を示すす紫外線硬化樹脂層がある程度厚く存在
すると、基板両側面の環境を等しくでき、反りを防止で
きる。
本発明において、上記基板上に磁性薄膜が存在する要件
を除けば、種々の変形例がある。第１図に代表例を示し
た。１はＰＭＭＡ原基板、２は低透湿率層、３は案内溝
３ａを有するグルーブ層で、この基板Ａ上に、順次第１
誘電体膜４Ａ、記録（磁性薄）膜５、第２誘電体膜４Ｂ
および有機保護膜６が順次形成されたものである。勿論
、有機保護膜６を省略したり、反射膜を形成したりして
もよい。
を除けば、種々の変形例がある。第１図に代表例を示し
た。１はＰＭＭＡ原基板、２は低透湿率層、３は案内溝
３ａを有するグルーブ層で、この基板Ａ上に、順次第１
誘電体膜４Ａ、記録（磁性薄）膜５、第２誘電体膜４Ｂ
および有機保護膜６が順次形成されたものである。勿論
、有機保護膜６を省略したり、反射膜を形成したりして
もよい。
磁性薄膜の材質としては、希土類−遷移金属アモルファ
ス合金が一般には好ましいが、結晶体の形式であっても
よい。この例としては、ＧｄＦｅ。
ス合金が一般には好ましいが、結晶体の形式であっても
よい。この例としては、ＧｄＦｅ。
ＴｂＦｅ、 ＧｄＣｏ、 ＤｙＦｅ、 ＧｄＴｂＦｅ
、 ＴｈＤｙＦｅ、 Ｔ ｂＦｅＣｏ、 ＧｄＴｂＣｏ
。
、 ＴｈＤｙＦｅ、 Ｔ ｂＦｅＣｏ、 ＧｄＴｂＣｏ
。
ＧｄＴｂＰｅＣｏ、 ＧｄＦｅＲ１＋ ＧｄＴｂＦｅＧ
ｅ ；あるいはＢｉ、Ｓｎ、Ｇｅ等の添加元素が添加さ
れたもの； ＭｎＢ１． ＰｔＣｏ、 ＭｎＣｕＢ１
。
ｅ ；あるいはＢｉ、Ｓｎ、Ｇｅ等の添加元素が添加さ
れたもの； ＭｎＢ１． ＰｔＣｏ、 ＭｎＣｕＢ１
。
ＭｎＡ １２ Ｇｅ等を挙げることができる。
磁性薄膜の厚さとしては、２００人〜１５００人が好ま
しい。この膜形手段としては、スパッタ法、（真空）蒸
着法、−などを使用できる。
しい。この膜形手段としては、スパッタ法、（真空）蒸
着法、−などを使用できる。
上記例において好適に用いることができる透明誘電体と
しては、Ａ Ｉｔ ｆＪ＋５ｉａＮ４＋ｓＩＡ ’ Ｎ
等の窒化物のほか、ＣｅＦｉｔＭｇｌ”＋＋ＭｇＦｚ＋
ＬａＦ３＋ＮａＦ＋ＺｎＳ＋Ｓ＋Ｏ＋ＳｉＯ□、 Ａ７
！Ｆｉ、 ＣａＦ等を挙げる ことができる。
しては、Ａ Ｉｔ ｆＪ＋５ｉａＮ４＋ｓＩＡ ’ Ｎ
等の窒化物のほか、ＣｅＦｉｔＭｇｌ”＋＋ＭｇＦｚ＋
ＬａＦ３＋ＮａＦ＋ＺｎＳ＋Ｓ＋Ｏ＋ＳｉＯ□、 Ａ７
！Ｆｉ、 ＣａＦ等を挙げる ことができる。
誘電体膜の形成法としては、磁性薄膜と同様の方法でよ
く、また膜厚は２００人〜２０００人が好ましい。
く、また膜厚は２００人〜２０００人が好ましい。
保護（オーバーコート）層としては、たとえばアクリル
系の紫外線硬化樹脂を、スピンコード法などによって形
成することによって得る。この層厚は、１〜１０μｍが
望ましい。
系の紫外線硬化樹脂を、スピンコード法などによって形
成することによって得る。この層厚は、１〜１０μｍが
望ましい。
なお、本発明は、上記構造において基板が相互に外側と
なるよう貼り合せたものも含む。
なるよう貼り合せたものも含む。
次に比較例と共に実施例を示し、本発明の効果を明らか
にする。
にする。
（実施例１）
１、２ ｍｓ厚Ｘ１２ＱｍｍφのＰＭＭＡ板を、１５ｗ
ｔχの塩化ビニリデン・アクリロニトリルコポリマーを
溶解したテトラヒドロフラン溶液に浸漬し、乾燥させて
、ＰＭＭＡ板の全面に約２０μｍの低透湿率層を形成し
た。
ｔχの塩化ビニリデン・アクリロニトリルコポリマーを
溶解したテトラヒドロフラン溶液に浸漬し、乾燥させて
、ＰＭＭＡ板の全面に約２０μｍの低透湿率層を形成し
た。
次いで、エポキシ系の紫外線硬化樹脂を用いて、１．６
ミクロンピンチ、深さ８００人の案内溝を有するグルー
ブ層を形成した。この層厚は５０μｍであった。この基
板上に、Ａｊ！ Ｎ、 ＧｄＴｂＦｅ、 Ａｌ１Ｎの順
に各１０００人でスパツタリングにより膜を形成し、媒
体を得た。
ミクロンピンチ、深さ８００人の案内溝を有するグルー
ブ層を形成した。この層厚は５０μｍであった。この基
板上に、Ａｊ！ Ｎ、 ＧｄＴｂＦｅ、 Ａｌ１Ｎの順
に各１０００人でスパツタリングにより膜を形成し、媒
体を得た。
この媒体を、６０℃Ｘ８０％ＲＨの強制劣化雰囲気下に
１００時間おいたが、全く反りは生じなかった。
１００時間おいたが、全く反りは生じなかった。
（比較例１）
実施例１において、塩化ビニリデン膜を形成しないほか
は同一の媒体を作成した。この媒体は、同強制劣化雰囲
気下で１時間経過後に、反りによるクラブが磁性薄膜に
認められた。
は同一の媒体を作成した。この媒体は、同強制劣化雰囲
気下で１時間経過後に、反りによるクラブが磁性薄膜に
認められた。
以上の通り、本発明によれば、基板の反りを防止でき、
もって磁性薄膜のクランクの発生を防止できるとともに
、トラッキング用案内溝をもった光磁気記録媒体を得る
ことができる。
もって磁性薄膜のクランクの発生を防止できるとともに
、トラッキング用案内溝をもった光磁気記録媒体を得る
ことができる。
第１図は本発明の光磁気記録媒体の構造例の断面図であ
る。 ■・・・ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）板、２
・・・低透湿率層、３・・・グルーブ層、３ａ川案内溝
、５・・・磁性薄膜
る。 ■・・・ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）板、２
・・・低透湿率層、３・・・グルーブ層、３ａ川案内溝
、５・・・磁性薄膜
Claims (2)
- （１）透明基板上に少くとも磁性薄膜を有する光磁気記
録媒体において； ポリメチルメタクリレートからなる基板に、少くともそ
の上下全面に透湿率の低い層を設け、さらにその一方の
層上に紫外線硬化樹脂を用いて案内溝を有するグルーブ
層を形成ししたことを特徴とする光磁気記録媒体。 - （２）透湿率の低い層として塩素を含む樹脂を用い、紫
外線硬化樹脂として、エポキシ基を有しカチオン重合に
より硬化する樹脂を用い、かつその厚みを３０μｍ以上
とした上記第１項記載の光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15383286A JPS6310353A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15383286A JPS6310353A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6310353A true JPS6310353A (ja) | 1988-01-16 |
Family
ID=15571065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15383286A Pending JPS6310353A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6310353A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6320745A (ja) * | 1986-07-14 | 1988-01-28 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPH01268509A (ja) * | 1988-04-20 | 1989-10-26 | Sanyo Electric Co Ltd | ショーケース |
| JPH02152041A (ja) * | 1988-12-05 | 1990-06-12 | Hitachi Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP15383286A patent/JPS6310353A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6320745A (ja) * | 1986-07-14 | 1988-01-28 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPH01268509A (ja) * | 1988-04-20 | 1989-10-26 | Sanyo Electric Co Ltd | ショーケース |
| JPH02152041A (ja) * | 1988-12-05 | 1990-06-12 | Hitachi Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
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