KR100832290B1

KR100832290B1 - 표시소자의 컬러필터기판 제조방법

Info

Publication number: KR100832290B1
Application number: KR1020010067596A
Authority: KR
Inventors: 조철균; 백승한
Original assignee: 엘지디스플레이 주식회사
Priority date: 2001-10-31
Filing date: 2001-10-31
Publication date: 2008-05-26
Also published as: KR20030035496A

Abstract

본 발명에서는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법에 관한 것으로, 본 발명은 블랙매트릭스와 컬러필터층을 동일한 장비에서 형성하며, 블랙매트릭스는 아크릴계 수지가 함유된 포토레지스트를 이용한 포토공정에 의해 패터닝되어 형성되며, 포토레지스트를 현상하기 위한 현상액으로는 비이온계 계면활성제를 함유하는 알칼리성 화합물을 사용한다. 이 비이온계 계면활성제를 함유하는 알칼리성 화합물은 안료가 분산된 감광성 컬러레지스트를 현상하기 위해 사용되기 때문에, 블랙매트릭스 패턴용 포토레지스트와 컬러레지스트가 동일한 현상액에 의해 현상되며, 결국 하나의 장비에서 두개의 포토공정을 진행할 수 있게 된다.

블랙매트릭스, 컬러필터, 아크릴계 수지, 비이온계 계면활성제, 컬러레지스트, 현상액

Description

표시소자의 컬러필터기판 제조방법{A METHOD OF FABRICATING COLOR FILTER SUBSTRATE OF DISPLAY DEVICE}

도 1은 표시소자의 일례로서 예시된 액정표시소자의 구조를 나타내는 단면도.

도 2a 내지 도 2g는 본 발명에 따른 표시소자의 컬러필터기판 제조방법을 나타내는 도면.

** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 **

130 : 기판 132 : 블랙매트릭스

136 : 컬러필터층 150 : 마스크

본 발명은 표시소자의 컬러필터기판 제조방법에 관한 것으로, 특히 비이온계 계면활성제를 함유하는 현상액을 이용함으로써 블랙매트릭스와 컬러필터층을 하나의 장비로 형성할 수 있는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법에 관한 것이다.

근래, 핸드폰(mobile phone), PDA, 노트북컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 경박단소용의 평판표시장치(Flat Panel Display device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. 이러한 평판표시장치로는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등이 활발히 연구되고 있으며, 현재에 그 실용화가 이루어지고 있다.

이러한 평판표시장치는 통상적으로 컬러구현을 위한 컬러필터층이 형성되어 있으며, 화상표시 영역 이외의 영역으로 광이 누설되어 표시장치의 화질이 저하되는 것을 방지하기 위한 블랙매트릭스가 형성되어 있는데, 이러한 구조를 갖는 대표적인 평판표시장치가 액정표시소자(Liquid Crystal Display Device)이다.
이하에서는 컬러필터층과 블랙매트릭스를 포함하는 표시소자의 구조를 설명하기 위해, 액정표시소자를 표시소자의 일례로 도 1을 참조하여 설명한다.

도 1은 일반적인 TFT(Thin Film Transistor) LCD의 구조를 나타내는 단면도이다.
도 1에 도시된 구조는 액정표시소자의 한 화소(liquid crystal pixel)만을 나타내는 것으로, TFT LCD(1)는 이러한 화소가 다수개 모여 형성된다. 도면에 도시된 바와 같이, TFT LCD(1)는 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)가 형성된 박막트랜지스터기판과 컬러필터층이 형성된 컬러필터기판으로 이루어지며, 그 사이에 액정을 주입하여 액정층(40)이 형성됨으로써 완성된다.

박막트랜지스터기판은 투명한 유리기판(10) 위에 형성된 게이트전극(13)과, 게이트전극(13)이 형성된 기판(10) 전체에 걸쳐 적층된 게이트절연층(11)과, 상기 게이트절연층(11) 위에 형성된 반도체층(15)과, 상기 반도체층(15) 위에 형성된 소스/드레인전극(17) 및 게이트절연층(11) 위에 상기 소스/드레인전극(17)과 동시에 형성되는 데이터라인(18)과, 액정셀(1)의 화상표시영역에 형성되어 상기 소스/드레인전극(17)과 접속되는 화소전극(20)과, 기판(10) 전체에 걸쳐 형성된 보호층(22)으로 구성된다.

또한, 컬러필터기판에는 실제 컬러를 구현하기 위한 컬러필터층(34)이 형성되어 있다. 상기 컬러필터층(34)은 실제 화상이 구현되는 화소의 화상표시영역에만 형성되며, 화상이 표시되지 않는 영역, 예를 들면 게이트라인 근처나 데이터라인 근처와 같은 화소의 경계나 TFT형성영역에는 블랙매트릭스(32)가 형성되어 이 영역으로 광이 누설되는 것을 방지한다. 또한, 상기 컬러필터층(34)과 블랙매트릭스(32) 위에는 신호가 인가됨에 따라 화소전극(20)과의 사이에 전압이 인가되어 액정분자를 동작시키는 공통전극(36)이 형성되어 있다.

도면에는 도시하지 않았지만, 상기 TFT기판과 컬러필터기판에는 각각 액정분자를 배향하기 위한 배향막이 도포되어 있으며, 그 외부에는 백라이트(도면표시하 지 않음)로부터 발광되어 액정층(40)을 투과하는 광을 편광하기 위한 편광판이 각각 부착된다.

상기와 같이 구성된 TFT기판과 컬러필터기판은 스페이서(spacer;42)에 의해 셀갭(cell gap)이 일정하게 유지된 상태에서 실링(sealing)된 후 액정이 주입되어 액정패널이 완성된다.

블랙매트릭스(32)는 통상적으로 불투명한 Cr나 CrOx 혹은 Cr/CrOx로 구성된다. 이러한 블랙매트릭스는 기판(30) 전체에 걸쳐 Cr이나 CrOx 또는 Cr/CrOx를 적층한 후 포토레지스트(photoresist)를 이용함으로써 원하는 패턴을 형성하는 것이다. 이때, 포토레지스트는 주로 노볼락(Novolak)계 수지로 구성되어 있으며, 패턴을 형성하기 위한 현상액은 TMAH나 KOH 수용액을 주로 사용한다.

한편, 도면에 도시하지 않았지만, 컬러필터층(34)은 통상적으로 R, G, B의 색소를 갖는 화소가 배열되어 있다. 컬러필터층(34)은 여러 가지 방법에 의해 제작될 수 있다. 예를 들면, 염색법, 인쇄법, 전착법, 안료분산법은 이러한 컬러필터층(34)을 제작하기 위해 사용되는 방법들이다. 종래의 STN방식의 LCD에서는 주로 염색법, 인쇄법 또는 전착법에 의해 컬러필터층(34)을 제작했지만, 정교성이 뛰어나고 재현성이 좋으며 대면적 액정패널에 적용 가능하다는 점에서 근래의 TFT LCD에서는 주로 안료분산법을 사용한다.

안료분산법은 감광성의 컬러레지스트(color resist)를 도포하고 광을 조사한 후 현상액에 의해 현상함으로써 원하는 패턴을 형성하는 것이다. 이때, 현상액으로는 주로 비이온계 계면활성제를 포함하는 현상액을 사용한다.

상기한 바와 같이, 컬러필터기판의 블랙매트릭스(32)와 컬러필터층(34)은 모두 포토공정에 의해 형성된다. 이러한 블랙매트릭스(32)의 포토공정과 컬러필터층(34)의 포토공정은 각각 다른 장비에 의해 독립적으로 진행된다. 그 이유는 상기 공정들에 사용되는 레지스트의 종류가 다르므로, 상기 레지스트를 현상하기 위한 현상액 역시 달라져야만 하며, 결국 각각의 현상액에 적합한 포토장비를 사용해야만 하기 때문이다. 예를 들어, 컬러레지스트를 현상하기 위한 비이온계 계면활성제를 함유하는 현상액을 블랙매트릭스(32)의 포토공정에 사용하는 경우(즉, 블랙매트릭스를 컬러레지스트용 장비에 의해 형성하는 경우), 현상액에 함유되는 비이온계 계면활성제에 의해 노볼락계 수지인 포토레지스트가 완전하게 용해되지 않기 때문에, 블랙매트릭스의 형성시 불량이 발생하게 된다.

그러므로, 컬러필터기판의 블랙매트릭스와 컬러필터층을 형성하기 위해서는 각각 독립된 2개의 장비를 사용하여 포토공정을 진행해야만 하는데, 이것은 고가의 포토장비에 의한 제조비용의 증가를 야기할 뿐만 아니라 각각의 장비 가동율도 저하된다는 문제가 있었다.

이러한 문제를 예를 들어 설명한 액정표시소자에만 국한되는 것이 아니라 컬러를 구현하기 위해 컬러필터기판에 컬러필터층과 블랙매트릭스를 형성하는 모든 표시장치에 공통적으로 존재하는 것이다.

이에 본 발명은 상기한 종래기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 본 발명은 표시소자의 블랙매트릭스 패턴용 포토레지스트를 아크릴계 수지를 함유하는 포토레지스트를 이용하여 컬러레지스트 현상용 현상액으로 상기 포토레지스트를 현상할 수 있는 표시소자의 블랙매트릭스 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 다른 목적은 블랙매트릭스 패턴용 포토레지스트와 컬러레지스트를 비이온계 계면활성제를 함유하는 동일한 현상액에 의해 현상함으로써 하나의 장비에서 두개의 공정을 진행할 수 있는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법을 제공하는 것이다.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에서는 컬러레지스트용 현상액으로 비이온계 계면활성제를 함유하는 알칼리성 화합물을 사용하며, 블랙매트릭스 패턴용 포토레지스트로는 아크릴계 수지를 함유하는 포토레지스트를 사용한다. 아크릴계 수지를 함유하는 포토레지스트는 상기 비이온계 계면활성제를 함유하는 알칼리성 화합물에 용이하게 용해되기 때문에, 동일한 현상액을 이용하여 블랙매트릭스와 컬러필터층으로 이루어진 컬러필터기판을 하나의 장비에서 제작할 수 있게 된다.

알칼리성 화합물은 유기알칼리성 화합물이나 무기알칼리성 화합물 둘 다 사용할 수 있는데, 유기알칼리성 화합물로는 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소나트륨, 암모니아 등이 사용되고, 무기알칼리성 화합물로는 6-메틸암모늄히드록사이드나 3-3-메틸히드록시에틸암모늄하이드록사이드로 사용된다.

현상액에는 약 0.01∼1.0중량％의 비이온계 계면활성제가 함유되는데, 상기 비이온계 계면활성제로는 폴리옥실에틸렌 아릴에테르, 폴리옥실에틸렌 알킬에테르, 폴리옥실에틸렌 알킬아릴에테르 또는 폴리옥실에틸렌 유도체 등이 사용될 수 있다. 또한, 포토레지스트에는 약 25∼75중량％의 아크릴계 수지가 함유된다.

본 발명은 LCD, PDP, FED, VFD 등과 같은 평판표시소자의 컬러필터기판을 제작하는 방법을 제공한다. 특히, 본 발명에서는 표시소자의 블랙매트릭스공정과 컬러필터층 공정을 하나의 장비에 의해 실행함으로써 제조비용의 절감을 도모한다. 이를 위해서, 본 발명에서는 블랙매트릭스의 포토공정시 사용되는 포토레지스트와 컬러레지스트를 동일한 현상액에 의해 현상함으로써 동일한 장비에 의해 상기 블랙매트릭스와 컬러레지스트를 패터닝한다.

현상액은 비이온(non-ion)계 계면활성제가 포함된 알칼리성 화합물로서, 수소이온농도(PH)가 약 9∼13인 것이 바람직하다. 알칼리성 화합물은 유기알칼리성 화합물과 무기알칼리성 화합물을 사용할 수 있는데, 유기알칼리성 화합물은, 예를 들면 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소나트륨, 암모니아 등이 사용될 수 있다. 또한, 무기알칼리성 화합물로는 6-메틸암모늄히드록사이드나 3-3-메틸히드록시에틸암모늄하이드록사이드를 사용할 수도 있다. 비이온계 계면활성제는 폴리옥실에틸렌 아릴에테르, 폴리옥실에틸렌 알킬에테르, 폴리옥실에틸렌 알킬아릴에테르 또는 폴리옥실에틸렌 유도체 등이 주로 사용된다.

또한, 상기 블랙매트릭스의 패턴시 사용되는 포토레지스트로는 상기 비이온계 계면활성제가 함유된 현상액에 의해 용이하게 용해될 수 있는 아크릴계 수지를 함유한 포토레지스트가 바람직하다.

또한, 본 발명의 비이온계 계면활성제를 함유하는 현상액은 수지로 이루어진 블랙매트릭스의 패터닝공정에 사용될 수 있다. 수지 블랙매트릭스는 주로 카본을 함유하는 아크릴계 수지로 구성되기 때문에, 본 발명에 사용되는 현상액에 의해 용이하게 패터닝될 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명에서는 Cr이나 CrOx 혹은 Cr/CrOx와 같은 금속으로 이루어진 블랙매트릭스뿐만 아니라 수지로 이루어진 블랙매트릭스 역시 컬러레지스트 패턴용 현상액에 패터닝될 수 있게 된다.

상기한 바와 같이 블랙매트릭스 형성용 포토레지스트로서 아크릴계 수지를 함유하는 포토레지스트를 사용함으로써 컬러레지스트와 블랙매트릭스용 포토레지스트의 현상을 동일한 장비에 의해 실행할 수 있게 된다.

이하, 본 발명의 일실시예에 따른 표시소자의 컬러필터기판 제조방법에 대해 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 2a 내지 도 2g는 본 발명의 일실시예에 따른 표시소자의 컬러필터기판을 제조하는 방법을 나타내는 도면이다.
도 2a에 도시된 바와 같이, 투명한 유리와 같은 절연기판(130) 전체에 걸쳐서 증착이나 스퍼터링공정에 의해 Cr이나 Cr0x 또는 Cr/CrOx 등을 적층하여 금속층(132a)를 증착한 후 그 위에 포토레지스트를 적층하여 포토레지스트층(140)을 형성한다. 상기 포토레지스트층은 아크릴계 수지를 함유하는 포토레지스트 또는 아크릴계 수지와 노볼락 수지가 혼합된 포토레지스트로 이루어진 것으로, 아크릴계 수지만을 함유하는 포토레지스트의 경우 상기 아크릴계 수지를 약 25∼75중량％ 함유하는 것이 바람직하며, 약 45∼55중량％ 함유하는 것이 더욱 바람직하다. 그 이유는, 포토레지스트에 함유되는 아크릴계 수지가 25중량％ 이하이면 이후의 현상 공정시 현상효율이 저하되며 75중량％ 이상이면 금속층(132a)과의 접착력이 저하되기 때문이다.

이어서, 상기 포토레지스트층(140)의 상부에 마스크(150)를 위치시켜 상기 포토레지스트층(140)의 일부를 블로킹한 상태에서 자외선과 같은 광을 조사한다.

상기 광이 조사됨에 따라 광에 노출된 포토레지스트층(140a)의 화학구조가 변화되며, 도 2b에 도시된 바와 같이 계속해서 상기 포토레지스트층(140)에 현상액을 작용함에 따라 금속층(132a) 위에는 광에 노출되었던 포토레지스트층(140a)만남아 있게 된다. 이때, 상기 현상액은 PH가 약 9∼13, 바람직하게는 10.0∼12.5인 유기알칼리성 화합물이나 무기알칼리성 화합물로서, 약 0.01∼1.0중량％, 바람직하게는 0.05∼0.5중량％의 비이온(non-ion)계 계면활성제가 첨가되어 있다.

현상액의 PH가 9 미만이면, 상기 포토레지스트층(140a)이 현상액에 의해 완전하게 용해되지 않기 때문에, 금속층(132a) 위에는 현상되지 않은 포토레지스트가 남아 있게 되며, PH가 13을 초과하는 경우에는 광에 노출되지 않은 비현상영역의 포토레지스트(140)가 영향을 받게 된다. 또한, 알칼리성 화합물에 함유되는 비이온계 계면활성제의 함유량이 0.01중량％ 미만이면 포토레지스트층(140a)이 완전하게 현상되지 않으며, 1.0중량％를 초과하면 현상액에 거품이 발생하여 현상효율이 저하되게 된다.

유기알칼리성 화합물로는 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소나트륨, 암모니아 등이 사용될 수 있으며, 무기알칼리성 화합물로는 6-메틸암모늄히드록사이드나 3-3-메틸히드록시에틸암모늄하이드록사이드로 사용될 수 있다. 또한, 비이온계 계면활성제는 폴리옥실에틸렌 아릴에테르, 폴리옥실에틸렌 알킬에테르, 폴리옥실에틸렌 알킬아릴에테르 또는 폴리옥실에틸렌 유도체 등을 포함한다.

이어서, 도 2c에 도시된 바와 같이, 에천트(etchant)를 작용시켜 상기 금속층(132)을 에칭하며, 도 2d에 도시된 바와 같이, Cr나 CrOx 또는 Cr/CrOx로 이루어진 블랙매트릭스(132)가 형성된다.

상기와 같은 공정에 의해 표시소자의 블랙매트릭스 패턴이 형성된다. 상기 공정은 비이온계 계면활성제가 함유된 현상액이 충진된 특정 포토장비내에서 실행된다. 통상적으로 포토장비는 특정 현상액이 충진되어 있기 때문에, 다른 현상액을 이용하여 포토공정을 진행하기 위해서는 또 다른 포토장비를 구비해야만 한다. 본 발명에서는 상기의 비이온계 계면활성제가 함유된 현상액이 컬러레지스트의 현상에 특히 유용하게 사용될 수 있기 때문에 상기 블랙매트릭스의 포토공정용 장비에 의해 이하의 컬러레지스트 현상공정을 진행할 수 있게 된다.

다시 말해서, 도 2d에 도시된 바와 같이 블랙매트릭스 패턴(132)이 형성되면, 상기 공정에 진행된 장비내에서 도 2e에 도시된 바와 같이 기판(130) 전체에 걸쳐 컬러레지스트층(136a)을 계속 형성한다. 상기 컬러레지스트층(136)은 안료가 첨가된 감광성의 컬러레지스트로 이루어진 것으로, 레드나 그린 또는 블루의 색소를 가지는 레지스트일 수 있다.

그후, 컬러레지스트층(136a)에 마스크(150)를 이용하여 일부 영역을 블로킹한 상태에서 자외선과 같은 광을 조사하면, 도 2f에 도시된 바와 같이 상기 광에 노출된 영역(136b)이 현상액에 용해되는 화학구조로 변화된다. 이때, 상기 컬러레지스트는 통상적으로 음성(negative) 레지스트이기 때문에, 도면에 도시된 바와 같이 현상될 영역을 마스크(150)로 블로킹한 상태에서 광을 조사한다.

상기한 바와 같이 광을 조사한 후, 블랙매트릭스를 형성하기 위해 사용했던 비이온계 계면활성제가 함유된 현상액을 상기 컬러레지스트층(136a,136b)에 작용하면, 상기 영역(136b)의 컬러레지스트가 제거되어, 결국 도 2g에 도시된 바와 같은 컬러필터층(136)이 형성된다. 이때, 상기 컬러필터(136)는 블랙매트릭스(132)와 일부 겹치도록 형성되는데, 그 이유는 블랙매트릭스(132)와 컬러필터층(136) 사이에 컬러 구현이 안되는 것을 방지하기 위한 것이다.

통상적으로, 컬러필터층(136)은 R, G, B의 기본적인 3가지 색소로 이루어져 있다. 따라서, 완전한 컬러필터층(136)을 형성하기 위해서는 각각의 색소용 컬러필터층에 대해 상기 공정을 반복해야만 한다.

상술한 바와 같이, 본 발명에서는 컬러레지스트의 현상시 사용되는 비이온계 계면활성제를 함유하는 현상액에 의해 블랙매트릭스 형성용 포토레지스트를 현상하기 때문에, 블랙매트릭스공정 및 컬러필터공정을 한 공정에 의해 진행할 수 있게 되며, 그 결과 표시소자의 컬러필터의 공정이 간단하게 되며 제조비용도 절감할 수 있게 된다.

이러한 공정은 카본을 함유하는 아크릴계 수지로 이루어진 수지블랙매트릭스와 컬러레지스트로 이루어진 컬러필터층으로 구성된 컬러필터기판을 제조하는 공정에도 동일하게 적용될 수 있다.

본 발명의 컬러필터기판 제조방법은 모든 표시소자에 적용될 수 있다. 특히, 블랙매트릭스와 컬러필터층으로 이루어진 모든 표시소자에 적용될 수 있다. 또한, 본 발명은 컬러필터기판 제조방법에만 한정되는 것은 아니다. 아크릴계 수지를 포함하여 구성된 포토레지스트와 감광성 컬러레지스트를 비이온계 계면활성제를 함유하는 현상액으로 동일한 장비에서 가공할 수 있는 모든 공정에 본 발명은 적용 가능할 것이다.
따라서, 본 발명의 권리의 범위는 상술한 상세한 설명에 의해 결정되는 것이 아니라 첨부한 특허청구범위에 의해 결정되어야만 할 것이다.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 표시소자의 컬러필터기판 제조방법에 있어서는 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명에 의하면, 표시소자의 컬러필터층과 아크릴계 수지로 구성된 블랙매트릭스를 비이온계 계면활성제가 함유된 현상액을 이용하여 동일한 장비에서 형성하기 때문에, 두개의 장비에 의해 공정을 진행하던 종래 방법에 비해 투자비용이 절감될 뿐만 아니라 장비 가동율을 향상시킬 수 있게 된다.

Claims

기판상에 블랙매트릭스를 적층하는 단계;

상기 블랙매트릭스 위에 아크릴계 수지를 함유하는 포토레지스트를 적층하는 단계;

상기 포토레지스트의 일부 영역을 마스크로 블로킹한 상태에서 광을 조사한 후 비이온계 계면활성제를 함유하는 현상액에 의해 상기 포토레지스트를 현상하는 단계;

상기 블랙매트릭스를 패터닝하는 단계;

상기 기판 전체에 걸쳐 컬러레지스트를 적층하는 단계; 및

상기 컬러레지스트의 일부 영역을 마스크로 블로킹한 상태에서 광을 조사한 후 비이온계 계면활성제를 함유하는 현상액에 의해 상기 컬러레지스트를 현상하여 컬러필터층을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 블랙매트릭스는 Cr, CrOx, Cr/CrOx로 이루어진 일군으로부터 선택된 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 블랙매트릭스는 아크릴계 수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 포토레지스트에는 25∼75중량％의 아크릴계 수지가 함유되는 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제4항에 있어서, 상기 포토레지스트에는 45∼55중량％의 아크릴계 수지가 함유되는 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 현상액은 유기알칼리성 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제6항에 있어서, 상기 유기알칼리성 화합물은 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소나트륨, 암모니아로 이루어진 일군으로부터 선택된 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 현상액은 무기알칼리성 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제8항에 있어서, 상기 무기알칼리성 화합물은 6-메틸암모늄히드록사이드와 3-메틸히드록시에틸암모늄하이드록사이드로 이루어진 일군으로부터 선택된 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 현상액에 포함되는 비이온계 계면활성제는 폴리옥실에틸렌 아릴에테르, 폴리옥실에틸렌 알킬에테르, 폴리옥실에틸렌 알킬아릴에테르, 폴리옥실에틸렌 유도체로 이루어진 일군으로부터 선택된 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 현상액의 수소이온농도는 9∼13인 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제11항에 있어서, 상기 현상액의 수소이온농도는 10.0∼12.5인 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 현상액에는 0.01∼1.0중량％의 비이온계 계면활성제가 함유되는 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
제13항에 있어서, 상기 현상액에는 0.05∼0.5중량％의 비이온계 계면활성제가 함유되는 것을 특징으로 하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
기판상에 적층된 블랙매트릭스 위에 아크릴계 수지를 함유하는 포토레지스트를 적층하는 단계;

상기 포토레지스트의 일부 영역을 마스크로 블로킹한 상태에서 광을 조사한 후 비이온계 계면활성제를 함유하는 현상액에 의해 상기 포토레지스트를 현상하여 블랙매트릭스를 패터닝하는 단계;

상기 블랙매트릭스를 패터닝한 장비내에서 상기 기판 전체에 걸쳐 컬러레지스트를 적층하는 단계; 및

상기 컬러레지스트의 일부 영역을 마스크로 블로킹한 상태에서 광을 조사한 후 비이온계 계면활성제를 함유하는 현상액에 의해 상기 컬러레지스트를 현상하여 컬러필터층을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 표시소자의 컬러필터기판 제조방법.