JPH07287112A - カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】カラーフィルタのフィルタ着色パターン層ある
いはＢＭＸ層の膜厚（層厚）を、必要とする適正な色濃
度を保持するように設定し、フィルタ着色パターン層と
ＢＭＸ層との重なり部で突起が発生しないようにするこ
とにある。 【構成】フィルタ基板１上にブラックマトリクスパター
ン層２を備え、該フィルタ基板１上の前記ブラックマト
リクスパターン層２形成領域以外のカラー表示画素領域
相当部に、ブラックマトリクスパターン層２と同一層厚
の透明下地層３を備え、該透明下地層３上に、ブルーパ
ターンＢ、グリーンパターンＧ、レッドパターンＲから
なるフィルタ着色パターン層４を、そのフィルタ着色パ
ターン端部４ａがブラックマトリクスパターン層２上に
オーバーラップするように設けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶表示装置の
カラー表示ディスプレイパネル等に使用されるカラーフ
ィルタ及びカラーフィルタの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般的に、カラー液晶表示装置（略称Ｌ
ＣＤ）用カラーフィルタ（略称ＣＦ）は、図３に示すよ
うに、ガラス製又はプラスチック製の透明なフィルタ基
板１上に、ストライプ状、又は四角形ドット状、若しく
は多角形ドット状のマトリクス状の画素パターンとなる
ブルーパターンＢ、グリーンパターンＧ、レッドパター
ンＲのフィルタ着色パターン層２２を備えており、ま
た、フィルタ着色パターン層２２の、各ブルーパターン
Ｂ、グリーンパターンＧ、レッドパターンＲの境界部分
には、ブラックマトリクスパターン層２４（略称ＢＭ
Ｘ）を備えている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記ＢＭＸ２４は、遮
光性のクロム金属等の蒸着膜を用いて薄膜状に、あるい
は光不透過吸収性のブラック顔料分散フォトレジスト、
印刷インキ等の黒色顔料着色剤等を用いて比較的厚膜状
に、パターン形成されている。上記ブルーパターンＢ、
グリーンパターンＧ、レッドパターンＲの各カラー表示
画素パターンとしてのフィルタ着色パターン層２２は、
その端部をＢＭＸ１４上に重ねるようにして形成される
ものであるが、図３に示すように、フィルタ着色パター
ン層２２の端部を、ブラック顔料分散フォトレジスト、
印刷インキ等の黒色顔料着色剤等を用いた比較的厚膜状
のＢＭＸ１４上に重ねるようにして形成した場合は、フ
ィルタ着色パターン層２２と、ＢＭＸ２４との重なり部
２３に、厚膜状の突起２２ａが発生し易く、他方の対向
電極板と平行に離間対向させて、パネル化（アッセンブ
ル）する時などに、離間対向間に液晶を充填封入するた
めのセルギャップが不均一になり易い。

【０００４】このような突起２２ａを解消するために、
例えばフィルタ着色パターン層２２の膜厚、あるいはＢ
ＭＸ２４の膜厚をより薄く設定した場合、各ブルーパタ
ーンＢ、グリーンパターンＧ、レッドパターンＲのフィ
ルタ着色パターン層２２の着色濃度が低下して、あるい
はＢＭＸ２４の着色濃度が低下して、必要とする適正な
色濃度を保持できず、カラーフィルタとして好ましくな
い場合がある。

【０００５】本発明は、カラーフィルタのフィルタ着色
パターン層あるいはＢＭＸ層の膜厚（層厚）を、必要と
する適正な色濃度を保持するように設定するとともに、
フィルタ着色パターン層とＢＭＸ層との重なり部で突起
が発生しないようにすることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、フィルタ基板
１上に顔料分散フォトレジスト若しくは印刷インキ等を
用いてパターン形成された樹脂製の厚膜状のブラックマ
トリクスパターン層２を備え、前記ブラックマトリクス
パターン層２以外のカラー表示画素相当部にブラックマ
トリクスパターン層２表面と面一な透明下地層３を備
え、該透明下地層３上に各ブルーパターンＢ、グリーン
パターンＧ、レッドパターンＲからなるフィルタ着色パ
ターン層４をそのパターン端部４ａがブラックマトリク
スパターン層２上に重なるように設けたことを特徴とす
るカラーフィルタである。

【０００７】また、本発明は、フィルタ基板１上に、ブ
ラック顔料分散フォトレジスト若しくは印刷インキ等を
用いて樹脂製の厚膜状のブラックマトリクスパターン層
２をパターン形成し、次に該ブラックマトリクスパター
ン層２上よりフィルタ基板１全面に透明樹脂液を塗布し
て透明樹脂層１３を形成し、該透明樹脂層１３を乾燥固
化した後に、該透明樹脂層１３表面を平坦に研磨して、
ブラックマトリクスパターン層２表面と透明樹脂層１３
表面とを同一面に仕上げることにより、ブラックマトリ
クスパターン層２に隣設する透明下地層３を形成し、該
透明下地層３上に、ブルーパターンＢ、グリーンパター
ンＧ、レッドパターンＲからなるフィルタ着色パターン
層４を、そのパターン端部４ａがブラックマトリクスパ
ターン層２上に重なるようにパターン形成することを特
徴とするカラーフィルタの製造方法である。

【０００８】

【実施例】まず、本発明のカラーフィルタを、図１のカ
ラーフィルタの部分側断面図に示す実施例に従って詳細
に説明すれば、透明ガラス板又は透明プラスチック板の
フィルタ基板１の一面に、ブラック顔料等の暗色系顔料
を、フォトレジストに分散混合した顔料分散フォトレジ
ストを用いて、パターン露光・現像方式により形成し
た、例えば、１μｍ〜２μｍ程度、若しくは２μｍ以上
の所定厚膜状の遮光性のブラックマトリクスパターン層
２を備える。なお、上記ブラックマトリクスパターン層
２は、黒色系の光不透過吸収性の印刷インキを用いて凹
版オフセット印刷方式などの印刷方式により、パターン
形成してもよい。

【０００９】上記ブラックマトリクスパターン層２は、
顔料ブラック等の光不透過吸収性の着色剤を用いて、顔
料分散フォトレジスト方式により、又は印刷インキを用
いて印刷方式により、ストライプ状若しくは格子状等の
規則的形状パターンにパターン形成したものである。

【００１０】ブラックマトリクスパターン層２の間に
は、該パターン層２の層厚とほぼ同一厚さであって、該
パターン層２表面と面一の透明な合成樹脂による透明下
地層３を備える。該透明下地層３は、アクリル系樹脂、
エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂などの透明な合成
樹脂、あるいは光硬化型若しくは熱硬化型のアクリル系
樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂などの透明
な合成樹脂を用いて、ストライプ状、若しくは四角ドッ
ト状等のカラー表示画素パターン形状（マトリクスパタ
ーン状）に、列方向、行方向に、規則的にパターン配列
されている。

【００１１】前記ブラックマトリクスパターン層２の幅
は、透明下地層３の幅（例えば公知のカラー液晶表示装
置における四角形ドット状の画素サイズ；１００μｍ×
１００μｍ〜６００μｍ×６００μｍ等）に対応して設
定することができるが、透明下地層３の幅サイズは、こ
れに対して、３〜１０倍程度が適当である。

【００１２】上記透明下地層３上には、顔料分散フォト
レジスト方式、着色印刷方式、染色方式等にて、ストラ
イプ状若しくは四角形ドット状等のマトリクスパターン
状に列方向、行方向に、規則的に配列された、ブルーパ
ターンＢ、グリーンパターンＧ、レッドパターンＲのカ
ラー表示画素パターン状のフィルタ着色パターン層４が
パターン形成されている。該フィルタ着色パターン層４
の、各ブルーパターンＢ、グリーンパターンＧ、レッド
パターンＲの各端部４ａは、ブラックマトリクスパター
ン層２上に、オーバーラップしているものである。

【００１３】本発明の上記カラーフィルタにおいては、
フィルタ着色パターン層４のサイズや、各ブルーパター
ンＢ、グリーンパターンＧ、レッドパターンＲのブラッ
クマトリクスパターン層２上へのオーバーラップ幅につ
いては、特に限定されないものである。

【００１４】また、上記フィルタ基板１上にパターン形
成された上記フィルタ着色パターン層４上に、直接に、
若しくは透明オーバーコート層（図示せず）を介して、
該各フィルタ着色パターン層４の各列毎若しくは行毎に
共通するパターン状の走査電極がパターン形成され、若
しくは、ベタ状の共通電極として、ＩＴＯ膜等の透明導
電膜層（図示せず）が形成されている。

【００１５】次に、本発明のカラーフィルタの製造方法
について、図２（ａ）〜（ｆ）に示す実施例の工程図に
従って以下に詳細に説明する。

【００１６】まず、図２（ａ）に示すように、ガラス板
やプラスチック板等の透明なフィルタ基板１の一面上
に、ネガ型の顔料分散型フォトレジストを、スピンコー
ターにより全面に塗布して、フォトレジスト層１２を形
成する。

【００１７】上記顔料分散型フォトレジストとしては、
ネガ型フォトレジスト以外にポジ型フォトレジストであ
ってもよい。塗布膜厚は１μｍ〜２μｍ程度であり、例
えば１．５μｍが適当である。また、スピンコーターの
塗布条件として、回転数は、８００ｒｐｍ〜１５００ｒ
ｐｍ程度、回転継続時間は、８秒〜１５秒程度であり、
例えば、回転数１０００ｒｐｍで１０秒間が適当であ
る。また、顔料分散型フォトレジストを塗布した後に、
適宜必要に応じて、プリベーク処理を行い、そのプリベ
ーク条件は、温度７０℃〜８５℃程度、１０分〜２０分
程度であり、例えば、温度７０℃で１５分間程度が適当
である。

【００１８】次に、同図２（ａ）に示すように、フォト
レジスト層１２上に、ブラックマトリクスパターン状の
光透過部ｍ_a を形成したフォトマスクｍを用いて、紫外
線Ｌを照射して、パターン露光する。

【００１９】上記顔料分散型フォトレジストに対する露
光条件は、紫外線を、例えば、６０ｍＪ〜１２０ｍＪの
照射量にて露光を行う。上記パターン露光によって、図
２（ｂ）に示すように、フォトレジスト層１２の紫外線
Ｌによりパターン露光された部分は、光硬化部１２ａが
形成される。

【００２０】次に、図２（ｃ）に示すように、フォトレ
ジスト層１２の紫外線Ｌによりパターン露光されない未
硬化部１２ｂを、適宜溶剤にて溶解して現像除去するこ
とにより、ブラックマトリクスパターン層２をパターン
形成する。

【００２１】上記顔料分散型フォトレジストに対する現
像条件は、ネガ型フォトレジスト（有機溶媒型のネガ型
フォトレジスト）の場合には、現像液としてアルカリ溶
液（水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、
水酸化カリウム水溶液等）を使用し、現像温度は常温、
現像時間は３５秒〜５０秒間程度であり、例えば４０秒
間程度が適当である。

【００２２】また、上記顔料分散型フォトレジストが、
水溶性のポジ型フォトレジストの場合において、現像液
として、水、アルコール等の水性溶媒を使用し、油溶性
のポジ型フォトレジストの場合は、アルカリ性水溶液
（水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、水
酸化カリウム水溶液等）、又はトルエン等の有機溶剤を
使用する。

【００２３】また、上記顔料分散型フォトレジストの現
像処理後に、適宜必要に応じて、ポストベーク処理を行
い、ポストベーク条件は、温度２００℃〜２５０℃で、
３０分〜１００分程度であり、温度２３０℃で６０分が
適当である。

【００２４】なお、上記ブラックマトリクスパターン層
２は、上記顔料分散フォトレジスト方式以外に、光不透
過吸収性の黒色系の印刷インキを用いて、凹版オフセッ
ト印刷方式、凹版印刷方式等の印刷方式により、フィル
タ基板１上にパターン形成してもよい。

【００２５】次に、図２（ｄ）に示すように、フィルタ
基板１上にパターン形成されたブラックマトリクスパタ
ーン層２上より、フィルタ基板１全面に、透明樹脂液を
塗布して、透明樹脂層１３を形成して、乾燥固化させ
る。なお、透明樹脂液は、溶媒揮散により乾燥固化する
合成樹脂液、又は、光硬化性樹脂液、若しくは熱硬化性
樹脂液のいずれでもよい。塗布された透明樹脂層１３の
層厚ｔは、ブラックマトリクスパターン層２の層厚ｈよ
りも、適度に薄くても又は適度に厚くてもいずれでもよ
いが、ほぼ同一層厚であることが適当である。

【００２６】次に、同図２（ｄ）に示すように、透明樹
脂層１３上より、バフ研磨手段１５にて、研磨材１６を
高速回転させながら下降させて透明樹脂層１３表面に接
触させ、フィルタ基板１面に対して平行に横移動させな
がら、透明樹脂層１３表面を平坦に研磨するとともに、
ブラックマトリクスパターン層２表面も同様に平坦に研
磨することによって、フィルタ基板１上のブラックマト
リクスパターン層２表面と、透明樹脂層１３表面とを、
互いに段差のない面一な表面に仕上げる

【００２７】上記研磨操作によって、図２（ｅ）に示す
ように、フィルタ基板１上のブラックマトリクスパター
ン層２表面に対して段差のない面一な表面を有する透明
樹脂層１３による透明下地層３を形成する。

【００２８】次に、図２（ｆ）に示すように、フィルタ
基板１上の透明下地層３表面に、顔料分散型フォトレジ
スト方式（パターン露光現像方式）、印刷方式（凹版オ
フセット印刷方式、平版オフセット印刷方式）、あるい
は染着性樹脂（感光性ゼラチン、カゼイン）を用いたパ
ターン露光現像及び染色・定着操作による染色方式等に
よって、ストライプ状、四角形ドット状、多角形ドット
状等のパターン状に、列方向、行方向に規則的に配列さ
れたブルーパターンＢ、グリーンパターンＧ、レッドパ
ターンＲのフィルタ画素パターン状のフィルタ着色パタ
ーン層４をパターン形成する。

【００２９】フィルタ着色パターン層４は、カラーフィ
ルタのマトリクス状のフィルタ画素パターン（カラー表
示画素パターン）となる部分であり、ブルー（青）、グ
リーン（緑）、レッド（赤）の各色のフィルタ着色パタ
ーン４の端部４ａは、ブラックマトリクスパターン層２
上にオーバーラップするようにパターン形成される。

【００３０】各ブルーパターンＢ、グリーンパターン
Ｇ、レッドパターンＲからなるフィルタ着色パターン層
４のパターン形成については、各色のうちのいずれか１
色目の色（例えばブルー）に着色された顔料分散型フォ
トレジストを、ガラス基板１上に、スピンコーターによ
り、全面塗布した後、適宜加熱温度と時間によって、プ
リベークを行なう。

【００３１】続いて、フォトマスクを用いて、紫外線に
てマスクパターン露光を行い、現像処理して、１色目の
パターン（例えば多数の規則的に配列されたブルーパタ
ーンＢ）を形成し、その後、形成されたパターンを、適
宜加熱温度と時間によってポストベーク処理する。以上
の操作を、各色毎に行って、上記ブルーパターンＢ、及
びグリーンパターンＧ（多数の規則的に配列されたグリ
ーンパターンＧ）、及びレッドパターンＲ（多数の規則
的に配列されたレッドパターンＲ）のフィルタ着色パタ
ーン層４をパターン形成する。

【００３２】なお、上記フィルタ着色パターン層４を形
成するために使用する、それぞれブルー、グリーン、レ
ッドに着色された顔料分散型フォトレジストの種類、塗
布膜厚、スピンコーターの塗布条件、プリベーク条件、
露光条件、現像条件、ポストベーク条件等は、本発明方
法においては、特に限定されるものではない。

【００３３】使用する顔料分散型フォトレジストは、ネ
ガ型フォトレジスト、ポジ型フォトレジストのいずれで
もよく、例えば、ネガ型フォトレジストとして、フジハ
ント社製、Ｂ（ブルー）；ＣＢ２０００、Ｇ（グリー
ン）；ＣＧ２０００、Ｒ（レッド）；ＣＲ２０００が使
用でき、また、塗布膜厚は１μｍ〜２μｍ程度であり、
例えば、１．５μｍが適当である。

【００３４】また、スピンコーターの塗布条件として、
回転数は、８００ｒｐｍ〜１５００ｒｐｍ程度、回転継
続時間は、８秒〜１５秒程度であり、例えば、回転数１
０００ｒｐｍで１０秒間が適当である。また、プリベー
ク条件は、温度７０℃〜８５℃程度、１０分〜２０分程
度であり、例えば、温度７０℃で１５分間程度が適当で
ある。

【００３５】上記顔料分散型フォトレジストに対する露
光条件は、紫外線を、６０ｍＪ〜１２０ｍＪの照射量に
て露光を行い、例えば、Ｂ；１２０ｍＪ、Ｇ；８０ｍ
Ｊ、Ｒ；６０ｍＪが適当である。また現像条件は、使用
する顔料分散型フォトレジストに対応して、適宜設定す
るものである。

【００３６】また、上記顔料分散型フォトレジストに対
する現像条件は、ネガ型フォトレジスト（有機溶媒型の
ネガ型フォトレジスト）の場合には、現像液としてアル
カリ溶液（水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水
溶液、水酸化カリウム水溶液等）を使用し、現像温度は
常温、現像時間は３５秒〜５０秒間程度であり、例えば
４０秒間程度が適当である。また、上記顔料分散型フォ
トレジストが、水溶性のポジ型フォトレジストの場合に
おいて、現像液として、水、アルコール等の水性溶媒を
使用し、油溶性のポジ型フォトレジストの場合は、アル
カリ性水溶液（水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウ
ム水溶液、水酸化カリウム水溶液等）、又はトルエン等
の有機溶剤を使用する。

【００３７】また、上記顔料分散型フォトレジストの現
像処理後のポストベーク条件は、温度２００℃〜２５０
℃で、３０分〜１００分程度であり、温度２３０℃で６
０分が適当である。

【００３８】なお、上記カラーフィルタの製造方法にお
いては、図２（ｆ）に示すように、フィルタ基板１上
に、ブラックマトリクスパターン層２と、透明下地層３
と、フィルタ着色パターン層４とを形成した後に、上記
フィルタ基板１の一面上のフィルタ着色パターン層４上
に、直接に、又は絶縁性の透明なオーバーコート層（透
明樹脂層）を介して間接的に、膜厚１０００Å程度の透
明導電膜層（図示せず）をパターン形成する。

【００３９】カラーフィルタの用途が、例えば、互いに
液晶を挟んで平行に離間対向し、且つ互いに直交する１
対のストライプ状の電極（ストライプ状走査電極とスト
ライプ状表示電極）による単純マトリクス表示方式のカ
ラー液晶表示装置に使用される場合は、規則的に配列さ
れた各ブルーパターンＢ、グリーンパターンＧ、レッド
パターンＲのフィルタ着色パターン層４上に、各列毎若
しくは行毎に共通する単純マトリクス走査電極用のＩＴ
Ｏ膜等の、膜厚１０００Å程度の透明導電膜層を、絶縁
性の透明保護層（透明樹脂層）を介して間接的に、列方
向若しくは行方向にストライプパターン状に、スパッタ
リング方式及びエッチング方式等を用いて、パターン形
成する。なお、透明保護層は、合成樹脂、光硬化型樹脂
等の透明樹脂をコーティングして得られる。

【００４０】また、カラーフィルタの用途が、例えば、
互いに液晶を挟んで平行に離間対向する画素電極と共通
電極とによるアクティブマトリクス表示方式（例えば、
Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ方式；ＴＦ
Ｔ方式等）の場合は、フィルタ着色パターン層４上及び
ブラックマトリクスパターン２上に、ＴＦＴ方式の共通
電極用のＩＴＯ膜等の膜厚１０００Å程度の透明導電膜
層７（ＩＴＯ膜）を、直接に、又は絶縁性の透明保護層
（透明樹脂層）を介して間接的に、適宜ベタ状に、スパ
ッタリング方式及びエッチング方式等を用いて形成す
る。以下に、本発明方法の具体的実施例を示す。

【００４１】＜実施例１＞透明なガラス板のフィルタ基
板に、カーボン顔料を分散した感光性樹脂（フジハント
社製；ＣＫ２０００）を、２．０μｍの層厚にて塗布
し、フォトレジスト層を形成した。フォトレジスト層の
光学濃度は、３．０〜３．４程度であった。続いて、フ
ォトレジスト層に、フォトマスクを用いて、紫外線によ
り、ブラックマトリクスパターンをパターン露光し、所
定の現像液（例えばアルカリ性溶液）にて現像処理し、
格子状のブラックマトリクスパターン層をパターン形成
し、その後、２３０℃で、６０分間、ポストベーキング
した。

【００４２】次に、ブラックマトリクスパターン層上よ
り、フィルタ基板１上に、光硬化性若しくは熱硬化性の
透明樹脂液（アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂のうち、いずれか１種の樹脂液）を、層厚
２．０μｍにて全面塗布して透明樹脂層を形成し、続い
て、紫外線照射、若しくは加熱して、透明樹脂層を硬化
乾燥させた。

【００４３】次に、透明樹脂層上よりバフ研磨を行っ
て、ブラックマトリクスパターン層の厚さ、及び透明樹
脂層の厚さが、１．５μｍ程度になるまで研磨を継続し
て、ブラックマトリクスパターン層と透明下地層とによ
る面一な平坦面を形成した。この時のブラックマトリク
スパターン層の光学濃度は、２．２〜３．０程度であっ
た

【００４４】次に、フィルタ着色パターン形成用のそれ
ぞれブルー顔料、グリーン顔料、レッド顔料を分散混合
した各々着色顔料分散フォトレジストを、各色毎、上記
フィルタ基板上のブラックマトリクスパターン層と透明
下地層とによる面一な平坦面上に塗布し、フィルタ着色
パターンの形成されたフォトマスクを用いて、各色毎
に、フィルタ着色パターンを露光して現像処理すること
により、それぞれ透明下地層上の各色画素に相当する部
分に、四角形ドット状の各ブルーパターン、グリーンパ
ターン、レッドパターンを、前記ブラックマトリクスパ
ターン層上にその端部が重なるように形成して、フィル
タ着色パターン層をパターン形成した。

【００４５】

【作用】本発明のカラーフィルタ及びカラーフィルタの
製造方法は、フィルタ基板１の一面に設けたブラックマ
トリクスパターン層２に隣設して、該パターン層２表面
と面一表面を構成する透明下地層３を設けるようにした
ので、透明下地層３上にパターン形成されるフィルタ着
色パターン層４は、ブラックマトリクスパターン層２上
にオーバーラップさせてパターン形成されたフィルタ着
色パターン層４の端部４ａに突起が発生せず、それぞれ
各パターンＢ，Ｇ，Ｒのフィルタ着色パターン層４は、
平坦に形成されるものである。

【００４６】

【発明の効果】本発明のカラーフィルタ及びカラーフィ
ルタの製造方法は、フィルタ着色パターン層４の端部４
ａに突起が発生せず、それぞれ各パターンＢ，Ｇ，Ｒの
フィルタ着色パターン層４は平坦に形成され、平坦性の
良好なカラーフィルタが得られる。そのため、対向電極
板と平行に離間対向させてパネル化（アッセンブル）す
る時に、離間対向間に液晶を充填封入するための均一な
セルギャップが得られ、カラー表示機能の向上効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフイルタの一実施例における部
分側断面図である。

【図２】（ａ）〜（ｆ）は、本発明のカラーフイルタの
製造方法における製造工程を示す側断面図である。

【図３】従来のカラーフィルタを説明する部分側断面図
である。

【符号の説明】

１…フィルタ基板 ２…ブラックマトリクスパターン層
３…透明下地層 ４…フィルタ着色パターン層 ４ａ…端部 １２…フォトレジス層 １３…透明樹脂層 １５…研磨
手段 １６…研磨材 ２２…フィルタ着色パターン層 ２２ａ…突起 ２３…
重なり部 ２４…ブラックマトリクスパターン層 ｍ…フォトマスク ｔ…透明樹脂層の厚さ ｈ…ブラックマトリクスパターン層の層厚

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】フィルタ基板１上に、顔料分散フォトレジ
   ストを用いてパターン形成したブラックマトリクスパタ
   ーン層２を備え、該フィルタ基板１上の前記ブラックマ
   トリクスパターン層２形成領域以外のカラー表示画素領
   域相当部に、ブラックマトリクスパターン層２表面と面
   一な透明下地層３を備え、該透明下地層３上に、各ブル
   ーパターンＢ、グリーンパターンＧ、レッドパターンＲ
   からなるフィルタ着色パターン層４を、そのパターン端
   部４ａがブラックマトリクスパターン層２上に重なるよ
   うに設けたことを特徴とするカラーフィルタ。
2. 【請求項２】フィルタ基板１上に、ブラック顔料分散型
   フォトレジストを塗布して、フォトレジスト層１２を形
   成し、次に該フォトレジスト層１２をパターン露光及び
   現像処理してブラックマトリクスパターン層２をパター
   ン形成し、次に該ブラックマトリクスパターン層２上よ
   りフィルタ基板１全面に透明樹脂液を塗布して透明樹脂
   層１３を形成し、該透明樹脂層１３を乾燥固化した後
   に、該透明樹脂層１３表面を平坦に研磨して、ブラック
   マトリクスパターン層２表面と透明樹脂層１３表面とを
   同一面に仕上げることにより、ブラックマトリクスパタ
   ーン層２に隣設する透明下地層３を形成し、該透明下地
   層３上に、ブルーパターンＢ、グリーンパターンＧ、レ
   ッドパターンＲからなるフィルタ着色パターン層４を、
   そのパターン端部４ａがブラックマトリクスパターン層
   ２上に重なるようにパターン形成することを特徴とする
   カラーフィルタの製造方法。