JPH02107630A - オーバーコート法 - Google Patents

オーバーコート法

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JPH02107630A
JPH02107630A JP63260666A JP26066688A JPH02107630A JP H02107630 A JPH02107630 A JP H02107630A JP 63260666 A JP63260666 A JP 63260666A JP 26066688 A JP26066688 A JP 26066688A JP H02107630 A JPH02107630 A JP H02107630A
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optical disk
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実 横島
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(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光信号を高速・高密度に記録再生する光ディ
スク記録媒体用オーバーコート剤として有用な紫外線等
により硬化し、記録謀体に対する接着性、耐湿性の良好
な、硬度の優れた紫外線硬化型樹脂組成物に関する。
(従来の技術) 現在、民生用のコンパクトディスク記録媒体用オーバー
コート剤と1−て紫外線硬化型オーバーコート剤が使用
されている。一方、現在、書込み、消去の可能な光ディ
スクの開発が行なわれており、光ディスク用オーバーコ
ート剤の開発も進められている。
(発明が解決しようとする課題) 光ディスク用の記録媒体は、水分やヒートショックに弱
く、オーバーコート剤に対する特性として、耐水性、耐
ヒートシヨツク性、高い硬度、透明性等の優れた品質が
要求されている。
従来使用されているコンパクトディスク用オ−バー −
’ −ト剤は、光ディスクのオーバーコート剤として使
用するには、特性が不十分であり、使用できない。又、
特開昭59−71317号公報には、ガラスを基材とし
た光ディスク用の光硬化型接着性組成物が提案されてい
る。この組成物は、2−エチル−2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート等の分子中にOH基を持ったモノ
(メタ)アクリレートを主成分としており、オーバーコ
ート剤として使用するには耐水性や硬度等が不十分であ
り、不向きである。
(課題を解決するための手段) 上記の問題を解決するため、本発明者らは、鋭意研究の
結果、紫外線により硬化が速く、接着性、耐湿性、硬度
の優れた光ディスク用材料を提供することに成功した。
すなわち、本発明は、 \ 1 (式〔I〕中、Rは、分子中に1個の活性水素を含有す
る有機化合物の残基を示し、nの平均値は、1〜30好
ましくは5〜20の数である。) と脂環式エポキシド(B)と光カチオン重合触媒(C)
を含む樹脂組成物。
2)1)項記載の一般式〔I〕で表わされる化合物(A
)と脂環式エポキシド(B)と光カチオン重合触媒(C
)を含む光ディスク用オーバーコート組成物に関する。
本発明に於いて使用される一般式(I)で表わされる化
合物(A)は、公知の方法によって合成することができ
る。すなわち、本発明のCII式で表わされる化合物に
おいてRは、分子中に1個の活性水素を有する有機化合
物の残基であるが、その前駆体の有機化合物であるアル
コール類、フェノール類、カルボン酸類、チオール類等
を開始剤にして4−ビニルシクロヘキセン1−オキサイ
ド等を開環重合させることによって得られる、ビニル基
側鎖を有するポリシクロヘキセンオキサイド重合体を過
酸等の酸化剤でエポキシ化することによって製造するこ
とができる。
アルコール類としては、例えばメタノール、エタノール
、グロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノ
ール、オクタツール、3−シクロヘキセンメタノール、
ベンジルアルコール等がある。フェノール類としては、
フェノール、クレゾール等がある。カルボン酸類として
は、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等がある。チオール類と
しては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プ
ロピルメルカプタン等があげられる。また、これら前駆
体の有機化合物である活性水素を有する化合物はその骨
格中に不飽和2重結合を有していても良(、具体例とし
てはアリルアルコール、アクリル酸、メタクリル酸、3
−シクロヘキセンメタノール等がある。
これらの化合物の不飽和2重結合は、さらにそれらがエ
ポキシ化された構造でもさしつがえない。
〔13式で表わされる化合物は、市場より容易に入手す
ることができる。例えば、ダイセル化学工業■製、EH
PE−3150(エポキシ当量175〜195、軟化点
72〜76°C)等がある。
本発明で使用する脂環式エポキシド(B)の具体的な例
として、3.4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,
4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート;3.4
−エポキシ−1−メチルシクロヘキシルメチル−3,4
−エポキシ−1−メチルシクロへギサン力ルポキシレー
ト;6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル−6−メチル−3,4−エボキシシクロヘキサン力ル
ボキシレー);3,4−エポキシ−3=メチルシクロヘ
キシルメチル−3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘ
キサンカルボキシレート;3,4−エポキシ−5−メチ
ルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−5−メチ
ルシクロヘキサンカルボキシレート;2−(3,4−エ
ポキシシクロへキシル−5,5−スピロ−3,4−エポ
キシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン;ビス(3,
4−エポキシシクロヘキシルメチル)オキサレート;ビ
ス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペー
ト;ビス(3,4−エボキン−6−メチルシクロヘキシ
ルメチル)アシヘート;ビス(3,4−エポキシシクロ
ヘキシルメチル)ビンレート;4−ビニルシクロヘキサ
ンモノエボキシド;ノルボルネンモノエボキシドリモネ
ンモノエボキシド等を挙げることができる。これら脂環
式エポキシド(B)のうち、特に好ましいものとしては
、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エ
ポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−(3,
4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、2−
(3,4−エポキシシクロへキシル−5,5−スピロ−
3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル等
が挙げられる。これら脂環式エポキシド(B)は、1種
又は2種以上使用することができる。
光カチオン重合触媒(C)としては、公知のどのような
光カチオン重合触媒でも使用することができる。例えば
、米国特許3379653号公報に記載されたような1
種若しくはそれ以上の金属フルオロ硼酸塩及び三弗化硼
素の錯体、米国特許3586616号公報に記載された
ようなビス(ペルフルオロアルギルスルホニル)メタン
金属塩、米国特許第3708296号公報に記載された
ようなアリールジアゾニウム化合物、米国特許第405
8400号記載の第Via族元素の芳香族オニウム塩、
米国特許第4069055号公報記載の第Va族元素の
芳香族オニウム塩、米国特許第4086091号公報記
載の第11 a −Va族元素のジカルボニルキレート
、米国特許第4139655号公報記載のチオビIJ 
IJウム塩、米国特許第4161478号公報記載のM
F6アニオン(ここでMは、P、As及びsbより選択
される)を有する第VIa族元索、米国特許第4231
951号公報記載のトリアリールスルホニウム錯塩、米
国特許第4256828号公報記載の芳香族イオドニウ
ム錯塩及び芳香族スルホニウム錯塩を包含する。好適な
光カチオン重合触媒は、ポリアリールスルホニウム錯塩
、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩若しく
は、イオドニウム塩、並びに第111a、Va及びVI
a族元素の芳香族オニウム塩を包含する。これら塩類の
飛程かは、たとえばFC−508若しくはFX−512
(ポリアリールスルホニウムへキサフルオロホスフエー
ト及びPPt−508(3力ンパニー社製)、あるいは
、UVE−1,014(ゼネラルエレクトリック・カン
パニー社製、ポリアリールスルホニウムヘキサフルオロ
アンチモン塩) 、5P−170,5P−150(旭電
化■製、ボリアリールスルホニウムヘキサフルオロホス
フェート、ボリアリールスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェ−ト)として販売されているように市販入手する
ことができる。これら光カチオン重合触媒(C)は、1
種または2種以上を任意の割合で混合して使用する事が
できる。
本発明に使用される(A)成分の量は、樹脂組成物及び
光ディスク用オーバーコート組成物の好ましくは1〜6
0重量係、特に好ましくは、5〜40重量係が望ましい
。(B)成分の量は樹脂組成物及び光ディスク用オーバ
ーコート組成物の好ましくは、3995〜9895重量
係、特に好ましくは、59.9〜949重量係である。
(C)成分の量は、樹脂組成物及び光ディスク用オーバ
ーコート組成物の(A)成分と(B)成分の総重量に対
して、好ましくは、0.05〜0.7重量%、特に好ま
しくは0゜1〜05重量壬である。
本発明の樹脂組成物及び光ディスク用オーバーコート組
成物は、(A)、(B)、及び(C)の成分物質だけで
十分所期の目的を達成するものであるが、さらに性能改
良のため、本来の特性を変えない範囲で、モダフローの
ような商品名で販売されているシリコーン−酸化アルキ
レンコポリマーや、アクリルポリマー(モンサンド・ケ
ミカル・カンパニー社)、非塩基性充填剤(例えば、シ
リカ、メルク、ガラス玉、アルミニウム、銀、酸化亜鉛
等)及びその他の添加剤、たとえば、シランカップリン
グ剤、溶剤なども含むことができる。本発明の組成物の
紫外線照射による硬化は常法により行なうことができる
。例えば、低圧又は高圧水銀灯、キセノン灯等を用いて
紫外線を照射すればよい。本発明の組成物は、特に光デ
ィスク用オーバーコート組成物として有用であるが、そ
の他にも、光ディスク用溝材、金属、プラスチック、ゴ
ム、紙、木材及びセラミック用コーティング剤等にも使
用できる。
本発明の光ディスク用オーバーコート組成物は特に光デ
ィスクの記録膜の保護剤として、又、コンパクトディス
クの記録膜の保護剤として有用である。
本発明の光ディスク用オーバーコート組成物を用いた光
ディスクの記録膜の保護膜の形成は、光ディスクの記録
膜の上に光ディスク用オーバーコート組成物を例えばス
ピンコード法等により塗布し、紫外線を照射して硬化す
ることによって保護膜を形成させる。光ディスクの記録
膜の」二に光ディスク用オーバーコート組成物を塗布す
る場合、その厚さは通常1〜50μ程度とするのが好ま
しい。なお、これらの方法において、光ディスク用オー
バーコート組成物の硬化は、紫外線照射の代りに電子線
照射によることもできる。
(実施例) 以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。
なお、実施例中の部は、重量部である。
実施例1゜ 下記構造式 を有する化合物(ダイセル化学工業■製、EHPE−3
150、軟化点71℃)30部、3,4−エポキシシク
ロヘキシメチル−3,4−エポキシシクロヘキサン力ル
ポキシレー) 60部、5P−170(旭電化■製、光
カチオン重合触媒、プロピレンカーボネート50幅希釈
品)0.6部を混合し紫外線硬化型光ディスク用オーバ
ーコート組成物を調製した。
ポリカーボネート基板に記録膜を炸裂(スパックリング
により)した光ディスクの記録膜の上に、上記の紫外線
硬化型光ディスク用オーバーコート組成物をスピンコー
ターで塗布し、高圧水銀灯(東芝社製、2KW)により
照射し該組成物を硬化させた。オーバーコートされた光
ディスクを60℃の90 % 11.Hの状態に放置し
、耐湿性試験を行なった処、1000時間経過しても記
録膜に異常がなかった。該組成物の硬度は、5hore
Dで89であった。
実施例2 下記構造式 を有する化合物(ダイセル化学工業■製、E T−fP
E−3150軟化点7]、’C)10部、2−(3,4
−エポキシシクロへキシル−5,5−スピロ−3,4−
エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン60部、
ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジ
ペート30部及び5P−17+)(旭電化■製、光カチ
オン重合触媒、プロピレンヵーボネート50俤希釈品)
0,4部を混合し、紫外線硬化型光ディスク用オーバー
コート組成物を調製した、これを用い、実施例1と同様
にして、オーバーコートされた光ディスクを得た。実施
例1と同様に試験を行ない、耐湿性の試験の結果、10
00時間経過しても異常がなかった。硬度は、5hor
e Dで84であった。
実施例3 の混合物 を有する化合物(ダイセル化学工業■製、EHPE−3
150、軟化点、71°C)40部、ビス(2,3−エ
ポキシシクロペンチル)エーテル40部、3.4−エポ
キシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘ
キサンカルボキシレート20部及び5P−170(旭電
化■製、光カチオン重合触媒、プロピレンカーボネート
50係希釈品)03部を混合し、紫外線硬化型光ディス
ク用オーバーコート組成物を調製した。これを用い、実
施例1と同様にして、オーバーコートされた光ディスク
を得た。実施例1と同様に試験を行ない、耐湿性の試験
の結果、1000時間経過しても異常がなかった。硬度
は、5hore Dで91であった。
(発明の効果) 本発明の樹脂組成物及び光ディスク用オーバーコート組
成物は、硬化して得られる硬化物の硬度は硬く、耐湿性
、接着性に優れ、吸水率が低く、光ディスク用オーバー
コート剤として有用である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式〔I〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔I〕 (式中、Rは分子中に1個の活性水素を含有する有機化
    合物の残基を示し、nの平均値は1〜30の数である。 ) で表わされる化合物(A)と脂環式エポキシド(B)と
    光カチオン重合触媒(C)を含む樹脂組成物。 2、第1項記載の一般式〔I〕で表わされる化合物(A
    )と脂環式エポキシド(B)と光カチオン重合触媒(C
    )を含む光ディスク用オーバーコート組成物。
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