JP3003271B2 - カラーフィルタとその製造方法 - Google Patents
カラーフィルタとその製造方法Info
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
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- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
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- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラー液晶表示装置等に
用いるカラーフィルタとその製造方法、特に、平坦性を
良くすることによって、カラー液晶表示装置における表
示品質を向上せしめる構成に関する。
用いるカラーフィルタとその製造方法、特に、平坦性を
良くすることによって、カラー液晶表示装置における表
示品質を向上せしめる構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】薄型，軽量，低消費電力等の特徴を活か
し、ＯＡ機器，パソコン，携帯用テレビ等に需要が拡大
しつつあるカラー液晶表示パネルとして、単純マトリッ
クス方式とアクティブマトリックス方式とが代表的なも
のとして知られており、パネル基板に形成させるカラー
フィルタの製造方法には、染色法，印刷法，顔料分散法
等がある。
し、ＯＡ機器，パソコン，携帯用テレビ等に需要が拡大
しつつあるカラー液晶表示パネルとして、単純マトリッ
クス方式とアクティブマトリックス方式とが代表的なも
のとして知られており、パネル基板に形成させるカラー
フィルタの製造方法には、染色法，印刷法，顔料分散法
等がある。
【０００３】アクティブマトリックス方式は、表示品質
に優れるも製造技術が難しく、高価格になるという難点
がある。単純マトリックス方式は、表示品質においてア
クティブマトリックス方式より劣るが、低価格で製造で
きるという利点がある。
に優れるも製造技術が難しく、高価格になるという難点
がある。単純マトリックス方式は、表示品質においてア
クティブマトリックス方式より劣るが、低価格で製造で
きるという利点がある。
【０００４】何れの場合も、透明基板にＲ（赤),Ｇ
（緑),Ｂ（青）３色の画素からなるカラーフィルタを形
成し、それら３色の画素を選択的に駆動して混色し、任
意のカラー表示を行わせるようになる。
（緑),Ｂ（青）３色の画素からなるカラーフィルタを形
成し、それら３色の画素を選択的に駆動して混色し、任
意のカラー表示を行わせるようになる。
【０００５】図６(イ) 〜(ヘ) は顔料分散法によるカラー
フィルタに透明電極を形成したカラー液晶表示装置用基
板の主要製造工程の説明図、図７(イ) 〜(ハ) は図６に示
す画素の製造工程の説明図である。
フィルタに透明電極を形成したカラー液晶表示装置用基
板の主要製造工程の説明図、図７(イ) 〜(ハ) は図６に示
す画素の製造工程の説明図である。
【０００６】図６において、色素を感光性樹脂液に分散
せしめて着色した光硬化性フォトレジストを、フォトリ
ソグラフィ法でパターニングする工程を繰り返す顔料分
散法のカラーフィルタは、透明基板１の表面に遮光膜
（Ｃｒ等の金属膜）２を被着したのち、遮光膜２の上に
フォトレジスト膜を被着し、該フォトレジスト膜の露
光，現像処理によってレジストマスク３を形成する。
せしめて着色した光硬化性フォトレジストを、フォトリ
ソグラフィ法でパターニングする工程を繰り返す顔料分
散法のカラーフィルタは、透明基板１の表面に遮光膜
（Ｃｒ等の金属膜）２を被着したのち、遮光膜２の上に
フォトレジスト膜を被着し、該フォトレジスト膜の露
光，現像処理によってレジストマスク３を形成する。
【０００７】次いで、レジストマスク３を使用して遮光
膜２の不要部をエッチングすると、透明基板１の表面に
突出するブラックマトリックスパターン４が形成され
る。次いで、レジストマスク３を除去し、３色（赤，
緑，青）の画素７と８と９を色別に順次形成したのち、
画素７，８，９間の隙間に充填し平坦化させるためアク
リル樹脂等にてなるオーバーコート層10を被着してカラ
ーフィルタが完成し、オーバーコート層10の上に透明電
極膜11を形成して、カラー液晶表示装置用基板12が完成
する。
膜２の不要部をエッチングすると、透明基板１の表面に
突出するブラックマトリックスパターン４が形成され
る。次いで、レジストマスク３を除去し、３色（赤，
緑，青）の画素７と８と９を色別に順次形成したのち、
画素７，８，９間の隙間に充填し平坦化させるためアク
リル樹脂等にてなるオーバーコート層10を被着してカラ
ーフィルタが完成し、オーバーコート層10の上に透明電
極膜11を形成して、カラー液晶表示装置用基板12が完成
する。
【０００８】図７において、例えば赤色顔料を分散した
光硬化性レジスト膜５を厚さ1.6 μm 程度に被着し、画
素７に対応する光学的透孔13が設けられたマスク12を用
いて基板１の上方より露光，現像を行うと、基板１の上
に赤色画素７が形成される。しかるのち、図６に示す緑
色画素８，青色画素９は赤色画素７と同様に、緑色顔料
を分散した光硬化性レジスト膜，青色顔料を分散した光
硬化性レジスト膜より形成する。
光硬化性レジスト膜５を厚さ1.6 μm 程度に被着し、画
素７に対応する光学的透孔13が設けられたマスク12を用
いて基板１の上方より露光，現像を行うと、基板１の上
に赤色画素７が形成される。しかるのち、図６に示す緑
色画素８，青色画素９は赤色画素７と同様に、緑色顔料
を分散した光硬化性レジスト膜，青色顔料を分散した光
硬化性レジスト膜より形成する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来、顔料分散法によるカラーフィルタの製造は、ブラ
ックマトリックスパターン４を形成したのち３色の画素
７，８，９を形成するが、ブラックマトリックスパター
ン４は基板１の表面に突出するため、画素７，８，９は
図６および図７に示す如くパターン４に重なる部分で高
くなり、オーバーコート層10および透明電極膜11の平坦
性が損なわれ、液晶表示装置に利用したとき表示品質が
該非平坦性によって低下するという問題点があった。
従来、顔料分散法によるカラーフィルタの製造は、ブラ
ックマトリックスパターン４を形成したのち３色の画素
７，８，９を形成するが、ブラックマトリックスパター
ン４は基板１の表面に突出するため、画素７，８，９は
図６および図７に示す如くパターン４に重なる部分で高
くなり、オーバーコート層10および透明電極膜11の平坦
性が損なわれ、液晶表示装置に利用したとき表示品質が
該非平坦性によって低下するという問題点があった。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記問題点は、透明基板
の表面に凹部が設けられ、前記凹部内にブラックマトリ
ックスパターンと色画素とを埋設してなるカラーフィル
タによって解決される。 さらに前記ブラックマトリック
スパターンおよび前記色画素を埋設した前記透明基板の
表面を透明絶縁膜で被覆した前記カラーフィルタ、ま
た、前記透明絶縁膜が、前記ブラックマトリックスパタ
ーンの形成領域外において前記透明基板の表面を表呈さ
せたカラーフィルタによって解決される。
の表面に凹部が設けられ、前記凹部内にブラックマトリ
ックスパターンと色画素とを埋設してなるカラーフィル
タによって解決される。 さらに前記ブラックマトリック
スパターンおよび前記色画素を埋設した前記透明基板の
表面を透明絶縁膜で被覆した前記カラーフィルタ、ま
た、前記透明絶縁膜が、前記ブラックマトリックスパタ
ーンの形成領域外において前記透明基板の表面を表呈さ
せたカラーフィルタによって解決される。
【００１１】また、上記問題点はフォトレジストマスク
を使用した第１のドライエッチングにより透明基板の表
面に第１の凹所を形成し、該フォトレジストマスクを利
用したリフトオフ法によって該第１の凹所を埋めるブラ
ックマトリックスパターンを形成し、該ブラックマトリ
ックスパターンをマスクとした第２のドライエッチング
によって該透明基板の表面に多数の第２の凹所を形成
し、色画素を該第２の凹所に充填させるカラーフィルタ
の製造方法によって解決される。
を使用した第１のドライエッチングにより透明基板の表
面に第１の凹所を形成し、該フォトレジストマスクを利
用したリフトオフ法によって該第１の凹所を埋めるブラ
ックマトリックスパターンを形成し、該ブラックマトリ
ックスパターンをマスクとした第２のドライエッチング
によって該透明基板の表面に多数の第２の凹所を形成
し、色画素を該第２の凹所に充填させるカラーフィルタ
の製造方法によって解決される。
【００１２】また、フォトレジストマスクを使用したド
ライエッチングにより透明基板の表面に平板状の凹所を
形成し、該凹所内に黒色の光硬化性レジストからなるブ
ラックマトリックスパターンを形成し、該ブラックマト
リックスパターンの多数の色画素用透孔内に色画素を充
填させるカラーフィルタの製造方法によって解決され
る。
ライエッチングにより透明基板の表面に平板状の凹所を
形成し、該凹所内に黒色の光硬化性レジストからなるブ
ラックマトリックスパターンを形成し、該ブラックマト
リックスパターンの多数の色画素用透孔内に色画素を充
填させるカラーフィルタの製造方法によって解決され
る。
【００１３】さらに、前記色画素が赤、緑、青の３色で
あり、該３色のうちの一色の色素を分散させた３種類の
光硬化性レジストと、前記ブラックマトリックスパター
ンの表面に沿って移動し前記第２の凹所に該光硬化性レ
ジストを充填させるスクィーズと、前記透明基板の表面
側、もしくは裏面側に配設し前記第２の凹所を選択的且
つ光学的に露呈せしめるマスクとを用い、赤、緑、青３
色の該画素を順次形成させる前記カラーフィルタの製造
方法によって解決される。
あり、該３色のうちの一色の色素を分散させた３種類の
光硬化性レジストと、前記ブラックマトリックスパター
ンの表面に沿って移動し前記第２の凹所に該光硬化性レ
ジストを充填させるスクィーズと、前記透明基板の表面
側、もしくは裏面側に配設し前記第２の凹所を選択的且
つ光学的に露呈せしめるマスクとを用い、赤、緑、青３
色の該画素を順次形成させる前記カラーフィルタの製造
方法によって解決される。
【００１４】
【作用】上記手段によれば、ブラックマトリックスパタ
ーンおよび色画素を透明基板に埋設したため、ブラック
マトリックスパターン，色画素は、従来のそれらと異な
り透明基板より突出せず、透明基板に揃え平坦化ができ
る。従って、本発明を液晶表示装置に適用したとき表示
品質が向上する。
ーンおよび色画素を透明基板に埋設したため、ブラック
マトリックスパターン，色画素は、従来のそれらと異な
り透明基板より突出せず、透明基板に揃え平坦化ができ
る。従って、本発明を液晶表示装置に適用したとき表示
品質が向上する。
【００１５】
【実施例】図２(イ) 〜(リ) は本発明の第１の実施例によ
るカラーフィルタとその主要製造工程の説明図、図３
(イ) 〜(ホ) は本発明の第２の実施例によるカラーフィル
タとその主要製造工程の説明図、図４(イ),(ロ) は本発明
の第３，第４の実施例によるカラーフィルタの概略構造
の説明図、図５(イ),(ロ) はの第５，第６の実施例による
カラーフィルタの概略構造の説明図である。
るカラーフィルタとその主要製造工程の説明図、図３
(イ) 〜(ホ) は本発明の第２の実施例によるカラーフィル
タとその主要製造工程の説明図、図４(イ),(ロ) は本発明
の第３，第４の実施例によるカラーフィルタの概略構造
の説明図、図５(イ),(ロ) はの第５，第６の実施例による
カラーフィルタの概略構造の説明図である。
【００１６】図１に示すカラーフィルタ21の主要構造と
主要製造工程を説明する図２において、まず、図２(イ)
に示す如く透明基板１の表面にフォトレジストマスク31
を形成する。マスク31は、透明基板１の表面にフォトレ
ジストを塗布してプレキュアしたのち、露光, 現像して
該レジスト膜の不要部を除去する。
主要製造工程を説明する図２において、まず、図２(イ)
に示す如く透明基板１の表面にフォトレジストマスク31
を形成する。マスク31は、透明基板１の表面にフォトレ
ジストを塗布してプレキュアしたのち、露光, 現像して
該レジスト膜の不要部を除去する。
【００１７】次いで図２(ロ) に示す如く、マスク31, フ
レオンガス（ＣＦ4)を用いたドライエッチングによっ
て、透明基板１にブラックマトリックスパターンと対応
する第１の凹所26を形成する。凹所26の深さは、ブラッ
クマトリックスパターンを金属クローム膜より形成する
とき、例えば1000Å〜2000Å程度とする。
レオンガス（ＣＦ4)を用いたドライエッチングによっ
て、透明基板１にブラックマトリックスパターンと対応
する第１の凹所26を形成する。凹所26の深さは、ブラッ
クマトリックスパターンを金属クローム膜より形成する
とき、例えば1000Å〜2000Å程度とする。
【００１８】次いで図２(ハ) に示す如く、クロム等にて
凹所26の深さと同程度厚さの遮光膜32を被着したのち、
レジストマスク31を溶去すると、図２(ニ) に示す如く、
凹所26を埋めたブラックマトリックスパターン４が形成
される。
凹所26の深さと同程度厚さの遮光膜32を被着したのち、
レジストマスク31を溶去すると、図２(ニ) に示す如く、
凹所26を埋めたブラックマトリックスパターン４が形成
される。
【００１９】そこで図２(ホ) に示す如く、透明基板１の
表面の端部をマスク33で覆い、ブラックマトリックスパ
ターン４をマスクとし、フレオンガスを用いたドライエ
ッチングにより、透明基板１の表面に第２の凹所27を形
成する。画素を形成するための凹所27は、画素に形成に
光硬化性レジストを使用するとき、例えば1.６μm 程度
とする。
表面の端部をマスク33で覆い、ブラックマトリックスパ
ターン４をマスクとし、フレオンガスを用いたドライエ
ッチングにより、透明基板１の表面に第２の凹所27を形
成する。画素を形成するための凹所27は、画素に形成に
光硬化性レジストを使用するとき、例えば1.６μm 程度
とする。
【００２０】図２(ヘ) は凹所27に画素用レジスト34を充
填する方法の説明図であり、透明基板１の表面に赤色色
素を分散させた光硬化性レジスト34を塗付し、ブラック
マトリックスパターン４の表面に沿って移動するスクィ
ージ35にて余分のレジスト34を除去する。
填する方法の説明図であり、透明基板１の表面に赤色色
素を分散させた光硬化性レジスト34を塗付し、ブラック
マトリックスパターン４の表面に沿って移動するスクィ
ージ35にて余分のレジスト34を除去する。
【００２１】次いで図２(ト) に示す如く、赤色画素に対
向する光学的透孔36を有するマスク37を透明基板１の上
に重ねて露光し、それを現像すると図２(チ) に示す如
く、所定の凹所27に充填する赤色画素25R が形成され
る。
向する光学的透孔36を有するマスク37を透明基板１の上
に重ねて露光し、それを現像すると図２(チ) に示す如
く、所定の凹所27に充填する赤色画素25R が形成され
る。
【００２２】しかるのち、緑色色素を分散させた光硬化
性レジスト, 青色色素を分散させた光硬化性レジストを
用い、赤色画素25R と同様な工程を繰り返して図２(リ)
に示す如く、それぞれ所定の凹所27に緑色画素25G,青色
画素25B を形成し、カラーフィルタ21が完成する。
性レジスト, 青色色素を分散させた光硬化性レジストを
用い、赤色画素25R と同様な工程を繰り返して図２(リ)
に示す如く、それぞれ所定の凹所27に緑色画素25G,青色
画素25B を形成し、カラーフィルタ21が完成する。
【００２３】図１に示すカラーフィルタ22の主要構造と
主要製造工程を説明する図３において、まず、図３(イ)
に示す如く透明基板１の表面にマスク41を重ね（または
透明基板１の表面にレジストマスクを形成し）たのち、
フレオンガスを用いたドライエッチングにより、図３
(ロ) に示す如く平板状の凹所28を形成する。光硬化性レ
ジストを用いたブラックマトリックスパターンおよび色
画素を形成する凹所28の深さは、例えば1.６μm 程度と
する。
主要製造工程を説明する図３において、まず、図３(イ)
に示す如く透明基板１の表面にマスク41を重ね（または
透明基板１の表面にレジストマスクを形成し）たのち、
フレオンガスを用いたドライエッチングにより、図３
(ロ) に示す如く平板状の凹所28を形成する。光硬化性レ
ジストを用いたブラックマトリックスパターンおよび色
画素を形成する凹所28の深さは、例えば1.６μm 程度と
する。
【００２４】次いで図３(ハ) に示す如く、黒色光硬化性
レジストを用いて凹所28内にブラックマトリックスパタ
ーン４を形成する。かかるブラックマトリックスパター
ン４は、凹所28に黒色光硬化性レジストをスクィーズを
用いる等によって充填し、色画素形成部に対応した光学
的透孔を有するフォトマスクを用いた露光, 現像によっ
て形成される。
レジストを用いて凹所28内にブラックマトリックスパタ
ーン４を形成する。かかるブラックマトリックスパター
ン４は、凹所28に黒色光硬化性レジストをスクィーズを
用いる等によって充填し、色画素形成部に対応した光学
的透孔を有するフォトマスクを用いた露光, 現像によっ
て形成される。
【００２５】次いで図３(ニ) に示す如く、ブラックマト
リックスパターン４の所定部に、図２を用いて説明した
方法と同一方法で赤色画素25R を形成したのち、緑色色
素を分散させた光硬化性レジスト, 青色色素を分散させ
た光硬化性レジストを用い、赤色画素25R と同様な工程
を繰り返して図３(ホ) に示す如く、緑色画素25G,青色画
素25B を形成しカラーフィルタ22が完成する。
リックスパターン４の所定部に、図２を用いて説明した
方法と同一方法で赤色画素25R を形成したのち、緑色色
素を分散させた光硬化性レジスト, 青色色素を分散させ
た光硬化性レジストを用い、赤色画素25R と同様な工程
を繰り返して図３(ホ) に示す如く、緑色画素25G,青色画
素25B を形成しカラーフィルタ22が完成する。
【００２６】図４(イ) においてカラーフィルタ23-1は、
カラーフィルタ21の全表面に透明絶縁膜 (トップコート
層)29 を被覆し、図４(ロ) においてカラーフィルタ23-2
は、カラーフィルタ22の全表面に透明絶縁膜29を被覆し
てなる。透明絶縁膜29は、ブラックマトリックスパター
ン４および画素25R,25G,25B の表面を平坦化し、図６に
示す透明電極11を形成可能にする。
カラーフィルタ21の全表面に透明絶縁膜 (トップコート
層)29 を被覆し、図４(ロ) においてカラーフィルタ23-2
は、カラーフィルタ22の全表面に透明絶縁膜29を被覆し
てなる。透明絶縁膜29は、ブラックマトリックスパター
ン４および画素25R,25G,25B の表面を平坦化し、図６に
示す透明電極11を形成可能にする。
【００２７】図５(イ) においてカラーフィルタ24-1は、
カラーフィルタ21のブラックマトリックスパターン４お
よび画素25R,25G,25B を覆って、透明絶縁膜 (トップコ
ート層)30 を被覆し、図５(ロ) においてカラーフィルタ
24-2は、カラーフィルタ22のブラックマトリックスパタ
ーン４および画素25R,25G,25B を覆って、透明絶縁膜30
を被覆してなる。従って、カラーフィルタ24-1および24
-2において透明基板１の端部が表呈する。
カラーフィルタ21のブラックマトリックスパターン４お
よび画素25R,25G,25B を覆って、透明絶縁膜 (トップコ
ート層)30 を被覆し、図５(ロ) においてカラーフィルタ
24-2は、カラーフィルタ22のブラックマトリックスパタ
ーン４および画素25R,25G,25B を覆って、透明絶縁膜30
を被覆してなる。従って、カラーフィルタ24-1および24
-2において透明基板１の端部が表呈する。
【００２８】かかる透明絶縁膜30は、ブラックマトリッ
クスパターン４および画素25R,25G,25B の表面を平坦化
し、図６に示す透明電極11を形成可能とし、かつ、透明
電極11の外部接続用端子が透明基板１の表面に形成可能
であり、そのことによって該端子の外部接続は、カラー
フィルタ23-1，23-2において透明絶縁膜29の上に形成し
たものより、確実性が増すことになる。
クスパターン４および画素25R,25G,25B の表面を平坦化
し、図６に示す透明電極11を形成可能とし、かつ、透明
電極11の外部接続用端子が透明基板１の表面に形成可能
であり、そのことによって該端子の外部接続は、カラー
フィルタ23-1，23-2において透明絶縁膜29の上に形成し
たものより、確実性が増すことになる。
【００２９】なお、前記実施例のカラーフィルタ21およ
び22において、画素25R,25G,25B は透明基板１の表面に
重ねたマスクを利用し形成した。しかし、該マスクは透
明基板１の裏面に当接し、該裏面より該マスクを通して
光を照射しても形成可能である。
び22において、画素25R,25G,25B は透明基板１の表面に
重ねたマスクを利用し形成した。しかし、該マスクは透
明基板１の裏面に当接し、該裏面より該マスクを通して
光を照射しても形成可能である。
【００３０】また、前記実施例において透明絶縁膜29,3
0 には、ＳＩＯ2,ＳＩＯの誘電体膜や光硬化性樹脂およ
びＵＶ樹脂に限定されず、シリコン系またはポリイミド
系の熱硬化性樹脂が使用可能である。
0 には、ＳＩＯ2,ＳＩＯの誘電体膜や光硬化性樹脂およ
びＵＶ樹脂に限定されず、シリコン系またはポリイミド
系の熱硬化性樹脂が使用可能である。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明方法によれ
ばカラーフィルタの表面を平坦化し、従来技術の問題点
であった平坦性を改善し、液晶表示装置のパネルに適用
したとき表示品質を向上する。
ばカラーフィルタの表面を平坦化し、従来技術の問題点
であった平坦性を改善し、液晶表示装置のパネルに適用
したとき表示品質を向上する。
【図１】 本発明によるカラーフィルタの基本構成の説
明図である。
明図である。
【図２】 本発明の第１の実施例によるカラーフィルタ
とその主要製造工程の説明図である。
とその主要製造工程の説明図である。
【図３】 本発明の第２の実施例によるカラーフィルタ
とその主要製造工程の説明図である。
とその主要製造工程の説明図である。
【図４】 本発明の第３，第４の実施例によるカラーフ
ィルタの概略構造の説明図である。
ィルタの概略構造の説明図である。
【図５】 本発明の第５，第６の実施例によるカラーフ
ィルタの概略構造の説明図である。
ィルタの概略構造の説明図である。
【図６】 顔料分散法によるカラーフィルタに透明電極
を形成したカラー液晶表示装置用パネルの従来の製造工
程の説明図である。
を形成したカラー液晶表示装置用パネルの従来の製造工
程の説明図である。
【図７】 図６に示す画素の製造工程の説明図である。
１は透明基板 ４はブラックマトリックスパターン 21,22,23,24 はカラーフィルタ 25,25R,25G,25Bは色画素 26は第１のドライエッチングによる第１の凹所 27は第２のドライエッチングによる第２の凹所 28は平板状の凹所 29,30 は透明絶縁膜 34は３色のうちの一色の色素を分散させた光硬化性レジ
スト 35はスクィーズ 37は画素形成用のマスク
スト 35はスクィーズ 37は画素形成用のマスク
Claims (7)
- 【請求項１】 透明基板の表面に凹部が設けられ、前記
凹部内にブラックマトリックスパターンと色画素とを埋
設してなることを特徴とするカラーフィルタ。 - 【請求項２】 前記ブラックマトリックスパターンおよ
び前記色画素を埋設した前記透明基板の表面を透明絶縁
膜で被覆したことを特徴とする請求項１記載のカラーフ
ィルタ。 - 【請求項３】 請求項２記載の透明絶縁膜が、前記ブラ
ックマトリックスパターンの形成領域外において前記透
明基板の表面を表呈させたことを特徴とするカラーフィ
ルタ。 - 【請求項４】 フォトレジストマスクを使用した第１の
ドライエッチングにより透明基板の表面に第１の凹所を
形成し、該フォトレジストマスクを利用したリフトオフ
法によって該第１の凹所を埋めるブラックマトリックス
パターンを形成し、該ブラックマトリックスパターンを
マスクとした第２のドライエッチングによって該透明基
板の表面に多数の第２の凹所を形成し、色画素を該第２
の凹所に充填させることを特徴としたカラーフィルタの
製造方法。 - 【請求項５】 フォトレジストマスクを使用したドライ
エッチングにより透明基板の表面に平板状の凹所を形成
し、該凹所内に黒色の光硬化性レジストからなるブラッ
クマトリックスパターンを形成し、該ブラックマトリッ
クスパターンの多数の色画素用透孔内に色画素を充填さ
せることを特徴としたカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項６】 前記色画素が赤、緑、青の３色であり、
該３色のうちの一色の色素を分散させたた３種類の光硬
化性レジストと、前記ブラックマトリックスパターンの
表面に沿って移動し前記第２の凹所に該光硬化性レジス
トを充填させるスクィーズと、前記透明基板の表面側に
配設し前記第２の凹所を選択的かつ光学的に露呈せしめ
るマスクとを用い、赤、緑、青３色の該画素を順次形成
させることを特徴とする請求項４または５記載のカラー
フィルタの製造方法。 - 【請求項７】 前記色画素が赤、緑、青の３色であり、
該３色のうちの一色の色素を分散させた３種類の光硬化
性レジストと、前記ブラックマトリックスパターンの表
面に沿って移動し前記第２の凹所に該光硬化性レジスト
を充填させるスクィーズと、前記透明基板の裏面側に配
設し前記第２の凹所を選択的かつ光学的に露呈せしめる
マスクとを用い、赤、緑、青３色の該画素を順次形成さ
せることを特徴とする前記請求項４または５記載のカラ
ーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13020291A JP3003271B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | カラーフィルタとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13020291A JP3003271B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | カラーフィルタとその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04355406A JPH04355406A (ja) | 1992-12-09 |
| JP3003271B2 true JP3003271B2 (ja) | 2000-01-24 |
Family
ID=15028537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13020291A Expired - Lifetime JP3003271B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | カラーフィルタとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3003271B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2006337389A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sharp Corp | カラーフィルタ基板の製造方法、及び、カラーフィルタ基板 |
| JP5601025B2 (ja) * | 2010-05-21 | 2014-10-08 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器 |
| JP2015025835A (ja) * | 2013-07-24 | 2015-02-05 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルター基板、電気光学装置、投射型表示装置およびカラーフィルター基板の製造方法 |
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-
1991
- 1991-06-03 JP JP13020291A patent/JP3003271B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04355406A (ja) | 1992-12-09 |
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