JP4978290B2 - フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置 - Google Patents
フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置 Download PDFInfo
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Description
素となってくる。このようなギャップ(G)を設けた近接露光法によって、パターンを形成する際には、露光光の回折の影響を受けるので、形成できるパターンの幅は制約され、ギャップ(G)の幅が100μm程度で得られるブラックマトリックス41の幅は6μm程度が限度であった。そのため、ブラックマトリックス41の幅を更に細線に形成する技術が必要である。
ポジ型感光性樹脂遮光層にフォトマスクのパターンを近接露光法により露光・現像することで前記透明基板上にブラックマトリックスを形成する第2の工程と、前記透明基板上に着色画素層を形成する第3の工程を具備し、前記ポジ型感光性樹脂遮光層を露光するのに用いる露光光の波長をλとし、λが430nm以下の露光光に対して、前記フォトマスクと前記ポジ型感光性樹脂遮光層の近接露光のギャップを200λ以上400λ以下とし、前記フォトマスクに、幅が11λ以上25λ以下の帯状の単位遮光パターンの二本の線の間に幅が前記帯状の単位遮光パターンの0.25倍以上0.54倍以下のスリット状の光透過部を設けて成る二本線ストライプ状の遮光パターンを形成し、前記フォトマスクにより、幅が6μm未満の前記ブラックマトリックスを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
<第1の実施形態>
(フォトマスクの形成)
図2(a)は、本実施形態による、フォトマスク20の一実施形態の遮光パターンの一部を拡大して示す平面図である。このフォトマスク20を用いてポジ型フォトレジストのポジ型感光性樹脂組成物層60を、波長365nmの光で近接露光・現像して線状のエッチングレジストパターン61を形成し、その線状のエッチングレジストパターン61で保護して金属性薄膜10をエッチングすることでブラックマトリックス41のパターンを形成する。図2(a)に示すように、線状のエッチングレジストパターン61を形成するための単位の遮光パターンとして、フォトマスク20の光透過領域中に、幅(W)が4.0μm〜9.0μmの帯状領域の遮光パターンPを有し、その遮光パターンPの中央に幅(Wt)が2.0μmから5.0μmのスリット状の光透過部Tを設けた、二本線ストライプ状の遮光パターンPを形成する。
まず、図3(a)及び図3(b)に示すように、透明基板40上にコントラスト向上のためのブラックマトリックス41を設ける。透明基板40には、ガラス基板、石英基板、プラスチック基板等、公知の透明材料を使用できる。中でもガラス基板は、透明性、強度、耐熱性、耐候性において優れている。
次に、図3(c)に示すように、格子状に形成したブラックマトリックス41の格子で区切られた領域内に、印刷法により赤(R)、緑(G)、青(B)の着色画素層42を所望の形状に配置し約2μmの厚さに形成する。すなわち、着色画素層42は、印刷装置により塗工材料をパターン状に形成し、その後、後述する加熱工程を経て着色画素層42を形成する。印刷法によるパターニング方法としては、塗工材料をシリコンブランケット上に均一に塗工し、凸版あるいは凹版を押し付けて非画線部を除去した後に、基板上に転写して厚さが約2μmのパターン形成する。この塗工材料には、適正な溶剤成分を含有することでパターン形成しやすい塗工皮膜を形成することができる。さらに、塗工材料中に、印刷性の向上を目的として、例えば粒径が10〜100nmのフィラー成分を、固形分中に5〜50重量%含有させる。塗工材料における着色剤としては、顔料、染料等を使用することができる。塗工材料に用いられる熱硬化性樹脂は、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルアセタール、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラニン樹脂などを用いることができる。特に、耐熱性や耐光性を要求されるカラーフィルタ4を製造する場合には、アクリル樹脂を用いることが好ましい。
次に、液晶ディスプレイの場合は、図3(d)に示すように、着色画素層42の面上に
、例えばITO(Indium Tin Oxide)膜をスパッタリング法で形成した透明導電膜43を形成する。
(フォトマスクの形成)
第1の実施形態と同様にしてフォトマスク20を形成する。
(ブラックマトリックス41の作製工程)
次に、第2の実施形態では、ブラックマトリックス41は、以下のようにして形成する。先ず、m−クレゾール/p−クレゾール/ホルムアルデヒド混合物から得られたノボラック樹脂5部、o−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル1.8部、ヘキサメトキシメチロール化メラミン2部、光酸発生剤0.5部、カーボンブラック2部及びエチルセロソルブアセテート25部の混合物をメンブランフィルターを用いて加圧濾過して感光性樹脂組成物であるポジ型ブラックマトリックス組成物を得る。ここで、カーボンブラックの他にチタンブラック(TiO2)を用いることもできる。
第1の実施形態と同様にして、図4(c)のように、厚さが約2μmの着色画素層42を形成する。また、液晶ディスプレイの場合には、更に図4(d)のように、透明導電膜43を積層し、例えば、薄膜トランジスタのような電極を形成した対向基板と対置させ、液晶層を介して液晶表示装置を構成する。本実施形態では、二本線ストライプ状の遮光パターンPを有するフォトマスク20を用い、ポジ型ブラックマトリックス組成物を用いることで、高精細な線のブラックマトリックス41を持つカラーフィルタ4が得られる効果があり、また、カラーフィルタ4の製造工程が単純になり製造コストを低減できる効果がある。
(ポジ型フォトレジストの組成)
線状のエッチングレジストパターン61の形成に用いるポジ型フォトレジストの感光性樹脂組成物の組成を下記に示す。
・樹脂 :クレゾールノボラックエポキシ樹脂 12wt%
・感光剤 :ジアゾナフトキノン(DNQ) 14wt%
・溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMAC)
73.95%
(フォトマスクのパターン)
線状のエッチングレジストパターン61を形成する遮光パターンPとして、図2(a)に示す遮光パターンPを形成した。すなわち、幅(W)が9μmで、スリット状の光透過部Tの幅(Wt)が3μmで、幅が3μmのストライプ状の遮光部が3μm隔てて2本形成された二本線ストライプ状の遮光パターンPを用いた。
ガラス基板の透明基板40の面に上記組成の感光性樹脂組成物を塗布して膜厚2.0μmのポジ型感光性樹脂組成物層60を設けた。上記フォトマスク20を介してこのポジ型感光性樹脂組成物層60へ、プロキシミティ露光方式により、露光波長を365nmにより、近接露光のギャップ(G)を100μmとし、露光量を100mJ/cm2与え露光した。そして、ポジ型感光性樹脂組成物層60を現像しベーキングすることで線状のエッチングレジストパターン61を形成した。得られた線状のエッチングレジストパターン61は、高さ(膜厚)が1.3μmで幅が5μmの断面形状がかまぼこ状の良好な線状のエッチングレジストパターン61であった。
10・・・金属性薄膜
20・・・フォトマスク
40・・・透明基板
41・・・ブラックマトリックス
41A・・・マトリックス部
41B・・・額縁部
42・・・着色画素層
43・・・透明導電膜
60・・・ポジ型感光性樹脂組成物層
61・・・線状のエッチングレジストパターン
70・・・ポジ型感光性樹脂遮光層
G・・・近接露光のギャップ
L・・・露光光
P・・・二本線ストライプ状の遮光パターン
T・・・二本線ストライプ状の遮光パターンの中央線部のスリット状の光透過部
W・・・二本線ストライプ状の遮光パターンの幅
Wt・・・スリット状の光透過部の幅
Claims (7)
- 透明基板上に金属性薄膜を形成する第1の工程と、前記金属性薄膜面上にポジ型感光性樹脂組成物層を形成する第2の工程と、前記ポジ型感光性樹脂組成物層にフォトマスクのパターンを近接露光法により露光・現像することで線状パターンとしたエッチングレジストを形成する第3の工程と、前記エッチングレジストをマスクにして前記金属性薄膜をエッチングすることで前記透明基板上にブラックマトリックスを形成する第4の工程と、前記エッチングレジストを剥離する第5の工程と、前記透明基板上に着色画素層を形成する第6の工程を具備し、前記ポジ型感光性樹脂組成物層を露光するのに用いる露光光の波長をλとし、λが430nm以下の露光光に対して、前記フォトマスクと前記ポジ型感光性樹脂組成物層の近接露光のギャップを200λ以上400λ以下とし、前記フォトマスクに、幅が11λ以上25λ以下の帯状の単位遮光パターンの二本の線の間に幅が前記帯状の単位遮光パターンの0.25倍以上0.54倍以下のスリット状の光透過部を設けて成る二本線ストライプ状の遮光パターンを形成し、前記フォトマスクにより、幅が6μm未満の前記ブラックマトリックスを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
- 透明基板上にポジ型感光性樹脂遮光層を形成する第1の工程と、前記ポジ型感光性樹脂遮光層にフォトマスクのパターンを近接露光法により露光・現像することで前記透明基板上にブラックマトリックスを形成する第2の工程と、前記透明基板上に着色画素層を形成する第3の工程を具備し、前記ポジ型感光性樹脂遮光層を露光するのに用いる露光光の波長をλとし、λが430nm以下の露光光に対して、前記フォトマスクと前記ポジ型感光性樹脂遮光層の近接露光のギャップを200λ以上400λ以下とし、前記フォトマスクに、幅が11λ以上25λ以下の帯状の単位遮光パターンの二本の線の間に幅が前記帯状の単位遮光パターンの0.25倍以上0.54倍以下のスリット状の光透過部を設けて成る二本線ストライプ状の遮光パターンを形成し、前記フォトマスクにより、幅が6μm未満の前記ブラックマトリックスを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
- 透明基板上に形成した金属性薄膜上に設けたポジ型感光性樹脂組成物層にフォトマスクのパターンを波長λが430nm以下の露光光により、前記フォトマスクと前記ポジ型感光性樹脂組成物層の近接露光のギャップを200λ以上400λ以下とした近接露光法により露光・現像することで線状パターンとしたエッチングレジストを形成し、前記エッチングレジストをマスクにして前記金属性薄膜をエッチングし、次に、前記ポジ型感光性樹脂組成物層の被露光部分を除去することにより前記エッチングレジストのブラックマトリックスを形成する際に使用する前記フォトマスクにおいて、前記ポジ型感光性樹脂組成物層に線状パターン化した前記エッチングレジストを形成するための単位の遮光パターンとして、前記露光光の前記波長λに対して、前記フォトマスクに、幅が11λ以上25λ以下の帯状の単位遮光パターンの二本の線の間に幅が前記帯状の単位遮光パターンの0.25倍以上0.54倍以下のスリット状の光透過部を設けて成る二本線ストライプ状の遮光パターンを形成したことを特徴とするフォトマスク。
- 透明基板上に形成したポジ型感光性樹脂遮光層にフォトマスクのパターンを波長λが430nm以下の露光光により、前記フォトマスクと前記ポジ型感光性樹脂遮光層の近接露光のギャップを200λ以上400λ以下とした近接露光法により露光・現像することでブラックマトリックスを形成する際に使用する前記フォトマスクにおいて、前記ポジ型感光性樹脂遮光層にブラックマトリックスを形成するための単位の遮光パターンとして、前記露光光の前記波長λに対して、前記フォトマスクに、幅が11λ以上25λ以下の帯状の単位遮光パターンの二本の線の間に幅が前記帯状の単位遮光パターンの0.25倍以上0.54倍以下のスリット状の光透過部を設けて成る二本線ストライプ状の遮光パターンを形成したことを特徴とするフォトマスク。
- 前記二本線ストライプ状の遮光パターンにおいて、前記光透過部の幅が前記二本線ストライプ状の遮光パターンの内のいずれの線幅とも等しいことを特徴とする請求項3又は4に記載のフォトマスク。
- 請求項1又は2の製造方法で製造したことを特徴とするカラーフィルタ。
- 請求項6に記載のカラーフィルタを備えることを特徴とする液晶表示装置。
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