JPH06331815A - カラーフィルタ - Google Patents
カラーフィルタInfo
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- JPH06331815A JPH06331815A JP12244393A JP12244393A JPH06331815A JP H06331815 A JPH06331815 A JP H06331815A JP 12244393 A JP12244393 A JP 12244393A JP 12244393 A JP12244393 A JP 12244393A JP H06331815 A JPH06331815 A JP H06331815A
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- JP
- Japan
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- pattern
- black matrix
- layer pattern
- color
- filter
- Prior art date
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- Pending
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- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ブラックマトリクスパターンとフィルタ色パタ
ーンとのオーバーラップ部分に盛り上がった突起部が形
成されないようにすることにある。 【構成】ガラス基板11上に形成されたブラックマトリク
スパターン12は、ほぼ同一形状パターンの上層パターン
部15と下層パターン部14との重ね合わせにより構成さ
れ、該ブラックマトリクスパターン12の端縁部に沿っ
て、前記パターン画線幅ｗ1 の下層パターン部14とそれ
より幅小のパターン画線幅ｗ2 の上層パターン部15との
それぞれ端縁部の互いのずれ重ねにより形成された所定
幅の段差部16を設け、該段差部16上にB,G,R 各フィルタ
色パターン13の端縁部がオーバーラップしているカラー
フィルタ。
ーンとのオーバーラップ部分に盛り上がった突起部が形
成されないようにすることにある。 【構成】ガラス基板11上に形成されたブラックマトリク
スパターン12は、ほぼ同一形状パターンの上層パターン
部15と下層パターン部14との重ね合わせにより構成さ
れ、該ブラックマトリクスパターン12の端縁部に沿っ
て、前記パターン画線幅ｗ1 の下層パターン部14とそれ
より幅小のパターン画線幅ｗ2 の上層パターン部15との
それぞれ端縁部の互いのずれ重ねにより形成された所定
幅の段差部16を設け、該段差部16上にB,G,R 各フィルタ
色パターン13の端縁部がオーバーラップしているカラー
フィルタ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板上に、ブラ
ックマトリクスパターンと、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒ
ｅｄ各着色パターンから構成されるフィルタ色パターン
と、適宜透明導電膜等とを備えた液晶表示装置等のカラ
ーフィルタに関する。
ックマトリクスパターンと、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒ
ｅｄ各着色パターンから構成されるフィルタ色パターン
と、適宜透明導電膜等とを備えた液晶表示装置等のカラ
ーフィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の液晶表示装置等のカラーフィルタ
は、図３（ａ）に示すように、ガラス基板１上に、規則
的な平行線状、格子状等の遮光性（若しくは光吸収性）
のブラックマトリクスパターン２を設け、該ブラックマ
トリクスパターン２の間に、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒ
ｅｄ各着色パターンから構成されるフィルタ色パターン
３が設けられ、該ブラックマトリクスパターン２とフィ
ルタ色パターン３の上側には、透明保護膜や透明導電膜
（図示せず）が積層されている。
は、図３（ａ）に示すように、ガラス基板１上に、規則
的な平行線状、格子状等の遮光性（若しくは光吸収性）
のブラックマトリクスパターン２を設け、該ブラックマ
トリクスパターン２の間に、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒ
ｅｄ各着色パターンから構成されるフィルタ色パターン
３が設けられ、該ブラックマトリクスパターン２とフィ
ルタ色パターン３の上側には、透明保護膜や透明導電膜
（図示せず）が積層されている。
【０００３】上記カラーフィルタにおいては、ブラック
マトリクスパターン２とフィルタ色パターン３との隣接
部分に空隙が形成されないように、ブラックマトリクス
パターン２とフィルタ色パターン３は互いに密接するよ
うに配置する必要があり、そのためフィルタ色パターン
３は、ブラックマトリクスパターン２上にオーバーラッ
プするように設けられている。
マトリクスパターン２とフィルタ色パターン３との隣接
部分に空隙が形成されないように、ブラックマトリクス
パターン２とフィルタ色パターン３は互いに密接するよ
うに配置する必要があり、そのためフィルタ色パターン
３は、ブラックマトリクスパターン２上にオーバーラッ
プするように設けられている。
【０００４】ガラス基板１上に、上記ブラックマトリク
スパターン２と、フィルタ色パターン３をパターン形成
する場合は、着色顔料をフォトレジストに分散した顔料
分散フォトレジストを用いてフォトファブリケーション
（フォトリソグラフ法）方式により、あるいは印刷イン
キを用いて凹版オフセット印刷方式等により形成され
る。
スパターン２と、フィルタ色パターン３をパターン形成
する場合は、着色顔料をフォトレジストに分散した顔料
分散フォトレジストを用いてフォトファブリケーション
（フォトリソグラフ法）方式により、あるいは印刷イン
キを用いて凹版オフセット印刷方式等により形成され
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記カラーフィルタの
パターン形成において光学的濃度を得るためには、顔料
分散フォトレジストや印刷インキの膜厚を大きくする必
要があり、図３（ｂ）に示すように、ブラックマトリク
スパターン２とフィルタ色パターン３とのオーバーラッ
プ部分に盛り上がった突起部４が形成され易く、液晶表
示装置（ＬＣＤ）用のカラーフィルタ配向膜形成時、及
び後にカラー表示パネルとして組み付けるために重ね合
わせられる対向電極板との離間距離が不均一になる等の
悪影響が生じるものであった。
パターン形成において光学的濃度を得るためには、顔料
分散フォトレジストや印刷インキの膜厚を大きくする必
要があり、図３（ｂ）に示すように、ブラックマトリク
スパターン２とフィルタ色パターン３とのオーバーラッ
プ部分に盛り上がった突起部４が形成され易く、液晶表
示装置（ＬＣＤ）用のカラーフィルタ配向膜形成時、及
び後にカラー表示パネルとして組み付けるために重ね合
わせられる対向電極板との離間距離が不均一になる等の
悪影響が生じるものであった。
【０００６】本発明は、ブラックマトリクスパターンと
フィルタ色パターンとのオーバーラップ部分に盛り上が
った突起部が形成されないようにすることにある。
フィルタ色パターンとのオーバーラップ部分に盛り上が
った突起部が形成されないようにすることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス基板上
に、ブラックマトリクスパターンと、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅ
ｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターンから構成されるフィルタ色
パターンと、適宜透明導電膜等とを備えたカラーフィル
タにおいて、ブラックマトリクスパターンは、ほぼ同一
形状パターンの下層パターン部と上層パターン部との重
ね合わせにより構成され、該ブラックマトリクスパター
ンの端縁部に沿って、下層パターン部のパターン画線幅
より幅小の上層パターン部の重ね合わせにより形成され
た所定幅の段差部を備え、該段差部上にフィルタ色パタ
ーンの端縁部がオーバーラップしていることを特徴とす
るカラーフィルタである。
に、ブラックマトリクスパターンと、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅ
ｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターンから構成されるフィルタ色
パターンと、適宜透明導電膜等とを備えたカラーフィル
タにおいて、ブラックマトリクスパターンは、ほぼ同一
形状パターンの下層パターン部と上層パターン部との重
ね合わせにより構成され、該ブラックマトリクスパター
ンの端縁部に沿って、下層パターン部のパターン画線幅
より幅小の上層パターン部の重ね合わせにより形成され
た所定幅の段差部を備え、該段差部上にフィルタ色パタ
ーンの端縁部がオーバーラップしていることを特徴とす
るカラーフィルタである。
【０００８】
【実施例】本発明のカラーフィルタの一実施例を、図１
の側断面図に従って以下に詳細に説明すれば、ガラス基
板１１上に、規則的な平行線状、格子状等の遮光性（若
しくは光吸収性）のブラックマトリクスパターン１２を
設け、該ブラックマトリクスパターン２の間に、Ｂｌｕ
ｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターンから構成される
フィルタ色パターン１３が設けられ、該ブラックマトリ
クスパターン１２とフィルタ色パターン１３の上側に
は、透明保護膜や透明導電膜（図示せず）が積層されて
いる。
の側断面図に従って以下に詳細に説明すれば、ガラス基
板１１上に、規則的な平行線状、格子状等の遮光性（若
しくは光吸収性）のブラックマトリクスパターン１２を
設け、該ブラックマトリクスパターン２の間に、Ｂｌｕ
ｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターンから構成される
フィルタ色パターン１３が設けられ、該ブラックマトリ
クスパターン１２とフィルタ色パターン１３の上側に
は、透明保護膜や透明導電膜（図示せず）が積層されて
いる。
【０００９】上記カラーフィルタにおいて、ブラックマ
トリクスパターン１２は、図１に示すように、パターン
画線幅ｗ1 の下層パターン部１４の上側にパターン画線
幅ｗ 1 より幅小のパターン画線幅ｗ2 （ｗ1 ＞ｗ2 ）の
上層パターン部１５を重ね合わて構成される。
トリクスパターン１２は、図１に示すように、パターン
画線幅ｗ1 の下層パターン部１４の上側にパターン画線
幅ｗ 1 より幅小のパターン画線幅ｗ2 （ｗ1 ＞ｗ2 ）の
上層パターン部１５を重ね合わて構成される。
【００１０】図２は、図１の部分拡大側断面図であり、
パターン画線幅ｗ1 の下層パターン部１４の端縁部と、
パターン画線幅ｗ2 の上層パターン部１５の端縁部は、
互いに所定幅をもってずれ重ね状態で位置決め整合され
ており、このずれ重ねによる重ね合わせによって、ブラ
ックマトリクスパターン１２（パターン画線幅ｗ＝
ｗ 1 ）の端縁部に沿って段差部１６が形成されている。
パターン画線幅ｗ1 の下層パターン部１４の端縁部と、
パターン画線幅ｗ2 の上層パターン部１５の端縁部は、
互いに所定幅をもってずれ重ね状態で位置決め整合され
ており、このずれ重ねによる重ね合わせによって、ブラ
ックマトリクスパターン１２（パターン画線幅ｗ＝
ｗ 1 ）の端縁部に沿って段差部１６が形成されている。
【００１１】図２に示すブラックマトリクスパターン１
２のパターン両側のそれぞれ段差部１６，１６の高低差
は、上層パターン部１５の膜厚に相当し、各段差部１
６，１６の各幅ａ，ｂはａ＝ｂが適当である。
２のパターン両側のそれぞれ段差部１６，１６の高低差
は、上層パターン部１５の膜厚に相当し、各段差部１
６，１６の各幅ａ，ｂはａ＝ｂが適当である。
【００１２】図２に示すように、ブラックマトリクスパ
ターン１２とフィルタ色パターン１３との隣接部分に、
ガラス基板１１面が露呈するような空隙が形成されない
ように、パターン画線幅ｗのブラックマトリクスパター
ン１２の端縁部の上側に、所定オーバーラップ幅ｄをも
ってフィルタ色パターン１３端縁部がオーバーラップす
るようにフィルタ色パターン１３が設けられている。
ターン１２とフィルタ色パターン１３との隣接部分に、
ガラス基板１１面が露呈するような空隙が形成されない
ように、パターン画線幅ｗのブラックマトリクスパター
ン１２の端縁部の上側に、所定オーバーラップ幅ｄをも
ってフィルタ色パターン１３端縁部がオーバーラップす
るようにフィルタ色パターン１３が設けられている。
【００１３】オーバーラップ幅ｄは、ｄ＝ａ＝ｂが適当
であるが、これに限定されるものではなく、０＜ｄ≦ａ
の範囲であればよい。
であるが、これに限定されるものではなく、０＜ｄ≦ａ
の範囲であればよい。
【００１４】ガラス基板１１上に、下層パターン部１４
と、上層パターン部１５とにより構成されるブラックマ
トリクスパターン１２と、フィルタ色パターン１３をパ
ターン形成する場合は、着色顔料をフォトレジストに分
散した顔料分散フォトレジストを用いてフォトファブリ
ケーション（フォトリソグラフ法）方式により、あるい
は印刷インキを用いて凹版オフセット印刷方式等により
形成される。
と、上層パターン部１５とにより構成されるブラックマ
トリクスパターン１２と、フィルタ色パターン１３をパ
ターン形成する場合は、着色顔料をフォトレジストに分
散した顔料分散フォトレジストを用いてフォトファブリ
ケーション（フォトリソグラフ法）方式により、あるい
は印刷インキを用いて凹版オフセット印刷方式等により
形成される。
【００１５】ガラス基板１１上に、黒色顔料（暗色系の
光吸収性顔料）分散フォトレジストを全面均一に塗布し
た後、パターン露光（写真原版を用いたブラックマトリ
クスパターン露光、ビーム露光によるブラックマトリク
スパターン露光）と、現像処理とによって、ブラックマ
トリクスパターン１２となるパターン画線幅ｗ1 の下層
パターン部１４をパターン形成して、該下層パターン部
１４を加熱焼成処理する。
光吸収性顔料）分散フォトレジストを全面均一に塗布し
た後、パターン露光（写真原版を用いたブラックマトリ
クスパターン露光、ビーム露光によるブラックマトリク
スパターン露光）と、現像処理とによって、ブラックマ
トリクスパターン１２となるパターン画線幅ｗ1 の下層
パターン部１４をパターン形成して、該下層パターン部
１４を加熱焼成処理する。
【００１６】続いて、該下層パターン部１４上よりガラ
ス基板１１に、黒色顔料（暗色系の光吸収性顔料）分散
フォトレジストを全面均一に塗布した後、前記下層パタ
ーン部１４とほぼ同一形状パターンであって、且つ前記
下層パターン部１４のパターン画線幅ｗ1 よりも、適宜
値（例えばｗ1 ／２０〜ｗ1 ／３）だけ幅小（細幅）の
パターン画線幅ｗ2 によるパターン露光た後に現像処理
することによって、パターン画線幅ｗ1 より幅小（細
幅）のパターン画線幅ｗ2 の上層パターン部１５をパタ
ーン形成することにより、ブラックマトリクスパターン
１２の端縁部に沿って、段差部１６（例えば両側各ｗ1
／４０〜ｗ1 ／６の幅の段差部）を形成する。
ス基板１１に、黒色顔料（暗色系の光吸収性顔料）分散
フォトレジストを全面均一に塗布した後、前記下層パタ
ーン部１４とほぼ同一形状パターンであって、且つ前記
下層パターン部１４のパターン画線幅ｗ1 よりも、適宜
値（例えばｗ1 ／２０〜ｗ1 ／３）だけ幅小（細幅）の
パターン画線幅ｗ2 によるパターン露光た後に現像処理
することによって、パターン画線幅ｗ1 より幅小（細
幅）のパターン画線幅ｗ2 の上層パターン部１５をパタ
ーン形成することにより、ブラックマトリクスパターン
１２の端縁部に沿って、段差部１６（例えば両側各ｗ1
／４０〜ｗ1 ／６の幅の段差部）を形成する。
【００１７】なお、ブラックマトリクスパターン１２の
段差部１６にオーバーラップするフィルタ色パターン１
３の形成は、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄの各顔料分
散フォトレジストを用いて、写真原版を用いたＢ，Ｇ，
Ｒ各着色フィルタマトリクスパターン露光、ビーム露光
によるＢ，Ｇ，Ｒ各着色フィルタマトリクスパターン露
光、現像処理、エッチング処理等のフォトファブリケー
ション（フォトリソグラフ法）方式により、あるいは印
刷インキを用いて凹版オフセット印刷方式等の公知の方
式により形成される。
段差部１６にオーバーラップするフィルタ色パターン１
３の形成は、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄの各顔料分
散フォトレジストを用いて、写真原版を用いたＢ，Ｇ，
Ｒ各着色フィルタマトリクスパターン露光、ビーム露光
によるＢ，Ｇ，Ｒ各着色フィルタマトリクスパターン露
光、現像処理、エッチング処理等のフォトファブリケー
ション（フォトリソグラフ法）方式により、あるいは印
刷インキを用いて凹版オフセット印刷方式等の公知の方
式により形成される。
【００１８】ブラックマトリクスパターン１２の端縁部
に沿って形成された段差部１６上には、Ｂｌｕｅ，Ｇｒ
ｅｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターンから構成されるフィルタ
色パターン１３が形成され、その上に、適宜必要に応じ
て、透明樹脂を用いた透明保護層、ＩＴＯ膜による透明
導電膜等を備えるものである。
に沿って形成された段差部１６上には、Ｂｌｕｅ，Ｇｒ
ｅｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターンから構成されるフィルタ
色パターン１３が形成され、その上に、適宜必要に応じ
て、透明樹脂を用いた透明保護層、ＩＴＯ膜による透明
導電膜等を備えるものである。
【００１９】＜実施例１＞透明なガラス基板上に、黒色
に着色されたアクリル系等の感光性フォトレジスト（例
えば、フォトブラック、ＣＫ−２０００、光学濃度；１
〜２；フジハント社製）を、スピンコーターにて膜厚
０．５μｍ〜１．０μｍ（例えば、膜厚；１μｍ、光学
濃度；０．８以上が適当）に均一に塗布して乾燥させ、
遮光性の感光性フォトレジスト層（後に下層パターン部
となる）を形成した。
に着色されたアクリル系等の感光性フォトレジスト（例
えば、フォトブラック、ＣＫ−２０００、光学濃度；１
〜２；フジハント社製）を、スピンコーターにて膜厚
０．５μｍ〜１．０μｍ（例えば、膜厚；１μｍ、光学
濃度；０．８以上が適当）に均一に塗布して乾燥させ、
遮光性の感光性フォトレジスト層（後に下層パターン部
となる）を形成した。
【００２０】次に、遮光性の感光性フォトレジスト層上
より、ブラックマトリクスパターン相当形状の写真原版
を用いて紫外線（若しくは電子線）にてパターン露光処
理、又は紫外線ビーム露光によるパターン露光処理を行
い、露光部分をブラックマトリクスパターン相当形状に
硬化させて、未硬化部分を水酸化ナトリウム等のアルカ
リ溶液にて溶解除去して現像処理を行って、遮光性の感
光性フォトレジスト層をパターン化して、遮光性の下層
パターン部を形成した。
より、ブラックマトリクスパターン相当形状の写真原版
を用いて紫外線（若しくは電子線）にてパターン露光処
理、又は紫外線ビーム露光によるパターン露光処理を行
い、露光部分をブラックマトリクスパターン相当形状に
硬化させて、未硬化部分を水酸化ナトリウム等のアルカ
リ溶液にて溶解除去して現像処理を行って、遮光性の感
光性フォトレジスト層をパターン化して、遮光性の下層
パターン部を形成した。
【００２１】続いて、該遮光性の下層パターン部上よ
り、黒色に着色された上記同様のアクリル系等の感光性
フォトレジスト（例えばフォトブラック、ＣＫ−２００
０、光学濃度；１〜２；フジハント社製）を、スピンコ
ーターにて膜厚０．５μｍ〜１．０μｍ（例えば、膜
厚；１μｍ、光学濃度；０．８以上が適当）に均一に塗
布して乾燥させ、遮光性の感光性フォトレジスト層（後
に上層パターン部となる）を形成した。
り、黒色に着色された上記同様のアクリル系等の感光性
フォトレジスト（例えばフォトブラック、ＣＫ−２００
０、光学濃度；１〜２；フジハント社製）を、スピンコ
ーターにて膜厚０．５μｍ〜１．０μｍ（例えば、膜
厚；１μｍ、光学濃度；０．８以上が適当）に均一に塗
布して乾燥させ、遮光性の感光性フォトレジスト層（後
に上層パターン部となる）を形成した。
【００２２】続いて、該下層パターン部上に塗布された
遮光性の感光性フォトレジスト層上より、前記下層パタ
ーン部のブラックマトリクスパターン相当形状パターン
の画線よりも幅の狭い（細い）画線パターンの写真原版
を用いて紫外線（若しくは電子線）にて画線幅の狭い
（細い）パターン露光処理、又は紫外線ビーム露光によ
り下層パターン部より画線幅の狭い（細い）パターン露
光処理を行い、露光部分をブラックマトリクスパターン
相当形状に硬化させて、未硬化部分を水酸化ナトリウム
等のアルカリ溶液にて溶解除去して現像処理を行って、
遮光性の感光性フォトレジスト層をパターン化して、遮
光性の上層パターン部を形成し、下層パターン部と、該
下層パターン部上に整合して積層され且つ該下層パター
ン部よりもパターンの画線幅の狭い（細い）上層パター
ン部とによるブラックマトリクスパターンを形成した。
遮光性の感光性フォトレジスト層上より、前記下層パタ
ーン部のブラックマトリクスパターン相当形状パターン
の画線よりも幅の狭い（細い）画線パターンの写真原版
を用いて紫外線（若しくは電子線）にて画線幅の狭い
（細い）パターン露光処理、又は紫外線ビーム露光によ
り下層パターン部より画線幅の狭い（細い）パターン露
光処理を行い、露光部分をブラックマトリクスパターン
相当形状に硬化させて、未硬化部分を水酸化ナトリウム
等のアルカリ溶液にて溶解除去して現像処理を行って、
遮光性の感光性フォトレジスト層をパターン化して、遮
光性の上層パターン部を形成し、下層パターン部と、該
下層パターン部上に整合して積層され且つ該下層パター
ン部よりもパターンの画線幅の狭い（細い）上層パター
ン部とによるブラックマトリクスパターンを形成した。
【００２３】このようにしてガラス基板上に整合して積
層形成されたそれぞれ下層パターン部と、該下層パター
ン部よりもパターンの画線幅の狭い（細い）上層パター
ン部との総厚は１〜２μｍであり、その総光学濃度は
１．６〜２以上となる。
層形成されたそれぞれ下層パターン部と、該下層パター
ン部よりもパターンの画線幅の狭い（細い）上層パター
ン部との総厚は１〜２μｍであり、その総光学濃度は
１．６〜２以上となる。
【００２４】その後、ガラス基板上に形成されたブラッ
クマトリクスパターンを、必要に応じて、例えば１１０
℃〜１５０℃、１分〜１０分間加熱して、遮光性の下層
パターン部及び上層パターン部を焼成処理して耐薬品処
理した。
クマトリクスパターンを、必要に応じて、例えば１１０
℃〜１５０℃、１分〜１０分間加熱して、遮光性の下層
パターン部及び上層パターン部を焼成処理して耐薬品処
理した。
【００２５】
【作用】本発明のカラーフィルタは、ガラス基板１１上
のブラックマトリクスパターン１２は、下層パターン部
１４と、該下層パターン部１４上に整合して積層され且
つ該下層パターン部１４よりもパターンの画線幅の狭い
（細い）上層パターン部１５とにより構成され、その両
パターン部１４，１５の互いの重なり合ったパターン端
縁部に沿って所定幅の段差部１６が設けられているの
で、そのブラックマトリクスパターン１２上側にオーバ
ーラップして形成されたフィルタ色パターン１３の端縁
部は段差部１６を埋設するようにして平坦に形成され
る。
のブラックマトリクスパターン１２は、下層パターン部
１４と、該下層パターン部１４上に整合して積層され且
つ該下層パターン部１４よりもパターンの画線幅の狭い
（細い）上層パターン部１５とにより構成され、その両
パターン部１４，１５の互いの重なり合ったパターン端
縁部に沿って所定幅の段差部１６が設けられているの
で、そのブラックマトリクスパターン１２上側にオーバ
ーラップして形成されたフィルタ色パターン１３の端縁
部は段差部１６を埋設するようにして平坦に形成され
る。
【００２６】
【発明の効果】本発明のカラーフィルタは、パターン形
成において光学的濃度を得るために顔料分散フォトレジ
ストや印刷インキの膜厚を大きくした場合でおっても、
ブラックマトリクスパターンとフィルタ色パターンとの
オーバーラップ部分に盛り上がった突起部が形成され難
く、液晶表示装置（ＬＣＤ）用のカラーフィルタ配向膜
形成時、及び後にカラー表示パネルとして組み付けるた
めに重ね合わせられる対向電極板との離間距離の均一性
を保持でき、良好な品質が得られる効果がある。
成において光学的濃度を得るために顔料分散フォトレジ
ストや印刷インキの膜厚を大きくした場合でおっても、
ブラックマトリクスパターンとフィルタ色パターンとの
オーバーラップ部分に盛り上がった突起部が形成され難
く、液晶表示装置（ＬＣＤ）用のカラーフィルタ配向膜
形成時、及び後にカラー表示パネルとして組み付けるた
めに重ね合わせられる対向電極板との離間距離の均一性
を保持でき、良好な品質が得られる効果がある。
【図１】本発明のカラーフィルタの一実施例における側
断面図である。
断面図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの一実施例における部
分拡大側断面図である。
分拡大側断面図である。
【図３】（ａ）は従来のカラーフィルタにおけるブラッ
クマトリクスパターンの側断面図、（ｂ）は従来のカラ
ーフィルタにおけるブラックマトリクスパターン端縁部
にオーバーラップして形成されたフィルタ色パターンに
発生する突起部を示す側断面図である。
クマトリクスパターンの側断面図、（ｂ）は従来のカラ
ーフィルタにおけるブラックマトリクスパターン端縁部
にオーバーラップして形成されたフィルタ色パターンに
発生する突起部を示す側断面図である。
１…ガラス基板 ２…ブラックマトリクスパターン ３
…フィルタ色パターン ４…突起部 １１…ガラス基板 １２…ブラックマトリクスパターン １３…フィルタ色パターン １４…下層パターン部 １
５…上層パターン層 １６…段差部 ａ，ｂ…段差幅 ｄ…オーバーラップ幅 ｈ…突起部の
高さ ｗ…ブラックマトリクスパターン画線幅 ｗ1 …下層パ
ターン幅 ｗ2 …上層パターン幅
…フィルタ色パターン ４…突起部 １１…ガラス基板 １２…ブラックマトリクスパターン １３…フィルタ色パターン １４…下層パターン部 １
５…上層パターン層 １６…段差部 ａ，ｂ…段差幅 ｄ…オーバーラップ幅 ｈ…突起部の
高さ ｗ…ブラックマトリクスパターン画線幅 ｗ1 …下層パ
ターン幅 ｗ2 …上層パターン幅
Claims (1)
- 【請求項１】ガラス基板上に、ブラックマトリクスパタ
ーンと、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターン
から構成されるフィルタ色パターンと、適宜透明導電膜
等とを備えたカラーフィルタにおいて、ブラックマトリ
クスパターンは、ほぼ同一形状パターンの下層パターン
部と上層パターン部との重ね合わせにより構成され、該
ブラックマトリクスパターンの端縁部に沿って、下層パ
ターン部のパターン画線幅より幅小の上層パターン部の
重ね合わせにより形成された所定幅の段差部を備え、該
段差部上にフィルタ色パターンの端縁部がオーバーラッ
プしていることを特徴とするカラーフィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12244393A JPH06331815A (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | カラーフィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12244393A JPH06331815A (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | カラーフィルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06331815A true JPH06331815A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=14835980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12244393A Pending JPH06331815A (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | カラーフィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06331815A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009035066A1 (en) * | 2007-09-10 | 2009-03-19 | Fujifilm Corporation | Thin resin film and production method thereof, and color filter for liquid crystal display and production method thereof |
| KR100920339B1 (ko) * | 2002-07-31 | 2009-10-07 | 삼성전자주식회사 | 색필터 기판 및 그의 형성 방법 |
| CN112083594A (zh) * | 2019-06-13 | 2020-12-15 | 夏普株式会社 | 彩色滤光片基板及其制造方法、以及液晶显示装置 |
-
1993
- 1993-05-25 JP JP12244393A patent/JPH06331815A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100920339B1 (ko) * | 2002-07-31 | 2009-10-07 | 삼성전자주식회사 | 색필터 기판 및 그의 형성 방법 |
| WO2009035066A1 (en) * | 2007-09-10 | 2009-03-19 | Fujifilm Corporation | Thin resin film and production method thereof, and color filter for liquid crystal display and production method thereof |
| JP2009069224A (ja) * | 2007-09-10 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 樹脂製薄膜及びその製造方法、並びに液晶用カラーフィルタ及びその製造方法 |
| CN112083594A (zh) * | 2019-06-13 | 2020-12-15 | 夏普株式会社 | 彩色滤光片基板及其制造方法、以及液晶显示装置 |
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