JPH11181391A - 接着剤組成物、接着体、接着方法及び光ディスクの製造方法 - Google Patents

接着剤組成物、接着体、接着方法及び光ディスクの製造方法

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JPH11181391A
JPH11181391A JP9364859A JP36485997A JPH11181391A JP H11181391 A JPH11181391 A JP H11181391A JP 9364859 A JP9364859 A JP 9364859A JP 36485997 A JP36485997 A JP 36485997A JP H11181391 A JPH11181391 A JP H11181391A
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optical disk
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JP9364859A
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Kazuhiko Ishii
一彦 石井
Kiyohisa Tokuda
清久 徳田
Kenji Yoshida
謙司 吉田
Minoru Yokoshima
実 横島
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】光ディスク用、特にDVD用等の光の透過しな
い基板どうしの接着に適したエネルギー線硬化型接着剤
組成物、及び接着方法を提供する。 【解決手段】カチオン重合性物質(A)とエネルギー線
カチオン重合開始剤(B)とカチオン重合遅延剤(C)
を含有する接着剤組成物、及び二つの基板のそれぞれの
一方の面に該接着剤組成物を塗布後、塗布面に硬化物が
発生しない量のエネルギー線を照射し、次いでこの塗布
面どうしを密着させる接着方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク(特に
DVD、MO)やICカード用等の不透明な基材どうし
の接着に適したエネルギー線硬化型接着剤組成物、接着
体、接着方法及び光ディスクの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、不透明な基材どうしの接着方法と
して、熱による接着方法が採用されている。熱による接
着法に使用する接着剤は、エポキシ系、メラミン系、ウ
レタン系及びアクリル系の樹脂と熱硬化剤によるものが
多く、ホットメルト系樹脂等も知られている。しかしな
がら、熱による接着方法では基材が熱により反る、ある
いは変形するなどの問題があった。またホットメルト系
樹脂では、熱安定性や耐候性が悪く高温の環境下で使用
することは困難であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記、従来の熱による
接着法では、基材の反り、変形を生じ、生産性に問題が
あり、その解決が望まれている。更に高記録密度化が要
求される光ディスク分野における接着においては、接着
性、ディスクの反り、記録層の保護及び変形に対して、
より特性的に優れた保護膜や接着剤を使用しなければな
らないという課題が残っている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべき鋭意検討した結果、不透明な基材でも常
温で硬化ができ、かつ接着性、ディスクの反り、記録膜
の腐食の防止性及び変形等に優れた接着剤組成物、光デ
ィスク及びその製造方法を提供することに成功した。す
なわち、本発明は、(1)カチオン重合性物質(A)と
光カチオン重合開始剤(B)とカチオン重合遅延剤
(C)を含有する接着剤組成物、(2)カチオン重合性
物質(A)がグリシジル化合物(A1)と脂環式エーテ
ル化合物(A2)の混合物である(1)記載の接着剤組
成物、(3)カチオン重合遅延剤(C)が有機アルミニ
ウム化合物、有機チタン化合物、有機亜鉛化合物、有機
リン化合物及び有機アンチモン化合物から選ばれる少な
くとも1種の化合物である(1)又は(2)記載の接着
剤組成物、(4)(1)〜(3)記載の接着剤組成物の
硬化物層を有する接着体、
【0005】(5)接着体が光ディスクである(4)の
接着体、(6)光ディスクがDVDである(5)の接着
体、(7)接着体がICカードである(4)の接着体、
(8)二つの基材のそれぞれの、又はどちらか一方の面
に(1)〜(3)記載の接着剤組成物を塗布後、硬化膜
が発生しない量のエネルギー線を該塗布面に照射し、次
いでこの塗布面どうし、又はこの塗布面と接着剤組成物
を塗布していない一方の基材の表面を密着させることを
特徴とする接着方法、(9)光ディスク基板の記録層の
上に、又は該記録層の上に保護層がある場合には保護層
の上に、(1)〜(3)記載の接着剤組成物を塗布後、
硬化膜が発生しない量のエネルギー線を該塗布面に照射
し、次いでこの塗布面どうしを密着させることを特徴と
する光ディスクの製造方法、に関する。
【0006】本発明の接着剤組成物は、カチオン重合性
物質(A)とエネルギー線カチオン重合開始剤(B)と
カチオン重合遅延剤(C)を含有する。カチオン重合性
物質(A)としては、例えばグリシジル化合物(A
1)、脂環式エーテル化合物(A2)等を挙げることが
できる。
【0007】グリシジル化合物(A1)としては、例え
ばリノレイン酸ダイマーのグリシジルエステル等のグリ
シジルエステル化合物やグリシジルエーテル化合物等を
挙げることができるが、グリシジルエーテル化合物が好
ましい。これら、グリシジル化合物は1種又は2種以
上、混合して使用することができる。
【0008】グリシジルエーテル化合物としては、例え
ば1,2−エポキシ−2−ブチル−3−フェノキシプロ
パン、1,2−エポキシ−3−メチル−3−フェノキシ
プロパン、1,3−ビス(2,3−エポキシプロピロキ
シ)ベンゼン、1,2−エポキシ−3−フェノキシプロ
パン、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、ビス
フェノールFのジグリシジルエーテル、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂等の芳香族グリシジルエーテル化合物、水添
ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、シクロヘキ
サン−1,4−ジメチロールジグリシジルエーテル、ブ
チルグリシジルエーテル、1−アリルオキシ−2,3−
エポキシプロパン、1,4−ブタンジオールジグリシジ
ルエーテル、グリセロールのトリグリシジルエーテル、
プロピレングリコールのグリシジルエーテル、トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテルなどの脂肪族グ
リシジルエーテル化合物があげられる。
【0009】脂環式エーテル化合物(A2)はグリシジ
ル化合物を除く環状エーテル化合物で、例えば脂環式炭
化水素のエポキシ化物やオキセタン環を有する化合物が
あげられる。脂環式炭化水素のエポキシ化物としては、
例えばエポキシ基を有する環状脂肪族化合物(以下脂環
族エポキシ化合物という)があげられる。
【0010】脂環族エポキシ化合物としては、例えば4
〜7員環の環状脂肪族基を有する脂環族エポキシ化合物
があげられるが、例えばリモネンジオキサイド、4−ビ
ニルシクロヘキセンモノオキサイド、(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシシクロヘ
キシルカルボキシレート、ビス−(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)アジペート、ビス−(2,3−エポキシ
シクロペンチル)エーテル、(2,3−エポキシ−6−
メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、ジシクロペ
ンタジエンジオキサイド等の5員環や6員環の環状脂肪
族基とエポキシ基をそれぞれ1〜2個有する脂環族エポ
キシ化合物が好ましい。
【0011】又、オキセタン環を有する脂環式エーテル
化合物としては、例えば3−メチル−3−ヒドロキシメ
チルオキセタン、1,4−ビス〔(3−エチル−3−オ
キセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン等があげられ
る。
【0012】又、上記の脂環式エーテル基を側鎖に有す
るポリマーも本発明における脂環式エーテル化合物に含
まれる。このような脂環式エーテル基を側鎖に有するポ
リマーとしては、例えば4−ビニルシクロヘキセンモノ
オキサイドのホモポリマー、又は4−ビニルシクロヘキ
センモノオキサイドとその他の不飽和二重結合を有する
モノマーとの共重合体等をあげることができる。
【0013】これら、脂環式エーテル化合物(A2)は
1種又は2種以上、混合して使用することができる。
【0014】本発明の組成物では、前記、グリシジル化
合物(A1)と前記、脂環式エーテル化合物(A2)を
組み合せて用いるのが好ましい。
【0015】本発明で使用するエネルギー線カチオン重
合開始剤(B)としては、例えば芳香族ヨードニウム錯
塩(B1)や芳香族スルホニウム錯塩(B2)等を挙げ
ることができる。芳香族ヨードニウム錯塩(B1)とし
ては、例えばジフェニルヨードニウムテトラキス(ペン
タフルオロフェニル)ボレート、ジフェニルヨードニウ
ムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート、ジ(4−ノニルフェ
ニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙
げられる。
【0016】芳香族スルホニウム錯塩(B2)として
は、例えばトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラキス
(ペンタフルオーフェニル)ボレート、4,4′−ビス
〔ジフェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド−ビス
ヘキサフルオロホスフェート、4,4′−ビス〔ジ(β
−ヒドロキシエトキシ)フェニルスルホニオ〕ジフェニ
ルスルフィド−ビスヘキサフルオロアンチモネート、
4,4′−ビス〔ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド−ビスヘキサフル
オロホスフェート、7−〔ジ(p−トルイル)スルホニ
オ〕−2−イソプロピルチオキサントンヘキサフルオロ
アンチモネート、7−〔ジ(p−トルイル)スルホニ
オ〕−2−イソプロピルチオキサントンテトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)ボレート、4−フェニルカルボ
ニル−4′−ジフェニルスルホニオ−ジフェニルスルフ
ィド−ヘキサフルオロホスフェート、4−(p−ter
−ブチルフェニルカルボニル)−4′−ジフェニルスル
ホニオ−ジフェニルスルフィド−ヘキサフルオロアンチ
モネート、4−(p−ter−ブチルフェニルカルボニ
ル)−4′−ジ(p−トルイル)スルホニオ−ジフェニ
ルスルフィド−テトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート等を挙げることができる。
【0017】これらのエネルギー線カチオン重合開始剤
(B)は単独若しくは2種以上を併用しても差し支えな
い。エネルギー線としては、例えば紫外線や電子線があ
げられるが、紫外線が好ましい。
【0018】本発明では、カチオン重合遅延剤(C)を
使用する。このカチオン重合遅延剤(C)は、本発明の
接着剤組成物を基材に塗布し、エネルギー線照射後の硬
化膜の発生の抑制を主な目的として使用される。(C)
成分としては、例えばアルミニウム、チタン、亜鉛から
選択される金属原子に、アルコキシ基、フェノキシ基、
アシルオキシ基、β−ジケトナト基、o−カルボニルフ
ェノラト基等が結合した錯体化合物等である有機アルミ
ニウム化合物、有機チタン化合物、有機亜鉛化合物等の
有機金属化合物を挙げることができる。
【0019】ここで、アルコキシ基としては、炭素数1
〜10のものが好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ
基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブト
キシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ
基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基等が
挙げられ、フェノキシ基としては、例えばフェノキシ
基、o−メチルフェノキシ基、p−メトキシフェノキシ
基、p−ニトロフェノキシ基、2,6−ジメチルフェノ
キシ基などが挙げられ、アシルオキシ基としては、例え
ばアセタト、プロピオナト、イソプロピオナト、ブチラ
ト、ステアラト、エチルアセトアセタト、プロピルアセ
トアセタト、ブチルアセトアセタト、ジエチルマロナー
ト、ジピパロイルメタナトなどの配位子があげられ、o
−カルボニルフェノラト基としては、例えばサルチルア
ルデヒドが挙げられる。
【0020】又、本発明では、カチオン重合遅延剤
(C)として、リン、アンチモンから選択される金属原
子にフェニル基、アルキル基等が結合した化合物等であ
る有機リン化合物、有機アンチモン化合物等も使用され
る。
【0021】ここで、フェニル基としては、例えばフェ
ニル基、p−メチルフェニル基、p−メトキシフェニル
基、p−ニトロフェニル基等が挙げられ、アルキル基と
しては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、
n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル
基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げられる。
【0022】前記、有機金属化合物のうちで、最も好ま
しいのは有機アルミニウム化合物であり、例えばアルミ
ニウムのC1〜C10の各種アルコキシ化物、アルミニ
ウムの各種フェノキシ化物、アルミニウムの各種o−カ
ルボニルフェノラト化物、アルミニウムの各種アシルオ
キシ化物が挙げられる。
【0023】アルミニウムのC1〜C10の各種アルコ
キシ化物としては、例えばトリスメトキシアルミニウ
ム、トリスエトキシアルミニウム、トリスイソプロポキ
シアルミニウム、トリスブトキシアルミニウム、イソプ
ロポキシジエトキシアルミニウム等があげられ、アルミ
ニウムの各種フェノキシ化物としては、例えばトリスフ
ェノキシアルミニウム、トリスパラメチルフェノキシア
ルミニウム等があげられ、アルミニウムの各種o−カル
ボニルフェノラト化物としては、例えばトリスサリチル
アルデヒダトアルミニウム等があげられる。
【0024】又、アルミニウムの各種アシルオキシ化物
としては、例えばトリスアセトキシアルミニウム、トリ
スステアラトアルミニウム、トリスブチラトアルミニウ
ム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリスイソプロ
ピオナトアルミニウム、トリスエチルアセトアセタトア
ルミニウム、トリスジエチルマロナトアルミニウム、ト
リスプロピルアセトアセタトアルミニウム、トリスブチ
ルアセトアセタトアルミニウム、トリスジピバロイルメ
タナトアルミニウム、トリスアセチルアセトナトアルミ
ニウム、トリストリフルオロアセチルアセトナトアルミ
ニウム、トリスヘキサフルオロアセチルアセトナトアル
ミニウム、、ジアセチルアセトナトジピバロイルメタナ
トアルミニウム、ビス(エチルアセトアセタト)(アセ
チルアセトナト)アルミニウム、ジイソプロポキシ(エ
チルアセトアセタト)アルミニウム等が挙げられる。
尚、ジイソプロポキシ(エチルアセトアセタト)アルミ
ニウムはアルミニウムのC1〜C10の各種アルコキシ
化物とも言える。
【0025】これら有機金属化合物は、1種単独で、ま
たは2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0026】本発明の接着剤組成物を構成する(A)〜
(C)成分の使用割合としはて、この三者の総量中、
(A)成分の含有量は、好ましくは90〜99.95重
量%、より好ましくは95〜99.9重量%、(B)成
分の含有量は、好ましくは、0.025〜5重量%、よ
り好ましくは0.05〜3重量%、(C)成分の含有量
は、好ましくは0.025〜5重量%、より好ましくは
0.05〜4重量%である。
【0027】本発明の接着剤組成物には、分子中に少な
くとも2個の水酸基を有する化合物(D)、ラクトン化
合物(E)や充填剤(F)を含有させることができる。
分子中に少なくとも2個の水酸基を有する化合物(D)
やラクトン化合物(E)は、主として、硬化速度の調整
や被膜に柔軟性や接着力をより高めるために使用される
が、接着剤組成物の経時安定性(ポットライフ)を考慮
すると、分子中に少なくとも2個の水酸基を有する化合
物(D)が好ましい。又、充填剤(F)は主としてチク
ソトロピー性の付与又は向上のために使用される。
【0028】分子中に少なくとも2個の水酸基を有する
化合物(D)としては、フェノール性水酸基以外の酸性
基の存在しないものが好ましく、例えばアルコール性水
酸基以外の官能基を有しないポリオール化合物(D−
1)、ポリエステルポリオール化合物(D−2)、ポリ
カプロラクトンポリオール化合物(D−3)、フェノー
ル性水酸基を有するポリオール化合物(D−4)、ポリ
カーボネートジオール等のポリカーボネートポリオール
等を挙げることができる。この分子中に少なくとも2個
の水酸基を有する化合物(D)を用いることにより、エ
ネルギー線照射後の塗膜表面の皮膜の形成をより強く抑
制することができ、表面の粘着性を妨げないため、貼り
合わせ面が不均一にならない接着剤を得ることができ
る。又、本発明の接着剤を使用した接着体に、より高い
耐衝撃性を付与することができる。
【0029】アルコール性水酸基以外の官能基を有しな
いポリオール化合物(D−1)としては、例えばエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタン
ジオール、1,3−ブタンジオール、1,9−ノナンジ
オール、ネオペンチルグリコール、トリシクロデカンジ
メチロール、シクロヘキサンジメチロール、トリメチロ
ールプロパン、グリセリン、水添ポリブタジエンポリオ
ール、水添ダイマージオール等の脂肪族ポリオール、ジ
エチレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ
テトラメチレングリコール、トリメチロールプロパンポ
リエトキシトリオール、グリセリンポリプロポキシトリ
オール、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ビス
フェノールFポリエトキシジオール、ジトリメチロール
プロパン等のエーテル結合を1つもしくは2つ以上有す
る(ポリ)エーテルポリオールを挙げることができる。
【0030】ポリエステルポリオール化合物(D−2)
としては、例えば上記のアルコール性水酸基以外の官能
基を有しないポリオール化合物(D−1)やポリカーボ
ネートポリオールと多塩基酸(例えばマレイン酸、コハ
ク酸、アジピン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、水添
ダイマー酸)又はその無水物との反応物等を挙げること
ができる。
【0031】ポリカプロラクトンポリオール化合物(D
−3)としては、例えば上記のアルコール性水酸基以外
の官能基を有しないポリオール化合物(D−1)やポリ
カーボネートポリオールとε−カプロラクトンの反応
物、あるいは上記のアルコール性水酸基以外の官能基を
有しないポリオール化合物(D−1)やポリカーボネー
トポリオールと前記多塩基酸又はその無水物とε−カプ
ロラクトンの反応物等を挙げることができる。又、フェ
ノール性水酸基を有するポリオール化合物(D−4)と
しては、例えばビスフェノールF、フェノールノボラッ
ク、クレゾールノボラック等の分子中に少なくとも2個
の水酸基を有する化合物等を挙げることができる。
【0032】これらの(D)成分のうち、より好ましい
化合物としては、接着剤組成物の経時安定性(ポットラ
イフ)を考慮すると、例えばアルコール性水酸基以外の
官能基を有しないポリオール化合物(D−1)、ポリカ
プロラクトンポリオール化合物(D−3)等の酸性基を
有しないポリオールを挙げることができる。アルコール
性水酸基以外の官能基を有しないポリオール化合物(D
−1)の中では、エーテル結合を2つ以上有するポリエ
ーテルポリオールが好ましい。又、ポリカプロラクトン
ポリオール化合物(D−3)の中では、アルコール性水
酸基以外の官能基を有しないポリオール化合物(D−
1)とε−カプロラクトンとの反応物が好ましい。さら
に好ましい化合物としては、例えばポリテトラメチレン
グリコール、ポリカプロラクトンジオール、ポリカプロ
ラクトントリオール等を挙げることができる。
【0033】ラクトン化合物(E)としては、例えばε
−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン等を挙げること
ができる。又、充填剤(F)としては、例えば二酸化珪
素、二酸化チタン、アルミニウム、硫酸バリウム、カオ
リン、タルク、クレー、炭酸カルシウム、ベントナイ
ト、ガラス繊維、炭素繊維、雲母等を挙げることができ
る。
【0034】充填剤(F)としては、例えば二酸化珪
素、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、カオリ
ン、タルク、クレー、炭酸カルシウム、ベントナイト、
ガラス繊維、炭素繊維、雲母、有機フィラー(例えば樹
脂ビーズ)等の公知慣用の充填剤を挙げることができ
る。
【0035】本発明の接着剤組成物中、前記(D)〜
(F)成分の使用割合としては、前記(A)〜(C)成
分の総量、100部に対して(D)又は(E)成分は、
好ましくは0〜60部、より好ましくは0〜50部、
(F)成分は、(A)〜(E)成分の総量、100部に
対して、好ましくは0〜60部、より好ましくは0〜4
0部である。
【0036】又、前記(A)〜(C)成分の他に(D)
成分を使用する場合、その使用量は、(A)、(B)及
び(D)成分の総量を100重量部に対し、(A)は好
ましくは5〜50重量部、より好ましくは10〜30重
量部、(B)成分は好ましくは5〜90重量部、より好
ましくは10〜70重量部、(D)成分は、好ましくは
5〜50重量部、より好ましくは10〜40重量部であ
り、(C)成分は,好ましくは0.01〜10重量部、
より好ましくは0.05〜5重量部、特に好ましくは
0.1〜1重量部である。さらに、(F)成分を使用す
る場合、その使用量は1〜60重量部、より好ましくは
5〜40重量部である。
【0037】本発明の組成物には、更に必要応じて、
(A)成分以外のカチオン重合性物質、(メタ)アクリ
レート化合物、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング
剤、消泡剤等を併用することもできる。(A)成分以外
のカチオン重合性物質としては、例えば、n−ブチルビ
ニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ブタン
ジオールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジ
ビニルエーテル、シクロヘキサンジメチロールジビニル
エーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル
等のビニルエーテル化合物等が挙げられ、(メタ)アク
リレート化合物としては、例えば、エポキシ(メタ)ア
クリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマーや(メ
タ)アクリレートモノマー等が挙げられる。
【0038】本発明の接着剤組成物は、前記の(A)〜
(F)成分及びその他の成分を溶解、混合、又は分散等
を行うことにより調製することができる。
【0039】本発明の接着体は、上記の接着剤組成物の
硬化物層を介して二つの基材を接着したものである。硬
化物層を膜厚としては、例えば5〜100μm程度が好
ましい。基材としては、特に制限はないが、上記の接着
剤組成物の機能を十分に利用する観点からすると、通常
280nm〜380nmの波長におけるエネルギー線が
実質的に透過しない基材が好ましく、例えばポリカーボ
ネート製の基材にアルミ等の金属のスパッタ膜等からな
る記録層を設けた光ディスク用基板があげられる。二つ
の基材は同種のものでも、異なるものでもよい。
【0040】この二つの基材を接着するには、例えば次
のようにすればよい。即ち、二つの同種の又は異なる基
材のそれぞれの又はどちらか一方の面に上記の接着剤組
成物をスピンコーター、スクリーン印刷機等により厚さ
5〜100μmになるように塗布し、塗布面に硬化膜が
発生しないように紫外線等のエネルギー線を照射し、次
いで二つの基材上の紫外線等のエネルギー線照射面どう
し又は一方のエネルギー線照射面と上記の接着剤組成物
を塗布しないもう一方の基材の表面を接着し、例えば常
温(約20℃)又は加温(約20〜50℃)の状態で
0.5〜24時間程度放置すればよい。塗布面に硬化膜
が発生すると接着しなかったり接着性が悪くなる。
【0041】本発明の光ディスクは、上記の接着剤組成
物の硬化物層を介して光ディスク用基板と他の基板を接
着したものである。硬化物層の膜厚としては、例えば5
〜100μm程度が好ましい。光ディスク用基板として
は、例えばポリカーボネート製の基板にアルミ等の金属
のスパッタ膜等からなる記録層を設けたもので、通常2
80nm〜380nmの波長におけるエネルギー線が実
質的に透過しないものである。他の基板としては、例え
ば光ディスク用基板があげられる。本発明の光ディスク
としては、光磁気ディスク(MO)、DVD(デジタル
バーサイタル又はビデオディスク)等が挙げられる。こ
れらのうち、両面読み込み式MO又は両面読み込み式も
しくは片面二層読み込み式DVDは不透明基材どうしを
接着する必要があり、本発明の接着剤組成物の性能を十
分に利用する点で好ましい。
【0042】本発明の光ディスクを製造するには、例え
ば次のようにすればよい。即ち、アルミ等の金属のスパ
ッタ膜等からなる記録層を有する不透明な光ディスクの
記録層の上に、又は保護層(通常は紫外線硬化型樹脂組
成物を硬化させたもの)がある場合にはその上に、前記
接着剤組成物(この場合は光ディスク用接着材組成物と
も呼ばれる)をスピンコート、スクリーン印刷機等によ
り厚さ5〜100μmになるように塗布し、塗布面に硬
化膜が発生しないように紫外線等のエネルギー線を照射
し(紫外線等のエネルギー線のエネルギー調節する)、
次いでこの塗布面どうしを接着させることにより、例え
ば常温(約20℃)又は加温(約20〜50℃)の状態
で0.5〜24時間の間で接着剤組成物が硬化し、本発
明の光ディスクを得ることができる。接着剤組成物の硬
化速度が速い場合、放置時間が0.5時間以下でも接着
は可能である。尚、塗布面に硬化膜が発生する接着しな
かったり接着性が悪くなる。
【0043】本発明のICカードは、不透明な基材とI
Cチップ及び/又はポリイミド等のポリマーで被覆され
た銅線等から製造される発進コイルが本発明の接着剤組
成物の硬化膜層を介して接着しているものである。不透
明な基材としては、例えば白色顔料を含有したポリ塩化
ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト等のシート等があげられる。このICカードは上記と
同様にして不透明な基材とICチップを接着して製造さ
れる。尚、不透明な基材とICチップを接着したICカ
ードは接触型ICカードと呼ばれ、不透明な基材とIC
チップ及び発信コイルを接着したICカードは非接触型
ICカードと呼ばれる。
【0044】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。 実施例1〜3、比較例1、2 表1の配合組成にしたがって、本発明の接着剤組成物を
調製した(表1において、数値は重量部である)。調製
された接着剤組成物をアルミ蒸着膜を記録層として有す
る光ディスク基板の記録層の上にスクリーン印刷法によ
り、厚さ20μmになるように塗布し、この塗布面に紫
外線を200mJ/cm2 照射し、塗布面の状態を観察
し、ついでこの塗布面どうしを張り合わせ、約25℃で
約3時間放置し、試験片(光ディスク)を得た。その
後、張り合わせた基材を剥離し、その表面の状態を観察
した。観察の結果を硬化性として表1に示した。
【0045】評価方法 塗布面の状態:紫外線照射後の塗布面の状態を観察し
た。 ○・・・・塗布面は液状の状態であった。 △・・・・塗布面の一部に硬化物が発生した。 ×・・・・塗布面の全面に硬化物が発生した。 硬化性:張り合わせた基材を剥離し、その表面の状態を
観察した。 ○・・・・タックが認められない △・・・・少しタックが認められる ×・・・・全く硬化していない
【0046】ピール値(g/cm):張り合わせて得た
試験片を用いてピール試験を行ないピール値(g/c
m)を測定した。(数値が大きいほど接着性に優れてい
る。) 耐久性:張り合わせて得た試験片を用いて、90℃、9
5%RHの条件下に500時間、放置後、試験片を観察
した結果を耐久性として示した。 ○・・・・ピンホール、反り等の異常はみられない △・・・・ピンホール、反り等がややみられる ×・・・・ピンホール、反り等が全面にみられる
【0047】
【表1】 表1 実施例 比較例 1 2 3 1 2 (A)成分 ビスフェーノルAジグリシジル エーテル 70 EOCN−102S*1 11 30 11 40 ビス(3,4−エポキシシクロヘキ シル)アジペート 56 40 30 56 40 (B)成分 UVI−6990*2 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 (C)成分 トリスアセチルアセトナト アルミニウム 0.3 0.3 0.3 (D)成分 ポリテトラメチレングリコール (分子量650) 24 24 (E)成分 γ−ブチロラクトン 30 30 (F)成分 二酸化珪素(平均粒径5μ) 8 8 ──────────────────────────────────── 塗布面の状態 ○ ○ ○ × × 硬化性 ○ ○ ○ ○ ○ ピール値(g/cm) 65 50 35 3 2 耐久性 ○ ○ ○ × ×
【0048】注)*1 EOCN−102S:日本化薬
(株)製、o−クレゾール・ノボラック型エポキシ樹
脂。 *2 UVI−6990:ユニオンカーバイト(株)
製、光カチオン重合開始剤、4,4′−ビス〔ジフェニ
ルスルホニオ〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフル
オロホスフェート、プロピレンカーボネート50%希釈
品。
【0049】表1から明らかなように、エネルギー線硬
化型接着剤を用いて不透明な基材どうしを接着している
にもかかわらず、エネルギー線硬化型接着剤組成物にエ
ネルギー線を照射しても塗布面は液状の状態で、又、二
枚の基材を張り合わせた後の該接着剤組成物の硬化性は
良好で、硬化後のピール値も高く、耐久性も良好であっ
た。即ち、本発明の接着剤組成物及び接着方法(例えば
光ディスクの製造方法)を使用した接着体(例えば光デ
ィスク)は、接着性、耐久性に優れている。
【0050】
【発明の効果】本発明の接着剤組成物及び接着方法は、
エネルギー線硬化型接着剤組成物であるにもかかわら
ず、光ディスク(特にDVD、MO)やICカード用等
の不透明な基材どうしを接着することができ、かつその
接着体の接着性、耐久性が優れるという特徴を有する。
特に、接着剤組成物の塗布面に硬化膜が発生すると該塗
布面を密着させるのが難しくなるが、本発明ではカチオ
ン重合遅延剤(C)成分を含有させることにより、本発
明の接着剤組成物の塗布面に硬化膜が発生しないように
エネルギー線の照射量を調節することがより容易とな
り、好ましい。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】カチオン重合性物質(A)とエネルギー線
    カチオン重合開始剤(B)とカチオン重合遅延剤(C)
    を含有する接着剤組成物。
  2. 【請求項2】カチオン重合性物質(A)がグリシジル化
    合物(A1)と脂環式エーテル化合物(A2)の混合物
    である請求項1記載の接着剤組成物。
  3. 【請求項3】カチオン重合遅延剤(C)が有機アルミニ
    ウム化合物、有機・チタン化合物、有機亜鉛化合物、有
    機リン化合物及び有機アンチモン化合物が選ばれる少な
    くとも1種の化合物である請求項1又は2記載の接着剤
    組成物。
  4. 【請求項4】請求項1ないし3のいずれか一項に記載の
    接着剤組成物の硬化物層を有する接着体。
  5. 【請求項5】接着体が光ディスクである請求項4の接着
    体。
  6. 【請求項6】光ディスクがDVDである請求項5の接着
    体。
  7. 【請求項7】接着体がICカードである請求項4の接着
    体。
  8. 【請求項8】二つの基材のそれぞれの、又はどちらか一
    方の面に請求項1ないし3のいずれか一項に記載の接着
    剤組成物を塗布後、硬化膜が発生しない量のエネルギー
    線を該塗布面に照射し、次いでこの塗布面どうし、又は
    この塗布面と接着剤組成物を塗布していないもう一方の
    基材の表面を密着させることを特徴とする接着方法。
  9. 【請求項9】光ディスク基板の記録層の上に、又は該記
    録層の上に保護層がある場合には保護層の上に、請求項
    1ないし3のいずれか一項に記載の接着剤組成物を塗布
    後、硬化膜が発生しない量のエネルギー線を該塗布面に
    照射し、次いでこの塗布面どうしを密着させることを特
    徴とする光ディスクの製造方法。
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