JPS6071641A - 電子機器の電磁シ−ルド方法 - Google Patents
電子機器の電磁シ−ルド方法Info
- Publication number
- JPS6071641A JPS6071641A JP58179124A JP17912483A JPS6071641A JP S6071641 A JPS6071641 A JP S6071641A JP 58179124 A JP58179124 A JP 58179124A JP 17912483 A JP17912483 A JP 17912483A JP S6071641 A JPS6071641 A JP S6071641A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- epoxy resin
- compound
- nitrobenzyloxy
- electromagnetic shielding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は電子機器の電磁シールド方法に関する。
電子機器の電磁シールド方法として、従来から用いられ
て来た方法は、プラスチック表面に導電性の層を形成さ
せる方法と、プラスチックの中に導電性フィラーを添加
する2つの方法がある。表面に導電性の層を形成させる
方法の1つとして、導電性塗料を用いる方法がある。従
来の導電性塗料は、バインダーとして、アクリル系、ポ
リウレタン系の樹脂を用い、溶剤を加え、使用時に乾燥
することにより用いられてきた。アクリル系においては
、接着性、耐食性に問題があり、X1ポリウレタン系の
バインダーを用いた場合においても、長期間使用中に、
クラック、剥離が発生するカと耐久性に問題があった。
て来た方法は、プラスチック表面に導電性の層を形成さ
せる方法と、プラスチックの中に導電性フィラーを添加
する2つの方法がある。表面に導電性の層を形成させる
方法の1つとして、導電性塗料を用いる方法がある。従
来の導電性塗料は、バインダーとして、アクリル系、ポ
リウレタン系の樹脂を用い、溶剤を加え、使用時に乾燥
することにより用いられてきた。アクリル系においては
、接着性、耐食性に問題があり、X1ポリウレタン系の
バインダーを用いた場合においても、長期間使用中に、
クラック、剥離が発生するカと耐久性に問題があった。
本発明における、電子機器の電磁シールド方法において
用うる光硬化性導電性塗料は、従来からの溶剤タイプの
アクリル系樹脂やポリウレタン系樹脂ではりく、エポキ
シ樹脂をバインダーとするため、その接着性、耐食性。
用うる光硬化性導電性塗料は、従来からの溶剤タイプの
アクリル系樹脂やポリウレタン系樹脂ではりく、エポキ
シ樹脂をバインダーとするため、その接着性、耐食性。
耐久性において優れたものである。又エポキシ樹脂を硬
化させる方法としては、硬化剤との二液量による室温硬
化あるいは一液タイブの加熱硬化及び光硬化触媒全配合
した光硬化の方法があり、二液型では、作業が煩雑にな
ること及び、使用後の残りの塗料が無駄になるという問
題がある。又加熱硬化型では、塗布する基材により、そ
の硬化温度が規定されるため、比較的低温で硬化せねば
ならカ<、硬化反応に時間を要するという問題がある。
化させる方法としては、硬化剤との二液量による室温硬
化あるいは一液タイブの加熱硬化及び光硬化触媒全配合
した光硬化の方法があり、二液型では、作業が煩雑にな
ること及び、使用後の残りの塗料が無駄になるという問
題がある。又加熱硬化型では、塗布する基材により、そ
の硬化温度が規定されるため、比較的低温で硬化せねば
ならカ<、硬化反応に時間を要するという問題がある。
光硬化性塗料としては、塗料樹脂中の官能基がアクリル
基であるもの若しくはエポキシ樹脂自体を光分解型の触
媒で硬化させるものが知られている。
基であるもの若しくはエポキシ樹脂自体を光分解型の触
媒で硬化させるものが知られている。
前者に属するものとしては、一般にエポキシ変性不飽和
ポリエステル樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂若し
くはポリエステルウレタンアクリレート樹脂があげられ
る。しかしながら、これらの塗料は、硬化時の収縮が大
きいのでその歪みによって基材との密着性が悪くなると
いう欠点を有し、更には、大気中の酸素に基づく重合遅
延効果によって大気に接触する表面の硬化が充分に進行
しないという不都合な事態を招く。
ポリエステル樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂若し
くはポリエステルウレタンアクリレート樹脂があげられ
る。しかしながら、これらの塗料は、硬化時の収縮が大
きいのでその歪みによって基材との密着性が悪くなると
いう欠点を有し、更には、大気中の酸素に基づく重合遅
延効果によって大気に接触する表面の硬化が充分に進行
しないという不都合な事態を招く。
一方、後者に属するものはエポキシ樹脂自体全光分解型
の触媒で硬化させるのであるが、とのよXはヨウ素原子
、イオウ原子、ジアゾ基等を表わし、YはBF4 、P
FS 、 AsF6 、5bFs等を表わす。)で示さ
れる錯体をあげることができる〔マクロモレキュールズ
、第10巻、1307頁、1977年(Macromo
lecules、 10 、1307 (1977)
) : ジャーナル・オプ・ラジエーション・キユアリ
ング第5巻、2頁、1978年(Journal of
’、RadiationCuring、 5.2 (
1978) ) ”、ジャーナル・オブ・ポリマー・サ
イエンスIポリマー・ケミストリイ・エディジョン、第
17巻、2877頁、1979年(Journal o
f Polymer 5cience Polymer
ChemistryEdition、 17.287
7(1979) ):同上、第17巻。
の触媒で硬化させるのであるが、とのよXはヨウ素原子
、イオウ原子、ジアゾ基等を表わし、YはBF4 、P
FS 、 AsF6 、5bFs等を表わす。)で示さ
れる錯体をあげることができる〔マクロモレキュールズ
、第10巻、1307頁、1977年(Macromo
lecules、 10 、1307 (1977)
) : ジャーナル・オプ・ラジエーション・キユアリ
ング第5巻、2頁、1978年(Journal of
’、RadiationCuring、 5.2 (
1978) ) ”、ジャーナル・オブ・ポリマー・サ
イエンスIポリマー・ケミストリイ・エディジョン、第
17巻、2877頁、1979年(Journal o
f Polymer 5cience Polymer
ChemistryEdition、 17.287
7(1979) ):同上、第17巻。
1047頁、1979年(同上、LL、1047(19
79)); ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス
・ポリマー・レターズ・エディジョン。
79)); ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス
・ポリマー・レターズ・エディジョン。
第17巻、759頁、1979年(JHrnal of
Polymer 5cience Polymer L
etters Edition、 Q 759(197
9)l:特開昭55−65219号明細書;米国特許第
4069054号明細書:英国特許第1516511号
明細書;英国特許第1518141号明wI:sl。等
参照〕。
Polymer 5cience Polymer L
etters Edition、 Q 759(197
9)l:特開昭55−65219号明細書;米国特許第
4069054号明細書:英国特許第1516511号
明細書;英国特許第1518141号明wI:sl。等
参照〕。
しかしながら、これらの触媒を用いてエポキシ樹脂を光
硬化させた場合、良好な塗膜性能が得られる反面、該触
媒は強酸であるため、導電性を付与するために入れてい
る導電性の金属の腐食をまねくおそれがある。
硬化させた場合、良好な塗膜性能が得られる反面、該触
媒は強酸であるため、導電性を付与するために入れてい
る導電性の金属の腐食をまねくおそれがある。
本発明は、電子機器の電磁シールド方法における上記し
たような欠点を解消し、基材との接着性。
たような欠点を解消し、基材との接着性。
耐食性、耐久性に優れた導電層の形成を行なう電子機器
の電磁クールド方法を提供しようとするものである。
の電磁クールド方法を提供しようとするものである。
本発明の電子機器の電磁シールド方法は、エポキシ樹脂
、アルミニウム化合物、及び光照射によノ リ(ラノール基を生ずるケイ素化合物を含む/くインダ
ーと、導電性物質とを含む光硬化性導電性塗料により、
プラスチック表面のコーティングを行ない次いで光照射
することにより硬化反応させることを特徴とする。
、アルミニウム化合物、及び光照射によノ リ(ラノール基を生ずるケイ素化合物を含む/くインダ
ーと、導電性物質とを含む光硬化性導電性塗料により、
プラスチック表面のコーティングを行ない次いで光照射
することにより硬化反応させることを特徴とする。
まず、本発明に用いるエポキシ樹脂としては、−官能性
エポキシ化合物及び多官能性エポキシ化合物があげられ
る。−官能性エポキシ化合物としては、エチレンオキシ
ド、プロピレンオキシ)・。
エポキシ化合物及び多官能性エポキシ化合物があげられ
る。−官能性エポキシ化合物としては、エチレンオキシ
ド、プロピレンオキシ)・。
ブチレンオキシド、スチレンオキシド、フェニルグリシ
ジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル等があげられ
る。また、多官能性エポキシ化合物としては、特に限定
されないが、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
;ビスフェノールFmエポキ7樹脂:フェノールノボラ
ツク型エボキシ樹脂;脂環式エポキシ樹脂ニトリグリシ
ジルイソシアネート、ヒダントインエポキシ等の含複素
猿エポキシ樹脂:水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂
;グロビレンダリコールージグリシジルエーテル、ペン
タエリスリトール−ポリグリシジルエーテル等の脂肪族
系エポキシ樹脂:芳香族、脂肪族もしくは脂環式のカル
ボン酸とエピクロルヒドリンとの反応によって得られる
エポキシ樹脂;スピロ環含有エポキシ樹脂;0−アリル
−フェノールノボランク化合物とエピクロルヒドリンと
の反応生成物であるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂
;ビスフェノールAのそれぞれの水酸基のo −位にア
リル基を有するジアリルビスフェノール化合物とエピク
ロルヒドリンとの反応生成物であるグリシジルエーテル
型エポキシ樹脂等があげられ、これらから選ばれた1種
もしくは2種以上のものを任意に使用することが出来る
。
ジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル等があげられ
る。また、多官能性エポキシ化合物としては、特に限定
されないが、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
;ビスフェノールFmエポキ7樹脂:フェノールノボラ
ツク型エボキシ樹脂;脂環式エポキシ樹脂ニトリグリシ
ジルイソシアネート、ヒダントインエポキシ等の含複素
猿エポキシ樹脂:水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂
;グロビレンダリコールージグリシジルエーテル、ペン
タエリスリトール−ポリグリシジルエーテル等の脂肪族
系エポキシ樹脂:芳香族、脂肪族もしくは脂環式のカル
ボン酸とエピクロルヒドリンとの反応によって得られる
エポキシ樹脂;スピロ環含有エポキシ樹脂;0−アリル
−フェノールノボランク化合物とエピクロルヒドリンと
の反応生成物であるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂
;ビスフェノールAのそれぞれの水酸基のo −位にア
リル基を有するジアリルビスフェノール化合物とエピク
ロルヒドリンとの反応生成物であるグリシジルエーテル
型エポキシ樹脂等があげられ、これらから選ばれた1種
もしくは2種以上のものを任意に使用することが出来る
。
しかしてこのエポキシ樹脂は一般的に塩素イオンの含有
量1.0ppm以下、加水分解性塩素の含有率0.1重
量%以下のものが望しい。
量1.0ppm以下、加水分解性塩素の含有率0.1重
量%以下のものが望しい。
本発明の第2の成分であるアルミニウム化合物としては
、アルミニウム原子にアルコキシ基、フェノキシ基、ア
シルオキシ基、β−ジケトナト基。
、アルミニウム原子にアルコキシ基、フェノキシ基、ア
シルオキシ基、β−ジケトナト基。
0−カルボニルフェノラド基などが結合した有機アルミ
ニウムの錯体化合物であることが好ましい。
ニウムの錯体化合物であることが好ましい。
ここで、アルコキシ基としては炭素数1〜10のものが
好ましく、メトギシ、エトキシ、イソプロポキン、ブト
キシ、ベントオキシなどがあげられ;フェノキン基とし
ては、フェノキシ基、o−メチルフェノキシ基、0−メ
トギシフエノキシ基。
好ましく、メトギシ、エトキシ、イソプロポキン、ブト
キシ、ベントオキシなどがあげられ;フェノキン基とし
ては、フェノキシ基、o−メチルフェノキシ基、0−メ
トギシフエノキシ基。
p−二トロフエノキシ基、2,6−シメチルフエノキシ
基などがあげられ;アシルオキシ基としては、アセタト
、グロビオナト、イソプロピオナト。
基などがあげられ;アシルオキシ基としては、アセタト
、グロビオナト、イソプロピオナト。
ブチラド、ステアラド、エチルアセトアセタト。
プロビルアセトアセタト、ブチルアセドアセクト。
ジエチルマント、ジピバロイルメタナトなどの配位子が
あげられ:β−ジケトナト基としては、例えば、アセチ
ルアセトナト、トリフルオロアセチルアセトナト、ヘキ
サフルオロアセチルアセトナト、 られ;o−カルボニルフェノラド基としては、例えば、
サリチルアルデヒダトがあげられる。
あげられ:β−ジケトナト基としては、例えば、アセチ
ルアセトナト、トリフルオロアセチルアセトナト、ヘキ
サフルオロアセチルアセトナト、 られ;o−カルボニルフェノラド基としては、例えば、
サリチルアルデヒダトがあげられる。
このようなアルミニウム化合物の具体例としてハ、トリ
スメトキシアルミニウム、トリスエトキシアルミニウム
、トリスイソプロポキシアルミニウム、トリスフェノキ
シアルミニウム、トリスノシラメチルフエノキシアルミ
ニウム、イソプロポキシジエトキシアルミニウム、トリ
スブトキシアルミニウム、トリスアセトキシアルミニウ
ム、トリスステアラドアルミニウム、トリスブチラドア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
イソプロポキシアルミニウム、トリスアセチルアセトナ
ドアルミニウム、トリストリフルオロアセチルアセトナ
ドアルミニウム、トリスヘキサフルオロアセチルアセト
ナドアルミニウム、トリスエチルアセトアセタトアルミ
ニウム、トリスサリチルアルデヒダトアルミニウム、ト
リスジエチルマロラドアルミニウム、トリスプロピルア
セトアセタトアルミニウム、トリスダチルアセトアセタ
トアルミニウム、トリスジピバロイルメタナトアルミニ
ウム、ジアセチルアセトナトジピバロイルメタナトアル
ミニウム これらのアルミニウム化合物は、1種もしくは2種以上
の混合系で用いてもよく、その添加配合量ハ、エポキシ
樹脂に対し重量比で、0.001〜10チ、好ましくは
01〜5%の範囲である。配合量が0.001重量%に
満たない場合には、十分な硬化特性が得られず、また、
10重量Li6を超えると、コスト高や密着性の低下の
原因となる。
スメトキシアルミニウム、トリスエトキシアルミニウム
、トリスイソプロポキシアルミニウム、トリスフェノキ
シアルミニウム、トリスノシラメチルフエノキシアルミ
ニウム、イソプロポキシジエトキシアルミニウム、トリ
スブトキシアルミニウム、トリスアセトキシアルミニウ
ム、トリスステアラドアルミニウム、トリスブチラドア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
イソプロポキシアルミニウム、トリスアセチルアセトナ
ドアルミニウム、トリストリフルオロアセチルアセトナ
ドアルミニウム、トリスヘキサフルオロアセチルアセト
ナドアルミニウム、トリスエチルアセトアセタトアルミ
ニウム、トリスサリチルアルデヒダトアルミニウム、ト
リスジエチルマロラドアルミニウム、トリスプロピルア
セトアセタトアルミニウム、トリスダチルアセトアセタ
トアルミニウム、トリスジピバロイルメタナトアルミニ
ウム、ジアセチルアセトナトジピバロイルメタナトアル
ミニウム これらのアルミニウム化合物は、1種もしくは2種以上
の混合系で用いてもよく、その添加配合量ハ、エポキシ
樹脂に対し重量比で、0.001〜10チ、好ましくは
01〜5%の範囲である。配合量が0.001重量%に
満たない場合には、十分な硬化特性が得られず、また、
10重量Li6を超えると、コスト高や密着性の低下の
原因となる。
本発明の塗料組成物は光照射によってシラノール基を生
ずるケイ素化合物を第3の成分として含むことを特徴と
する。このようなケイ素化合物とシテハ、ベルオキシシ
ラン基、0−ニトロベンシルオキシ基、α−ケトシリル
基のいずれかを有するケイ素化合物であることが好まし
い。
ずるケイ素化合物を第3の成分として含むことを特徴と
する。このようなケイ素化合物とシテハ、ベルオキシシ
ラン基、0−ニトロベンシルオキシ基、α−ケトシリル
基のいずれかを有するケイ素化合物であることが好まし
い。
これらケイ素化合物のうち、ペルオキシシラン基を有す
るものは次式: (R’) n−8i(−00R”)
4−n(式中 R1、R2は同一であって異なっていて
もよく、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1
〜5のアルキル基若しくはアリール基を表わし:nはθ
〜3の整数を表わす。)で示される化合物である。
るものは次式: (R’) n−8i(−00R”)
4−n(式中 R1、R2は同一であって異なっていて
もよく、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1
〜5のアルキル基若しくはアリール基を表わし:nはθ
〜3の整数を表わす。)で示される化合物である。
上記式中、炭素数1〜5のアルキル基としては、例えば
、メチル基、エチル基、イソプロピル基。
、メチル基、エチル基、イソプロピル基。
n−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基。
5ee−ブチル基、n−ペンチル基、メトキシ基。
エトキシ基、クロルメチル基が挙げられ;アリール基と
しては、例えば、フェニル基、ナフチル基。
しては、例えば、フェニル基、ナフチル基。
アントラニル基、ベンジル基が挙げらi;炭素数1〜5
のアルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、メトキシ基等の置換基を有していて′も
よい。以下りθ このようなケイ素化合物の具体例としては、次式: で示される化合物等があげられる。
のアルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、メトキシ基等の置換基を有していて′も
よい。以下りθ このようなケイ素化合物の具体例としては、次式: で示される化合物等があげられる。
また、α−ニトロベ/ジルオキシ基を有するものは、次
式: (式中、几l、几2.几3は同一であっても異なってい
てもよく、それぞれ、水素原子;ハロゲン原子;ビニル
基;アリル基;炭素数1〜1oの非置換若しくは置換ア
ルキル基;炭素遂1〜1゜のアルコキシ基;非置換若し
くは置換アリール基;アリールオキ7基;ンロキシ基を
表わし、R4は水素原子;炭素数1〜10の非置換若し
くは置換アルキル基;フェニル基;置換フェニル基を表
わし、几5. BJ6. R7,几8は同一であっても
異なっていてもよく、それぞれ、水素原子;ニトロ基;
ンアノ基;ヒドロキシ基;メルカプト、lid ;ハロ
ケ/原子;アセチル基;アリル基;炭素数1〜5のアル
キル基;炭素数1〜5のアルコキン基;非置換若しくは
置換アリール基;アリールオキシ基を表わし、p、q−
r は0≦p。
式: (式中、几l、几2.几3は同一であっても異なってい
てもよく、それぞれ、水素原子;ハロゲン原子;ビニル
基;アリル基;炭素数1〜1oの非置換若しくは置換ア
ルキル基;炭素遂1〜1゜のアルコキシ基;非置換若し
くは置換アリール基;アリールオキ7基;ンロキシ基を
表わし、R4は水素原子;炭素数1〜10の非置換若し
くは置換アルキル基;フェニル基;置換フェニル基を表
わし、几5. BJ6. R7,几8は同一であっても
異なっていてもよく、それぞれ、水素原子;ニトロ基;
ンアノ基;ヒドロキシ基;メルカプト、lid ;ハロ
ケ/原子;アセチル基;アリル基;炭素数1〜5のアル
キル基;炭素数1〜5のアルコキン基;非置換若しくは
置換アリール基;アリールオキシ基を表わし、p、q−
r は0≦p。
q、r≦3.1≦p+q十r≦3の条件を満たす整数を
表わす。) で示される化合物である。
表わす。) で示される化合物である。
炭素数1〜10の非置換若しくは置換アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−
ブチル基、ペンチル基、クロロメチル基、クロロエチル
基、フルオロメチル基、シブツメチル基などがあげられ
、炭素数1〜1oのアルコキン基としてはメトキシ基、
エトキン基、n−プロポキン基、n−ブトキン基などが
あげられる。非置換若しくは置換アリール基としては、
フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−クロロフェ
ニル基、p−トリフルオロメチルフェニル基などがあけ
られ、アリールオキシ基としてはフェノキシ基などがあ
げられる。
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−
ブチル基、ペンチル基、クロロメチル基、クロロエチル
基、フルオロメチル基、シブツメチル基などがあげられ
、炭素数1〜1oのアルコキン基としてはメトキシ基、
エトキン基、n−プロポキン基、n−ブトキン基などが
あげられる。非置換若しくは置換アリール基としては、
フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−クロロフェ
ニル基、p−トリフルオロメチルフェニル基などがあけ
られ、アリールオキシ基としてはフェノキシ基などがあ
げられる。
マタ、ケイ素化合物としては、0−ニトロベンジルオキ
シシリル基を末端基とし、主鎖が次式:(式中、nは0
又は1以上の整数を表わし;R1及び几2は前記と同様
の意味を有し;x、yは、同一でも異なっていてもよく
、各々、酸素原子。
シシリル基を末端基とし、主鎖が次式:(式中、nは0
又は1以上の整数を表わし;R1及び几2は前記と同様
の意味を有し;x、yは、同一でも異なっていてもよく
、各々、酸素原子。
アルキレン基、アリール基等を表わす。)で示される基
から成る化合物であってもよい。
から成る化合物であってもよい。
本発明に用いる、ケイ素原子に直接結合した非置換もし
くは置換O−ニトロベンジルオキ7基を有するケイ素化
合物の具体例としては、トリメチル(0−ニトロベンジ
ルオキシ)シラン ジメチルフェニル(0−ニトロベンジルオキシ)7ラン ジフエルメチル(0−ニトロベンジルオキシ)シラン トリフェニル(0−ニトロベンジルオキシ)シラン ビニルメチルフェニル(0−ニトロベンジルオキシ)シ
ラン t −ブチルメチルフェニル(0−ニトロベンジルオキ
シ)シラン トリエチル(0−ニトロベンジルオキシ)シラン ト!J (2−クロロエチル)−〇−二トロベンジルオ
オキシラ/ ) IJ (p−) IJフルオロメチルフェニル)−
0−ニトロベンジルオキシシラン トリメチル〔α−(0−ニトロフェニル)−0−ニトロ
ベンジルオキシコシラン ジメチルフェニル〔α−(0−ニトロフェニルニー〇−
ニトロベンジルオキシ〕シラン メチルフェニルジ〔α−(0−ニトロフェニル)−〇−
二トロペンジルオキシ〕シラン トリフェニル(α−エチル−〇−ニトロベ/シルオキシ
)シラン トリメチル(3−メチル−2−二トロベンジルオキシ)
シラン ジメチルフェニル(3,4,5−トリメトキン−2−ニ
トロベンジルオキシ)シラン ト ジフェニル(415,6−) リ メ トキ・ノー
2−二トロベンジルオキシ)シラン ジフェニルメチル(5−メチル−4−メトキシ−2−ニ
トロベンジルオキシ)シラン トリフェニル(4,5−ジメチル−2−二トロペンジル
オキシ)シラン ビニルメチルフェニル(4,5−ジクロロ−2−ニトロ
ベンジルオキシ)シラン トリフエニk (2,6−ジニトロベンジルオキシ)シ
ラン 、ジフェニルメチル(2,4−ジニトロベンジルオキシ
)シラン トリフェニル(3−メトキシ−2−ニトロベンジルオキ
シ)シラン ビニルメチルフェニル(3,4−ジメトキシ−2−ニト
ロヘンシルオキシ)7ラン シメチルジ(0−ニトロヘンシルオキシ)シラン メチルフェニルジ(0−ニトロベンジルオキシ)シラン ビニルフェニルジ(0−ニトロヘンシルオキシ)シラン t−ブチルフェニルジ(0−ニトロヘンシルオキシ)シ
ラン ジエチルジ(0−ニトロヘンシルオキシ)7ラン 2−1’ロロエチルフエニルジ(0−ニトロヘンシルオ
キシ)シラン ジフェニルジ(0−ニトロヘンシルオキシ)シラ/ ジフェニルジ(3−メトキシ−2−ニトロベンジルオキ
シ)シラ/ ジフェニルジ(3,4−ヅメキニトロ−二トロベンジル
オキシ)シラン ジフェニルジ(2,6−ジニトロベンジルオキシ)シラ
ン ジフェニルジ(2,4−ジニトロベンジルオキシ)シラ
/ メチルトリ(O−ニトロヘンシルオキシ)シラン フェニルトリ(0−ニトロベンジルオキシ)シラン p−ビス(0−ニトロベンジルオキシジメチルシリル)
べ/ゼン 1.1,3.3−テトラフェニル−1,3−ジ(0−ニ
トロベンジルオキシ)シロキサン1、11313.5.
5−ヘキサフェニル−1,5−ジ(0−ニトロベンジル
オキシ)シロキサン及び81C6含有シリコーン樹脂と
0−ニトロベンジルアルコールとの反応により生成する
ケイ素化合物等があげられる。
くは置換O−ニトロベンジルオキ7基を有するケイ素化
合物の具体例としては、トリメチル(0−ニトロベンジ
ルオキシ)シラン ジメチルフェニル(0−ニトロベンジルオキシ)7ラン ジフエルメチル(0−ニトロベンジルオキシ)シラン トリフェニル(0−ニトロベンジルオキシ)シラン ビニルメチルフェニル(0−ニトロベンジルオキシ)シ
ラン t −ブチルメチルフェニル(0−ニトロベンジルオキ
シ)シラン トリエチル(0−ニトロベンジルオキシ)シラン ト!J (2−クロロエチル)−〇−二トロベンジルオ
オキシラ/ ) IJ (p−) IJフルオロメチルフェニル)−
0−ニトロベンジルオキシシラン トリメチル〔α−(0−ニトロフェニル)−0−ニトロ
ベンジルオキシコシラン ジメチルフェニル〔α−(0−ニトロフェニルニー〇−
ニトロベンジルオキシ〕シラン メチルフェニルジ〔α−(0−ニトロフェニル)−〇−
二トロペンジルオキシ〕シラン トリフェニル(α−エチル−〇−ニトロベ/シルオキシ
)シラン トリメチル(3−メチル−2−二トロベンジルオキシ)
シラン ジメチルフェニル(3,4,5−トリメトキン−2−ニ
トロベンジルオキシ)シラン ト ジフェニル(415,6−) リ メ トキ・ノー
2−二トロベンジルオキシ)シラン ジフェニルメチル(5−メチル−4−メトキシ−2−ニ
トロベンジルオキシ)シラン トリフェニル(4,5−ジメチル−2−二トロペンジル
オキシ)シラン ビニルメチルフェニル(4,5−ジクロロ−2−ニトロ
ベンジルオキシ)シラン トリフエニk (2,6−ジニトロベンジルオキシ)シ
ラン 、ジフェニルメチル(2,4−ジニトロベンジルオキシ
)シラン トリフェニル(3−メトキシ−2−ニトロベンジルオキ
シ)シラン ビニルメチルフェニル(3,4−ジメトキシ−2−ニト
ロヘンシルオキシ)7ラン シメチルジ(0−ニトロヘンシルオキシ)シラン メチルフェニルジ(0−ニトロベンジルオキシ)シラン ビニルフェニルジ(0−ニトロヘンシルオキシ)シラン t−ブチルフェニルジ(0−ニトロヘンシルオキシ)シ
ラン ジエチルジ(0−ニトロヘンシルオキシ)7ラン 2−1’ロロエチルフエニルジ(0−ニトロヘンシルオ
キシ)シラン ジフェニルジ(0−ニトロヘンシルオキシ)シラ/ ジフェニルジ(3−メトキシ−2−ニトロベンジルオキ
シ)シラ/ ジフェニルジ(3,4−ヅメキニトロ−二トロベンジル
オキシ)シラン ジフェニルジ(2,6−ジニトロベンジルオキシ)シラ
ン ジフェニルジ(2,4−ジニトロベンジルオキシ)シラ
/ メチルトリ(O−ニトロヘンシルオキシ)シラン フェニルトリ(0−ニトロベンジルオキシ)シラン p−ビス(0−ニトロベンジルオキシジメチルシリル)
べ/ゼン 1.1,3.3−テトラフェニル−1,3−ジ(0−ニ
トロベンジルオキシ)シロキサン1、11313.5.
5−ヘキサフェニル−1,5−ジ(0−ニトロベンジル
オキシ)シロキサン及び81C6含有シリコーン樹脂と
0−ニトロベンジルアルコールとの反応により生成する
ケイ素化合物等があげられる。
最後に、α−ケトシリル基を有するものは、次式二 〇
1
(几)n−81(CR) 4− n
(式中、nは0.1.2+ 3の数を表わし;几は炭素
数1〜10のアルキル基、ビニル基、アリル基?アリー
ル基などの炭化水素基、アリールオキシ基、炭素数1〜
10のアルコキン基を表わし、これらは)・ロゲン原子
、 NOz 、 C凡−0CHaなどの置換基を分子内
に有していてもよい。)で示される化合物である。
数1〜10のアルキル基、ビニル基、アリル基?アリー
ル基などの炭化水素基、アリールオキシ基、炭素数1〜
10のアルコキン基を表わし、これらは)・ロゲン原子
、 NOz 、 C凡−0CHaなどの置換基を分子内
に有していてもよい。)で示される化合物である。
具体的には、
などの化合物をあげることができる。
これらのケイ素化合物の添加配合量は、エポキシ樹脂に
対し、0.1〜20重量%、好ましくは1〜10重量%
の範囲である。配合量が0.1東叶係に満たない場合に
は、充分な硬化特性が得られずまた、20重量%を超え
て用いることは可能であるが、コスト高や触媒成分の分
解生成物が問題になる場合があるので好ましくない。
対し、0.1〜20重量%、好ましくは1〜10重量%
の範囲である。配合量が0.1東叶係に満たない場合に
は、充分な硬化特性が得られずまた、20重量%を超え
て用いることは可能であるが、コスト高や触媒成分の分
解生成物が問題になる場合があるので好ましくない。
導電性物質の金属としては、銀、ニッケル、銅などが使
用され、又、グラファイトも使用することができる。
用され、又、グラファイトも使用することができる。
又、必要に応じて溶剤も用いることが出来、その溶剤ト
しては、イングロビルアルコール、メチルエチルケトン
、アセトン、トルエン等があげられる。
しては、イングロビルアルコール、メチルエチルケトン
、アセトン、トルエン等があげられる。
本発明の電子機器の電磁シールド方法は、プラスチック
等の表面に光硬化性導電塗料を、スプレ−あるいはハケ
塗りにより塗布し、その後硬化させる。硬化方法として
は、常温光硬化、加熱光硬化、光硬化後のアフターキュ
アなどの方法ニよって硬化し、実用に供することができ
る。このとき照射する光の波長は、光硬化性導電塗料の
組成により異なるが、通常180〜700nmである。
等の表面に光硬化性導電塗料を、スプレ−あるいはハケ
塗りにより塗布し、その後硬化させる。硬化方法として
は、常温光硬化、加熱光硬化、光硬化後のアフターキュ
アなどの方法ニよって硬化し、実用に供することができ
る。このとき照射する光の波長は、光硬化性導電塗料の
組成により異なるが、通常180〜700nmである。
とりわけ、紫外線の照射は効果的である。光照射時間は
、エポキシ樹脂の組成、触媒の種類、光源などによって
異なるが、通常1〜180分、好ましくは1〜60分で
ある。加熱光硬化する場合の加熱温度は、エポキシ樹脂
の組成および触媒の種類によって異なるが、通常20〜
2oo℃、好ましくは 60〜100℃である。光源と
しては、通常、光硬化用に使用されているものであれば
いがなるものでもよく、例えば、低圧水銀ランプ、高圧
水銀ランプ。
、エポキシ樹脂の組成、触媒の種類、光源などによって
異なるが、通常1〜180分、好ましくは1〜60分で
ある。加熱光硬化する場合の加熱温度は、エポキシ樹脂
の組成および触媒の種類によって異なるが、通常20〜
2oo℃、好ましくは 60〜100℃である。光源と
しては、通常、光硬化用に使用されているものであれば
いがなるものでもよく、例えば、低圧水銀ランプ、高圧
水銀ランプ。
カーボンアークランプ、メタルハロゲンランプ。
キセノン−水銀ランプ、キセノンランプ、水素放電管、
タングステンランプ、ハロゲンランプ炉ナトリウム放電
管、ネオン放電管、アルゴン放電管。
タングステンランプ、ハロゲンランプ炉ナトリウム放電
管、ネオン放電管、アルゴン放電管。
He−Neレーザー、Arイオンレーザ−I N2レー
ザー。
ザー。
Cdイオンレーザ−、He−caレーザー、色素レーザ
ー等があげられ、これらから成る群より選ばれた1種も
しくは2種以上のものが適宜使用される。
ー等があげられ、これらから成る群より選ばれた1種も
しくは2種以上のものが適宜使用される。
光硬化後アフターキュアーは、エポキシ樹脂の組成およ
び触媒の種類によって異なるが、通常50〜200℃、
好ましくは70℃〜100℃にて、通常1分〜10時間
、好ましくは10分〜5時間行なう。
び触媒の種類によって異なるが、通常50〜200℃、
好ましくは70℃〜100℃にて、通常1分〜10時間
、好ましくは10分〜5時間行なう。
実施例1〜12
エポキシ樹脂としては、E几L−4221(商品名pU
CC社製、脂還式、エポキシ尚量131〜143)。
CC社製、脂還式、エポキシ尚量131〜143)。
EfLL−4234(商品名、 UCC社製、脂還式、
エポキシ当量133〜154)yE几L−4299(商
品名、 UCC社製、脂還式、エポキシ当量190〜2
10)、ff1−ビニI−)828(商品名、シェル化
学社製、ビスフェノールA型、エポキシ当量190〜2
10 ) 、エビコ−ト1001 (商品名、シェル化
学社製、ビスフェノールA型、エポキシ当量450〜5
25 ) 、エピコ−ト1004 (商品名、シェル化
学社製;ビスフェノールA型、エポキシ当量900〜1
000)、 1%−45EPI(商品名、出光面油製;
内部エポキシ化ポリブタジェン、エポキシ当量200
) 、を使用し、有機アルミニウム化合物としては、ト
リスエチルアセドアセクトアルミニウム(TEAACA
)、)リスプロビルアセトアセタトアルミニウム(TP
’AAA)、 )リスアセチルアセトナドアルミニウム
(TAANA )。
エポキシ当量133〜154)yE几L−4299(商
品名、 UCC社製、脂還式、エポキシ当量190〜2
10)、ff1−ビニI−)828(商品名、シェル化
学社製、ビスフェノールA型、エポキシ当量190〜2
10 ) 、エビコ−ト1001 (商品名、シェル化
学社製、ビスフェノールA型、エポキシ当量450〜5
25 ) 、エピコ−ト1004 (商品名、シェル化
学社製;ビスフェノールA型、エポキシ当量900〜1
000)、 1%−45EPI(商品名、出光面油製;
内部エポキシ化ポリブタジェン、エポキシ当量200
) 、を使用し、有機アルミニウム化合物としては、ト
リスエチルアセドアセクトアルミニウム(TEAACA
)、)リスプロビルアセトアセタトアルミニウム(TP
’AAA)、 )リスアセチルアセトナドアルミニウム
(TAANA )。
トリスサクチルアルデヒダトアルミニウム(TSAA)
を使用し、有機ケイ素化合物としては、下記(1)〜υ
の番号のもの、すなわち (5)ジフェニルメチル(0−ニトロベンンルオキシ)
シラン (6) ) IJフェニル(0−ニトロベンジルオキシ
)シラ/ (7)トリフェニル(5−メチル−2−ニトロベンシル
オキシ)シラン (8)ジフェニルジ(0−ニトロベンジルオキシ)シラ
ン を使用し、これらのエポキシ樹脂、有機アルミニウム化
合物、有機ケイ素化合物からA製される光硬化エポキシ
系バインダーに、導電性物質として(イ)銀粉、f口)
ニッケル粉、(ハ)アルミニウム粉、に)グラファイト
粉を使用し、これらを表に示す重量部だけ混合し実施例
1〜12の光硬化性電磁シールド用導電性塗料としだ。
を使用し、有機ケイ素化合物としては、下記(1)〜υ
の番号のもの、すなわち (5)ジフェニルメチル(0−ニトロベンンルオキシ)
シラン (6) ) IJフェニル(0−ニトロベンジルオキシ
)シラ/ (7)トリフェニル(5−メチル−2−ニトロベンシル
オキシ)シラン (8)ジフェニルジ(0−ニトロベンジルオキシ)シラ
ン を使用し、これらのエポキシ樹脂、有機アルミニウム化
合物、有機ケイ素化合物からA製される光硬化エポキシ
系バインダーに、導電性物質として(イ)銀粉、f口)
ニッケル粉、(ハ)アルミニウム粉、に)グラファイト
粉を使用し、これらを表に示す重量部だけ混合し実施例
1〜12の光硬化性電磁シールド用導電性塗料としだ。
各々の光硬化性電磁シールド用導電性塗料について25
℃以下の温度でのその貯蔵安定性を調べた。
℃以下の温度でのその貯蔵安定性を調べた。
又、・・ケ塗りスプレー法等適等な方法で、ABS板に
塗布し、実施例1.6.7については80 W/Ctn
の高圧水銀ランプ2灯下で15cmの高さから光を照射
し乾燥させた。又、実施例1〜5,8〜12については
、同様に光照射した後に、80℃で所定時間アフターキ
ーアーを行なった。乾燥させたものについて、その減衰
特性を500 KHz〜1GHzで測定し、その結果を
併せて記載した。又、ゴバン目試験も行ない、その接着
性について調べだ。又、それぞれの試験片について、1
2ケ月後の品質を調べると、クラック、剥離が生じてな
く、その減衰特性についても変化が認められなかった。
塗布し、実施例1.6.7については80 W/Ctn
の高圧水銀ランプ2灯下で15cmの高さから光を照射
し乾燥させた。又、実施例1〜5,8〜12については
、同様に光照射した後に、80℃で所定時間アフターキ
ーアーを行なった。乾燥させたものについて、その減衰
特性を500 KHz〜1GHzで測定し、その結果を
併せて記載した。又、ゴバン目試験も行ない、その接着
性について調べだ。又、それぞれの試験片について、1
2ケ月後の品質を調べると、クラック、剥離が生じてな
く、その減衰特性についても変化が認められなかった。
以下り白〔発明の効果〕
以上のように、電磁シールド全行なうに除して、光硬化
性導電性塗料を用いることにより、−液性で長期間保存
でき、又乾燥も比較的短時間ででき、その塗布物につい
ては接着性、安定性にすぐれている。
性導電性塗料を用いることにより、−液性で長期間保存
でき、又乾燥も比較的短時間ででき、その塗布物につい
ては接着性、安定性にすぐれている。
(7317) 代理人 弁理士 則 近 憲 佑(ほか
1名)
1名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1コ エポキシ樹脂、アルミニウム化合物、及びツ 光照射によって鵞うノール基を生ずるケイ素化合物を含
むバインダーと、導電性物質とを含む光硬化性導電性塗
料により、プラスチック表面のコーティングを行なうこ
とを特徴とする電子機器の電磁シールド方法。 (2) 該アルミニウム化合物が有機アルミニウム化合
物である特許請求の範囲第1項記載の電子機器の電磁シ
ールド方法。 (3) Kケイ素化合物が、ペルオキシシラン基。 0−ニトロベンジルオキシ基、α−ケトシリル基のいず
れかを有するケイ素化合物である特許請求の範囲第1項
記載の電子機器の電磁シールド方法。 (4) kアルミニウム化合物及び該ケイ素化合物の配
合量が、該エポキシ樹脂の重量に対し、それぞれ、0.
001〜10重量%、0.1〜20重量%である特許請
求の範囲第1項記載の電子機器の電磁シールド方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58179124A JPS6071641A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 電子機器の電磁シ−ルド方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58179124A JPS6071641A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 電子機器の電磁シ−ルド方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6071641A true JPS6071641A (ja) | 1985-04-23 |
Family
ID=16060410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58179124A Pending JPS6071641A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 電子機器の電磁シ−ルド方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6071641A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62100556A (ja) * | 1985-10-28 | 1987-05-11 | Polyplastics Co | 電磁シ−ルド材料 |
WO2016051700A1 (ja) * | 2014-09-30 | 2016-04-07 | タツタ電線株式会社 | 導電性塗料及びそれを用いたシールドパッケージの製造方法 |
WO2019198336A1 (ja) * | 2018-04-10 | 2019-10-17 | タツタ電線株式会社 | 導電性塗料及び該導電性塗料を用いたシールドパッケージの製造方法 |
-
1983
- 1983-09-29 JP JP58179124A patent/JPS6071641A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62100556A (ja) * | 1985-10-28 | 1987-05-11 | Polyplastics Co | 電磁シ−ルド材料 |
JPH0571629B2 (ja) * | 1985-10-28 | 1993-10-07 | Polyplastics Kk | |
WO2016051700A1 (ja) * | 2014-09-30 | 2016-04-07 | タツタ電線株式会社 | 導電性塗料及びそれを用いたシールドパッケージの製造方法 |
JP5985785B1 (ja) * | 2014-09-30 | 2016-09-06 | タツタ電線株式会社 | 電子部品のパッケージのシールド用導電性塗料及びそれを用いたシールドパッケージの製造方法 |
US10259952B2 (en) | 2014-09-30 | 2019-04-16 | Tatsuta Electric Wire & Cable Co., Ltd. | Conductive coating material for shielding electronic component package and method for producing shielded package |
WO2019198336A1 (ja) * | 2018-04-10 | 2019-10-17 | タツタ電線株式会社 | 導電性塗料及び該導電性塗料を用いたシールドパッケージの製造方法 |
US11912897B2 (en) | 2018-04-10 | 2024-02-27 | Tatsuta Electric Wire & Cable Co., Ltd. | Electroconductive coating material and method for producing shielded package using said electroconductive coating material |
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