JPH07134205A

JPH07134205A - カラーフィルターの製造方法

Info

Publication number: JPH07134205A
Application number: JP28315493A
Authority: JP
Inventors: Susumu Miyazaki; 進宮崎; Tsuyoshi Nakano; 強中野; Yoshikatsu Okada; 良克岡田; Junichi Yasukawa; 淳一安川; Yoshinori Matsumura; 美紀松村; Kazuo Tsueda; 和夫津枝
Original assignee: Shinto Paint Co Ltd; Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Shinto Paint Co Ltd; Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1993-11-12
Filing date: 1993-11-12
Publication date: 1995-05-23

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】簡便な工程により精度の良いカラー塗膜と遮光
性塗膜（ブラックマトリックス）を有するカラーフィル
ターを製造する方法を提供する。【構成】（ａ）表面に導電層２を有する透明基板１全面
に、ポジ型またはネガ型フォトレジストを塗布して、塗
膜３を形成する工程、（ｂ）マスク５，６を重ねて、光
線４を照射する露光工程、（ｃ）現像工程、（ｄ）エッ
チングする工程、（ｅ）熱処理する工程、（ｆ）遮光性
を有するネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜７を形
成する工程、（ｇ）透明基板の背面より露光する工程、
（ｈ）ネガ型フォトレジストの未硬化部分を除去する現
像工程、（ｉ）上記（ｅ）工程で形成された塗膜のみを
除去する工程、（ｊ）形成された複数の帯状の導電層を
一方の電極として使用し電着塗装を行なうことにより、
その導電層上に着色塗膜を形成する工程、を上記の順に
行なうことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、透明基板上に、複数の
帯状のカラー塗膜と、その塗膜間を埋める遮光性塗膜を
有するカラーフィルターの製造方法に関するものであ
る。特に、カラー液晶表示装置（ＬＣＤ）に使用される
カラーフィルターの製造に有用な方法である。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶を利用したＬＣＤは、いわゆ
るポケットテレビ等に使われてきたが、近年大型化、大
画面化が急速に進められるとともに、そのカラー化も進
められている。画質もＴＮ液晶からＳＴＮ液晶やＴＦＴ
に代表されるアクティブ駆動素子の開発でCRT に迫るも
のが商品化されている。カラーフィルターは、ＬＣＤの
カラー化に必須であり、その品質向上および生産性の改
善については、様々な検討が行われているが、その重要
な課題の一つは工程の簡素化による低コスト化である。
カラーフィルターの製造法については、印刷法、顔料分
散法、電着法等が検討されている。印刷法は、パターン
の微細化には限界があり、多色化が進むほど印刷位置の
精度は悪くなる。顔料分散法は、フォトリソグラフィー
により微細パターニングは可能であるが、色変えの都
度、フォトリソグラフィーが必要となり、工程が極めて
複雑となる。また、複数の平行な帯状の導電性回路上に
帯状のカラーの塗膜を電着法により形成し、次いで遮光
性塗膜を与えるネガ型フォトレジストを全面に塗布し
て、前カラーの塗膜をマスク代わりにして基板背面から
露光して、帯状のカラーの塗膜の間隙にブラックマトリ
ックスとしての遮光性塗膜を形成する比較的簡便な方法
が知られている（特開昭５９ー１１４５７２公報、特開
平３ー４２６０２公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の電着法カラーフ
ィルターの製造方法では、カラー塗膜の電着後、遮光性
フォトレジストを塗布し、背面露光によりブラックマト
リックスを形成する際、加熱硬化処理を施す必要がある
が、この際電着塗膜に高温熱履歴が加わるため、電着塗
膜の変色などが懸念される。また、電着用樹脂の選択範
囲が制限されることも懸念される課題があった。

【０００４】そこで、この発明の目的は、従来のこのよ
うな課題を解決し、簡便な工程により精度の良いカラー
塗膜と遮光性塗膜（ブラックマトリックス）を有するカ
ラーフィルターを製造する方法を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、電着塗装
法によれば塗膜を極めて精度よく導電回路上にのみ選択
的に塗着でき、また透明導電回路形成のために行なうフ
ォトリソグラフィーにおいて、使用するレジストが熱処
理により透過率が低下し露光光を十分透過しないことに
着眼し、従来の背面露光を応用しその他いろいろの工夫
をすることにより、上記の目的を達成しうることを見出
し本発明を完成させたものである。すなわち、本発明は
次のとおりである。透明基板上に、複数の帯状の着色塗
膜と、その塗膜間を埋める遮光性塗膜を有するカラーフ
ィルターの製造方法において、（ａ）表面に導電層を有
する透明基板全面に、ポジ型またはネガ型フォトレジス
トを塗布して、塗膜を形成する工程、（ｂ）形成された
ポジ型またはネガ型フォトレジスト塗膜の表面に、次の
現像工程において、複数の帯状の塗膜を与えるようなパ
ターンを有するマスクを重ねて、光線を照射する露光工
程、（ｃ）複数の帯状の塗膜以外の部分を除去する現像
工程、（ｄ）複数の帯状の塗膜で覆われている部分以外
の導電層をエッチングする工程、（ｅ）複数の帯状の塗
膜を熱処理する工程、（ｆ）複数の帯状の塗膜を含む透
明基板全面に遮光性を有するネガ型フォトレジストを塗
布して、塗膜を形成する工程、（ｇ）透明基板の背面よ
り露光する工程、（ｈ）下地に上記（ｅ）工程で形成さ
れた透過率が低いポジ型またはネガ型フォトレジスト塗
膜が存在するために十分に露光されなかった、（ｆ）工
程で形成されたネガ型フォトレジストの未硬化部分を除
去する現像工程、（ｉ）上記（ｅ）工程で形成された塗
膜のみを除去する工程、（ｊ）以上の工程を経て得られ
た透明基板に、その表面に形成された複数の帯状の導電
層を一方の電極として使用し電着塗装を行なうことによ
り、その導電層上に着色塗膜を形成する工程、を上記の
順に行なうことを特徴とする方法。

【０００６】本発明における、（ａ）〜（ｊ）の各工程
で得られる製品の断面の模式図を図１に示した。また、
本発明によって得られるカラーフィルターの各塗膜のパ
ターンの平面の模式図を図２に示した。本発明におい
て、複数の帯状部はその長手方向が略平行であり、その
側線は直線その他任意の形状とすることができる。

【０００７】本発明における（ａ）の工程は、導電層を
有する透明基板全面に、ポジ型またはネガ型フォトレジ
ストを塗布して塗膜を形成する工程である。本発明にお
いて使用される透明基板材料としては、ガラスあるいは
プラスチックの板等があげられる。この基板に形成され
る導電層は、ITO 膜（錫をドーブした酸化インジウム
膜）あるいは、ネサ膜（アンチモンドープした酸化錫
膜）等の透明導電性材料により作られる。ここで用いら
れるポジ型フォトレジストの例として、ノボラック型フ
ェノール樹脂にＯ−キノンジアジドのエステル化物を含
有したもの等があげられるが、これらに限定されるもの
ではない。市販品として、東京応化社製のＯＦＰＲ−８
００（商品名）、住友化学工業社製のＰＦ−７４００
（商品名）、富士ハトエレクトロニクステクノロジー社
製のＦＨ−２０３０（商品名）等があげられる。

【０００８】（ａ）工程で使用するネガ型フォトレジス
トの例として、アクリレート樹脂に、ベンゾフェノン
類、アントラキノン類などの光重合開始剤を含有したも
の等が挙げられるが、もちろんこれらのものに限定され
るものではない。市販品として、東京応化工業社製、商
品名ＯＭＲ−８３などがあげられる。

【０００９】なお、後述の（ｅ）工程において、塗膜に
熱処理を施して遮光性を付与する。その熱処理による遮
光性を補うために、塗膜の材料であるポジ型またはネガ
型フォトレジストに対して、遮光成分としてカーボンブ
ラックあるいはチタンブラックなどを添加することがで
きる。

【００１０】導電層を有する透明基板上にポジ型または
ネガ型フォトレジスト塗膜を形成する方法としては、ス
クリーン印刷法、オフセット印刷法、ロールコート法、
バーコート法、スピンコート法等が使用できる。これら
の中で、スピンコート法により塗膜を形成する場合に
は、回転数は、二段階とし、初めに１００〜４００rpm
でフォトレジストを基板上に広げ、次に８００〜５００
０rpm でそのフォトレジストの膜厚を均一にすることが
推奨される。スピンコート法は、導電層を有する透明基
板上に忠実に精度良く塗膜を形成することができるため
有用である。透明導電層を有する基板上に塗布されたポ
ジ型またはネガ型フォトレジストは、次に、必要に応じ
て、６０〜１００℃、時間５〜６０分の条件で熱処理さ
れる。熱処理をすることにより、ポジ型またはネガ型フ
ォトレジスト中の樹脂が予備硬化され、その塗膜と導電
性を有する透明基板との密着性が向上する。

【００１１】本発明における（ｂ）の工程は、形成され
たポジ型またはネガ型フォトレジストの塗膜の表面に、
次の現像工程において複数の帯状の塗膜を与えるような
パターンを有するマスクを重ねて、光線を照射する露光
工程である。（ｂ）の工程での露光には、ポジ型または
ネガ型フォトレジスト塗膜の種類により種々の範囲の波
長光を使用できるが、一般にＵＶ領域が望ましく、光源
として超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を使用し
た装置を用いることができる。この装置は、パターンニ
ングの精度のためにも、ミラー式の平行光のものが望ま
しい。

【００１２】露光条件は、ポジ型フォトレジスト塗膜の
場合は、使用する光量および塗膜の種類により異なる
が、通常、１０〜５００ｍＪ／ｃｍ²である。露光され
た部分は分解反応が進行して、後述する薬剤に可溶とな
る。また、ネガ型フォトレジスト塗膜の場合は、使用す
る光量および塗膜の種類により異なるが、通常、露光量
は１０〜５００ｍＪ／ｃｍ²である。露光されない部分
は硬化が進まず、後述する薬剤に可溶となる。

【００１３】本発明における（ｃ）の工程は、複数の帯
状の塗膜以外の部分を除去する現像工程である。ポジ型
フォトレジスト塗膜の場合は、塗膜の露光部分が溶解さ
れ、除去される。その除去には、適当な溶解力を有する
薬剤（現像液）に接触させることによって行なうことが
できる。このような薬剤は、ポジ型フォトレジスト塗膜
の種類によって種々選択されるが、通常は、カ性ソー
ダ、炭酸ナトリウム、４級アンモニウム塩及び有機アミ
ン等を水に溶かして得られるアルカリ性水溶液、あるい
は、エステル、ケトン、アルコール、芳香族炭化水素、
塩素化炭化水素の有機溶剤から適宜選択使用する。その
除去は、浸漬あるいはシャワーなどの方法により、５秒
ないし３分程度で行なうことができる。その後、残った
塗膜を水、純水等でよく洗浄し、必要に応じて、８０〜
２８０℃、５〜６０分間の条件で熱処理される。

【００１４】また、ネガ型フォトレジスト塗膜の場合
は、塗膜の未露光部分が未硬化部分となり除去される。
その除去は、上記のポジ型フォトレジスト塗膜の場合と
同様にして行なうことができる。この工程により、マス
クのパターン形状に応じて、ポジ型またはネガ型フォト
レジスト塗膜が形成される。

【００１５】（ｄ）工程は、複数の帯状の塗膜で覆われ
ている部分以外の導電層をエッチングする工程である。
透明導電性材料である、ITO 膜およびネサ膜のエッチン
グ液は、通常、塩化第２鉄−塩酸水溶液、塩酸−硝酸混
合水溶液などが適宜使用される。エッチングは、この薬
剤を透明導電膜にシャワーあるいは浸漬により接触させ
ることにより行なわれる。

【００１６】本発明における（ｅ）工程は、（ｃ）工程
で形成した複数の帯状のポジ型またはネガ型フォトレジ
ストの塗膜を熱処理する工程である。この熱処理により
その塗膜の透過率が低下し、遮光性が付与される。熱処
理された塗膜は、後述の（ｇ）工程において、遮光性を
有するネガ型フォトレジスト塗膜を透明基板の背面より
露光する際、遮光マスクとして利用される。またこの熱
処理により、（ｃ）工程で形成したポジ型またはネガ型
フォトレジストの塗膜と他の塗膜との反応性を低くし、
その後のそのポジ型またはネガ型フォトレジストの塗膜
の除去を容易にさせる。すなわち、（ｉ）工程における
そのポジ型又はネガ型フォトレジストの塗膜の除去操作
の際、残されるべきネガ型フォトレジスト塗膜周辺にそ
のポジ型又はネガ型フォトレジストの塗膜の残さが残っ
たり、あるいは残されるべきネガ型フォトレジスト塗膜
の剥離が生じるという不都合が生じることを防止するこ
とができる。熱処理の条件は、温度１２０〜３００℃、
時間１５分間〜２時間が好ましく、とくに、温度２００
〜２６０℃、１時間程度がさらに好ましい。

【００１７】本発明における（ｆ）の工程は、以上の工
程により得られた複数の帯状の塗膜を含む透明基板全面
にネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成する工
程である。この塗布は、スピンコート法、ロールコート
法、スクリーン印刷、オフセット印刷、浸漬コート法な
どの比較的均質な塗膜が得られる方法で行う。ネガ型フ
ォトレジストとしては、UV領域の光源で硬化反応する、
いわゆるUV硬化型の材料が好ましい。それらの主成分と
して、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、合成ゴム
系、ポリビニルアルコール系等の各種の樹脂あるいは、
ゴムまたはゼラチンがあり、それぞれ単独あるいは混合
して使用することができる。それらは、光硬化型塗料、
インキあるいはネガ型レジストとして市販されている。
これらの材料には、遮光性を付与するために黒色顔料そ
の他の遮光剤が加えられる。また、反応性希釈剤、反応
開始剤、光増感剤などを適宜加えることができる。

【００１８】ネガ型フォトレジストは塗布するに際し、
その作業性をよくするために、有機溶剤希釈型の材料で
は、炭化水素、エステル、ケトンなどの適当な有機溶剤
で、また、水希釈型の材料では、水で、適当な粘度ある
いは固形分まで希釈して使用する。

【００１９】本発明における（ｇ）の工程は、透明基板
の背面より露光する工程である。露光は、ネガ型フォト
レジストの種類により種々の範囲の波長の光が使用でき
るが、一般には、UV領域が望ましく、光源として超高圧
水銀灯、メタルハライドランプ等を使用した装置を用い
ることができる。露光条件は、使用する光量およびネガ
型フォトレジストの種類により異なるが、通常は、露光
量１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ²である。露光された部
分は、架橋反応が進行し不溶性となり硬化する。

【００２０】本発明における（ｈ）の工程は、下地に上
記（ｅ）工程で形成された透過率が低下した塗膜が存在
するために十分に露光されなかったネガ型フォトレジス
ト塗膜の未硬化部分を除去する現像工程である。その部
分の除去は、適当な溶解力を有する薬剤、例えば、現像
液、に接触させ、溶出することにより行われる。このよ
うな薬剤は、ネガ型フォトレジスト塗膜の種類により選
択されるが、通常はカ性ソーダ、炭酸ソーダ、４級アン
モニウム塩又は有機アミン等を水に溶かしたアルカリ水
溶液、あるいはエステル、ケトン、アルコール、塩素化
炭化水素等の有機溶剤が適宜使用される。溶出は浸潰あ
るいはシャワーなどにより３０秒ないし５分程度行えば
よい。その後に、水、有機溶剤などを使用してよく洗浄
を行なう。次に必要により、１００〜２８０℃、１０〜
１２０分間の条件で熱処理される。

【００２１】本発明による（ｉ）の工程は、（ｅ）工程
で形成したポジ型あるいはネガ型フォトレジスト塗膜の
みを除去する工程である。除去は適当な溶解力を有する
薬剤、例えば、いわゆる現像液に接触させることにより
行われる。かかる薬剤は使用された塗膜により種々選択
されるが、通常、カ性ソーダ、炭酸ソーダ、４級アンモ
ニウム塩及び有機アミン等のアルカリ水溶液あるいは、
エステル、ケトン、アルコール、エーテル、塩素化炭化
水素等の有機溶剤が、適宜使用される。除去は浸漬ある
いはシャワーなどを３０秒ないし２０分程度行なうこと
により達成される。適宜、ブラシ、織布などによるラビ
ングが使用される。この工程により、次の工程で形成さ
れる複数の平行な帯状の着色塗膜間を埋める遮光性塗膜
（ブラックマトリックス）が形成される。その後に有機
溶剤、水などを使用して良く洗浄を行ない、次に必要が
あれば求められる性能を出すためポストベークをする。

【００２２】本発明における（ｉ）工程は、以上の工程
を経て得られた透明基板に、その導電性回路を一方の電
極として使って電着塗装を行なうことにより、その導電
性回路上に位置する複数の帯状部（遮光部の間隙）に、
赤、緑、青など色を有する塗膜を形成する工程である。
（ｈ）の工程を終わった段階で、下地の複数の導電性回
路上の帯状部（遮光部の間隙）には塗膜が存在しない。
この工程ではその部分に電着塗装法により塗膜を形成す
る。この種の導電性回路上に電着塗装を行う方法は、一
般に公知である。例えば、実務表面技術、Ｖｏｌ．３
４、Ｎｏ．６（１９８７）ｐ．５７〜６３、特公平４−
６４８７５公報に記載された方法を参考にすることがで
きる。電着塗装法には、アニオン系とカチオン系の塗装
法があり、本発明においてはいずれの方法も使用可能で
あるが、回路への影響が少ないことと、溶出のし易さな
どからアニオン系塗装法が好ましい。電着塗装に用いる
電着液の樹脂材料（バインダー）としては、マレイン化
油系、アクリル系、ポリエステル系、ポリブタジエン
系、ポリオレフィン系などのがあげられる。これらは、
それぞれ単独で、あるいは混合して使用できる。これら
のバインダーの中に着色顔料等を配合する。電着液は、
一般に、バインダー等の成分を水に分散、希釈してつく
られる。電着液としては、水以外に有機溶剤を使用する
非水系電着液も使用することができる。

【００２３】電着液の入った浴中に上記の工程を経て得
られた透明基板を入れ、アニオン電着塗装法の場合は、
その導電性回路とし、非腐蝕性の導電材料（ステンレス
など）を対極として入れて直流電圧を印加すると、その
導電性回路上に位置する複数の帯状の窓部に選択的に電
着塗膜が形成される。電着塗膜の膜厚は、電着条件によ
り制御される。電着条件は、通常１０〜３００Ｖで１秒
から３分程度である。電着塗膜は、塗膜形成後よく洗浄
して不要物質を除去する。塗膜強度を高めるために、必
要により、１００〜２８０℃、１０〜１２０分間の条件
で熱処理される。

【００２４】本発明方法を使ってＬＣＤ用等のカラーフ
ィルターをつくる場合、導電性回路を表面に有する透明
基板上に、帯状のカラー部およびその間隙のブラックマ
トリックス部を形成後それらの上にオーバーコート膜
（保護膜）が形成される。オーバーコート材としては、
エポキシ、ポリイミド、アクリレート系などの樹脂が用
いられる。オーバーコート膜の形成は、スピンコータ
ー、又はロールコーターなどにより樹脂を塗布後、熱硬
化することにより行なわれる。そして、さらに、その上
に液晶駆動用として、透明導電膜が形成され、必要に応
じて回路パターンが形成され、カラーフィルターが完成
する。

【００２５】以下に実施例を挙げて本発明を詳細に説明
する。

【実施例】

（１）ポジ型フォトレジスト塗膜の形成導電層（ITO 膜１５Ω／ｃｍ²）を有する厚さ１. １mm
のガラス基板の全面にポジ型フォトレジスト（商品名、
ＦＨ2030、富士ハントエレクトロニクステクノロジー社
製）１００重量部に対して、酢酸エチルセロソルブ２０
重量部を加え、この混合物による塗布をスピンコート法
で２００ｒｐｍ／５秒、１０００ｒｐｍ／２０秒の二段
階で順に行い、９０℃で３０分間熱処理して、膜厚１.
５μｍのポジ型フォトレジスト塗膜を形成した。〔以上
（ａ）工程〕（２）露光ポジ型フォトレジスト塗膜上に、帯状の遮光部（ライ
ン）と透過部（スペース）を交互に有するものにパター
ニングされた（ライン＆スペース：１００μｍ−２０μ
ｍ）パターンマスクをセットし（ギャップ：３０μ
ｍ）、超高圧水銀灯を光源としたプロキシミティ露光機
（大日本科研製ＭＡＰ−１２００）により露光量１００
ｍＪ／ｃｍ²で露光を行った。〔以上（ｂ）工程〕（３）現像: 露光後、現像液（住友化学工業社製、商品名ＳＯＰＤ、
温度２５℃）に６０秒浸漬して現像し、露光部分を除去
し、純水リンスおよびエアーブロー乾燥により帯状にポ
ジ型フォトレジスト膜を形成した。（以上（ｃ）工程）（４）熱処理上記（ｃ）工程で得られた、帯状のポジ型フォトレジス
ト塗膜を有する基板をオーブン中２２０℃、１時間熱処
理を行った。〔以上（ｄ）工程〕（５）ネガ型フォトレジスト塗膜の形成上記（ｄ）の工程を経た基板の全面にブラックマスク用
塗料（遮光剤を含有するネガ型フォトレジスト）（シン
トーケミトロン社製）をスクリーン印刷で塗布した。塗
布後、１００℃で１０分間熱処理を行った。形成された
膜の厚さは約８μｍであった。〔以上（ｅ）工程〕（６）ネガ型フォトレジスト塗膜の露光上記（ｅ）の工程を経た基板に対し、背面（回路を有す
る面の反対側）１０cmの距離から８０ＷのＵＶ光線を１
０秒照射した。露光量１８００ｍＪ／ｃｍ²。この時用
いたＵＶ光線の主波長は３１３ｎｍおよび３６５ｎｍで
あった。〔以上（ｆ）工程〕（７）現像および洗浄上記（ｆ）の工程を経た基板を、次いで超音波をかけな
がら２分間、酢酸エチルセロソルブ中に浸漬して未露光
部分（下地に上記（ｄ）の工程で形成された透過率の低
いポジ型レジスト塗膜が存在するために露光が妨げられ
た部分）の塗膜を除去した。次に酢酸エチルセロソルブ
洗浄液に３０秒浸漬した後、イソプロピルアルコール、
純水の順に各３０秒間浸漬した。次いで２３０℃、３０
分間加熱し、硬化させた。この結果、複数の平行な帯状
の遮光性塗膜（ブラックマトリックス、膜厚1 .2 μ
ｍ）が形成された。〔（ｇ）工程〕（８）ポジ型フォトレジスト塗膜のはく離（ｄ）工程で形成されたポジ型フォトレジスト塗膜を、
４０℃に加温した５重量％苛性ソーダ水溶液に１５分間
浸漬した後、純水シャワーをかけながらブラシによりポ
ジ型フォトレジスト塗膜のみの剥離除去を行なった。こ
の後、よく洗浄してエアーブロー乾燥した後、２００
℃、３０分で加熱乾燥を行なった。（以上（ｈ）工程）（９）電着塗膜の形成透明基板上の所定の透明導電性回路を一方の電極とし、
赤、緑、青の順に、電着塗装を行なった。電着塗料とし
て、それぞれ赤の無機顔料（アゾ金属塩赤顔料）、緑の
無機顔料（フタロシアニングリーン）、青の無機顔料
（フタロシアニンブルー）を分散させたアニオン性ポリ
エステル樹脂の水溶液〔それぞれシントーケミトロン社
製、商品名シントロンＦ―Ｒｅｄ―Ｃ（Ｒ７３）
（赤）、商品名シントロンＦ―Ｇｒｅｅｎ―Ｃ（Ｇ３
４）（緑）、商品名シントロンＦ―Ｂｌｕｅ―Ｃ（Ｂ１
８）（青）〕を用い、各色種に応じて５０〜８０Ｖ、１
０〜２０秒の条件で行なった。その後、よく水洗した
後、２６０℃、１時間、熱処理を行なった。この結果、
（ｇ）工程で形成された遮光性の塗膜の間隙部分（窓
部）に所定の順序で赤、緑、青のカラー塗膜（膜厚１．
２μｍ）が形成された。〔以上（ｊ）工程〕以上の工程
を経て得られた、窓部のカラー塗膜と枠部の遮光性塗膜
のパターンは図２に示したものと同様のものであった。
製品を光学顕微鏡（ニコン社製、商品名ＯＰＴＩＰＨＯ
Ｔ−８８）を用い倍率２００倍で観察すると、帯状のカ
ラー塗膜とその間隙の遮光性塗膜の間に光のリークがな
く、各塗膜が精度よく形成されていた。

【００２６】

【発明の効果】本発明の方法に従うと、精度の良いカラ
ー塗膜と遮光性塗膜（ブラックマトリックス）とを有す
るカラーフィルターを製造することができる。また、電
着に利用する透明導電性回路を形成するためのフォトリ
ソグラフィーに使用するフォトレジスト塗膜を、後の工
程の背面露光による遮光性塗膜形成のためのマスクとし
て利用するため、通常の電着法によるカラーフィルター
の製造法に比べ、工程の簡略化となる。遮光性塗膜形成
後に、電着を行いカラー塗膜を形成するため、電着カラ
ー塗膜の高温熱履歴が低減され、色変などの心配もな
く、電着用樹脂の選択範囲も広がる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の各工程で得られる製品等の断面の模式
図である。

【図２】本発明によって得られるカラーフィルターの各
塗膜のパターンの平面の模式図である。

【符号の説明】

１．透明基板２．透明導電層３．フォトレジスト塗膜４．光線５．フォトマスク（遮光部）６．フォトマスク（透明部）７．遮光性ネガ型フォトレジスト塗膜８．電着によるカラー塗膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者岡田良克茨城県つくば市北原６住友化学工業株式会社内 (72)発明者安川淳一東京都江東区新木場４丁目12番12号神東塗料株式会社内 (72)発明者松村美紀東京都江東区新木場４丁目12番12号神東塗料株式会社内 (72)発明者津枝和夫東京都江東区新木場４丁目12番12号神東塗料株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板上に、複数の帯状のカラー塗膜
と、その塗膜間を埋める遮光性塗膜を有するカラーフィ
ルターの製造方法において、（ａ）表面に導電層を有す
る透明基板全面に、ポジ型またはネガ型フォトレジスト
を塗布して、塗膜を形成する工程、（ｂ）形成されたポ
ジ型またはネガ型フォトレジスト塗膜の表面に、次の現
像工程において、複数の帯状の塗膜を与えるようなパタ
ーンを有するマスクを重ねて、光線を照射する露光工
程、（ｃ）複数の帯状の塗膜以外の部分を除去する現像
工程、（ｄ）複数の帯状の塗膜で覆われている部分以外
の導電層をエッチングする工程、（ｅ）複数の帯状の塗
膜を熱処理する工程、（ｆ）複数の帯状の塗膜を含む透
明基板全面に遮光性を有するネガ型フォトレジストを塗
布して、塗膜を形成する工程、（ｇ）透明基板の背面よ
り露光する工程、（ｈ）下地に上記（ｅ）工程で形成さ
れた透過率が低いポジ型またはネガ型フォトレジスト塗
膜が存在するために十分に露光されなかった、（ｆ）工
程で形成されたネガ型フォトレジストの未硬化部分を除
去する現像工程、（ｉ）上記（ｅ）工程で形成された塗
膜のみを除去する工程、（ｊ）以上の工程を経て得られ
た透明基板に、その表面に形成された複数の帯状の導電
層を一方の電極として使用し電着塗装を行なうことによ
り、その導電層上に着色塗膜を形成する工程、を上記の
順に行なうことを特徴とする方法。