JPH04355406A - カラーフィルタとその製造方法 - Google Patents
カラーフィルタとその製造方法Info
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- JPH04355406A JPH04355406A JP3130202A JP13020291A JPH04355406A JP H04355406 A JPH04355406 A JP H04355406A JP 3130202 A JP3130202 A JP 3130202A JP 13020291 A JP13020291 A JP 13020291A JP H04355406 A JPH04355406 A JP H04355406A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
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- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラー液晶表示装置等に
用いるカラーフィルタとその製造方法、特に、平坦性を
良くすることによって、カラー液晶表示装置における表
示品質を向上せしめる構成に関する。
用いるカラーフィルタとその製造方法、特に、平坦性を
良くすることによって、カラー液晶表示装置における表
示品質を向上せしめる構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】薄型，軽量，低消費電力等の特徴を活か
し、ＯＡ機器，パソコン，携帯用テレビ等に需要が拡大
しつつあるカラー液晶表示パネルとして、単純マトリッ
クス方式とアクティブマトリックス方式とが代表的なも
のとして知られており、パネル基板に形成させるカラー
フィルタの製造方法には、染色法，印刷法，顔料分散法
等がある。
し、ＯＡ機器，パソコン，携帯用テレビ等に需要が拡大
しつつあるカラー液晶表示パネルとして、単純マトリッ
クス方式とアクティブマトリックス方式とが代表的なも
のとして知られており、パネル基板に形成させるカラー
フィルタの製造方法には、染色法，印刷法，顔料分散法
等がある。
【０００３】アクティブマトリックス方式は、表示品質
に優れるも製造技術が難しく、高価格になるという難点
がある。単純マトリックス方式は、表示品質においてア
クティブマトリックス方式より劣るが、低価格で製造で
きるという利点がある。
に優れるも製造技術が難しく、高価格になるという難点
がある。単純マトリックス方式は、表示品質においてア
クティブマトリックス方式より劣るが、低価格で製造で
きるという利点がある。
【０００４】何れの場合も、透明基板にＲ（赤），Ｇ（
緑），Ｂ（青）３色の画素からなるカラーフィルタを形
成し、それら３色の画素を選択的に駆動して混色し、任
意のカラー表示を行わせるようになる。
緑），Ｂ（青）３色の画素からなるカラーフィルタを形
成し、それら３色の画素を選択的に駆動して混色し、任
意のカラー表示を行わせるようになる。
【０００５】図６（イ） 〜（ヘ） は顔料分散法によ
るカラーフィルタに透明電極を形成したカラー液晶表示
装置用基板の主要製造工程の説明図、図７（イ） 〜（
ハ） は図６に示す画素の製造工程の説明図である。
るカラーフィルタに透明電極を形成したカラー液晶表示
装置用基板の主要製造工程の説明図、図７（イ） 〜（
ハ） は図６に示す画素の製造工程の説明図である。
【０００６】図６において、色素を感光性樹脂液に分散
せしめて着色した光硬化性フォトレジストを、フォトリ
ソグラフィ法でパターニングする工程を繰り返す顔料分
散法のカラーフィルタは、透明基板１の表面に遮光膜（
Ｃｒ等の金属膜）２を被着したのち、遮光膜２の上にフ
ォトレジスト膜を被着し、該フォトレジスト膜の露光，
現像処理によってレジストマスク３を形成する。
せしめて着色した光硬化性フォトレジストを、フォトリ
ソグラフィ法でパターニングする工程を繰り返す顔料分
散法のカラーフィルタは、透明基板１の表面に遮光膜（
Ｃｒ等の金属膜）２を被着したのち、遮光膜２の上にフ
ォトレジスト膜を被着し、該フォトレジスト膜の露光，
現像処理によってレジストマスク３を形成する。
【０００７】次いで、レジストマスク３を使用して遮光
膜２の不要部をエッチングすると、透明基板１の表面に
突出するブラックマトリックスパターン４が形成される
。次いで、レジストマスク３を除去し、３色（赤，緑，
青）の画素７と８と９を色別に順次形成したのち、画素
７，８，９間の隙間に充填し平坦化させるためアクリル
樹脂等にてなるオーバーコート層１０を被着してカラー
フィルタが完成し、オーバーコート層１０の上に透明電
極膜１１を形成して、カラー液晶表示装置用基板１２が
完成する。
膜２の不要部をエッチングすると、透明基板１の表面に
突出するブラックマトリックスパターン４が形成される
。次いで、レジストマスク３を除去し、３色（赤，緑，
青）の画素７と８と９を色別に順次形成したのち、画素
７，８，９間の隙間に充填し平坦化させるためアクリル
樹脂等にてなるオーバーコート層１０を被着してカラー
フィルタが完成し、オーバーコート層１０の上に透明電
極膜１１を形成して、カラー液晶表示装置用基板１２が
完成する。
【０００８】図７において、例えば赤色顔料を分散した
光硬化性レジスト膜５を厚さ１．６ μｍ 程度に被着
し、画素７に対応する光学的透孔１３が設けられたマス
ク１２を用いて基板１の上方より露光，現像を行うと、
基板１の上に赤色画素７が形成される。しかるのち、図
６に示す緑色画素８，青色画素９は赤色画素７と同様に
、緑色顔料を分散した光硬化性レジスト膜，青色顔料を
分散した光硬化性レジスト膜より形成する。
光硬化性レジスト膜５を厚さ１．６ μｍ 程度に被着
し、画素７に対応する光学的透孔１３が設けられたマス
ク１２を用いて基板１の上方より露光，現像を行うと、
基板１の上に赤色画素７が形成される。しかるのち、図
６に示す緑色画素８，青色画素９は赤色画素７と同様に
、緑色顔料を分散した光硬化性レジスト膜，青色顔料を
分散した光硬化性レジスト膜より形成する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来、顔料分散法によるカラーフィルタの製造は、ブラ
ックマトリックスパターン４を形成したのち３色の画素
７，８，９を形成するが、ブラックマトリックスパター
ン４は基板１の表面に突出するため、画素７，８，９は
図６および図７に示す如くパターン４に重なる部分で高
くなり、オーバーコート層１０および透明電極膜１１の
平坦性が損なわれ、液晶表示装置に利用したとき表示品
質が該非平坦性によって低下するという問題点があった
。
従来、顔料分散法によるカラーフィルタの製造は、ブラ
ックマトリックスパターン４を形成したのち３色の画素
７，８，９を形成するが、ブラックマトリックスパター
ン４は基板１の表面に突出するため、画素７，８，９は
図６および図７に示す如くパターン４に重なる部分で高
くなり、オーバーコート層１０および透明電極膜１１の
平坦性が損なわれ、液晶表示装置に利用したとき表示品
質が該非平坦性によって低下するという問題点があった
。
【００１０】
【課題を解決するための手段】図１（イ） 〜（ニ）
は本発明によるカラーフィルタの基本構成の説明図であ
る。図１（イ） において、カラーフィルタ２１は透明
基板（ガラス基板）１の表面に、ブラックマトリックス
パターン４と色画素２５とを埋設してなる。その製造方
法は、透明基板１の表面にブラックマトリックスパター
ン４に対応する第１の凹所２６を、フォトレジストマス
クを使用したエッチングによって形成し、該フォトレジ
ストマスクを利用したリフトオフ法によって、第１の凹
所２６を埋めるブラックマトリックスパターン４を形成
する。次いで、ブラックマトリックスパターン４をマス
クとしたエッチングにより、第２の凹所２７を透明基板
１の表面に形成する。しかるのち、第２の凹所２７に光
硬化性の色画素用レジストを充填して硬化せしめ、画素
２５を形成する。
は本発明によるカラーフィルタの基本構成の説明図であ
る。図１（イ） において、カラーフィルタ２１は透明
基板（ガラス基板）１の表面に、ブラックマトリックス
パターン４と色画素２５とを埋設してなる。その製造方
法は、透明基板１の表面にブラックマトリックスパター
ン４に対応する第１の凹所２６を、フォトレジストマス
クを使用したエッチングによって形成し、該フォトレジ
ストマスクを利用したリフトオフ法によって、第１の凹
所２６を埋めるブラックマトリックスパターン４を形成
する。次いで、ブラックマトリックスパターン４をマス
クとしたエッチングにより、第２の凹所２７を透明基板
１の表面に形成する。しかるのち、第２の凹所２７に光
硬化性の色画素用レジストを充填して硬化せしめ、画素
２５を形成する。
【００１１】図１（ロ） において、カラーフィルタ２
２は透明基板（ガラス基板）１の表面に、フォトレジス
トマスクを使用したエッチングにより、ブラックマトリ
ックスパターン４が形成される領域全体をエッチングし
て平板状の凹所２８を形成する。次いで、凹所２８内に
金属Ｃｒまたは光硬化性樹脂の遮光層を形成し、該遮光
層をエッチングしブラックマトリックスパターン４を形
成する。しかるのち、ブラックマトリックスパターン４
の画素用透孔内に光硬化性の色画素用樹脂を充填し硬化
せしめ画素２５を形成する。
２は透明基板（ガラス基板）１の表面に、フォトレジス
トマスクを使用したエッチングにより、ブラックマトリ
ックスパターン４が形成される領域全体をエッチングし
て平板状の凹所２８を形成する。次いで、凹所２８内に
金属Ｃｒまたは光硬化性樹脂の遮光層を形成し、該遮光
層をエッチングしブラックマトリックスパターン４を形
成する。しかるのち、ブラックマトリックスパターン４
の画素用透孔内に光硬化性の色画素用樹脂を充填し硬化
せしめ画素２５を形成する。
【００１２】図１（ハ） において、カラーフィルタ２
３はカラーフィルタ２１または２２の表面を透明絶縁膜
２９で被覆してなる。かかる絶縁膜２９は、ブラックマ
トリックスパターン４および色画素２５を保護し表面を
平坦化すると共に、図６に示す透明電極１１の形成面を
提供する。
３はカラーフィルタ２１または２２の表面を透明絶縁膜
２９で被覆してなる。かかる絶縁膜２９は、ブラックマ
トリックスパターン４および色画素２５を保護し表面を
平坦化すると共に、図６に示す透明電極１１の形成面を
提供する。
【００１３】図１（ニ） において、カラーフィルタ２
４はカラーフィルタ２１または２２の表面に透明絶縁膜
２９を被覆し、透明絶縁膜２９は透明基板１の表面の端
部を表呈させる。ブラックマトリックスパターン４およ
び色画素２５を保護し表面を平坦化する透明絶縁膜２９
は、その上に図６に示す透明電極１１を形成したとき、
その透明電極１１の外部接続用端子は透明基板１の表面
に形成可能となる。従って該接続用端子は、カラーフィ
ルタ２３において絶縁膜２９の上に形成したものより、
外部接続が確実になるという利点を有する。
４はカラーフィルタ２１または２２の表面に透明絶縁膜
２９を被覆し、透明絶縁膜２９は透明基板１の表面の端
部を表呈させる。ブラックマトリックスパターン４およ
び色画素２５を保護し表面を平坦化する透明絶縁膜２９
は、その上に図６に示す透明電極１１を形成したとき、
その透明電極１１の外部接続用端子は透明基板１の表面
に形成可能となる。従って該接続用端子は、カラーフィ
ルタ２３において絶縁膜２９の上に形成したものより、
外部接続が確実になるという利点を有する。
【００１４】
【作用】上記手段によれば、ブラックマトリックスパタ
ーンおよび色画素を透明基板に埋設したため、ブラック
マトリックスパターン，色画素は、従来のそれらと異な
り透明基板より突出せず、透明基板に揃え平坦化ができ
る。従って、本発明を液晶表示装置に適用したとき表示
品質が向上する。
ーンおよび色画素を透明基板に埋設したため、ブラック
マトリックスパターン，色画素は、従来のそれらと異な
り透明基板より突出せず、透明基板に揃え平坦化ができ
る。従って、本発明を液晶表示装置に適用したとき表示
品質が向上する。
【００１５】
【実施例】図２（イ） 〜（リ） は本発明の第１の実
施例によるカラーフィルタとその主要製造工程の説明図
、図３（イ） 〜（ホ） は本発明の第２の実施例によ
るカラーフィルタとその主要製造工程の説明図、図４（
イ），（ロ） は本発明の第３，第４の実施例によるカ
ラーフィルタの概略構造の説明図、図５（イ），（ロ）
はの第５，第６の実施例によるカラーフィルタの概略
構造の説明図である。
施例によるカラーフィルタとその主要製造工程の説明図
、図３（イ） 〜（ホ） は本発明の第２の実施例によ
るカラーフィルタとその主要製造工程の説明図、図４（
イ），（ロ） は本発明の第３，第４の実施例によるカ
ラーフィルタの概略構造の説明図、図５（イ），（ロ）
はの第５，第６の実施例によるカラーフィルタの概略
構造の説明図である。
【００１６】図１に示すカラーフィルタ２１の主要構造
と主要製造工程を説明する図２において、まず、図２（
イ） に示す如く透明基板１の表面にフォトレジストマ
スク３１を形成する。マスク３１は、透明基板１の表面
にフォトレジストを塗布してプレキュアしたのち、露光
， 現像して該レジスト膜の不要部を除去する。
と主要製造工程を説明する図２において、まず、図２（
イ） に示す如く透明基板１の表面にフォトレジストマ
スク３１を形成する。マスク３１は、透明基板１の表面
にフォトレジストを塗布してプレキュアしたのち、露光
， 現像して該レジスト膜の不要部を除去する。
【００１７】次いで図２（ロ） に示す如く、マスク３
１， フレオンガス（ＣＦ４）を用いたドライエッチン
グによって、透明基板１にブラックマトリックスパター
ンと対応する第１の凹所２６を形成する。凹所２６の深
さは、ブラックマトリックスパターンを金属クローム膜
より形成するとき、例えば１０００Å〜２０００Å程度
とする。
１， フレオンガス（ＣＦ４）を用いたドライエッチン
グによって、透明基板１にブラックマトリックスパター
ンと対応する第１の凹所２６を形成する。凹所２６の深
さは、ブラックマトリックスパターンを金属クローム膜
より形成するとき、例えば１０００Å〜２０００Å程度
とする。
【００１８】次いで図２（ハ） に示す如く、クロム等
にて凹所２６の深さと同程度厚さの遮光膜３２を被着し
たのち、レジストマスク３１を溶去すると、図２（ニ）
に示す如く、凹所２６を埋めたブラックマトリックス
パターン４が形成される。
にて凹所２６の深さと同程度厚さの遮光膜３２を被着し
たのち、レジストマスク３１を溶去すると、図２（ニ）
に示す如く、凹所２６を埋めたブラックマトリックス
パターン４が形成される。
【００１９】そこで図２（ホ） に示す如く、透明基板
１の表面の端部をマスク３３で覆い、ブラックマトリッ
クスパターン４をマスクとし、フレオンガスを用いたド
ライエッチングにより、透明基板１の表面に第２の凹所
２７を形成する。画素を形成するための凹所２７は、画
素に形成に光硬化性レジストを使用するとき、例えば１
．６μｍ 程度とする。
１の表面の端部をマスク３３で覆い、ブラックマトリッ
クスパターン４をマスクとし、フレオンガスを用いたド
ライエッチングにより、透明基板１の表面に第２の凹所
２７を形成する。画素を形成するための凹所２７は、画
素に形成に光硬化性レジストを使用するとき、例えば１
．６μｍ 程度とする。
【００２０】図２（ヘ） は凹所２７に画素用レジスト
３４を充填する方法の説明図であり、透明基板１の表面
に赤色色素を分散させた光硬化性レジスト３４を塗付し
、ブラックマトリックスパターン４の表面に沿って移動
するスクィージ３５にて余分のレジスト３４を除去する
。
３４を充填する方法の説明図であり、透明基板１の表面
に赤色色素を分散させた光硬化性レジスト３４を塗付し
、ブラックマトリックスパターン４の表面に沿って移動
するスクィージ３５にて余分のレジスト３４を除去する
。
【００２１】次いで図２（ト） に示す如く、赤色画素
に対向する光学的透孔３６を有するマスク３７を透明基
板１の上に重ねて露光し、それを現像すると図２（チ）
に示す如く、所定の凹所２７に充填する赤色画素２５
Ｒ が形成される。
に対向する光学的透孔３６を有するマスク３７を透明基
板１の上に重ねて露光し、それを現像すると図２（チ）
に示す如く、所定の凹所２７に充填する赤色画素２５
Ｒ が形成される。
【００２２】しかるのち、緑色色素を分散させた光硬化
性レジスト， 青色色素を分散させた光硬化性レジスト
を用い、赤色画素２５Ｒ と同様な工程を繰り返して図
２（リ） に示す如く、それぞれ所定の凹所２７に緑色
画素２５Ｇ，青色画素２５Ｂ を形成し、カラーフィル
タ２１が完成する。
性レジスト， 青色色素を分散させた光硬化性レジスト
を用い、赤色画素２５Ｒ と同様な工程を繰り返して図
２（リ） に示す如く、それぞれ所定の凹所２７に緑色
画素２５Ｇ，青色画素２５Ｂ を形成し、カラーフィル
タ２１が完成する。
【００２３】図１に示すカラーフィルタ２２の主要構造
と主要製造工程を説明する図３において、まず、図３（
イ） に示す如く透明基板１の表面にマスク４１を重ね
（または透明基板１の表面にレジストマスクを形成し）
たのち、フレオンガスを用いたドライエッチングにより
、図３（ロ） に示す如く平板状の凹所２８を形成する
。光硬化性レジストを用いたブラックマトリックスパタ
ーンおよび色画素を形成する凹所２８の深さは、例えば
１．６μｍ 程度とする。
と主要製造工程を説明する図３において、まず、図３（
イ） に示す如く透明基板１の表面にマスク４１を重ね
（または透明基板１の表面にレジストマスクを形成し）
たのち、フレオンガスを用いたドライエッチングにより
、図３（ロ） に示す如く平板状の凹所２８を形成する
。光硬化性レジストを用いたブラックマトリックスパタ
ーンおよび色画素を形成する凹所２８の深さは、例えば
１．６μｍ 程度とする。
【００２４】次いで図３（ハ） に示す如く、黒色光硬
化性レジストを用いて凹所２８内にブラックマトリック
スパターン４を形成する。かかるブラックマトリックス
パターン４は、凹所２８に黒色光硬化性レジストをスク
ィーズを用いる等によって充填し、色画素形成部に対応
した光学的透孔を有するフォトマスクを用いた露光，
現像によって形成される。
化性レジストを用いて凹所２８内にブラックマトリック
スパターン４を形成する。かかるブラックマトリックス
パターン４は、凹所２８に黒色光硬化性レジストをスク
ィーズを用いる等によって充填し、色画素形成部に対応
した光学的透孔を有するフォトマスクを用いた露光，
現像によって形成される。
【００２５】次いで図３（ニ） に示す如く、ブラック
マトリックスパターン４の所定部に、図２を用いて説明
した方法と同一方法で赤色画素２５Ｒ を形成したのち
、緑色色素を分散させた光硬化性レジスト， 青色色素
を分散させた光硬化性レジストを用い、赤色画素２５Ｒ
と同様な工程を繰り返して図３（ホ） に示す如く、
緑色画素２５Ｇ，青色画素２５Ｂ を形成しカラーフィ
ルタ２２が完成する。
マトリックスパターン４の所定部に、図２を用いて説明
した方法と同一方法で赤色画素２５Ｒ を形成したのち
、緑色色素を分散させた光硬化性レジスト， 青色色素
を分散させた光硬化性レジストを用い、赤色画素２５Ｒ
と同様な工程を繰り返して図３（ホ） に示す如く、
緑色画素２５Ｇ，青色画素２５Ｂ を形成しカラーフィ
ルタ２２が完成する。
【００２６】図４（イ） においてカラーフィルタ２３
−１は、カラーフィルタ２１の全表面に透明絶縁膜 （
トップコート層）２９ を被覆し、図４（ロ） におい
てカラーフィルタ２３−２は、カラーフィルタ２２の全
表面に透明絶縁膜２９を被覆してなる。透明絶縁膜２９
は、ブラックマトリックスパターン４および画素２５Ｒ
，２５Ｇ，２５Ｂ の表面を平坦化し、図６に示す透明
電極１１を形成可能にする。
−１は、カラーフィルタ２１の全表面に透明絶縁膜 （
トップコート層）２９ を被覆し、図４（ロ） におい
てカラーフィルタ２３−２は、カラーフィルタ２２の全
表面に透明絶縁膜２９を被覆してなる。透明絶縁膜２９
は、ブラックマトリックスパターン４および画素２５Ｒ
，２５Ｇ，２５Ｂ の表面を平坦化し、図６に示す透明
電極１１を形成可能にする。
【００２７】図５（イ） においてカラーフィルタ２４
−１は、カラーフィルタ２１のブラックマトリックスパ
ターン４および画素２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ を覆って
、透明絶縁膜 （トップコート層）３０ を被覆し、図
５（ロ） においてカラーフィルタ２４−２は、カラー
フィルタ２２のブラックマトリックスパターン４および
画素２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ を覆って、透明絶縁膜３
０を被覆してなる。従って、カラーフィルタ２４−１お
よび２４−２において透明基板１の端部が表呈する。
−１は、カラーフィルタ２１のブラックマトリックスパ
ターン４および画素２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ を覆って
、透明絶縁膜 （トップコート層）３０ を被覆し、図
５（ロ） においてカラーフィルタ２４−２は、カラー
フィルタ２２のブラックマトリックスパターン４および
画素２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ を覆って、透明絶縁膜３
０を被覆してなる。従って、カラーフィルタ２４−１お
よび２４−２において透明基板１の端部が表呈する。
【００２８】かかる透明絶縁膜３０は、ブラックマトリ
ックスパターン４および画素２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ
の表面を平坦化し、図６に示す透明電極１１を形成可能
とし、かつ、透明電極１１の外部接続用端子が透明基板
１の表面に形成可能であり、そのことによって該端子の
外部接続は、カラーフィルタ２３−１，２３−２におい
て透明絶縁膜２９の上に形成したものより、確実性が増
すことになる。
ックスパターン４および画素２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ
の表面を平坦化し、図６に示す透明電極１１を形成可能
とし、かつ、透明電極１１の外部接続用端子が透明基板
１の表面に形成可能であり、そのことによって該端子の
外部接続は、カラーフィルタ２３−１，２３−２におい
て透明絶縁膜２９の上に形成したものより、確実性が増
すことになる。
【００２９】なお、前記実施例のカラーフィルタ２１お
よび２２において、画素２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ は透
明基板１の表面に重ねたマスクを利用し形成した。しか
し、該マスクは透明基板１の裏面に当接し、該裏面より
該マスクを通して光を照射しても形成可能である。
よび２２において、画素２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ は透
明基板１の表面に重ねたマスクを利用し形成した。しか
し、該マスクは透明基板１の裏面に当接し、該裏面より
該マスクを通して光を照射しても形成可能である。
【００３０】また、前記実施例において透明絶縁膜２９
，３０ には、ＳＩＯ２，ＳＩＯの誘電体膜や光硬化性
樹脂およびＵＶ樹脂に限定されず、シリコン系またはポ
リイミド系の熱硬化性樹脂が使用可能である。
，３０ には、ＳＩＯ２，ＳＩＯの誘電体膜や光硬化性
樹脂およびＵＶ樹脂に限定されず、シリコン系またはポ
リイミド系の熱硬化性樹脂が使用可能である。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明方法によれ
ばカラーフィルタの表面を平坦化し、従来技術の問題点
であった平坦性を改善し、液晶表示装置のパネルに適用
したとき表示品質を向上する。
ばカラーフィルタの表面を平坦化し、従来技術の問題点
であった平坦性を改善し、液晶表示装置のパネルに適用
したとき表示品質を向上する。
【図１】 本発明によるカラーフィルタの基本構成の
説明図である。
説明図である。
【図２】 本発明の第１の実施例によるカラーフィル
タとその主要製造工程の説明図である。
タとその主要製造工程の説明図である。
【図３】 本発明の第２の実施例によるカラーフィル
タとその主要製造工程の説明図である。
タとその主要製造工程の説明図である。
【図４】 本発明の第３，第４の実施例によるカラー
フィルタの概略構造の説明図である。
フィルタの概略構造の説明図である。
【図５】 本発明の第５，第６の実施例によるカラー
フィルタの概略構造の説明図である。
フィルタの概略構造の説明図である。
【図６】 顔料分散法によるカラーフィルタに透明電
極を形成したカラー液晶表示装置用パネルの従来の製造
工程の説明図である。
極を形成したカラー液晶表示装置用パネルの従来の製造
工程の説明図である。
【図７】 図６に示す画素の製造工程の説明図である
。
。
１は透明基板
４はブラックマトリックスパターン
２１，２２，２３，２４ はカラーフィルタ２５，２５
Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは色画素２６は第１のドライエッチ
ングによる第１の凹所２７は第２のドライエッチングに
よる第２の凹所２８は平板状の凹所 ２９，３０ は透明絶縁膜 ３４は３色のうちの一色の色素を分散させた光硬化性レ
ジスト ３５はスクィーズ ３７は画素形成用のマスク
Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは色画素２６は第１のドライエッチ
ングによる第１の凹所２７は第２のドライエッチングに
よる第２の凹所２８は平板状の凹所 ２９，３０ は透明絶縁膜 ３４は３色のうちの一色の色素を分散させた光硬化性レ
ジスト ３５はスクィーズ ３７は画素形成用のマスク
Claims (7)
- 【請求項１】 透明基板（１） の表面にブラックマ
トリックスパターン（４） と色画素（２５，２５Ｒ，
２５Ｇ，２５Ｂ）とを埋設してなることを特徴とするカ
ラーフィルタ。 - 【請求項２】 前記ブラックマトリックスパターン（
４） および前記色画素（２５，２５Ｒ，２５Ｇ，２５
Ｂ）を埋設した前記透明基板（１）の表面を透明絶縁膜
（２９，３０） で被覆したことを特徴とする請求項１
記載のカラーフィルタ。 - 【請求項３】 請求項２記載の透明絶縁膜（３０）が
、前記ブラックマトリックスパターン（４） の形成領
域外において前記透明基板（１） の表面を表呈させた
ことを特徴とするカラーフィルタ。 - 【請求項４】 フォトレジストマスクを使用した第１
のドライエッチングにより透明基板（１） の表面に第
１の凹所（２６）を形成し、該フォトレジストマスクを
利用したリフトオフ法によって該第１の凹所（２６）を
埋めるブラックマトリックスパターン（４） を形成し
、該ブラックマトリックスパターン（４） をマスクと
した第２のドライエッチングによって該透明基板（１）
の表面に多数の第２の凹所（２７）を形成し、色画素
（２５，２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ）を該第２の凹所（２
７）に充填させることを特徴としたカラーフィルタの製
造方法。 - 【請求項５】 フォトレジストマスクを使用したドラ
イエッチングにより透明基板（１） の表面に平板状の
凹所（２８）を形成し、該凹所（２８）内に黒色の光硬
化性レジストからなるブラックマトリックスパターン（
４）を形成し、該ブラックマトリックスパターン（４）
の多数の色画素用透孔内に色画素（２５，２５Ｒ，２
５Ｇ，２５Ｂ）を充填させることを特徴としたカラーフ
ィルタの製造方法。 - 【請求項６】 前記色画素（２５，２５Ｒ，２５Ｇ，
２５Ｂ）が赤，緑，青の３色であり、該３色のうちの一
色の色素を分散させた３種類の光硬化性レジスト（３４
）と、前記ブラックマトリックスパターン（４） の表
面に沿って移動し前記第２の凹所（２７）に該光硬化性
レジスト（３４）を充填させるスクィーズ（３５）と、
前記透明基板（１） の表面側に配設し前記第２の凹所
（２７）を選択的かつ光学的に露呈せしめるマスク（３
７）とを用い、赤，緑，青３色の該画素（２５，２５Ｒ
，２５Ｇ，２５Ｂ）を順次形成させることを特徴とする
請求項４または５記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項７】 前記色画素（２５，２５Ｒ，２５Ｇ，
２５Ｂ）が赤，緑，青の３色であり、該３色のうちの一
色の色素を分散させた３種類の光硬化性レジスト（３４
）と、前記ブラックマトリックスパターン（４） の表
面に沿って移動し前記第２の凹所に該光硬化性レジスト
（３４）を充填させるスクィーズ（３５）と、前記透明
基板（１） の裏面側に配設し前記第２の凹所（２７）
を選択的かつ光学的に露呈せしめるマスク（３７）とを
用い、赤，緑，青３色の該画素（２５，２５Ｒ，２５Ｇ
，２５Ｂ）を順次形成させることを特徴とする前記請求
項４または５記載のカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13020291A JP3003271B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | カラーフィルタとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13020291A JP3003271B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | カラーフィルタとその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04355406A true JPH04355406A (ja) | 1992-12-09 |
| JP3003271B2 JP3003271B2 (ja) | 2000-01-24 |
Family
ID=15028537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13020291A Expired - Lifetime JP3003271B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | カラーフィルタとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3003271B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2741728A1 (fr) * | 1995-11-24 | 1997-05-30 | Samsung Display Devices Co Ltd | Ecran d'affichage a cristaux liquides et procede pour sa fabrication |
| JP2006337389A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sharp Corp | カラーフィルタ基板の製造方法、及び、カラーフィルタ基板 |
| JP2011243525A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器 |
| WO2015011901A1 (ja) * | 2013-07-24 | 2015-01-29 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルター基板、電気光学装置および投射型表示装置 |
| JP2015025989A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-02-05 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置用基板の製造方法 |
-
1991
- 1991-06-03 JP JP13020291A patent/JP3003271B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2741728A1 (fr) * | 1995-11-24 | 1997-05-30 | Samsung Display Devices Co Ltd | Ecran d'affichage a cristaux liquides et procede pour sa fabrication |
| JP2006337389A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sharp Corp | カラーフィルタ基板の製造方法、及び、カラーフィルタ基板 |
| JP2011243525A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器 |
| US8766299B2 (en) | 2010-05-21 | 2014-07-01 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic apparatus comprising electro-optical device having color filter and sealing film |
| WO2015011901A1 (ja) * | 2013-07-24 | 2015-01-29 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルター基板、電気光学装置および投射型表示装置 |
| JP2015025835A (ja) * | 2013-07-24 | 2015-02-05 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルター基板、電気光学装置、投射型表示装置およびカラーフィルター基板の製造方法 |
| CN105393144A (zh) * | 2013-07-24 | 2016-03-09 | 精工爱普生株式会社 | 滤色器基板、电光装置以及投影型显示装置 |
| US9671640B2 (en) | 2013-07-24 | 2017-06-06 | Seiko Epson Corporation | Color filter substrate, electro-optical device, and projection-type display device |
| JP2015025989A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-02-05 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置用基板の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3003271B2 (ja) | 2000-01-24 |
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