JP2649711B2

JP2649711B2 - オーバーコート法

Info

Publication number: JP2649711B2
Application number: JP63260666A
Authority: JP
Inventors: 実横島
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1988-10-18
Filing date: 1988-10-18
Publication date: 1997-09-03
Anticipated expiration: 2012-09-03
Also published as: JPH02107630A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明はオーバーコート法に関する。更に詳しくは紫
外線等により硬化し、光ディスクの記録膜に対する接着
性、耐湿性、硬度に優れたオーバーコート層を設けるた
めのオーバーコート法に関する。

（従来の技術）現在、民生用のコンパットディスク記録媒体に対して
は紫外線硬化型オーバーコート剤を用いたオーバーコー
トが一般に行われている。一方、最近、書込み、消去の
可能な光ディスクの開発が行われ、そのような光ディス
クに対するオーバーコート法の開発も進められている。

（発明が解決しようとする課題）光ディスク用の記録媒体は水分やヒートショックに弱
く、これらから記録媒体を保護する目的で記録層をオー
バコートすることが好ましいが、光ディスクの記録膜上
に設けられるオーバーコート層に要求される特性として
は、耐水性、耐ヒートショック性、高い硬度、透明性等
の点で優れていることが挙げられる。しかしながら従
来、使用されているコンパットディスク用のオーバーコ
ート剤を用いて光ディスク記録膜上にオーバーコート層
を設けても、その特性が不十分であり、そのようなオー
バーコート剤はディスク記録膜用オーバーコート剤とし
ては使用出来ない。又特開昭59−71317号公報には、ガ
ラスを基材とした光ディスク用の光硬化型接着性組成物
を用いたオーバーコート法が提案されている。しかしな
がらその方法で用いられている光硬化型接着性組成物
は、２−エチル−２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レート等の分子中にOH基を持ったモノ（メタ）アクリレ
ートを主成分としており、光ディスクの記録層上に設け
られるオーバーコート層用として使用するにはその耐水
性や硬度等が不十分なため、使用には不向きである。

（課題を解決するための手段）本発明者らは、上記の問題を解決するため、鋭意研究
の結果、紫外線により容易に硬化し、接着性、耐湿性、
硬度に優れたオーバーコート層を設ける方法を見出し本
発明を完成させた。すなわち、本発明は一般式〔Ｉ〕（式中、Ｒは分子中に１個の活性を含有する有機化合物
の残基を示し、ｎの平均値は１〜30の数である。）で表わされる化合物（Ａ）と脂環式エポキシド（Ｂ）と
光カチオン重合触媒（Ｃ）を含む組成物を用いることを
特徴とするポリカーボネート製光ディスクの記録膜のオ
ーバーコート法に関する。

本発明に於いて使用される一般式〔Ｉ〕で表わされる
化合物（Ａ）は、公知の方法によって合成することがで
きる。すなわち、本発明の〔Ｉ〕式で表わされる化合物
においてＲは、分子中に１個の活性水素を有する有機化
合物の残基であるが、その前駆体の有機化合物であるア
ルコール類、フエノール類、カルボン酸類、チオール類
等を開始剤にして４−ビニルシクロヘキセン−１−オキ
サイド等を開環重合させることによって得られる、ビニ
ル基側鎖を有するポリシクロヘキセンオキサイド重合体
を過酸等の酸化剤でエポキシ化することによって製造す
ることができる。

アルコール類としては、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサ
ノール、オクタノール、３−シクロヘキセンメタノー
ル、ベンジルアルコール等がある。フエノール類として
は、フエノール、クレゾール等がある。カルボン酸類と
しては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等がある。チオール
類としては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタ
ン、プロピルメルカプタン等があげられる。また、これ
ら前駆体の有機化合物である活性水素を有する化合物は
その骨格中に不飽和２重結合を有していても良く、具体
例としてはアリルアルコール、アクリル酸、メタクリル
酸、３−シクロヘキセンメタノール等がある。これらの
化合物の不飽和２重結合は、さらにそれらがエポキシ化
された構造でもさしつかえない。

〔Ｉ〕式で表わされる化合物は、市場より容易に入手
することができる。例えば、ダイセル化学工業（株）
製、EHPE−3150（エポキシ当量175〜195、軟化点72〜76
℃）等がある。

本発明で使用する脂環式エポキシド（Ｂ）の具体的な
例として、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート;3,4−エポキ
シ−１−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ
−１−メチルシクロヘキサンカルボキシレート;6−メチ
ル−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−６−メチル
−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート;3,4
−エポキシ−３−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−
エポキシ−３−メチルシクロヘキサカルボキシレート;
3,4−エポキシ−５−メチルシクロヘキシルメチル−3,4
−エポキシ−５−メチルシクロヘキサンカルボキシレー
ト;2−（3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−
3,4−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン；
ビス（3,4−エポキシシクロヘキシルメチル）オキサレ
ート；ビス（3,4−エポキシシクロヘキシルメチル）ア
ジペート；ビス（3,4−エポキシ−６−メチルシクロヘ
キシルメチル）アジペート；ビス（3,4−エポキシシク
ロヘキシルメチル）ピメレート;4−ビニルシクロヘキサ
ンモノエポキシド；ノルボルネンモノエポキシド；リモ
ネンモノエポキシド等が挙げることができる。これら脂
環式エポキシド（Ｂ）のうち、特に好ましいものとして
は、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、２−（3,4
−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキ
シ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン−ビス（2,3−
エポキシシクロペンチル）エーテル等が挙げられる。こ
れら脂環式エポキシド（Ｂ）は、１種又は２種以上使用
することができる。

光カチオン重合触媒（Ｃ）としては、公知のどのよう
な光カチオン重合触媒でも使用することができる。例え
ば、米国特許3379653号公報に記載されたような１種若
しくはそれ以上の金属フルオロ硼酸塩及び三弗化硼素の
錯体、米国特許3586616号公報に記載されたようなビス
（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、米
国特許第3708296号公報に記載されたようなアリールジ
アゾニウム化合物、米国特許第4058400号記載の第V Ia
族元素の芳香族オニウム塩、米国特許第4069055号公報
記載の第V a族元素の芳香族オニウム塩、米国特許第408
6091号公報記載の第III a−V a族元素のジカルボニルキ
レート、米国特許第4139655号公報記載のチオピリリウ
ム塩、米国特許第4161478号公報記載のMF₆アニオン（こ
こでＭは、Ｐ、As及びSbより選択される）を有する第V
Ia族元素、米国特許第4231951号公報記載のトリアリー
ルスルホニウム錯塩、米国特許第4256828号公報記載の
芳香族イオドニウム錯塩及び芳香族スルホニウム錯塩を
包含する。好適な光カチオン重合触媒は、ポリアリール
スルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スル
ホニウム塩若しくは、イオドニウム塩、並びに第III
a、V a及びV Ia族元素の芳香族オニウム塩を包含する。
これら塩類の幾種かは、たとえばFC−508若しくはFX−5
12（ポリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフエ
ート及びFC−508（3Mカンパニー社製）、あるいは、UVE
−1014（ゼネラルエレクトリック・カンパニー社製、ポ
リアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモン
塩）、SP−170、SP−150（旭電化（株）製、ポリアリー
ルスルホニウムヘキサフルオロホスフエート、ポリアリ
ールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート）とし
て販売されているように市販入手することができる。こ
れら光カチオン重合触媒（Ｃ）は、１種または２種以上
を任意の割合で混合して使用する事ができる。

本発明に使用される（Ａ）成分の量は、樹脂組成物及
び光ディスク用オーバーコート組成物の好ましくは１〜
60重量％、特に好ましくは、５〜40重量％が望ましい。
（Ｂ）成分の量は樹脂組成物及び光デイスク用オーバー
コート組成物の好ましくは、39.95〜98.95重量％、特に
好ましくは、59.9〜94.9重量％である。（Ｃ）成分の量
は、樹脂組成物及び光デイスク用オーバーコート組成物
の（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総重量に対して、好ましく
は、0.05〜0.7重量％、特に好ましくは0.1〜0.5重量％
である。

本発明のオーバーコート法で使用する光ディスク用オ
ーバーコート組成物は、（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）の
成分物質だけで十分所期の目的を達成するものである
が、さらに性能改良のため、本来の特性を変えない範囲
で、モダフローのような商品名で販売されているシリコ
ーン一酸化アルキレンコポリマーや、アクリルポリマー
（モンサント・ケミカル・カンパニー社）、非塩基性充
填剤（例えば、シリカ、タルク、ガラス玉、アルミニウ
ム、銀、酸化亜鉛等）及びその他の添加剤、たとえば、
シランカップリング剤、溶剤なども含むことができる。

本発明のオーバーコート法における硬化は常法により
行うことが出来る。例えば、低圧又は高圧水銀灯、キセ
ノン灯等を用いて紫外線を照射すればよい。

本発明のオーバーコート法においては前記した各成分
を前記したような組成で混合してオーバーコート用組成
物を得、このオーバーコート用組成物を光ディスクの記
録膜の上に例えばスピンコート法等により塗布し、紫外
線を照射して硬化することによってオーバーコート層
（保護膜）を形成させる。そのオーバーコート層の厚さ
は通常１〜50μ程度とするのが好ましい。なお、本発明
のオーバーコート法においては紫外線照射の代りに電子
線照射によることもできる。

（実施例）以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。

なお、実施例中の部は、重量部である。

実施例1. を有する化合物（ダイセル化学工業（株）製、EHPE−31
50、軟化点71℃）30部、3,4−エポキシシクロヘキシメ
チル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート6
0部、SP−170（旭電化（株）製、光カチオン重合触媒、
プロピレンカーボネート50％希釈品）0.6部を混合し紫
外線硬化型光デイスク用オーバーコート組成物を調製し
た。

ポリカーボネート基板に記録膜を作製（スパツクリン
グにより）した光デイスクの記録膜の上に、上記の紫外
線硬化型光デイスク用オーバーコート組成物をスピンコ
ーターで塗布し、高圧水銀灯（東芝社製、2KW）により
照射し該組成物を硬化させた。オーバーコートされた光
デイスクを60℃の90％RHの状態に放置し、耐湿性試験を
行なった処、1000時間経過しても記録膜に異常がなかっ
た。該組成物の硬度は、Shore Dで89であった。

実施例2. を有する化合物（ダイセル化学工業（株）製、EHPE−31
50軟化点71℃）10部、２−（3,4−エポキシシクロヘキ
シル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ）シクロヘキサン−
メタ−ジオキサン60部、ビス−（3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチル）アジペート30部及びSP−170（旭電化
（株）製、光カチオン重合触媒、プロピレンカーボネー
ト50％希釈品）0.4部を混合し、紫外線硬化型光デイス
ク用オーバーユート組成物を調製した、これを用い、実
施例１と同様にして、オーバーコートされた光デイスク
を得た。実施例１と同様に試験を行ない、耐湿性の試験
の結果、1000時間経過しても異常がなかった。硬度は、
Shore Dで84であった。

実施例３を有する化合物（ダイセル化学工業（株）製、EHPE−31
50、軟化点、71℃）40部、ビス（2,3−エポキシシクロ
ペンチン）エーテル40部、3,4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレ
ート20部及びSP−170（旭電化（株）製、光カチオン重
合触媒、プロピレンカーボネート50％希釈品）0.3部を
混合し、紫外線硬化型光デイスク用オーバーコート組成
物を調製した。これを用い、実施例１と同様にして、オ
ーバーコートされた光デイスクを得た。実施例１と同様
に試験を行ない、耐湿性の試験の結果、1000時間経過し
ても異常がなかった。硬度は、Spore Dで91であった。

（発明の効果）本発明のオーバコート法で得られた光ディスクの記録
層に設けられたオーバーコート層は硬度が高く、耐湿
性、接着性に優れ、更に吸水率が低いという特徴があ
る。

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式〔Ｉ〕（式中、Ｒは分子中に１個の活性水素を含有する有機化
合物の残基を示し、ｎの平均値は１〜30の数である。）で表わされる化合物（Ａ）と脂環式エポキシド（Ｂ）と
光カチオン重合触媒（Ｃ）を含む組成物を用いることを
特徴とするポリカーボネート製光ディスクの記録膜のオ
ーバーコート法