JPH10133012A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

カラーフィルタの製造方法

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JPH10133012A
JPH10133012A JP29239996A JP29239996A JPH10133012A JP H10133012 A JPH10133012 A JP H10133012A JP 29239996 A JP29239996 A JP 29239996A JP 29239996 A JP29239996 A JP 29239996A JP H10133012 A JPH10133012 A JP H10133012A
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resin
resin black
transparent
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JP29239996A
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Yoshiharu Ichikawa
祥治 市川
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 樹脂ブラックマトリクス2cが着色層4c,
6c,7cよりも厚膜の場合でも、カラーフィルタの表
面を平坦化する。 【解決手段】 樹脂ブラックマトリクス2cを形成した
透明基板1の表面に、モザイク状に配列された3原色の
画素として、顔料分散の赤色着色層4c、緑色着色層6
c、青色着色層7cを形成した後に(図2(f))、樹
脂ブラックマトリクス2c及び各種着色層4c,6c,
7cの上に光硬化性の透明レジスト8を所定の膜厚に塗
布する。次いで、透明基板1の裏面側から樹脂ブラック
マトリクス2cをマスクとして透明レジスト8を露光し
た後(図2(g))、樹脂ブラックマトリクス2c上に
塗布されている透明レジスト8の未露光領域8bを現像
除去する。こうして、各種着色層4c,6c,7cの周
縁部を除く凹領域に平坦化層8cが形成され、カラーフ
ィルタの表面が平坦化される(図2(h))。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、カラー液晶表示
装置等に用いられるカラーフィルタの製造方法に係り、
詳しくは、樹脂ブラックマトリクスを用いたカラーフィ
ルタの平坦化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】カラーフィルタの製造方法としては、従
来より、顔料分散法、染色法、印刷法等各種の方法が知
られているが、TFTアクティブマトリックス構造のカ
ラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、高
画質・高耐久性が要求されるため、顔料分散法によりカ
ラーフィルタを製造することが主流となっている。一
方、カラーフィルタのブラックマトリクス材料として
は、従来は金属膜が用いられていたが、低反射化等の要
求から、現在では樹脂を用いたものが主流となりつつあ
る。
【0003】図6は、カラーフィルタを組み込んだ従来
のカラー液晶表示装置の要部(液晶表示パネル)を部分
的に拡大して示す部分拡大断面図である。この図に示す
ように、同液晶表示パネルは、ガラス等の透明基板51
の表面にITO(Indium TinOxide)等の透明電極52
及び図示せぬTFT(Thin Film Transistor)を設け、
さらにこれらの上に、配向膜53を付けてなるTFTア
レイ基板と、同じくガラス等の透明基板71の表面に樹
脂ブラックマトリクス55で仕切られて、モザイク状に
配列された赤(R)、緑(G)、青(B)の着色層(画
素)56,57,58,…を有し、さらに、これらの上
に、透明電極59と配向膜60とを付けてなるカラーフ
ィルタ基板とが相対向して配置され、両基板間にTN液
晶やSTN液晶等の液晶61が封入されて構成され、液
晶61の中にはセルギャップ(液晶層の厚み)を一定に
保つために、球状の微粒子であるギャップ材62,6
2,…を分散させている。
【0004】ところが、上記カラーフィルタの製造方法
には、次のような問題があった。すなわち、カラーフィ
ルタに低反射性の樹脂ブラックマトリクスを用いること
は好ましいとしても、樹脂ブラックマトリクスによっ
て、金属膜ブラックマトリクスと略同程度の遮光性能を
得るためには、樹脂ブラックマトリクスの膜厚を厚くす
ることが必要である。しかし、膜厚を厚くすると、カラ
ーフィルタ表面の平坦性が悪化してしまう。この結果、
同図に示すように、樹脂ブラックマトリクス55上に散
在するギャップ材62,62,…によってセルギャップ
にばらつきが生じ、表示むらが発生したり、樹脂ブラッ
クマトリクス55の両側縁部の凹凸によって、液晶61
の配向不良が発生する、という不都合があった。
【0005】そこで、このような不都合を解消する手段
として、例えば特開平4−242704号公報に記載の
カラーフィルタの製造方法が提案されている。図7
(a)〜(h)は、同公報記載のカラーフィルタの製造
方法を工程順に示す断面図である。同公報記載のカラー
フィルタの製造方法では、同図に示すように、まず、ガ
ラス等の透明基板71の上に、フォトリソグラフィによ
り、樹脂ブラックマトリクス72を形成し(同図
(a))、次に、透明基板71上にポジレジスト(光溶
解性の感光性樹脂)73を塗布した後(同図(b))、
透明基板71の裏面側から樹脂ブラックマトリクス72
をマスクとしてポジレスト73に対して露光を行う(同
図(c))。次に、露光領域(光溶解領域)を現像によ
り除去し、樹脂ブラックマトリクス72上の未露光領域
のみを残した後(同図(d))、今度は、透明基板71
上に例えば赤に着色したネガレジスト(光硬化性の感光
性樹脂)74を塗布する(同図(e))。そして、透明
基板71の裏面側からフォトマスク75と樹脂ブラック
マトリクス72とを介して露光を行った後(同図
(f))、未露光領域を現像により除去することによ
り、光を照射した領域にのみ赤に着色した着色層74a
を形成する(同図(g))。以上の工程を、緑に着色し
たネガレジスト、青に着色したネガレジストの3原色に
ついて繰り返し行うことにより、3原色の着色層74
a,76a,77a,…がモザイク状に配列されたカラ
ーフィルタが得られる(同図(h))。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報記載のカラーフィルタの製造方法には、樹脂ブラック
マトリクスの膜厚が薄いため、遮光性が劣る、という欠
点があった。また、図7(e)〜(g)に示すように、
表面に着色のネガレジスト74が塗布された透明基板7
1の裏面側から露光を行って着色層74a(76a,7
7a)を形成する際、図8(a)に示すように、樹脂ブ
ラックマトリクス72上のポジレジスト73の上でネガ
レジスト74も盛り上がるため、現像後も、樹脂ブラッ
クマトリクス72上のポジレジスト73の両側縁部付近
の着色層74a(76a,77a)に隆起が生るため
(同図(b)参照)、予期した程の平坦性が得られな
い。これを防ぐために、現像時間を長くして着色層74
a(76a,77a)の周縁部に生じた隆起を無理に除
去すると、樹脂ブラックマトリクス72と着色層74a
(76a,77a)との境界が分離し隙間が生じ(同図
(c)参照)、この隙間から光もれが発生する虞もあっ
た。
【0007】この発明は、上述の事情に鑑みてなされた
もので、樹脂ブラックマトリクスの膜厚が着色層の膜厚
よりも厚い場合でも、カラーフィルタの平坦化を可能と
し、平坦化に伴う光もれ等も防止できるカラーフィルタ
の製造方法を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は、樹脂ブラックマトリクスを
形成した透明基板の表面に、顔料分散の着色層を形成す
るカラーフィルタの製造方法に係り、上記着色層の形成
後に、上記樹脂ブラックマトリクス及び上記着色層の上
に光硬化性の透明レジストを所定の膜厚に塗布し、次い
で、上記透明基板の裏面側から上記樹脂ブラックマトリ
クスをマスクとして上記透明レジストを露光した後、上
記樹脂ブラックマトリクス上に塗布されている上記透明
レジストの未露光領域を現像除去することを特徴として
いる。
【0009】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載のカラーフィルタの製造方法に係り、前記着色層が、
顔料含有の光硬化性の着色レジストの光硬化領域からな
ることを特徴としている。
【0010】また、請求項3記載の発明は、樹脂ブラッ
クマトリクスを形成した透明基板の表面に、顔料分散の
着色層を形成するカラーフィルタの製造方法に係り、上
記着色層の形成後に、上記樹脂ブラックマトリクス及び
上記着色層の上に透明樹脂を所定の膜厚に塗布し、さら
に、該透明樹脂の上に光硬化性のレジストを塗布し、次
いで、上記樹脂ブラックマトリクスをマスクとして上記
透明基板の裏面側から露光し、次いで、上記樹脂ブラッ
クマトリクス上に塗布されている上記レジストの未露光
領域を現像除去した後、上記レジストの光硬化領域をマ
スクとして上記樹脂ブラックマトリクス上に塗布されて
いる上記透明樹脂をエッチング除去することを特徴とし
ている。
【0011】また、請求項4記載の発明は、請求項3記
載のカラーフィルタの製造方法に係り、上記レジストの
光硬化領域をマスクとして上記樹脂ブラックマトリクス
上に塗布されている上記透明樹脂をエッチング除去した
後、上記レジストの光硬化領域を剥離することを特徴と
している。
【0012】また、請求項5記載の発明は、請求項1,
2,3又は4記載のカラーフィルタの製造方法に係り、
上記着色層が、その周縁部を、樹脂ブラックマトリクス
の上に乗り上げて形成されていることを特徴としてい
る。
【0013】
【作用】この発明の構成によれば、金属膜ブラックマト
リクスと略同程度の遮光性能を得るために、樹脂ブラッ
クマトリクスの膜厚を厚くしても、樹脂ブラックマトリ
クスで囲まれる例えば赤色、緑色、青色等の着色層の凹
面が、最終的に残る透明レジスト、透明樹脂等で略平坦
化されるため、均一なセルギャップが得られ、均一な表
示が得られる。また、樹脂ブラックマトリクスのエッジ
領域(着色層の周縁部)も、略平らとなるため、ラビン
グを均一に行うことができ、これにより、(少なくと
も、表示領域となる着色層上では)液晶の配向不良が解
消される。
【0014】加えて、樹脂ブラックマトリクスは、着色
層によってエッジ部が被覆されているので、周縁部に突
起のない平坦化層を得るために、露光後の透明レジスト
をオーバー現像しても、あるいは、透明樹脂をオーバー
エッチングしても、樹脂ブラックマトリクスと着色層と
の境界領域に隙間が生じることはなく、したがって、境
界領域からの光もれは防止される。それゆえ、カラーフ
ィルタの歩留まりが一段と向上する。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態について説明する。説明は、実施例を用い
て具体的に行う。 ◇第1実施例 図1は、この発明の第1実施例であるカラー液晶表示装
置用カラーフィルタの製造工程を工程順に示す断面図、
また、図2は、図1に続いて、同カラーフィルタの製造
方法を工程順に示す断面図である。この例の製造方法で
は、図1に示すように、まず、ガラス等の透明基板1の
上にネガ型の黒色レジスト2を塗布し(同図(a))、
次に、遮光領域3aと透光領域3bとからなるブラック
マトリクスパターンを有するクロム等のフォトマスク3
を用いて透明基板1の表面側から露光することにより、
黒色レジスト2の全領域のうち、光が照射された領域2
aを硬化させる(同図(b))。ここで、好適な黒色レ
ジスト2としては、光硬化性を有するアクリル樹脂(ネ
ガレジスト)中にカーボン粉末を混合分散したものを挙
げることができる。
【0016】次に、光が照射されなかった黒色レジスト
2の未硬化領域2bを現像除去して、透明基板1の上
に、樹脂ブラックマトリクス2cを形成する(同図
(c))。ここで、樹脂ブラックマトリクス2cの光学
濃度としては3以上が望ましので、このため、樹脂ブラ
ックマトリクス2cの膜厚としては、少なくとも1μm
以上が必要であり、好適な膜厚範囲は1.5〜3.0μで
ある。
【0017】次に、透明基板1の上に、ネガ型の赤色レ
ジスト4を塗布した後、遮光領域5aと透光領域5bと
からなる赤色着色層パターンを有するクロム等のフォト
マスク5を用いて透明基板1の表面側から露光すること
により、赤色レジスト4の全領域のうち、光が照射され
た領域4aを硬化させる(同図(d))。ここで、好適
な赤色レジスト4としては、感光性を有するアクリル樹
脂中に赤色顔料を混合分散したものを挙げることができ
る。次に、図2に示すように、光が照射されなかった赤
色レジスト4の未硬化領域4bを現像除去して、透明基
板1の上に赤色着色層(赤色の画素)4cを形成する
(同2(e))。
【0018】以下、緑色レジストと緑色着色層パターン
を有するフォトマスク、及び青色レジストと青色着色層
パターンを有するフォトマスクを順次用いて、上記した
と略同様の工程を繰り返すことにより、透明基板1の上
に緑色着色層(緑色の画素)6c、青色着色層(青色の
画素)7cを形成する(同図(f))。ここで、赤色着
色層4c、緑色着色層6c、青色着色層7cの膜厚の範
囲としては、0.8〜1.5μmの範囲が望ましく、1.
0〜1.2μmの範囲が最適である。
【0019】次に、赤色着色層4c、緑色着色層6c、
青色着色層7cの上に、顔料を含有しない透明レジスト
(通常のネガレジスト)8を塗布した後、樹脂ブラック
マトリクス2cをフォトマスクとして透明基板1の裏面
側から露光することにより、透明レジスト8の全領域の
うち、光の照射を受けた領域7aを硬化させる(同図
(g))。ここで、透明レジスト8としては、樹脂ブラ
ックマトリクス2c、赤色着色層4c、緑色着色層6
c、青色着色層7cに使用している感光性アクリル樹脂
と同一系で、多官能アクリル酸エステルモノマと、トリ
ハロメチルアミン系光重合開始剤と、アクリル酸/アク
リル酸エステルとの共重合体からなるラジカル重合型フ
ォトポリマ等が好適である。また、透明レジスト8の塗
布厚は、樹脂ブラックマトリクス2cの膜厚と同程度、
あるいは、それよりも若干厚目が好ましい。
【0020】最後に、光が照射されなかった透明レジス
ト8の未硬化領域8bを現像することによって除去する
と、光が照射された透明レジスト8の硬化領域8aが、
モザイク状に配列された各種着色層4c,6c,7cの
(周縁部を除く)上面に、膜厚略2.7μmで残り、こ
うして、各種着色層4c,6c,7cの突隆する周縁部
(樹脂ブラックマトリクス2cのエッジ領域)を平坦化
する平坦化層8cが形成される(同図(h))。なお、
この場合の現象は、樹脂ブラックマトリクス2c上及び
各着色層4c,6c,7cの周縁部に突起が残らないよ
うに、オーバー現像することが肝要であり、露光時間と
しては、例えば着色レジストの現象時間の1.5〜2.5
倍が好適である。この後、平坦化層8cによって平坦化
されたカラーフィルタ層の上に、共通電極用としてIT
O等の透明電極9を略0.2μmの膜厚で付け、さらに
その上に、ポリイミド膜等の配向膜10を略0.05μ
mの膜厚で付けてラビング処理することで、カラーフィ
ルタ基板を完成させる(図3参照)。
【0021】図3は、上記方法により形成されたカラー
フィルタを組み込んだカラー液晶表示装置の要部を部分
的に拡大して示す部分拡大断面図である。この例の液晶
表示パネルは、ガラス等の透明基板11の表面に、膜厚
略0.1μmのITO等の透明電極12、膜厚略0.2
μmのシリコン酸化膜等の絶縁膜13,13,…で離隔
された膜厚略0.1μmのアルミ配線14,14,…及
び図示せぬTFTを設け、さらにこれらの上に、配向膜
15を付けてなるTFTアレイ基板を、上記構成のカラ
ーフィルタ基板に(TFTやアルミ配線14,14,…
等が樹脂ブラックマトリクス2cで隠れる状態で)対向
配置して、両基板間にTN液晶やSTN液晶等の液晶1
6を封入することで構成され、液晶16の中にはセルギ
ャップを一定に保つために、ギャップ材(樹脂ビーズ)
17,17,…を分散させてなっている。なお、液晶1
6の注入は、何れか一方の基板の他方の基板との対向面
上に、ギャップ材(この例では、粒径略5.0μm樹脂
ビーズ)17,17,…を散布した後、両基板を重ね合
わせた後に行われる。
【0022】このように、上記構成によれば、金属膜ブ
ラックマトリクスと略同程度の遮光性能を得るために、
樹脂ブラックマトリクス2cの膜厚を厚くしても、樹脂
ブラックマトリクス2cで囲まれる赤色着色層4c、緑
色着色層6c、青色着色層7c等の凹面が、平坦化層8
cで略平坦化されるため、ギャップ材17,17,…の
粒径(略5.0μm)に従い、均一なセルギャップ(略
5.0μm)が得られ、この結果、均一な表示が得られ
る。また、樹脂ブラックマトリクス2cのエッジ領域
(各種着色層4c,6c,7cの周縁部)も、図3に示
すように、略平らとなるため、ラビングを均一に行うこ
とができ、これにより、(少なくとも、表示領域となる
赤色着色層4c、緑色着色層6c、青色着色層7c上で
は)液晶16の配向不良が解消される。
【0023】加えて、樹脂ブラックマトリクス2cは、
各種着色層4c,6c,7cによってエッジ部が被覆さ
れているので、周縁部に突起のない平坦化層8cを得る
ために、露光後(図2(g)))の透明レジスト8をオ
ーバー現像しても、樹脂ブラックマトリクス2cと各種
着色層4c,6c,7cとの境界領域に隙間が生じるこ
とはなく、したがって、境界領域からの光もれは防止さ
れる。それゆえ、カラーフィルタの歩留まりが一段と向
上する。
【0024】◇第2実施例 図4は、この発明の第2実施例であるカラー液晶表示装
置用カラーフィルタの製造方法を工程順に示す断面図、
また、図5は、図4に続いて、同カラーフィルタの製造
方法を工程順に示す断面図である。この例の製造方法で
は、図4に示すように、まず、ガラス等の透明基板1の
上に黒色樹脂18を塗布した後、黒色樹脂18の上にポ
ジレジスト19を塗布する(同図(a))。ここで、好
適な黒色樹脂18としては、カーボン粉末をポリイミド
樹脂に分散させたものを挙げることができる。そして、
遮光領域20aと透光領域20bとからなるブラックマ
トリクスパターンを有するフォトマスク20を用いて透
明基板1の表面側から露光することにより、ポジレジス
ト19の全領域のうち、光が照射された露光領域19a
を光分解させる(同図(b))。
【0025】次いで、現像により、光が照射されて分解
したポジレジスト19の露光領域19aを除去し、続い
て、ポジレジスト19の未露光領域(不溶領域)19b
をマスクとして黒色樹脂18をエッチング除去した後、
現像除去されずに残ったポジレジスト19の未露光領域
19bを剥離液で剥離して、樹脂ブラックマトリクス1
8cを形成する(同図(c))。
【0026】次に、透明基板1の上に赤色樹脂21を塗
布し、さらに、赤色樹脂21の上にポジレジスト19を
塗布した後、遮光領域22aと透光領域22bとからな
る赤色着色層パターンを有するフォトマスク22を用い
て透明基板1の表面側から露光を行う(同図(d))。
ここで、好適な赤色樹脂21としては、赤色顔料をポリ
イミド樹脂に分散させたものを挙げることができる。次
いで、現像により、光が照射されて分解したポジレジス
ト19の露光領域19aを除去し、続いて、ポジレジス
ト19の未露光領域(不溶領域)19bをマスクとして
赤色樹脂21をエッチング除去した後、現像除去されず
に残ったポジレジスト19の未露光領域19bを剥離液
で剥離して、赤色着色層21cを形成する(図5
(e))。
【0027】以下、緑色樹脂とポジレジストと緑色着色
層パターンを有するフォトマスクの組、及び青色樹脂と
ポジレストと青色着色層パターンを有するフォトマスク
の組を順次用いて、上記したと略同様の工程を繰り返す
ことにより、透明基板1の上に緑色着色層23c、青色
着色層24cを形成する(同図(f))。
【0028】次に、赤色着色層21c、緑色着色層23
c、青色着色層24cの上に、ポリイミド樹脂等の透明
樹脂25を塗布し、さらに、透明樹脂25の上にネガレ
ジスト26を塗布した後、樹脂ブラックマトリクス18
cをマスクとして透明基板1の裏面側から露光すること
により、ネガレジスト26の全領域のうち、光の照射を
受けた領域26aを硬化させる(同図(g))。
【0029】次に、光が照射されなかったネガレジスト
26の未硬化領域26bを現像して除去し、さらに、ネ
ガレジスト26の硬化領域26aをマスクとして樹脂ブ
ラックマトリクス18c上の透明樹脂25をエッチング
除去する。最後に、ネガレジスト26の硬化領域26a
を剥離すると、エッチングされずに残った透明樹脂25
が、モザイク状に配列された各種着色層(3原色の画
素)21c,23c,24cの(周縁部を除く)上面
に、膜厚略2.7μmで残り、こうして、各種着色層2
1c,23c,24cの突隆する周縁部(樹脂ブラック
マトリクス18cのエッジ領域)を平坦化する平坦化層
25cが形成される(同図(h))。この後、平坦化層
25cによって平坦化されたカラーフィルタ層の上に、
共通電極用としてITO等の透明電極を付け、さらにそ
の上に、ポリイミド膜等の配向膜を付けてラビング処理
することで、カラーフィルタ基板を完成させる。
【0030】このように、この第2実施例の構成によっ
ても、第1実施例において、上述したと略同様の効果を
得ることができる。加えて、樹脂ブラックマトリクス1
8cは、着色層21c,23c,24cによってエッジ
部が被覆されているので、周縁部に突起のない平坦化層
25cを得るために、透明樹脂25をオーバーエッチン
グしても、樹脂ブラックマトリクス18cと着色層21
c,23c,24cとの境界領域に隙間が生じることは
なく、したがって、境界領域からの光もれは防止され
る。それゆえ、カラーフィルタの歩留まりが一段と向上
する。
【0031】以上、この発明の実施例を図面により詳述
してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られるもの
ではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変
更等があってもこの発明に含まれる。なお、上述の第2
実施例では、ネガレジスト26の硬化領域26aをマス
クとして樹脂ブラックマトリクス18c上の透明樹脂2
5をエッチング除去した後、ネガレジスト26の硬化領
域26aを剥離液で剥離することで、最終的に、平坦化
層25cを形成したが、ネガレジスト26を現像除去し
た段階で、カラーフィルタの表面の平坦化が得られれ
ば、ネガレジスト26の硬化領域26aを平坦化層とし
て用いるようにしても良い。この場合には、ネガレジス
ト26の硬化領域26aを剥離する煩雑な作業が不要と
なる。また、上述の第2実施例においては、ポジレジス
ト19を用いて、各種着色層21c,23c,24cを
形成したが、ポジレジストに代えて、ネガレジスト用い
ても良い。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、この発明のカラー
フィルタの製造方法によれば、金属膜ブラックマトリク
スと略同程度の遮光性能を得るために、樹脂ブラックマ
トリクスの膜厚を厚くしても、樹脂ブラックマトリクス
で囲まれる例えば赤色、緑色、青色等の着色層の凹面
が、最終的に残る透明レジスト、透明樹脂等で略平坦化
されるため、均一なセルギャップが得られ、均一な表示
が得られる。また、樹脂ブラックマトリクスのエッジ領
域(着色層の周縁部)も、略平らとなるため、ラビング
を均一に行うことができ、これにより、(少なくとも、
表示領域となる着色層上では)液晶の配向不良が解消さ
れる。
【0033】加えて、樹脂ブラックマトリクスは、着色
層によってエッジ部が被覆されているので、周縁部に突
起のない平坦化層を得るために、露光後の透明レジスト
をオーバー現像しても、あるいは、透明樹脂をオーバー
エッチングしても、樹脂ブラックマトリクスと着色層と
の境界領域に隙間が生じることはなく、したがって、境
界領域からの光もれは防止される。それゆえ、カラーフ
ィルタの歩留まりが一段と向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施例であるカラー液晶表示装
置用カラーフィルタの製造工程を工程順に示す断面図で
ある。
【図2】図1に続いて、同カラーフィルタの製造工程を
工程順に示す断面図である。
【図3】同カラーフィルタを組み込んだカラー液晶表示
装置の要部を部分的に拡大して示す部分拡大断面図であ
る。
【図4】この発明の第2実施例であるカラー液晶表示装
置用カラーフィルタの製造方法を工程順に示す断面図で
ある。
【図5】図4に続いて、同カラーフィルタの製造方法を
工程順に示す断面図である。
【図6】カラーフィルタを組み込んだ従来のカラー液晶
表示装置の要部(液晶表示パネル)を部分的に拡大して
示す部分拡大断面図である。
【図7】従来のカラーフィルタの製造方法を工程順に示
す断面図である。
【図8】従来のカラーフィルタの製造方法の問題点を示
すための断面図である。
【符号の説明】
1 透明基板 2c 樹脂ブラックマトリクス 4 赤色レジスト(着色レジスト) 6 緑色レジスト(着色レジスト) 7 青色レジスト(着色レジスト) 4c 赤色着色層(着色層) 6c 緑色着色層(着色層) 7c 青色着色層(着色層) 8 光硬化性の透明レジスト 8b 透明レジストの未露光領域(未硬化領域) 8c 平坦化層 16 液晶 17 ギャップ材 19c 樹脂ブラックマトリクス 21 赤色樹脂 21c 赤色着色層 23c 緑色着色層 24c 青色着色層 25 透明樹脂25 25c 平坦化層 26 ネガレジスト(光硬化性のレジスト) 26b ネガレジストの未露光領域 26a ネガレジストの光硬化領域

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 樹脂ブラックマトリクスを形成した透明
    基板の表面に、顔料分散の着色層を形成するカラーフィ
    ルタの製造方法であって、 前記着色層の形成後に、前記樹脂ブラックマトリクス及
    び前記着色層の上に光硬化性の透明レジストを所定の膜
    厚に塗布し、次いで、前記透明基板の裏面側から前記樹
    脂ブラックマトリクスをマスクとして前記透明レジスト
    を露光した後、前記樹脂ブラックマトリクス上に塗布さ
    れている前記透明レジストの未露光領域を現像除去する
    ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記着色層は、顔料含有の光硬化性の着
    色レジストの光硬化領域からなることを特徴とする請求
    項1記載のカラーフィルタの製造方法。
  3. 【請求項3】 樹脂ブラックマトリクスを形成した透明
    基板の表面に、顔料分散の着色層を形成するカラーフィ
    ルタの製造方法であって、 前記着色層の形成後に、前記樹脂ブラックマトリクス及
    び前記着色層の上に透明樹脂を所定の膜厚に塗布し、さ
    らに、該透明樹脂の上に光硬化性のレジストを塗布し、
    次いで、前記樹脂ブラックマトリクスをマスクとして前
    記透明基板の裏面側から露光し、次いで、前記樹脂ブラ
    ックマトリクス上に塗布されている前記レジストの未露
    光領域を現像除去した後、前記レジストの光硬化領域を
    マスクとして前記樹脂ブラックマトリクス上に塗布され
    ている前記透明樹脂をエッチング除去することを特徴と
    するカラーフィルタの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記レジストの光硬化領域をマスクとし
    て前記樹脂ブラックマトリクス上に塗布されている前記
    透明樹脂をエッチング除去した後、前記レジストの光硬
    化領域を剥離することを特徴とするカラーフィルタの製
    造方法。
  5. 【請求項5】 前記着色層は、その周縁部を、樹脂ブラ
    ックマトリクスの上に乗り上げて形成されていることを
    特徴とする請求項1,2,3又は4記載のカラーフィル
    タの製造方法。
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