JP2001131518A - 貼り合わせ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組成物及びこれを用いた光ディスク - Google Patents
貼り合わせ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組成物及びこれを用いた光ディスクInfo
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- JP2001131518A JP2001131518A JP31664699A JP31664699A JP2001131518A JP 2001131518 A JP2001131518 A JP 2001131518A JP 31664699 A JP31664699 A JP 31664699A JP 31664699 A JP31664699 A JP 31664699A JP 2001131518 A JP2001131518 A JP 2001131518A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】２枚の基板、特に光を透過しないＤＶＤ等のデ
ィスク基板を貼り合わせる際に使用する接着剤として、
接着層の内部及び全面にわたり、均一且つ速やかな硬化
膜が得られるカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤組成
物を提供する。 【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）光カチオン重
合開始剤、及び（Ｃ）開始材（Ｂ）の極大吸収波長より
大きい波長領域に吸収極大を有する光ラジカル発生剤を
含有する貼り合わせ形式紫外線硬化型接着剤組成物。
ィスク基板を貼り合わせる際に使用する接着剤として、
接着層の内部及び全面にわたり、均一且つ速やかな硬化
膜が得られるカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤組成
物を提供する。 【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）光カチオン重
合開始剤、及び（Ｃ）開始材（Ｂ）の極大吸収波長より
大きい波長領域に吸収極大を有する光ラジカル発生剤を
含有する貼り合わせ形式紫外線硬化型接着剤組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線硬化型接着
剤組成物及びこれを用いた貼り合わせ型光ディスクに関
し、特にデジタルバーサタイルディスク又はデジタルビ
デオディスク（ＤＶＤ）の製造に適した良好な接着特性
を有する接着剤組成物とその応用に関する。
剤組成物及びこれを用いた貼り合わせ型光ディスクに関
し、特にデジタルバーサタイルディスク又はデジタルビ
デオディスク（ＤＶＤ）の製造に適した良好な接着特性
を有する接着剤組成物とその応用に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、高密度大容量の情報記録媒体であ
るデジタルバーサタイルディスク又はデジタルビデオデ
ィスク（ＤＶＤ）が注目を浴びている。ＤＶＤには、再
生専用のＤＶＤ−ＲＯＭ、書き換え可能なＤＶＤ−ＲＡ
Ｍなどがある。ＤＶＤは、何れも高密度大容量を実現す
るために少なくとも１枚の基板に記録層を有する２枚の
基板を貼り合わせる構造を有している。
るデジタルバーサタイルディスク又はデジタルビデオデ
ィスク（ＤＶＤ）が注目を浴びている。ＤＶＤには、再
生専用のＤＶＤ−ＲＯＭ、書き換え可能なＤＶＤ−ＲＡ
Ｍなどがある。ＤＶＤは、何れも高密度大容量を実現す
るために少なくとも１枚の基板に記録層を有する２枚の
基板を貼り合わせる構造を有している。
【０００３】ＤＶＤ−ＲＯＭの場合、貼り合わせる２枚
の基板として、共にポリカーボネート基板の片面に記録
情報に対応するピットを設け、更に反射膜として、例え
ばアルミニウム薄膜を形成し記録層としたディスク（Ｄ
ＶＤ−１０）、このうち１枚にはアルミニウム薄膜に代
えて金や窒化珪素等の半透明膜を形成し記録層としたデ
ィスク（ＤＶＤ−９）、あるいは１枚には記録層を持た
ない透明なポリカーボネート基板を使用した（ＤＶＤ−
５）等がある。
の基板として、共にポリカーボネート基板の片面に記録
情報に対応するピットを設け、更に反射膜として、例え
ばアルミニウム薄膜を形成し記録層としたディスク（Ｄ
ＶＤ−１０）、このうち１枚にはアルミニウム薄膜に代
えて金や窒化珪素等の半透明膜を形成し記録層としたデ
ィスク（ＤＶＤ−９）、あるいは１枚には記録層を持た
ない透明なポリカーボネート基板を使用した（ＤＶＤ−
５）等がある。
【０００４】一方、ＤＶＤ−ＲＡＭの場合、貼り合わせ
る２枚の基板として、共にポリカーボネート基板の片面
にＧｅＳｂＴｅ合金等の相変化膜及びこの両側に誘電体
膜を積層した記録層を設け、更に反射膜として、アルミ
ニウム薄膜を形成したディスク（両面記録型）、１枚に
は記録層を持たない透明なポリカーボネート基板を使用
した（片面記録型）等がある。
る２枚の基板として、共にポリカーボネート基板の片面
にＧｅＳｂＴｅ合金等の相変化膜及びこの両側に誘電体
膜を積層した記録層を設け、更に反射膜として、アルミ
ニウム薄膜を形成したディスク（両面記録型）、１枚に
は記録層を持たない透明なポリカーボネート基板を使用
した（片面記録型）等がある。
【０００５】２枚の基板を貼り合わせる材料としてホッ
トメルト型接着剤、ラジカル重合系の紫外線硬化型接着
剤、又はカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤などが提
案されている。
トメルト型接着剤、ラジカル重合系の紫外線硬化型接着
剤、又はカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤などが提
案されている。
【０００６】ホットメルト型接着剤は、主に熱可塑性樹
脂を使用するため、耐熱性に劣り、熱によりディスクの
変形や剥がれが生じやすい問題がある。
脂を使用するため、耐熱性に劣り、熱によりディスクの
変形や剥がれが生じやすい問題がある。
【０００７】ラジカル重合系の紫外線硬化型接着剤は、
ＤＶＤ−１０では、基板及び反射膜を介して、両面記録
型ＤＶＤ−ＲＡＭでは、基板、相変化膜、誘電体膜及び
反射膜を介して紫外線を照射するため、接着剤に十分な
紫外線が到達せず、硬化に大きな照射エネルギーを要す
る、又は、充分に硬化しない等の問題がある。
ＤＶＤ−１０では、基板及び反射膜を介して、両面記録
型ＤＶＤ−ＲＡＭでは、基板、相変化膜、誘電体膜及び
反射膜を介して紫外線を照射するため、接着剤に十分な
紫外線が到達せず、硬化に大きな照射エネルギーを要す
る、又は、充分に硬化しない等の問題がある。
【０００８】一方、カチオン重合系の紫外線硬化型接着
剤は、一度紫外線を照射すると、暗所でも硬化が進行す
るので、ラジカル重合系の紫外線硬化型接着剤では不可
能であった紫外線不透過性の被接着物の接着が可能にな
る。
剤は、一度紫外線を照射すると、暗所でも硬化が進行す
るので、ラジカル重合系の紫外線硬化型接着剤では不可
能であった紫外線不透過性の被接着物の接着が可能にな
る。
【０００９】この特徴を利用して、特開平７−１２６５
７７号公報、特開平９−６９２３９号公報等には、基板
にカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤を塗布し、紫外
線を照射した後、もう一方の基板を貼り合わせる光ディ
スクの製造方法（１）が提案されている。これに使用す
るカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤が、特願平１０
−１２４６５１号公報、特開平９−２４９７３４号公報
等に開示されている。
７７号公報、特開平９−６９２３９号公報等には、基板
にカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤を塗布し、紫外
線を照射した後、もう一方の基板を貼り合わせる光ディ
スクの製造方法（１）が提案されている。これに使用す
るカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤が、特願平１０
−１２４６５１号公報、特開平９−２４９７３４号公報
等に開示されている。
【００１０】また、本発明者らは、特開平１１−１８９
７４８号公報に、先に紫外線を照射した該接着剤を少な
くとも一方の基板にリング状に滴下した後、２枚の基板
を貼り合わせる光ディスクの製造方法（２）を提案して
いる。特願平１０−１２４６５１号公報に開示されてい
るカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤は、この製造方
法にも使用できる。
７４８号公報に、先に紫外線を照射した該接着剤を少な
くとも一方の基板にリング状に滴下した後、２枚の基板
を貼り合わせる光ディスクの製造方法（２）を提案して
いる。特願平１０−１２４６５１号公報に開示されてい
るカチオン重合系の紫外線硬化型接着剤は、この製造方
法にも使用できる。
【００１１】しかしながら、これら従来の接着剤を使用
した場合、製造方法（１）においては、塗膜表面層は、
直ちに硬化するが、内部の硬化が不十分であったり、非
常に遅いといった問題がある。また、製造方法（２）に
おいては、ディスク全体に展延した接着層の硬化が遅
く、不均一になる問題があった。従来の光カチオン重合
開始剤は、３００ｎｍ未満の紫外線しか実質的に吸収せ
ず、この範囲でしか硬化に関与する開始種（ブレンステ
ッド酸）を発生しないのが、これらの大きな要因である
と考えられる。
した場合、製造方法（１）においては、塗膜表面層は、
直ちに硬化するが、内部の硬化が不十分であったり、非
常に遅いといった問題がある。また、製造方法（２）に
おいては、ディスク全体に展延した接着層の硬化が遅
く、不均一になる問題があった。従来の光カチオン重合
開始剤は、３００ｎｍ未満の紫外線しか実質的に吸収せ
ず、この範囲でしか硬化に関与する開始種（ブレンステ
ッド酸）を発生しないのが、これらの大きな要因である
と考えられる。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、２００〜４００ｎｍに亘る波長領域を
含む紫外線の内、光カチオン重合開始剤が有効に機能し
ない３００ｎｍ以上の波長領域を硬化のために有効に使
えないものかを検討した。
を解決するため、２００〜４００ｎｍに亘る波長領域を
含む紫外線の内、光カチオン重合開始剤が有効に機能し
ない３００ｎｍ以上の波長領域を硬化のために有効に使
えないものかを検討した。
【００１３】ところで、光カチオン重合開始剤は、１）
それ自体が３００ｎｍ未満の紫外線により分解し、開始
種を発生するという機構、２）ラジカルと光カチオン重
合開始剤との酸化還元反応により、開始種を発生すると
いう機構、の２つの開始機構を持つとされている。
それ自体が３００ｎｍ未満の紫外線により分解し、開始
種を発生するという機構、２）ラジカルと光カチオン重
合開始剤との酸化還元反応により、開始種を発生すると
いう機構、の２つの開始機構を持つとされている。
【００１４】そこで、３００ｎｍ以上の紫外線により分
解してラジカルを発生する物質（即ち、３００ｎｍ以上
の波長領域に吸収極大を有する光ラジカル発生剤）を併
用したところ、目的通り、接着層の内部及び全面にわた
って、均一且つ速やかに硬化することを見出し、本発明
を完成させるに至った。
解してラジカルを発生する物質（即ち、３００ｎｍ以上
の波長領域に吸収極大を有する光ラジカル発生剤）を併
用したところ、目的通り、接着層の内部及び全面にわた
って、均一且つ速やかに硬化することを見出し、本発明
を完成させるに至った。
【００１５】即ち、本発明は、（Ａ）エポキシ樹脂、
（Ｂ）光カチオン重合開始剤、及び（Ｃ）開始剤（Ｂ）
の極大吸収波長より大きい波長領域に吸収極大を有する
光ラジカル発生剤を含有することを特徴とする、貼り合
わせ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組成物、及び
これを用いた光ディスクを提供する。
（Ｂ）光カチオン重合開始剤、及び（Ｃ）開始剤（Ｂ）
の極大吸収波長より大きい波長領域に吸収極大を有する
光ラジカル発生剤を含有することを特徴とする、貼り合
わせ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組成物、及び
これを用いた光ディスクを提供する。
【００１６】光カチオン重合開始剤の吸収極大の存在す
る波長領域と、光ラジカル発生剤のそれとを、敢えて異
なった波長領域としたのは、両者吸収波長のオーバラッ
プによるマスキングによる改悪効果（硬化阻害）を排除
するためである。
る波長領域と、光ラジカル発生剤のそれとを、敢えて異
なった波長領域としたのは、両者吸収波長のオーバラッ
プによるマスキングによる改悪効果（硬化阻害）を排除
するためである。
【００１７】光ディスクには、金属皮膜を含む記録層が
必須となるが、どのような酸であれ多少とも金属腐食性
があり、一方、光カチオン重合開始剤は上記のような開
始機構であるため、ブレンステッド酸の発生は不可避だ
が、出来れば、金属腐食性の小さいブレンステッド酸を
発生するものが好ましい。その様なブレンステッド酸
は、カチオン部分の構造よりアニオン部分の構造に依存
し、より腐食しにくい適当な構造がある。具体的には、
アニオン部分が、［ＰＸ6］-または［ＢＸ4］-（ただ
し、Ｘは少なくとも２つ以上のフッ素又はトリフルオロ
メチル基で置換されたフェニル基）で構成されるオニウ
ム塩であることが、反射膜や記録膜の防食効果の面から
望ましい。
必須となるが、どのような酸であれ多少とも金属腐食性
があり、一方、光カチオン重合開始剤は上記のような開
始機構であるため、ブレンステッド酸の発生は不可避だ
が、出来れば、金属腐食性の小さいブレンステッド酸を
発生するものが好ましい。その様なブレンステッド酸
は、カチオン部分の構造よりアニオン部分の構造に依存
し、より腐食しにくい適当な構造がある。具体的には、
アニオン部分が、［ＰＸ6］-または［ＢＸ4］-（ただ
し、Ｘは少なくとも２つ以上のフッ素又はトリフルオロ
メチル基で置換されたフェニル基）で構成されるオニウ
ム塩であることが、反射膜や記録膜の防食効果の面から
望ましい。
【００１８】さらに光ラジカル発生剤としては、ヒドロ
キシ基を有するものがプロトンを放出しやすく、上記
２）の開始機構がより効率的に行えるので硬化速度の面
から望ましく、中でもヒドロキシアセトフェノン化合
物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物から
なる群から選ばれる１種類以上の化合物であることが特
に望ましい。
キシ基を有するものがプロトンを放出しやすく、上記
２）の開始機構がより効率的に行えるので硬化速度の面
から望ましく、中でもヒドロキシアセトフェノン化合
物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物から
なる群から選ばれる１種類以上の化合物であることが特
に望ましい。
【００１９】また、エポキシ樹脂であればカチオン重合
するが、硬化速度の差異はエポキシ樹脂の中心的骨格に
基づくものではなく、末端官能基の形状に専ら基づき、
グリシジルエステル型よりはグリシジルエーテル型の方
が、DVD-RAM等の貼り合わせ形式光ディスクには、適当
な硬化速度であるので好適である。
するが、硬化速度の差異はエポキシ樹脂の中心的骨格に
基づくものではなく、末端官能基の形状に専ら基づき、
グリシジルエステル型よりはグリシジルエーテル型の方
が、DVD-RAM等の貼り合わせ形式光ディスクには、適当
な硬化速度であるので好適である。
【００２０】更に本発明においては、（Ｂ）光カチオン
重合開始剤／（Ｃ）光ラジカル発生剤の重量比は、０．
５〜１０であることが、総合的な特性のバランスの面で
望ましい。
重合開始剤／（Ｃ）光ラジカル発生剤の重量比は、０．
５〜１０であることが、総合的な特性のバランスの面で
望ましい。
【００２１】本発明の紫外線硬化型接着剤組成物は、Ｄ
ＶＤと同様に、紫外線を透過しない基板を貼り合わせる
ことによって製造されるＩＣカード等の接着剤としても
有用である。
ＶＤと同様に、紫外線を透過しない基板を貼り合わせる
ことによって製造されるＩＣカード等の接着剤としても
有用である。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下に本発明を具体的に説明す
る。
る。
【００２３】本発明に用いられる（Ａ）エポキシ樹脂と
して好適なものとしては、多価フェノール系化合物又は
多価アルコールとエピクロルヒドリンとの反応によって
製造されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂が挙げら
れる。具体的には、ビスフェノールＡ或いはそのアルキ
レンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ビスフ
ェノールＦ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ
グリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ或いは
そのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテ
ル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピ
レングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグ
リコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリ
シジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテ
ル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテ
ル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンジ及び／又はトリグリシジルエ
ーテル、ペンタエリスリトールトリ及び／又はテトラグ
リシジルエーテル、ソルビトールヘプタ及び／又はヘキ
サグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテ
ル等を挙げることができる。
して好適なものとしては、多価フェノール系化合物又は
多価アルコールとエピクロルヒドリンとの反応によって
製造されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂が挙げら
れる。具体的には、ビスフェノールＡ或いはそのアルキ
レンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ビスフ
ェノールＦ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ
グリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ或いは
そのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテ
ル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピ
レングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグ
リコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリ
シジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテ
ル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテ
ル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンジ及び／又はトリグリシジルエ
ーテル、ペンタエリスリトールトリ及び／又はテトラグ
リシジルエーテル、ソルビトールヘプタ及び／又はヘキ
サグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテ
ル等を挙げることができる。
【００２４】これらエポキシ樹脂は原料であるエピクロ
ルヒドリンに起因して塩素が結合した有機分子を不純物
として含有するが、塩素は高温高湿試験においてアルミ
ニウム反射膜の腐食の原因となるために、組成物中の塩
素含有量は１％以下であることが好ましい。
ルヒドリンに起因して塩素が結合した有機分子を不純物
として含有するが、塩素は高温高湿試験においてアルミ
ニウム反射膜の腐食の原因となるために、組成物中の塩
素含有量は１％以下であることが好ましい。
【００２５】本発明における重合成分として好適な例
は、１種類以上のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、
又は、１種類以上のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂
及びグリシジルエーテル型エポキシ樹脂以外の環状エー
テル化合物から構成される組成物である。上記成分以外
の重合成分として、（メタ）アクリレート等のラジカル
重合性化合物を併用した場合、紫外線照射後に直ちに塗
膜表面が硬化し、基板を接着する機能を果たさないの
で、ラジカル重合性化合物を含有しないことが必要であ
る。
は、１種類以上のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、
又は、１種類以上のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂
及びグリシジルエーテル型エポキシ樹脂以外の環状エー
テル化合物から構成される組成物である。上記成分以外
の重合成分として、（メタ）アクリレート等のラジカル
重合性化合物を併用した場合、紫外線照射後に直ちに塗
膜表面が硬化し、基板を接着する機能を果たさないの
で、ラジカル重合性化合物を含有しないことが必要であ
る。
【００２６】グリシジルエーテル型エポキシ樹脂の市販
品としては、例えば、エピクロン８４０、８４０Ｓ、８
５０、８５０Ｓ、８６０、１０５０、８３０、７０５、
７０７、７２０、７２５、Ｎ−６６５、ＥＸＡ−７０１
５（全塩素０．１４％）（以上、大日本インキ化学工業
社製）、ＥＸ−２０１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、
ＥＸ−２１６、ＥＸ−２５２、ＥＸ−３２１、ＥＸ−６
２２、ＥＸ−６１１、ＥＸ−２１６Ｌ（全塩素０．１９
％）（以上、ナガセ化成社製）、ＳＲ−１６Ｈ、ＳＲ−
ＮＰＧ、ＮＰＧ−ＤＧＥ低塩素品（全塩素０．９１
％）、ＳＲ−１６ＨＬ（ＥＸ）（全塩素０．２４％）、
ＳＲ−１６ＫＦ（全塩素０．２０％）（以上、阪本薬品
社製）等が入手できる。
品としては、例えば、エピクロン８４０、８４０Ｓ、８
５０、８５０Ｓ、８６０、１０５０、８３０、７０５、
７０７、７２０、７２５、Ｎ−６６５、ＥＸＡ−７０１
５（全塩素０．１４％）（以上、大日本インキ化学工業
社製）、ＥＸ−２０１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、
ＥＸ−２１６、ＥＸ−２５２、ＥＸ−３２１、ＥＸ−６
２２、ＥＸ−６１１、ＥＸ−２１６Ｌ（全塩素０．１９
％）（以上、ナガセ化成社製）、ＳＲ−１６Ｈ、ＳＲ−
ＮＰＧ、ＮＰＧ−ＤＧＥ低塩素品（全塩素０．９１
％）、ＳＲ−１６ＨＬ（ＥＸ）（全塩素０．２４％）、
ＳＲ−１６ＫＦ（全塩素０．２０％）（以上、阪本薬品
社製）等が入手できる。
【００２７】また、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂
以外の環状エーテル化合物としては、１，４−ビス
［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］
ベンゼン、１，４−ビス［（３−メチル−３−オキセタ
ニルメトキシ）メチル］ベンゼン、３−メチル−３−グ
リシジルオキセタン、３−エチル−３−グリシジルオキ
セタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタ
ン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン等の
オキセタン環を有する化合物；３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキシルカル
ボキシレート、リモネンジエポキシド等の脂環エポキシ
化合物；末端水酸基を有する脂環式多官能エポキシ樹脂
（ダイセル社製ＥＨＰＥ３１５０等）；エポキシ化ポリ
ブタジエン、エポキシ化ポリイソプレン等を挙げること
が出来る。
以外の環状エーテル化合物としては、１，４−ビス
［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］
ベンゼン、１，４−ビス［（３−メチル−３−オキセタ
ニルメトキシ）メチル］ベンゼン、３−メチル−３−グ
リシジルオキセタン、３−エチル−３−グリシジルオキ
セタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタ
ン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン等の
オキセタン環を有する化合物；３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキシルカル
ボキシレート、リモネンジエポキシド等の脂環エポキシ
化合物；末端水酸基を有する脂環式多官能エポキシ樹脂
（ダイセル社製ＥＨＰＥ３１５０等）；エポキシ化ポリ
ブタジエン、エポキシ化ポリイソプレン等を挙げること
が出来る。
【００２８】本発明に使用する（Ｂ）光カチオン重合開
始剤は、紫外線の照射によってエポキシ基のカチオン重
合を開始する化合物、例えば、「CHEMISTRY ＆ TECHNOL
OGYOF UV ＆ EB FORMULATION FOR COATINGS, INKS ＆ P
AINTS, Vol.3 Photoinitiators for Free Radical and
Cationic Polymerisation」に記載の化合物であれば何
れも使用できる。例えば、カチオン部分が、芳香族スル
ホニウム、芳香族ヨードニウム、芳香族ジアゾニウム、
芳香族アンモニウム、（２，４−シクロペンタジエン−
１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅカ
チオンであり、アニオン部分が、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、Ｓｂ
Ｆ6 -、［ＢＸ4］-（ただし、Ｘは少なくとも２つ以上の
フッ素又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル
基）で構成されるオニウム塩が挙げられる。
始剤は、紫外線の照射によってエポキシ基のカチオン重
合を開始する化合物、例えば、「CHEMISTRY ＆ TECHNOL
OGYOF UV ＆ EB FORMULATION FOR COATINGS, INKS ＆ P
AINTS, Vol.3 Photoinitiators for Free Radical and
Cationic Polymerisation」に記載の化合物であれば何
れも使用できる。例えば、カチオン部分が、芳香族スル
ホニウム、芳香族ヨードニウム、芳香族ジアゾニウム、
芳香族アンモニウム、（２，４−シクロペンタジエン−
１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅカ
チオンであり、アニオン部分が、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、Ｓｂ
Ｆ6 -、［ＢＸ4］-（ただし、Ｘは少なくとも２つ以上の
フッ素又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル
基）で構成されるオニウム塩が挙げられる。
【００２９】芳香族スルホニウム塩には、ビス［４−
（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘ
キサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジフェニルス
ルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロア
ンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フ
ェニル］スルフィドビステトラフルオロボレート、ビス
［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフ
ェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム
ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−（フェ
ニルチオ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニル
スルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニル−４
−（フェニルチオ）フェニルスルホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェ
ニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニ
ルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエト
キシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビ
スヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジ（４−
（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フ
ェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネー
ト、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキ
シ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビス
テトラフルオロボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−
ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニ
ル］スルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート等；芳香族ヨードニウム塩には、ジフェニルヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨ
ードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニ
ルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨ
ードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサ
フルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨー
ドニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシ
ルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビ
ス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−
４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキ
サフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−
（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムヘキサフル
オロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−
メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラフルオロボ
レート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチ
ル）フェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート等；芳香族ジアゾニウム塩には、フ
ェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、フェ
ニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェ
ニルジアゾニウム テトラフルオロボレート、フェニル
ジアゾニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート等；芳香族アンモニウム塩には、１−ベンジル−
２−シアノピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、
１−ベンジル−２−シアノピリジニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、１−ベンジル−２−シアノピリジニウ
ムテトラフルオロボレート、１−ベンジル−２−シアノ
ピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、１−（ナフチルメチ
ル）−２−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニ
ウムテトラフルオロボレート、１−（ナフチルメチル）
−２−シアノピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート等；（２，４−シクロペンタジエン
−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ
塩には、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）
［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（II）ヘキサ
フルオロホスフェート、（２，４−シクロペンタジエン
−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ
（II）ヘキサフルオロアンチモネート、２，４−シクロ
ペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベン
ゼン］−Ｆｅ（II）テトラフルオロボレート、２，４−
シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチ
ル）ベンゼン］−Ｆｅ（II）テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート等、が挙げられる。
（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘ
キサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジフェニルス
ルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロア
ンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フ
ェニル］スルフィドビステトラフルオロボレート、ビス
［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフ
ェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム
ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−（フェ
ニルチオ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニル
スルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニル−４
−（フェニルチオ）フェニルスルホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェ
ニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニ
ルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエト
キシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビ
スヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジ（４−
（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フ
ェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネー
ト、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキ
シ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビス
テトラフルオロボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−
ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニ
ル］スルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート等；芳香族ヨードニウム塩には、ジフェニルヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨ
ードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニ
ルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨ
ードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサ
フルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨー
ドニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシ
ルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビ
ス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−
４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキ
サフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−
（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムヘキサフル
オロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−
メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラフルオロボ
レート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチ
ル）フェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート等；芳香族ジアゾニウム塩には、フ
ェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、フェ
ニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェ
ニルジアゾニウム テトラフルオロボレート、フェニル
ジアゾニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート等；芳香族アンモニウム塩には、１−ベンジル−
２−シアノピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、
１−ベンジル−２−シアノピリジニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、１−ベンジル−２−シアノピリジニウ
ムテトラフルオロボレート、１−ベンジル−２−シアノ
ピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、１−（ナフチルメチ
ル）−２−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニ
ウムテトラフルオロボレート、１−（ナフチルメチル）
−２−シアノピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート等；（２，４−シクロペンタジエン
−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ
塩には、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）
［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（II）ヘキサ
フルオロホスフェート、（２，４−シクロペンタジエン
−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ
（II）ヘキサフルオロアンチモネート、２，４−シクロ
ペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベン
ゼン］−Ｆｅ（II）テトラフルオロボレート、２，４−
シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチ
ル）ベンゼン］−Ｆｅ（II）テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート等、が挙げられる。
【００３０】これら光カチオン重合開始剤の市販品とし
て、例えば、ＵＶＩ６９９０、ＵＶＩ６９７４（以上、
ユニオンカーバイド社製）、ＳＰ−１５０、ＳＰ−１７
０（以上、旭電化社製）、ＦＣ−５０８、ＦＣ−５１２
（以上、３Ｍ社製）、イルガキュア２６１（チバ・ガイ
ギー社製）、ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ ＰＩ２０７４、ＪＭ
Ｆ−２４５６（以上、ローディア社製）等が入手でき
る。
て、例えば、ＵＶＩ６９９０、ＵＶＩ６９７４（以上、
ユニオンカーバイド社製）、ＳＰ−１５０、ＳＰ−１７
０（以上、旭電化社製）、ＦＣ−５０８、ＦＣ−５１２
（以上、３Ｍ社製）、イルガキュア２６１（チバ・ガイ
ギー社製）、ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ ＰＩ２０７４、ＪＭ
Ｆ−２４５６（以上、ローディア社製）等が入手でき
る。
【００３１】更に、これら光カチオン重合開始剤のう
ち、アニオン部分が、［ＢＸ4］-（ただし、Ｘは少なく
とも２つ以上のフッ素又はトリフルオロメチル基で置換
されたフェニル基）で構成されるオニウム塩、具体的に
は、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］ス
ルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホ
ニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−
ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニ
ル］スルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニ
ル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチル
エチル）フェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、１−ベンジル−２−シアノ
ピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニ
ウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−
メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（II）テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート等が、特に反射膜や記
録膜の防食効果が高いので好ましい。
ち、アニオン部分が、［ＢＸ4］-（ただし、Ｘは少なく
とも２つ以上のフッ素又はトリフルオロメチル基で置換
されたフェニル基）で構成されるオニウム塩、具体的に
は、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］ス
ルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホ
ニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−
ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニ
ル］スルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニ
ル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチル
エチル）フェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、１−ベンジル−２−シアノ
ピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニ
ウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−
メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（II）テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート等が、特に反射膜や記
録膜の防食効果が高いので好ましい。
【００３２】この条件を満足する市販品の光カチオン重
合開始剤としては、例えば、上に列挙した中では、ＲＨ
ＯＤＯＲＳＩＬ ＰＩ２０７４、ＪＭＦ−２４５６等が
挙げられる。
合開始剤としては、例えば、上に列挙した中では、ＲＨ
ＯＤＯＲＳＩＬ ＰＩ２０７４、ＪＭＦ−２４５６等が
挙げられる。
【００３３】上記光カチオン重合開始剤は、単独若しく
は２種類以上を組み合わせて使用してもよい。その使用
量は、特に制限がないが、経済性等の面から紫外線硬化
型接着剤組成物１００重量部あたり０．３〜１０部であ
り、更に好ましくは０．３〜４重量部である。０．３重
量部より少ないと十分な硬化が得られず、４重量部より
多いと硬化塗膜中に未硬化成分として残存する量が多く
なり長期信頼性が低下する。
は２種類以上を組み合わせて使用してもよい。その使用
量は、特に制限がないが、経済性等の面から紫外線硬化
型接着剤組成物１００重量部あたり０．３〜１０部であ
り、更に好ましくは０．３〜４重量部である。０．３重
量部より少ないと十分な硬化が得られず、４重量部より
多いと硬化塗膜中に未硬化成分として残存する量が多く
なり長期信頼性が低下する。
【００３４】本発明に使用する（Ｃ）波長３００ｎｍ以
上に吸収極大を有する光ラジカル発生剤は、例えば、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
等のヒドロキシアセトフェノン化合物、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾ
イン化合物、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェ
ノン、イソフタロフェノン、４−ベンゾイル−４’−メ
チルフェニルスルフィド等のベンゾフェノン化合物、
２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチ
オキサントン、２−クロロチオキサントン等のチオキオ
サントン化合物、２，４，６−トリメチルベンゾイルジ
フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキ
シベンゾイル）−２，４，４トリメチルペンチルホスフ
ィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド化合物、ベ
ンジルジメチルケタール、ベンジル等が挙げられる。
上に吸収極大を有する光ラジカル発生剤は、例えば、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
等のヒドロキシアセトフェノン化合物、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾ
イン化合物、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェ
ノン、イソフタロフェノン、４−ベンゾイル−４’−メ
チルフェニルスルフィド等のベンゾフェノン化合物、
２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチ
オキサントン、２−クロロチオキサントン等のチオキオ
サントン化合物、２，４，６−トリメチルベンゾイルジ
フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキ
シベンゾイル）−２，４，４トリメチルペンチルホスフ
ィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド化合物、ベ
ンジルジメチルケタール、ベンジル等が挙げられる。
【００３５】これら光ラジカル発生剤の市販品として
は、例えば、イルガキュア１８４、イルガキュア６５
１、イルガキュア８１９、ダロキュア１１７３（以上、
チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ルシリンＴ
ＰＯ（ＢＡＳＦ社製）、バイキュア５５（アクゾ・ノー
ベル社製）、カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ、カヤキュアＢＰ
−１００（日本化薬社製）、スピードキュアＢＭＤＳ
（ランブソン社製）等が挙げられる。
は、例えば、イルガキュア１８４、イルガキュア６５
１、イルガキュア８１９、ダロキュア１１７３（以上、
チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ルシリンＴ
ＰＯ（ＢＡＳＦ社製）、バイキュア５５（アクゾ・ノー
ベル社製）、カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ、カヤキュアＢＰ
−１００（日本化薬社製）、スピードキュアＢＭＤＳ
（ランブソン社製）等が挙げられる。
【００３６】これらのうち特に、ヒドロキシアセトフェ
ノン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキオサントン
化合物を使用すると、接着層の内部及び全面にわたっ
て、速やかに硬化できるので好ましい。
ノン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキオサントン
化合物を使用すると、接着層の内部及び全面にわたっ
て、速やかに硬化できるので好ましい。
【００３７】上に挙げた光ラジカル発生剤の市販品の中
では、ヒドロキシアセトフェノン化合物としてはイルガ
キュア１８４、ダロキュア１１７３、ベンゾフェノン化
合物としては、カヤキュアＢＰ−１００、スピードキュ
アＢＭＤＳ、チオキオサントン化合物としてはカヤキュ
アＤＥＴＸ−Ｓがそれぞれ該当する。
では、ヒドロキシアセトフェノン化合物としてはイルガ
キュア１８４、ダロキュア１１７３、ベンゾフェノン化
合物としては、カヤキュアＢＰ−１００、スピードキュ
アＢＭＤＳ、チオキオサントン化合物としてはカヤキュ
アＤＥＴＸ−Ｓがそれぞれ該当する。
【００３８】（Ｃ）光ラジカル発生剤の使用量は、
（Ｂ）光カチオン重合開始剤／（Ｃ）光ラジカル発生剤
の重量比が、０．５〜１０になるようにすることが好ま
しい。前記重量比が、１０より大きいと、硬化速度の向
上に十分な効果が得られず、０．５より小さいと、未硬
化成分として残存する光ラジカル発生剤が多くなり長期
信頼性が低下する。
（Ｂ）光カチオン重合開始剤／（Ｃ）光ラジカル発生剤
の重量比が、０．５〜１０になるようにすることが好ま
しい。前記重量比が、１０より大きいと、硬化速度の向
上に十分な効果が得られず、０．５より小さいと、未硬
化成分として残存する光ラジカル発生剤が多くなり長期
信頼性が低下する。
【００３９】また、本発明の紫外線硬化型接着剤組成物
には必要であれば、本発明の効果を損なわない範囲内
で、フェノチアジン等の増感剤、ポリオール、無機充填
剤、無機イオン交換体、レベリング剤、酸化防止剤、粘
度調整剤、シランカップリング剤等を併用することがで
きる。
には必要であれば、本発明の効果を損なわない範囲内
で、フェノチアジン等の増感剤、ポリオール、無機充填
剤、無機イオン交換体、レベリング剤、酸化防止剤、粘
度調整剤、シランカップリング剤等を併用することがで
きる。
【００４０】次に本発明の紫外線硬化型接着剤組成物を
使用した接着剤層の形成方法について説明する。
使用した接着剤層の形成方法について説明する。
【００４１】本発明の組成物は、基板上に均一な厚みの
塗膜をスピンコート法やスクリーン印刷法等を用いて形
成した後、紫外線を照射し、もう１枚の基板を貼り合わ
せて、目的の光ディスクを得ることができる。また、接
着剤層に気泡が残ることを防止する目的で、以下のよう
な方法で目的の光ディスクを得ることができる。
塗膜をスピンコート法やスクリーン印刷法等を用いて形
成した後、紫外線を照射し、もう１枚の基板を貼り合わ
せて、目的の光ディスクを得ることができる。また、接
着剤層に気泡が残ることを防止する目的で、以下のよう
な方法で目的の光ディスクを得ることができる。
【００４２】（１）組成物を滴下しながら紫外線を照射
し、基板上にリング状に塗布した後、もう１枚の基板を
重ね合わせ、スピンコーター等高速回転することにより
組成物を展延して、貼り合わせる方法。
し、基板上にリング状に塗布した後、もう１枚の基板を
重ね合わせ、スピンコーター等高速回転することにより
組成物を展延して、貼り合わせる方法。
【００４３】（２）組成物を滴下しながら紫外線を照射
し、２枚の基板上にリング状に塗布した後、滴下した面
同士を対向させ重ね合わせ、自重又は加圧することによ
り組成物を展延して、貼り合わせる方法。
し、２枚の基板上にリング状に塗布した後、滴下した面
同士を対向させ重ね合わせ、自重又は加圧することによ
り組成物を展延して、貼り合わせる方法。
【００４４】（３）組成物を基板上にリング状に滴下し
た後、紫外線を照射し、もう１枚の基板を重ね合わせ、
スピンコーター等高速回転することにより組成物を展延
して、貼り合わせる方法。
た後、紫外線を照射し、もう１枚の基板を重ね合わせ、
スピンコーター等高速回転することにより組成物を展延
して、貼り合わせる方法。
【００４５】（４）組成物を２枚の基板上にリング状に
滴下した後、２枚の基板に紫外線を照射し、滴下した面
同士を対向させ重ね合わせ、自重又は加圧することによ
り組成物を展延して、貼り合わせる方法。
滴下した後、２枚の基板に紫外線を照射し、滴下した面
同士を対向させ重ね合わせ、自重又は加圧することによ
り組成物を展延して、貼り合わせる方法。
【００４６】なお、スピンコーターを用いる場合には、
組成物の粘度を２０〜１０００ｍＰａ・ｓとなるように
組成物を調整するのが好ましい。
組成物の粘度を２０〜１０００ｍＰａ・ｓとなるように
組成物を調整するのが好ましい。
【００４７】更に基板の貼り合わせの際に、これら基板
の外周端面にはみ出し、付着した接着剤の硬化を促進す
るために、貼り合わせた後、再度紫外線・赤外線・遠赤
外線を外周端面に照射してもよいし、基板を恒温槽等で
加温しても良い。
の外周端面にはみ出し、付着した接着剤の硬化を促進す
るために、貼り合わせた後、再度紫外線・赤外線・遠赤
外線を外周端面に照射してもよいし、基板を恒温槽等で
加温しても良い。
【００４８】本発明の組成物を用いて基板を接着する場
合には、記録層どうしを直接接着する様にしてもよい
し、記録層を保護するラジカル重合系の紫外線硬化型接
着剤組成物等による保護コート層をその上に設けて、そ
の保護コート層どうしを接着する様にしてもよい。
合には、記録層どうしを直接接着する様にしてもよい
し、記録層を保護するラジカル重合系の紫外線硬化型接
着剤組成物等による保護コート層をその上に設けて、そ
の保護コート層どうしを接着する様にしてもよい。
【００４９】紫外線照射の方式としては、一般的な連続
光照射以外に、閃光照射方式を使用してもよい。ランプ
は、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水
銀ランプ、キセノンランプ等が使用できる。紫外線の照
射量は、０．０５〜１Ｊ／ｃｍ2の範囲が好ましい。
光照射以外に、閃光照射方式を使用してもよい。ランプ
は、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水
銀ランプ、キセノンランプ等が使用できる。紫外線の照
射量は、０．０５〜１Ｊ／ｃｍ2の範囲が好ましい。
【００５０】次に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。尚、以下実施例中「部」は「重量部」を表
す。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。尚、以下実施例中「部」は「重量部」を表
す。
【００５１】実施例１ 水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（大日本イ
ンキ化学工業社製ＥＸＡ−７０１５、全塩素０．１４
％）５０部、シクロヘキサンジメタノールジグリシジル
エーテル（ナガセ化成社製ＥＸ−２１６Ｌ、全塩素０．
１９％）５０部、光カチオン重合開始剤ＲＨＯＤＯＲＳ
ＩＬ ＰＩ２０７４（ローディア社製）１部、光ラジカ
ル発生剤イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ社製）０．５部、レベリング剤Ｌ−７６０４
（日本ユニカー社製）０．２部を６０℃で１時間混合溶
解し、淡黄色透明の紫外線硬化型接着剤組成物を調製し
た。
ンキ化学工業社製ＥＸＡ−７０１５、全塩素０．１４
％）５０部、シクロヘキサンジメタノールジグリシジル
エーテル（ナガセ化成社製ＥＸ−２１６Ｌ、全塩素０．
１９％）５０部、光カチオン重合開始剤ＲＨＯＤＯＲＳ
ＩＬ ＰＩ２０７４（ローディア社製）１部、光ラジカ
ル発生剤イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ社製）０．５部、レベリング剤Ｌ−７６０４
（日本ユニカー社製）０．２部を６０℃で１時間混合溶
解し、淡黄色透明の紫外線硬化型接着剤組成物を調製し
た。
【００５２】比較例１ 実施例１において、光ラジカル発生剤イルガキュア１８
４を用いない以外は、実施例１と同様にして、淡黄色透
明の紫外線硬化型接着剤組成物を調製した。
４を用いない以外は、実施例１と同様にして、淡黄色透
明の紫外線硬化型接着剤組成物を調製した。
【００５３】実施例１及び比較例１で得た接着剤組成物
を用いて、下記試験方法１によりゲル分率を測定し、硬
化性の評価を行った。その試験結果を表１に示す。
を用いて、下記試験方法１によりゲル分率を測定し、硬
化性の評価を行った。その試験結果を表１に示す。
【００５４】試験方法１ ポリカーボネート板上に接着剤組成物を膜厚約１００μ
ｍで塗布した後、フュージョン社製紫外線照射装置Ｆ６
００ＶのＤバルブを用いて０．２１、０．４２Ｊ／ｃｍ
2（ＥＩＴ社製光量計ＵＶ Ｐｏｗｅｒ ＰｕｃｋのＵ
Ｖ−Ａ測定値）の紫外線を照射した。各塗膜試料を２３
℃、５０％ＲＨの条件で１日養生した後、ソックスレー
抽出器を用いて硬化塗膜中の未硬化分をメチルエチルケ
トンで８時間にわたり抽出した。
ｍで塗布した後、フュージョン社製紫外線照射装置Ｆ６
００ＶのＤバルブを用いて０．２１、０．４２Ｊ／ｃｍ
2（ＥＩＴ社製光量計ＵＶ Ｐｏｗｅｒ ＰｕｃｋのＵ
Ｖ−Ａ測定値）の紫外線を照射した。各塗膜試料を２３
℃、５０％ＲＨの条件で１日養生した後、ソックスレー
抽出器を用いて硬化塗膜中の未硬化分をメチルエチルケ
トンで８時間にわたり抽出した。
【００５５】ゲル分率は、抽出前の硬化塗膜重量Ｘ、抽
出後の硬化塗膜重量Ｙよりゲル分率（％）＝｛（Ｘ−
Ｙ）／Ｘ｝×１００として得た。
出後の硬化塗膜重量Ｙよりゲル分率（％）＝｛（Ｘ−
Ｙ）／Ｘ｝×１００として得た。
【００５６】
【表１】表１
【００５７】実施例２ 水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（大日本イ
ンキ化学工業社製ＥＸＡ−７０１５、全塩素０．１４
％）６０部、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエ
ーテル（阪本薬品社製ＳＲ−１６ＫＦ、全塩素０．２
％）４０部、光カチオン重合開始剤ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ
ＰＩ２０７４（ローディア社製）０．５部、光ラジカ
ル発生剤イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ社製）０．２５部、レベリング剤Ｌ−７６０
４（日本ユニカー社製）０．２部を６０℃で１時間混合
溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型接着剤組成物を調製
した。
ンキ化学工業社製ＥＸＡ−７０１５、全塩素０．１４
％）６０部、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエ
ーテル（阪本薬品社製ＳＲ−１６ＫＦ、全塩素０．２
％）４０部、光カチオン重合開始剤ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ
ＰＩ２０７４（ローディア社製）０．５部、光ラジカ
ル発生剤イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ社製）０．２５部、レベリング剤Ｌ−７６０
４（日本ユニカー社製）０．２部を６０℃で１時間混合
溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型接着剤組成物を調製
した。
【００５８】実施例３ 実施例２において、光ラジカル発生剤としてイルガキュ
ア１８４の代わりにベンゾフェノンを０．２５部用いた
以外は、実施例２と同様にして、淡黄色透明の紫外線硬
化型接着剤組成物を調製した。
ア１８４の代わりにベンゾフェノンを０．２５部用いた
以外は、実施例２と同様にして、淡黄色透明の紫外線硬
化型接着剤組成物を調製した。
【００５９】実施例４ 実施例２において、光ラジカル発生剤としてイルガキュ
ア１８４の代わりにイルガキュア６５１を０．２５部用
いた以外は、実施例２と同様にして、淡黄色透明の紫外
線硬化型接着剤組成物を調製した。
ア１８４の代わりにイルガキュア６５１を０．２５部用
いた以外は、実施例２と同様にして、淡黄色透明の紫外
線硬化型接着剤組成物を調製した。
【００６０】比較例２ 実施例２において、光ラジカル発生剤イルガキュア１８
４を用いない以外は、実施例２と同様にして、淡黄色透
明の紫外線硬化型接着剤組成物を調製した。
４を用いない以外は、実施例２と同様にして、淡黄色透
明の紫外線硬化型接着剤組成物を調製した。
【００６１】実施例２〜４及び比較例２の組成物を用い
て、下記ＤＶＤ貼合せ方法によりＤＶＤを作製し、下記
試験方法２により接着剤の硬化性を判定した。
て、下記ＤＶＤ貼合せ方法によりＤＶＤを作製し、下記
試験方法２により接着剤の硬化性を判定した。
【００６２】ＤＶＤ貼合せ方法 図１に示すような装置（紫外線照射装置２としてフュー
ジョン社Ｉ２５０型、発光長約２５ｃのＤバルブを用い
た。）を用いて上記組成物を滴下しながら紫外線を照射
し、ＤＶＤ単板上にリング状に塗布した。直ちに、この
組成物が塗布されたＤＶＤ単板にもう１枚のＤＶＤ単板
を重ね合わせ、ディスクの自重により組成物を全面に展
延させ、ＤＶＤを得た。
ジョン社Ｉ２５０型、発光長約２５ｃのＤバルブを用い
た。）を用いて上記組成物を滴下しながら紫外線を照射
し、ＤＶＤ単板上にリング状に塗布した。直ちに、この
組成物が塗布されたＤＶＤ単板にもう１枚のＤＶＤ単板
を重ね合わせ、ディスクの自重により組成物を全面に展
延させ、ＤＶＤを得た。
【００６３】試験方法２ 貼合せ５分、１０分、２０分、１時間後、ＤＶＤを接着
剤層で剥離して、硬化状態を観察した。
剤層で剥離して、硬化状態を観察した。
【００６４】評価基準としては、硬化状態の度合いに応
じて、 ○：全面硬化、△：未硬化部分が残る、×：全面未硬化 の３水準に分類した。この試験結果を表２に示す。
じて、 ○：全面硬化、△：未硬化部分が残る、×：全面未硬化 の３水準に分類した。この試験結果を表２に示す。
【００６５】
【表２】表２
【００６６】表１から明らかなように、実施例１で得た
本発明の組成物は、何れの照射量でもゲル分率が高く、
十分に硬化することが分かる。また、表２から明らかな
ように、実施例２〜４で得た本発明の組成物は、全面に
わたる硬化性が良好であり、特に実施例２及び３は、硬
化速度が優れていることが分かる。一方、比較例１、２
で得たラジカル発生剤を含まない組成物は、ゲル分率が
低く、硬化速度も劣っており、光ディスク用の接着剤と
しては不十分な特性のものであった。
本発明の組成物は、何れの照射量でもゲル分率が高く、
十分に硬化することが分かる。また、表２から明らかな
ように、実施例２〜４で得た本発明の組成物は、全面に
わたる硬化性が良好であり、特に実施例２及び３は、硬
化速度が優れていることが分かる。一方、比較例１、２
で得たラジカル発生剤を含まない組成物は、ゲル分率が
低く、硬化速度も劣っており、光ディスク用の接着剤と
しては不十分な特性のものであった。
【００６７】
【発明の効果】本発明の組成物をＤＶＤ等の光ディスク
の接着剤として使用すると、硬化速度が速いので、高生
産性を提供できると共に、接着層の均一且つ十分な硬化
が可能となるので、信頼性に優れたＤＶＤ等の光ディス
クを提供できる。
の接着剤として使用すると、硬化速度が速いので、高生
産性を提供できると共に、接着層の均一且つ十分な硬化
が可能となるので、信頼性に優れたＤＶＤ等の光ディス
クを提供できる。
【図１】実施例で用いた組成物滴下装置及び紫外線照射
装置の構成を示す図である。
装置の構成を示す図である。
１・・・ディスペンサ（ノズル） ２・・・紫外線照射装置 ３・・・テーブル ４・・・ディスク基板 ５・・・紫外線硬化型接着剤組成物
Claims (9)
- 【請求項１】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）光カチオン重
合開始剤、及び（Ｃ）開始剤（Ｂ）の極大吸収波長より
大きい波長領域に吸収極大を有する光ラジカル発生剤を
含有することを特徴とする、貼り合わせ形式光ディスク
用紫外線硬化型接着剤組成物。 - 【請求項２】（Ｂ）光カチオン重合開始剤が、３００ｎ
ｍ未満に吸収極大を有する光カチオン重合開始剤であ
り、かつ（Ｃ）光ラジカル発生剤が、３００ｎｍ以上に
吸収極大を有する光ラジカル発生剤である請求項１に記
載の貼り合わせ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組
成物。 - 【請求項３】（Ｂ）光カチオン重合開始剤が、分解時に
金属腐食性の小さいブレンステッド酸を発生する光カチ
オン重合開始剤である請求項１又は２に記載の貼り合わ
せ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組成物。 - 【請求項４】（Ｂ）光カチオン重合開始剤が、アニオン
部分として、［ＰＸ 6］-または［ＢＸ4］-（ただし、Ｘ
は少なくとも２つ以上のフッ素又はトリフルオロメチル
基で置換されたフェニル基）を含むオニウム塩である請
求項１、２及び３の何れかに記載の貼り合わせ形式光デ
ィスク用紫外線硬化型接着剤組成物。 - 【請求項５】（Ｃ）光ラジカル発生剤が、ヒドロキシ基
を有する光ラジカル発生剤である請求項１、２，３及び
４の何れかに記載の貼り合わせ形式光ディスク用紫外線
硬化型接着剤組成物。 - 【請求項６】（Ｃ）光ラジカル発生剤が、ヒドロキシア
セトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサ
ントン化合物からなる群から選ばれる１種類以上の化合
物である請求項１、２，３，４及び５の何れかに記載の
貼り合わせ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組成
物。 - 【請求項７】（Ａ）エポキシ樹脂が、グリシジルエーテ
ル型エポキシ樹脂である請求項１、２，３，４，５及び
６の何れかに記載の貼り合わせ形式光ディスク用紫外線
硬化型接着剤組成物。 - 【請求項８】（Ｂ）光カチオン重合開始剤／（Ｃ）光ラ
ジカル発生剤の重量比が、０．５〜１０である請求項
１，２，３，４，５，６及び７の何れかに記載の貼り合
わせ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組成物。 - 【請求項９】請求項１〜８の何れかに記載の紫外線硬化
型接着剤組成物を用いて、少なくとも１枚の基板が記録
層を有する２枚の基板を貼り合わせて形成されたことを
特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31664699A JP2001131518A (ja) | 1999-11-08 | 1999-11-08 | 貼り合わせ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組成物及びこれを用いた光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31664699A JP2001131518A (ja) | 1999-11-08 | 1999-11-08 | 貼り合わせ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組成物及びこれを用いた光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001131518A true JP2001131518A (ja) | 2001-05-15 |
Family
ID=18079352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31664699A Pending JP2001131518A (ja) | 1999-11-08 | 1999-11-08 | 貼り合わせ形式光ディスク用紫外線硬化型接着剤組成物及びこれを用いた光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001131518A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005290211A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Sekisui Chem Co Ltd | ポリエステル系接着剤組成物 |
| JP2011219548A (ja) * | 2010-04-06 | 2011-11-04 | Toagosei Co Ltd | 光硬化性接着剤組成物、偏光板とその製造法、光学部材及び液晶表示装置 |
| JP2015132828A (ja) * | 2015-02-06 | 2015-07-23 | 日東電工株式会社 | 偏光板、該偏光板の製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置 |
| JP2018520215A (ja) * | 2015-05-07 | 2018-07-26 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンＨｅｎｋｅｌ ＡＧ ＆ Ｃｏ． ＫＧａＡ | アクリルポリマーに基づくｕｖ硬化性接着剤 |
-
1999
- 1999-11-08 JP JP31664699A patent/JP2001131518A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005290211A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Sekisui Chem Co Ltd | ポリエステル系接着剤組成物 |
| JP4516343B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-08-04 | 積水化学工業株式会社 | ポリエステル系接着剤組成物 |
| JP2011219548A (ja) * | 2010-04-06 | 2011-11-04 | Toagosei Co Ltd | 光硬化性接着剤組成物、偏光板とその製造法、光学部材及び液晶表示装置 |
| JP2015132828A (ja) * | 2015-02-06 | 2015-07-23 | 日東電工株式会社 | 偏光板、該偏光板の製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置 |
| JP2018520215A (ja) * | 2015-05-07 | 2018-07-26 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンＨｅｎｋｅｌ ＡＧ ＆ Ｃｏ． ＫＧａＡ | アクリルポリマーに基づくｕｖ硬化性接着剤 |
| US10711166B2 (en) | 2015-05-07 | 2020-07-14 | Henkel Ag & Co. Kgaa | UV curable adhesives based on acrylic polymers |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050722 |