JPH10239512A - カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置Info
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- JPH10239512A JPH10239512A JP9041094A JP4109497A JPH10239512A JP H10239512 A JPH10239512 A JP H10239512A JP 9041094 A JP9041094 A JP 9041094A JP 4109497 A JP4109497 A JP 4109497A JP H10239512 A JPH10239512 A JP H10239512A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は各色要素の形状安定化を図ること、
製造工程数の削減を図ること、液晶表示装置の光学特性
を良好にすることなどを課題とする。 【解決手段】 表面に金属製遮光膜４を有する基板２に
対して遮光膜４のパタ−ニング用のレジスト４を配置す
る工程と、レジスト５を露光現像して所定の形状にパタ
−ニングする工程と、パタ−ニングされたレジスト５を
マスクとして遮光膜４の露出部分を除去する工程と、遮
光膜４の上のレジスト５を残した状態で所定の色要素
Ｒ，Ｇ，Ｂを形成する工程を複数回繰り返して複数の色
要素からなるカラーフィルタ層７を形成する工程とを備
えることを特徴とする。
製造工程数の削減を図ること、液晶表示装置の光学特性
を良好にすることなどを課題とする。 【解決手段】 表面に金属製遮光膜４を有する基板２に
対して遮光膜４のパタ−ニング用のレジスト４を配置す
る工程と、レジスト５を露光現像して所定の形状にパタ
−ニングする工程と、パタ−ニングされたレジスト５を
マスクとして遮光膜４の露出部分を除去する工程と、遮
光膜４の上のレジスト５を残した状態で所定の色要素
Ｒ，Ｇ，Ｂを形成する工程を複数回繰り返して複数の色
要素からなるカラーフィルタ層７を形成する工程とを備
えることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置等に用
いるカラ−フィルタ、その製造方法の改良に関する。
いるカラ−フィルタ、その製造方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置等に用いる従来のカラ−フ
ィルタ（顔料分散法）の製造方法について図５を参照し
て説明する。表面にＣｒ等の金属製ブラックマトリック
スＢＭが形成されたガラス基板の表面Ｓに着色レジスト
ｒを塗布し（同図ａ）、これをフォトマスクを用いて露
光し、これを現像処理して色要素Ｒのパタ−ニングを行
う（同図ｂ）。同様に、その上に着色レジストｇを塗布
し（同図ｃ）、これをフォトマスクを用いて露光し、こ
れを現像処理して色要素Ｇのパタ−ニングを行う（同図
ｄ）。同様に、その上に着色レジストｂを塗布し（同図
ｅ）、これをフォトマスクを用いて露光し、これを現像
処理して色要素Ｂのパタ−ニングを行う（同図ｆ）。こ
れらを覆うように必要に応じて保護膜Ｈを形成する（同
図ｇ）。
ィルタ（顔料分散法）の製造方法について図５を参照し
て説明する。表面にＣｒ等の金属製ブラックマトリック
スＢＭが形成されたガラス基板の表面Ｓに着色レジスト
ｒを塗布し（同図ａ）、これをフォトマスクを用いて露
光し、これを現像処理して色要素Ｒのパタ−ニングを行
う（同図ｂ）。同様に、その上に着色レジストｇを塗布
し（同図ｃ）、これをフォトマスクを用いて露光し、こ
れを現像処理して色要素Ｇのパタ−ニングを行う（同図
ｄ）。同様に、その上に着色レジストｂを塗布し（同図
ｅ）、これをフォトマスクを用いて露光し、これを現像
処理して色要素Ｂのパタ−ニングを行う（同図ｆ）。こ
れらを覆うように必要に応じて保護膜Ｈを形成する（同
図ｇ）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このようにして形成さ
れたカラーフィルタは、その色要素の表面やその上の保
護膜の表面に凸凹が不均一に発生しやすい。すなわち、
最初に形成された色要素Ｒの表面はほぼ平坦に形成され
るのに対して、次に形成される色要素Ｇの表面は色要素
Ｒの影響を受けてその片側が突出し、最後に形成される
色要素Ｂの表面は色要素Ｒと色要素Ｇの影響を受けて両
側が突出した形状となる結果、色要素毎の形状が不均一
かつ不安定になる。色要素毎の形状が不均一かつ不安定
になる結果、これを液晶表示装置に組み込んだ場合に、
液晶層の厚みが色要素毎に変化して光学特性に悪影響を
与える要因になる。また、色要素の隣接部分に比較的大
きな凹みが色要素毎に不均一に生じやすく、液晶のギャ
ップを規定するためのスペーサがこの凹み部分に捕捉さ
れやすい形状となる結果、液晶のギャップ制御が困難に
なり、光学特性を悪化させる要因にもなっていた。
れたカラーフィルタは、その色要素の表面やその上の保
護膜の表面に凸凹が不均一に発生しやすい。すなわち、
最初に形成された色要素Ｒの表面はほぼ平坦に形成され
るのに対して、次に形成される色要素Ｇの表面は色要素
Ｒの影響を受けてその片側が突出し、最後に形成される
色要素Ｂの表面は色要素Ｒと色要素Ｇの影響を受けて両
側が突出した形状となる結果、色要素毎の形状が不均一
かつ不安定になる。色要素毎の形状が不均一かつ不安定
になる結果、これを液晶表示装置に組み込んだ場合に、
液晶層の厚みが色要素毎に変化して光学特性に悪影響を
与える要因になる。また、色要素の隣接部分に比較的大
きな凹みが色要素毎に不均一に生じやすく、液晶のギャ
ップを規定するためのスペーサがこの凹み部分に捕捉さ
れやすい形状となる結果、液晶のギャップ制御が困難に
なり、光学特性を悪化させる要因にもなっていた。
【０００４】そこで本発明は、各色要素の形状安定化を
図ることを課題の１つとする。また、製造工程数の削減
を図ることを課題の１つとする。また、液晶表示装置の
光学特性を良好にすることを課題の１つとする。
図ることを課題の１つとする。また、製造工程数の削減
を図ることを課題の１つとする。また、液晶表示装置の
光学特性を良好にすることを課題の１つとする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造方法は、表面に金属製遮光膜を有する基板に対し
て前記遮光膜のパタ−ニング用のレジストを配置する工
程と、前記レジストを露光現像して所定の形状にパタ−
ニングする工程と、パタ−ニングされた前記レジストを
マスクとして前記遮光膜の露出部分を除去する工程と、
遮光膜の上の前記レジストを残した状態で所定の色要素
を形成する工程を複数回繰り返して複数の色要素からな
るカラーフィルタ層を形成する工程を備えることを特徴
とする。
の製造方法は、表面に金属製遮光膜を有する基板に対し
て前記遮光膜のパタ−ニング用のレジストを配置する工
程と、前記レジストを露光現像して所定の形状にパタ−
ニングする工程と、パタ−ニングされた前記レジストを
マスクとして前記遮光膜の露出部分を除去する工程と、
遮光膜の上の前記レジストを残した状態で所定の色要素
を形成する工程を複数回繰り返して複数の色要素からな
るカラーフィルタ層を形成する工程を備えることを特徴
とする。
【０００６】本発明のカラーフィルタは、表面にパタ−
ニングされた金属製遮光膜及びそのパタ−ニング用のレ
ジストを積層配置した基板に複数の色要素からなるカラ
ーフィルタ層を形成したことを特徴とする。
ニングされた金属製遮光膜及びそのパタ−ニング用のレ
ジストを積層配置した基板に複数の色要素からなるカラ
ーフィルタ層を形成したことを特徴とする。
【０００７】前記パタ−ニング用のレジストは、光また
は熱により硬化するエポキシ系樹脂またはアクリル系樹
脂またはポリイミド系樹脂を含むものを用いることがで
き、また、染料または顔料等の着色剤を含むものを用い
ることができる。
は熱により硬化するエポキシ系樹脂またはアクリル系樹
脂またはポリイミド系樹脂を含むものを用いることがで
き、また、染料または顔料等の着色剤を含むものを用い
ることができる。
【０００８】本発明の液晶表示装置は、２つの基板間に
液晶を挟持した液晶表示装置において、一方に基板に前
記カラーフィルタを備えて構成される。
液晶を挟持した液晶表示装置において、一方に基板に前
記カラーフィルタを備えて構成される。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施例について図面
を参照して説明する。図１は、本発明の一実施例に係わ
るカラーフィルタ１の要部断面図を示し、図２，図３
は、図１に示すカラーフィルタ１を製造するための製造
方法の一実施例を示している。以下、顔料分散法を例に
とり、図２，図３を参照してカラーフィルタ１の製造方
法について説明する。
を参照して説明する。図１は、本発明の一実施例に係わ
るカラーフィルタ１の要部断面図を示し、図２，図３
は、図１に示すカラーフィルタ１を製造するための製造
方法の一実施例を示している。以下、顔料分散法を例に
とり、図２，図３を参照してカラーフィルタ１の製造方
法について説明する。
【００１０】基板２としてガラス等の透光性基板３の表
面に遮光性の高い金属クロムなどの金属製遮光膜４を有
した基板を用意する。そして、基板２の全面に遮光膜４
のパタ−ニング用のレジスト５を塗布する工程を行う
（図２（ａ））。レジスト５としては、エポキシ系樹
脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂などから選択さ
れた熱硬化性のベース樹脂に光硬化性モノマ−と光重合
開始剤等を添加したものを用いることができるが、これ
らに所定色の顔料や染料等の着色剤を添加したものを用
いることもできる。
面に遮光性の高い金属クロムなどの金属製遮光膜４を有
した基板を用意する。そして、基板２の全面に遮光膜４
のパタ−ニング用のレジスト５を塗布する工程を行う
（図２（ａ））。レジスト５としては、エポキシ系樹
脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂などから選択さ
れた熱硬化性のベース樹脂に光硬化性モノマ−と光重合
開始剤等を添加したものを用いることができるが、これ
らに所定色の顔料や染料等の着色剤を添加したものを用
いることもできる。
【００１１】次に、所定のフォトマスクＭBMを用いて紫
外線などによる露光を行い（同図（ｂ））、光が当らな
かった部分のレジスト５を取り除く現像を行う（同図
（ｃ））ことによってレジスト５の所定パタ−ニングを
形成する露光・現像処理工程を行う。
外線などによる露光を行い（同図（ｂ））、光が当らな
かった部分のレジスト５を取り除く現像を行う（同図
（ｃ））ことによってレジスト５の所定パタ−ニングを
形成する露光・現像処理工程を行う。
【００１２】次に、パタ−ニングされた前記レジスト５
をマスクとして前記遮光膜４の露出部分をエッチング処
理によって除去する工程（同図（ｄ））を行う。遮光膜
４の上に積層されたレジスト５は、通常除去するが、本
発明ではこのレジスト５の除去工程を省略して作業工程
の削減を図り、また、このレジスト５によって光学特性
の向上を図るために、レジスト５をそのまま残した状態
とする。
をマスクとして前記遮光膜４の露出部分をエッチング処
理によって除去する工程（同図（ｄ））を行う。遮光膜
４の上に積層されたレジスト５は、通常除去するが、本
発明ではこのレジスト５の除去工程を省略して作業工程
の削減を図り、また、このレジスト５によって光学特性
の向上を図るために、レジスト５をそのまま残した状態
とする。
【００１３】次に、色要素を形成する工程を複数回繰り
返して複数の色要素からなるカラーフィルタ層を形成す
る工程を行う。これについては、図３を参照して説明す
る。まず、遮光膜４の上にレジスト５を積層した状態
で、基板２の全面に着色（Ｒ）レジスト６ｒを前記レジ
スト５と同じ程度の厚みで塗布する（同図（ａ））。着
色レジスト６としては、アクリルやエポキシ系樹脂など
の熱硬化性ベース樹脂に顔料を分散し、それに光硬化性
モノマ−と光重合開始剤等を添加したものを用いている
が、他の構造のレジストを用いることもできる。
返して複数の色要素からなるカラーフィルタ層を形成す
る工程を行う。これについては、図３を参照して説明す
る。まず、遮光膜４の上にレジスト５を積層した状態
で、基板２の全面に着色（Ｒ）レジスト６ｒを前記レジ
スト５と同じ程度の厚みで塗布する（同図（ａ））。着
色レジスト６としては、アクリルやエポキシ系樹脂など
の熱硬化性ベース樹脂に顔料を分散し、それに光硬化性
モノマ−と光重合開始剤等を添加したものを用いている
が、他の構造のレジストを用いることもできる。
【００１４】次に、所定のフォトマスクＭRGBを用いて
紫外線などによる露光を行い（同図（ｂ））、光が当ら
なかった部分の着色レジスト６ｒを取り除く現像を行う
（同図（ｃ））ことによって着色レジスト６ｒの所定パ
タ−ニングを形成する露光・現像処理工程を行う。この
処理によって形成された第１番目の色要素Ｒは、レジス
ト５の存在によって、レジスト５との境界付近に従来の
第３番目の色要素Ｂの場合と同様の形状の突出部分が残
る。
紫外線などによる露光を行い（同図（ｂ））、光が当ら
なかった部分の着色レジスト６ｒを取り除く現像を行う
（同図（ｃ））ことによって着色レジスト６ｒの所定パ
タ−ニングを形成する露光・現像処理工程を行う。この
処理によって形成された第１番目の色要素Ｒは、レジス
ト５の存在によって、レジスト５との境界付近に従来の
第３番目の色要素Ｂの場合と同様の形状の突出部分が残
る。
【００１５】同様に、基板２の全面に着色（Ｇ）レジス
ト６ｇを前記レジスト５と同じ程度の厚みで塗布する
（同図（ｄ））。次に、上記フォトマスクＭRGBを移動
させて紫外線などによる露光を同図（ｂ）と同様に行
い、光が当らなかった部分の着色レジスト６ｇを取り除
く現像を行う（同図（ｅ））ことによって着色レジスト
６ｇのパタ−ニングを形成する露光・現像処理工程を行
う。この処理によって形成された第２番目の色要素Ｇ
は、第１番目の色要素Ｒと同様に、レジスト５の存在に
よって、レジスト５との境界付近に従来の第３番目の色
要素Ｂの場合と同様の形状の突出部分が残る。
ト６ｇを前記レジスト５と同じ程度の厚みで塗布する
（同図（ｄ））。次に、上記フォトマスクＭRGBを移動
させて紫外線などによる露光を同図（ｂ）と同様に行
い、光が当らなかった部分の着色レジスト６ｇを取り除
く現像を行う（同図（ｅ））ことによって着色レジスト
６ｇのパタ−ニングを形成する露光・現像処理工程を行
う。この処理によって形成された第２番目の色要素Ｇ
は、第１番目の色要素Ｒと同様に、レジスト５の存在に
よって、レジスト５との境界付近に従来の第３番目の色
要素Ｂの場合と同様の形状の突出部分が残る。
【００１６】同様にして、基板２の全面に着色（Ｂ）レ
ジスト６ｂを前記レジスト５と同じ程度の厚みで塗布す
る（同図（ｆ））。次に、フォトマスクＭRGBを移動さ
せて紫外線などによる露光を同図（ｂ）と同様に行い、
光が当らなかった部分の着色レジスト６ｂを取り除く現
像を行う（同図（ｇ））ことによって着色レジスト６ｂ
のパタ−ニングを形成する露光・現像処理工程を行う。
この処理によって形成された第３番目の色要素Ｂは、第
１番目の色要素Ｒと同様に、レジスト５の存在によっ
て、レジスト４との境界付近に従来と同様の形状の突出
部分が残る。
ジスト６ｂを前記レジスト５と同じ程度の厚みで塗布す
る（同図（ｆ））。次に、フォトマスクＭRGBを移動さ
せて紫外線などによる露光を同図（ｂ）と同様に行い、
光が当らなかった部分の着色レジスト６ｂを取り除く現
像を行う（同図（ｇ））ことによって着色レジスト６ｂ
のパタ−ニングを形成する露光・現像処理工程を行う。
この処理によって形成された第３番目の色要素Ｂは、第
１番目の色要素Ｒと同様に、レジスト５の存在によっ
て、レジスト４との境界付近に従来と同様の形状の突出
部分が残る。
【００１７】このような処理によって３色の色要素を備
えるカラーフィルタ層７を形成することができるが、各
色要素の形成の際に他の色要素への影響をなくすための
ポストベ−ク処理を適宜行うのが好ましい。また、カラ
ーフィルタ層７を覆うように、耐薬品性、平滑性などを
高めるためのアクリル系、エポキシ系等の透明樹脂製の
保護膜８を形成するのが好ましい。
えるカラーフィルタ層７を形成することができるが、各
色要素の形成の際に他の色要素への影響をなくすための
ポストベ−ク処理を適宜行うのが好ましい。また、カラ
ーフィルタ層７を覆うように、耐薬品性、平滑性などを
高めるためのアクリル系、エポキシ系等の透明樹脂製の
保護膜８を形成するのが好ましい。
【００１８】上記のように製造されたカラーフィルタ１
は、各色要素の表面にレジスト５との境界付近において
凸凹が発生するが、レジスト５の存在によって各色要素
表面の凸凹形状、並びに各色要素の全体的な形状が均一
な形状になるので、保護膜８形成後の表面形状を色要素
に係わらず均一な形状にすることができるとともに、各
色要素の厚みもほぼ均一に揃えることができる。
は、各色要素の表面にレジスト５との境界付近において
凸凹が発生するが、レジスト５の存在によって各色要素
表面の凸凹形状、並びに各色要素の全体的な形状が均一
な形状になるので、保護膜８形成後の表面形状を色要素
に係わらず均一な形状にすることができるとともに、各
色要素の厚みもほぼ均一に揃えることができる。
【００１９】また、各色要素の境界部分には、金属製の
遮光膜４が位置するので、色要素の境界部分からの光漏
れを確実に防いで表示コントラストを高めることができ
る。また、金属製遮光膜４の上に電気絶縁性の高いレジ
スト５を残しているので、カラーフィルタ１の上に電極
を形成する場合の電極との絶縁距離をレジスト５を有効
に利用して長く設定することができ、電極から金属製遮
光膜４へのリーク電流の発生を未然に防止することもで
きる。
遮光膜４が位置するので、色要素の境界部分からの光漏
れを確実に防いで表示コントラストを高めることができ
る。また、金属製遮光膜４の上に電気絶縁性の高いレジ
スト５を残しているので、カラーフィルタ１の上に電極
を形成する場合の電極との絶縁距離をレジスト５を有効
に利用して長く設定することができ、電極から金属製遮
光膜４へのリーク電流の発生を未然に防止することもで
きる。
【００２０】次に上記製法によって作成したカラーフィ
ルタ１を一方の基板に備える液晶表示装置の実施例につ
いて、単純マトリックス方式のカラー液晶表示装置を例
にとって図４を参照して説明する。この液晶表示装置１
０は、第１の基板１１と第２の基板１２の間に液晶層１
３を挟持し、必要に応じて第１の基板１１と第２の基板
１２の外側に偏向板や位相差板（図示せず）を配置して
構成される。
ルタ１を一方の基板に備える液晶表示装置の実施例につ
いて、単純マトリックス方式のカラー液晶表示装置を例
にとって図４を参照して説明する。この液晶表示装置１
０は、第１の基板１１と第２の基板１２の間に液晶層１
３を挟持し、必要に応じて第１の基板１１と第２の基板
１２の外側に偏向板や位相差板（図示せず）を配置して
構成される。
【００２１】第１の基板１１は、前記カラーフィルタ１
の上にストライプ状の透明共通電極１４を形成し、その
上に配向膜１５を形成して構成される。尚、カラーフィ
ルタ１は、前記色要素Ｒ，Ｇ，Ｂがストライプ状に配列
してカラーフィルタ層７が形成され、前記ストライプ状
共通電極１４は、カラーフィルタ層７のストライプ方向
と直交する方向に配列されているものとする。
の上にストライプ状の透明共通電極１４を形成し、その
上に配向膜１５を形成して構成される。尚、カラーフィ
ルタ１は、前記色要素Ｒ，Ｇ，Ｂがストライプ状に配列
してカラーフィルタ層７が形成され、前記ストライプ状
共通電極１４は、カラーフィルタ層７のストライプ方向
と直交する方向に配列されているものとする。
【００２２】第２の基板１２は、ガラス等の透明基板１
６に前記ストライプ状の色要素と対向するストライプ状
の透明信号電極１７を形成し、その上に配向膜１８を形
成して構成される。
６に前記ストライプ状の色要素と対向するストライプ状
の透明信号電極１７を形成し、その上に配向膜１８を形
成して構成される。
【００２３】第１，第２の基板１１，１２間には、液晶
層１３の厚み、すなわちセルギャップを一定に維持する
ためのスペ−サ１９が複数分散して配置されている。ス
ペ−サ１９は、セルギャップを一定に維持するために、
本来、共通電極１４と信号電極１７が平面的に交差する
部分に形成される画素部分に配置される必要があるにも
係わらず、従来は、色要素間に形成された凹みに捕捉さ
れやすく、また、この部分は第２基板１２の信号電極１
７の間に位置してセルギャップが長い場所であるので、
この凹みに捕捉されるスペ−サ１９の数が増大して、こ
れらのスペ−サ１９によってセルギャップが規定される
と、本来のセルギャップよりも短いセルギャップに規定
される画素部分が増大する結果、表示にムラが生じやす
かったが、上記カラーフィルタ１を用いることによっ
て、これらの問題を改善することができる。
層１３の厚み、すなわちセルギャップを一定に維持する
ためのスペ−サ１９が複数分散して配置されている。ス
ペ−サ１９は、セルギャップを一定に維持するために、
本来、共通電極１４と信号電極１７が平面的に交差する
部分に形成される画素部分に配置される必要があるにも
係わらず、従来は、色要素間に形成された凹みに捕捉さ
れやすく、また、この部分は第２基板１２の信号電極１
７の間に位置してセルギャップが長い場所であるので、
この凹みに捕捉されるスペ−サ１９の数が増大して、こ
れらのスペ−サ１９によってセルギャップが規定される
と、本来のセルギャップよりも短いセルギャップに規定
される画素部分が増大する結果、表示にムラが生じやす
かったが、上記カラーフィルタ１を用いることによっ
て、これらの問題を改善することができる。
【００２４】すなわち、カラーフィルタ層７の各色要素
の形状を均一化することによって、色要素の境界部分に
生じる突起２０をほぼ対称形状にでき、これらの上に保
護膜８、透明電極１４を積層することによって、色要素
間部分における凹みを従来に比べて大幅に小さくするこ
とができる。また、色要素の境界部分に跨って山状の突
起２０が形成されるので、この山状の突起２０によっ
て、スペ−サ１９が山状突起２０の頂上部方向に移動す
るのを阻止することができる。また、この山状の突起２
０に捕捉されたスペ−サ１９がセルギャップの維持機能
を果たすことができるように、山状の突起２０の高さを
前記信号電極１７間の凹みの深さと同じ程度の高さに設
定するか、もしくは、スペ−サ１９自身ないし周辺部分
の変形を考慮して若干高い高さに設定しておくのが好ま
しい。
の形状を均一化することによって、色要素の境界部分に
生じる突起２０をほぼ対称形状にでき、これらの上に保
護膜８、透明電極１４を積層することによって、色要素
間部分における凹みを従来に比べて大幅に小さくするこ
とができる。また、色要素の境界部分に跨って山状の突
起２０が形成されるので、この山状の突起２０によっ
て、スペ−サ１９が山状突起２０の頂上部方向に移動す
るのを阻止することができる。また、この山状の突起２
０に捕捉されたスペ−サ１９がセルギャップの維持機能
を果たすことができるように、山状の突起２０の高さを
前記信号電極１７間の凹みの深さと同じ程度の高さに設
定するか、もしくは、スペ−サ１９自身ないし周辺部分
の変形を考慮して若干高い高さに設定しておくのが好ま
しい。
【００２５】このように液晶表示装置１０を構成するこ
とによって、セルギャップ制御を確実に行って表示ムラ
を減少させ、金属遮光膜４によって表示コントラストを
高めることによって光学特性の良好な液晶表示装置を提
供することができる。
とによって、セルギャップ制御を確実に行って表示ムラ
を減少させ、金属遮光膜４によって表示コントラストを
高めることによって光学特性の良好な液晶表示装置を提
供することができる。
【００２６】尚、上記実施例は顔料分散法を用いてカラ
ーフィルタを形成する場合を例に取ったが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、例えば染色法を用いる場
合等にも適用することができる。また、レジスト５や着
色レジスト６は、ネガタイプとポジタイプを適宜選択し
て使用することもできる。
ーフィルタを形成する場合を例に取ったが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、例えば染色法を用いる場
合等にも適用することができる。また、レジスト５や着
色レジスト６は、ネガタイプとポジタイプを適宜選択し
て使用することもできる。
【００２７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、遮光膜の
パターンニング用レジストを残したまま複数の色要素か
らなるカラーフィルタ層を形成するので、遮光膜のパタ
ーンニング用レジストの除去工程を削減して工程の簡素
化を図ることができるとともに、前記レジストを有効に
利用して各色要素の形状安定化を図ることができる。そ
してまた、カラーフィルタは、各色要素の形状が安定化
されるので、その光学特性を良好に維持することができ
る。そしてまた、このような各色要素の形状が安定化さ
れたカラーフィルタを備える液晶表示装置は、セルギャ
ップの制御が容易になり、しかも金属製の遮光膜によっ
てコントラストを高めることができるので、光学特性を
良好に維持することができる。
パターンニング用レジストを残したまま複数の色要素か
らなるカラーフィルタ層を形成するので、遮光膜のパタ
ーンニング用レジストの除去工程を削減して工程の簡素
化を図ることができるとともに、前記レジストを有効に
利用して各色要素の形状安定化を図ることができる。そ
してまた、カラーフィルタは、各色要素の形状が安定化
されるので、その光学特性を良好に維持することができ
る。そしてまた、このような各色要素の形状が安定化さ
れたカラーフィルタを備える液晶表示装置は、セルギャ
ップの制御が容易になり、しかも金属製の遮光膜によっ
てコントラストを高めることができるので、光学特性を
良好に維持することができる。
【図１】本発明のカラーフィルタの一実施例を示す要部
断面図である。
断面図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施例
を説明するための工程の一部を示す説明図である。
を説明するための工程の一部を示す説明図である。
【図３】本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施例
を説明するための工程の一部を示す説明図である。
を説明するための工程の一部を示す説明図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の一実施例を示す要部断
面図である。
面図である。
【図５】従来のカラーフィルタの製造方法を示す説明図
である。
である。
１ カラーフィルタ ４ 遮光膜 ５ 遮光膜パターニング用レジスト ６ 着色レジスト ７ カラーフィルタ層 ８ 保護膜 １０ 液晶表示装置 １１ 第１基板 １２ 第２基板 １３ 液晶層 １４ 透明共通電極 １７ 透明信号電極 １９ スペーサ ２０ 突起
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浜野 正宏 鳥取県鳥取市南吉方３丁目201番地 鳥取 三洋電機株式会社内 (72)発明者 浦林 敏彦 鳥取県鳥取市南吉方３丁目201番地 鳥取 三洋電機株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 表面に金属製遮光膜を有する基板に対し
て前記遮光膜のパタ−ニング用のレジストを配置する工
程と、前記レジストを露光現像して所定の形状にパタ−
ニングする工程と、パタ−ニングされた前記レジストを
マスクとして前記遮光膜の露出部分を除去する工程と、
遮光膜の上の前記レジストを残した状態で所定の色要素
を形成する工程を複数回繰り返して複数の色要素からな
るカラーフィルタ層を形成する工程とを備えることを特
徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２】 表面にパタ−ニングされた金属製遮光膜
及びそのパタ−ニング用のレジストを積層配置した基板
に複数の色要素からなるカラーフィルタ層を形成したこ
とを特徴とするカラーフィルタ。 - 【請求項３】 前記パタ−ニング用のレジストが光また
は熱により硬化するエポキシ系樹脂またはアクリル系樹
脂またはポリイミド系樹脂を含むことを特徴とする請求
項１記載のカラーフィルタの製造方法もしくは請求項２
記載のカラーフィルタ。 - 【請求項４】 前記パタ−ニング用のレジストが染料ま
たは顔料等の着色剤を含むことを特徴とする請求項１記
載のカラーフィルタの製造方法もしくは請求項２記載の
カラーフィルタ。 - 【請求項５】 ２つの基板間に液晶を挟持した液晶表示
装置において、一方に基板に請求項２記載のカラーフィ
ルタを備えることを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9041094A JPH10239512A (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9041094A JPH10239512A (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10239512A true JPH10239512A (ja) | 1998-09-11 |
Family
ID=12598899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9041094A Pending JPH10239512A (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10239512A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021009417A (ja) * | 2006-06-02 | 2021-01-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
-
1997
- 1997-02-25 JP JP9041094A patent/JPH10239512A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021009417A (ja) * | 2006-06-02 | 2021-01-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
| US11600236B2 (en) | 2006-06-02 | 2023-03-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and driving method thereof |
| US11657770B2 (en) | 2006-06-02 | 2023-05-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and driving method thereof |
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