JP2009069224A - 樹脂製薄膜及びその製造方法、並びに液晶用カラーフィルタ及びその製造方法 - Google Patents

樹脂製薄膜及びその製造方法、並びに液晶用カラーフィルタ及びその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】液晶用カラーフィルタの製造効率を高め、歩留りを向上させる。
【解決手段】透明基板3にブラックマトリクス10を形成し、その上に部分的に重なり合うようにマイクロカラーフィルタ12を形成する。ブラックマトリクス10の開口端10aから膜厚が略均一になる平坦部10bとの間で膜厚を漸増させる。膜厚が漸増する領域の断面形状線が上凸の曲線部分P1、P3と、下凸の曲線部分P2を含む。曲線部分P1、P3の双方に接する共通の接線を越えないようにブラックマトリクス10の膜厚をコントロールする。
【選択図】図3

Description

本発明は、エッジ部分の断面形状に特徴をもつ樹脂製薄膜に関するもので、詳しくはエッジ部分に他の薄膜が部分的にオーバーラップされる樹脂製薄膜及びその製造方法、並びに液晶用カラーフィルタ及びその製造方法に関するものである。
液晶用カラーフィルタは、透明基板上にそれぞれ青色光、緑色光、赤色光などの基本色光、さらには必要に応じて付加された黄色光や他の色光だけを透過する微小なマイクロカラーフィルタをマトリクス状あるいはストライプ状に配列したものである。マイクロカラーフィルタは、カラーレジストを用いたフォトリソグラフィ法や染色法、印刷法などのほか、インクジェット法などで形成することができる。
上記マイクロカラーフィルタの形成に先立ち、透明基板上には、液晶セルの画素配列に対応した格子状パターンをもつ遮光性のブラックマトリクスが形成される。ブラックマトリクスを構成している多数の格子枠は、マイクロカラーフィルタの個々の外周縁を取り囲むように区画し、カラー画像を表示するときに隣接画素間での色のにじみをなくしてコントラストを高める作用をもつ。ブラックマトリクスは、例えばクロムなどの遮光性に優れた金属薄膜を透明基板上に真空蒸着して形成することができるが、コストダウン要求や液晶表示素子の大画面化などの背景から、特許文献1,2で知られるように樹脂製のものが多く用いられてきている。
特許第3228139号公報 特開2003−161826号公報
マイクロカラーフィルタはブラックマトリクスの格子枠で区画された個々の開口を埋めるように形成されるが、格子枠の開口縁とマイクロカラーフィルタの外周縁との間から光洩れが生じないように、マイクロカラーフィルタは開口縁を越えて部分的に格子枠の一部とオーバーラップするように形成される。ところが、例えばマイクロカラーフィルタについても着色用の顔料を混合した合成樹脂材料を用い、ブラックマトリクスと同様にフォトリソグラフィを用いて形成する場合には、ブラックマトリクスの開口縁の断面形状が透明基板の表面から急峻に切り立った形状になっていると、マイクロカラーフィルタの外周縁をオーバーラップさせたときにその部分が盛り上がってカラーフィルタの平面性を著しく損ねる結果となる。上記特許文献でも知られるように、カラーフィルタの上層にはさらに配向膜、透明電極膜が形成されるが、カラーフィルタに許容範囲を越える凹凸がある場合には、配向膜や透明電極膜を形成する前にこれらの凹凸を埋める透明層を形成し、その表面を研磨して平坦化する工程が必要となってコストアップが避けられない。
この問題に対処するために、特許文献1,2記載の手法では、いずれもブラックマトリクスの開口縁の断面形状線を透明基板の表面から緩い角度で立ち上げ、マイクロカラーフィルタを積層したときのオーバーラップ部分が極端に盛り上がることを防いでいる。さらに特許文献2には、マイクロカラーフィルタを特にインクジェット法で形成する場合であっても、格子枠の開口縁の断面形状線を透明基板の表面から20°〜55°の範囲で緩く立ち上げておくことが、ブラックマトリクスとマイクロカラーフィルタとの境界部の段差をなくす上で効果的であることが記載されている。
しかしながら、ブラックマトリクスの開口を画定する開口縁の断面形状線を透明基板から緩い角度で立ち上げると、マイクロカラーフィルタとオーバーラップさせ得る許容幅を広げることはできるが、開口縁に近づくほど格子枠の膜厚が薄くなって遮光性が低下する。このため、マイクロカラーフィルタを形成するときのオーバーラップ量が不十分であるとマイクロカラーフィルタの周縁部で光洩れが生じ、カラー画像のコントラストを低下させる原因になる。したがってマイクロカラーフィルタの積層時には、上記光洩れが生じないように格子枠との間のオーバーラップ量を確保し、しかもマイクロカラーフィルタの外周縁が格子枠の上面で大きく盛り上がらないように管理しなければならない。さらに、開口縁部分で格子枠の膜厚が薄くなり過ぎると、現像工程でその部分が欠けたり透明基板との密着性が弱くなって剥がれ故障が出やすくなり、製造効率や歩留りの点で問題がある。
このような問題は、上記のように先に形成されたブラックマトリクスにマイクロカラーフィルタを部分的にオーバーラップさせる場合だけでなく、逆に透明基板上に各色のマイクロカラーフィルタを互いに一定間隔を開けて順次に形成した後、マイクロカラーフィルタ相互間の隙間を埋めるようにブラックマトリクスを形成する場合にも同様に生じる。すなわち、樹脂製の異種の薄膜を部分的にオーバーラップさせて積層する際には、一般に、オーバーラップした部分の盛り上がりをできるだけ抑え、かつ各々の薄膜がそのエッジ部分まで基板や下層の薄膜に強固に密着していることが要求される。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、透明基板などの下地面に所定パターンをもつ樹脂製の第1薄膜層を形成した後、この第1の薄膜層に部分的にオーバーラップするように第2の薄膜層を形成する際に、第1の薄膜層のエッジ部分と下地面との密着性を強固に保ちながらも、第1,第2の薄膜層のオーバーラップ部分を大きく突出させることがないように第1の薄膜層の断面形状を改善し、またその製造方法を提供することを目的とする。
液晶表示素子に用いられるカラーフィルタを製造する際には、透明基板に前記第1の薄膜層としてブラックマトリクスを形成し、このブラックマトリクスに前記第2の薄膜層としてマイクロカラーフィルタが部分的にオーバーラップするように形成されるが、本発明は上記ブラックマトリクスにも効果的に適用することができる。
本発明は上記目的を達成するにあたり、下地面に所定の平面パターンで略一定の膜厚をもって形成され、膜厚が漸増するエッジ部分、すなわち前記平面パターンと下地面との境界となる端縁から前記略一定の膜厚となる平坦部までの膜厚が漸増する樹脂製薄膜について、前記膜厚が漸増する領域での断面形状線が、前記端縁及び前記平坦部との各々の境界で上凸となる曲線部分をもち、かつこれらの曲線部分の間では、これらの曲線部分に共通に接する接線を越えないようにしたもので、例えば前記断面形状線に少なくとも2つの変曲点をもたせることでも対応可能である。さらに、前記断面形状線に下地面と略平行な直線部を含ませ、あるいは傾斜角度の異なる2種類の斜線を含ませる構成を採ることも本発明を実施する上で有効である。
上記の樹脂製薄膜を製造するには、下地面に前記樹脂製薄膜を構成する光硬化性の樹脂材料を前記略一定の膜厚で塗布する第1工程、前記樹脂材料に含まれる有機溶剤が下地面に接する下層側に残存するようにプリベークする第2工程、前記樹脂材料の表面側から前記平面パターンに対応するパターン露光を与え、樹脂材料を上層側から所定深さまで光硬化させる第3工程、前記樹脂材料を現像処理して前記平面パターンをもつ樹脂製薄膜を下地面に残すとともに、前記樹脂製薄膜と下地面との間に前記平面パターンの端縁から前記平坦部に向かうアンダーカットを入れる第4工程、さらに前記アンダーカットにより形成された隙間を塞ぐようにアンダーカットの上方にある樹脂製薄膜の一部を軟化させ、前記端縁から平坦部までの断面形状線に、前記端縁及び前記平坦部との各々の境界で上凸となる曲線部分をもたせ、かつこれらの曲線部分の間では、これらの曲線部分に共通に接する接線を越えない形状を付与するための第5工程をこの順で行ってゆくのが簡便かつ効率的である。
上記樹脂製薄膜の具体例としては、液晶用カラーフィルタのブラックマトリクスを挙げることができる。この場合、マイクロカラーフィルタが積層される領域におけるブラックマトリクスの断面形状線が少なくとも2つの変曲点を含むように構成され、その一部に基板表面と略平行な直線部を含ませ、あるいは傾斜角度の異なる2種類の斜線を含ませることができる。また、その製造方法としては、透明基板の表面に前記ブラックマトリクスを構成する光硬化製の樹脂材料を略一定の膜厚で塗布する第1工程、前記樹脂材料に含まれる有機溶剤が前記透明基板に接する下層側に残存するようにプリベークする第2工程、前記樹脂材料の表面側からブラックマトリクスの格子状パターンに対応するパターン露光を与え、樹脂材料を上層側から所定深さまで光硬化させる第3工程、現像処理により前記樹脂材料の未露光部分を除去して透明基板上に格子状パターンをもつブラックマトリクスを残すとともに、ブラックマトリクスの開口縁から奥に向かうアンダーカットを入れる第4工程、前記アンダーカットによりブラックマトリクスと透明基板との間に形成された隙間を塞ぐようにアンダーカットの上方にあるブラックマトリクスの一部を軟化させ、この軟化部分での断面形状線に少なくとも2つの上凸の曲線部分をもたせるとともに、これらの曲線部分の間ではこれらの曲線部分に共通の接線を越えない膜厚に整形する第5工程、そして固化されたブラックマトリクスの開口を覆うとともに前記軟化部分に重なるようにマイクロカラーフィルタを色ごとに順次に積層する第6工程とがこの順で行われる。
さらに上記製造方法を実施するに際しては、前記パターン露光を行う際に、露光用光源からの光にj線及びk線を含ませること、そして前記プリベークを行うときの熱エネルギー及び、前記パターン露光を行うときの露光エネルギーの調節により、前記アンダーカットの量を調節することが本発明独特の作用効果を得る上で非常に有効な手段となり得る。
本発明によれば、液晶用カラーフィルタのブラックスマトリクスの開口縁近傍の断面形状線が改善され、開口縁部分で透明基板との密着性が損なわれたり、またマイクロカラーフィルタを開口縁付近でオーバーラップするように積層しても、極端な凹凸を生じさせたりすることがない。また、液晶用カラーフィルタのブラックマトリクスに限らず、第2の薄膜層が部分的に積層される第1の薄膜層を下地面に形成する際には、本発明を用いることによって、下地面と第1の薄膜層のエッジ部分との密着性を強固に保ちつつ、双方の薄膜層がオーバーラップする領域で極端な凹凸を生じさせないという効果が得られる。
本発明を用いた液晶表示素子の基本的な構造を図6に模式的に示す。支持体となる光学ガラス製の透明基板2,3の表面側には、それぞれ偏光子となる偏光板4と、検光子となる偏光板5が接合されている。透明基板2の内面を下地面として複数の透明電極8が一定のパターンで配列形成され、これらの透明電極8を覆うように配向膜9が形成されている。透明電極8はマトリクス状に配列され、その各々は液晶層6内の液晶分子を画素単位で駆動するために用いられる。
他方の透明基板3の内面を下地面として、ブラックマトリクス10、マイクロカラーフィルタ12が形成され、さらにその上を覆うように透明電極13、配向膜14が形成されている。ブラックマトリクス10は、その平面パターンが、画素単位に設けられた透明電極8の個々に対面するエリアが開口となるような格子状パターンをもち、そしてマイクロカラーフィルタ12はその開口を塞ぐように形成される。マイクロカラーフィルタ12には、青色光透過フィルタ、緑色光透過フィルタ、赤色光透過フィルタの3種類があり、そのいずれか1種類のマイクロカラーフィルタで一つの開口が塞がれる。
図6の模式図ではブラックマトリクス10とマイクロカラーフィルタ12との境界が直線的に図示しているが、実際には図1に拡大して示すように、ブラックマトリクス10とマイクロカラーフィルタ12とは部分的に重なり合うように形成される。図1には、透明基板3にブラックマトリクス10を形成した後、さらにマイクロカラーフィルタ12を積層させた液晶用カラーフィルタの1画素分を拡大図示されているが、上述のように部分的に重なり合わせることによって、ブラックマトリクス10の開口縁(端縁)10aとマイクロカラーフィルタ12の先端部12aとの間に隙間が生じることがなくなる。
ブラックマトリクス10とマイクロカラーフィルタ12とを部分的に重なり合わせ、しかもマイクロカラーフィルタ12の上方への突出量を抑えるために、ブラックマトリクス10は、透明電極8に対面する開口を画定する開口縁10aから略一定の膜厚となる平坦部10bに向かうエッジ部分が、図示のように徐々に膜厚が漸増する断面形状線となっている。このような断面形状線を得るために、ブラックマトリクス10に合成樹脂製のものを用い、さらにフォトリソグラフィにより格子状パターンが付与される。
ブラックマトリクス10を構成する薄膜材料は、例えば光硬化性が付与されたアルカリ可溶性の合成樹脂基材に遮光剤としてカーボンブラックなどの黒色顔料が混合され、また有機溶剤の添加により流動性が与えられている。透明基板3をクリーニング処理した後、この薄膜材料を例えばスリットコータを用いて1.0〜2.0μmの範囲内の略一定の膜厚で下地面に均一に塗布する。なお、塗布の方法としては、インクジェット法やスクリーン印刷法などを用いることも可能である。薄膜材料の塗布の後に真空乾燥処理が行われ、過分な有機溶剤の一部を揮発させる。
次いでプリベーク処理を行ってさらに有機溶剤を蒸発させるが、このときのプリベーク温度は有機溶剤が完全に蒸発してしまうことがないように低めに抑えられる。一般に、通常のプリベーク処理は下地面に薄膜材料を密着させることを目的に行われるのに対し、本発明ではプリベーク温度を低めに抑え(例えば70〜90°C)、薄膜材料の表面側からは充分に有機溶剤を蒸発させながらも、下地面側には有機溶剤を一部残留させる目的で行われる。なお、プリベーク温度やプリベーク時間を制御することによって、薄膜材料の下地面側に残存させる有機溶剤の量を調節することができる。
次いで、ブラックマトリクス10に格子状の平面パターンを付与するために、格子状の光透過パターンをもつ露光マスクを用いて薄膜材料の表面側からパターン露光が行われる。パターン露光用の光源には高圧水銀ランプが用いられ、一般のパターン露光に用いられるg線(436nm)、i線(365nm)、h線(405nm)のほかに、通常ではフィルタリングによってカットされるj線(313nm)、k線(393nm)も積極的に用いられる。パターン露光時には、薄膜材料に対して通常の50mJ/cmよりも高めの70〜100mJ/cmの光エネルギーを与えて薄膜材料を硬化させる。このようなパターン露光処理を行うことにより、もともと黒色顔料の混合により遮光性が高い薄膜材料に対しても下地面近傍まで光エネルギーを与えることができ、深さ方向で充分な硬化作用が得られるようになる。ただし、下地面近傍の薄膜材料には有機溶剤が残っているのでその硬化作用は抑えられることになる。j線及びk線の強度が強すぎると上記薄膜材料の最表面だけが強く硬化して薄皮状のもろい層ができてしまうので好ましくない。減光フィルタなどの手段により、j線,k線の強さをi線に対する比で10%〜50%の範囲に抑えることが実用上適切な硬化状態を得る上で望ましい。
次いでアルカリ水溶液を用いて現像処理が行われる。これにより、上記パターン露光処理に際して露光が与えられなかった部分がアルカリ水溶液中に溶出する。この現像処理は、薄膜材料をアルカリ水溶液でシャワー洗浄する形で行われるが、現像処理時間、シャワー圧、単位時間あたりのアルカリ水溶液の供給量、環境温度の調整により現像の強さを制御することができる。例えば、現像時間を70〜100秒と長めに設定し、シャワー圧を0.05〜0.15MPaと低めにし、さらに環境温度は23〜27°Cと低めに調整するのが好適である。
このような現像条件のもとで現像処理を行うことによって、図2(A)に示すパターン露光後の薄膜材料層20には同図(B)に示すように、その端部から奥に向かうアンダーカット部分21が生じる。このアンダーカット部分21の高さ及び奥行き長さは、現像条件だけではなく、先のプリベーク条件の設定及びパターン露光条件の設定に応じて調節することができる。特に、上述したプリベーク処理により下地面側には有機溶剤が残存していることから、現像処理時のシャワー圧を低めに調節しておいても、残渣をほとんど残すことなくアンダーカット部分21を形成することができる。なお、図2にはその一部しか表されていないが、アンダーカット部分21はブラックマトリクス10の矩形状の開口を取り囲む格子枠の各辺にほぼ同時に同程度形成される。
続いてポストベーク処理が行われる。ポストベーク処理は、薄膜材料中に残像する有機溶剤を蒸発させて薄膜材料を充分に硬化させるための加熱処理で、200〜240°Cの温度で20〜60分間行われる。このポストベーク処理を行うことにより、アンダーカット部分21の上方に庇状に張り出している薄膜材料は熱変形し、図2(C)に示すように透明基板3に接して密着した状態となる。この結果、図1に示す断面線形状をもったブラックマトリクス10が得られる。
図2(C)に示すように、ブラックマトリクス10は開口縁10aから平坦部10bに向かって膜厚が漸増するだけでなく、その断面形状線は上凸曲線部分P1、下凸曲線部分P2、上凸曲線部分P3を含む形状となり、下凸曲線部分P2の両側に少なくとも2つの変曲点を含む。また、図示した断面形状には、上凸曲線部分P1と下凸曲線部分P2との間に厚みが略均一な直線部分が含まれ、マイクロカラーフィルタ12との重ね合わせのラチチュードS、すなわち図3に示すように、マイクロカラーフィルタ12と開口縁10aとの間に隙間を生じさせることがない最小のオーバーラップ幅Tを確保した上で、ブラックマトリクス10との重ね合わせ部分でマイクロカラーフィルタ12を大きく盛り上げずに済むオーバーラップ許容幅Sを広げる上で有利となる。
オーバーラップ許容幅Sを広げるためには、ブラックマトリクス10の開口縁10aから平坦部10bまでの膜厚漸増領域において、その断面形状線が接線Qを越えないような膜厚にすることが必要である。上述したポストベーク処理時の加熱変形により、開口縁10b近傍及び、平坦部10bとの境界部には上凸の曲線部分P1,P3が生じるが、前記接線Qはこれらの曲線部分P1,P3に共通に接する接線である。そして、膜厚漸増領域の断面形状線がこの接線Qを越えない形状に保たれていれば、マイクロカラーフィルタ12を積層するときのオーバーラップ許容幅Sが広く保たれるようになる。
上記のように、ブラックマトリクス10が膜厚を漸増させる領域の断面形状線に独特の形状を与えるためには、図4に模式的に示すように、現像処理の後、ポストベーク処理を行う前の薄膜材料層20にアンダーカット部分21を形成することにあるが、このアンダーカット部分21は、その奥行き長さLと、アンダーカット部分21の高さ、換言すればアンダーカット部分21の上方に庇状に突出した薄膜材料の上方厚みDでその特徴を表すことができる。これらの特徴量L,Dは、前述のように、プリベークの条件、パターン露光の条件、現像処理の条件によって調節することが可能である。
上記特徴量L,Dの調節によって得られる断面形状線のいくつかの例を図5に示す。いずれの例においても、上述したポストベーク処理による熱変形により、開口縁10aと平坦部10bとの間の膜厚漸増領域には、上凸となる二つの曲線部分P1,P3が生じている。そして、いずれの例においても、これらの曲線部分P1,P3の間では、断面形状線が接線Qを越えないように保たれている。
図5(A)の例は、図4におけるアンダーカット部分21の特徴量に関し、奥行き長さLを小さく、上方厚みDを大きくした場合のもので、このような調節はポストベーク処理及びパターン露光を強めにし、現像処理を弱めにすることで得られる。ポストベーク処理を強めにかけることによって有機溶剤の蒸発量が増え、パターン露光を強めにすることによって上方厚みDが大きくなり、現像処理を弱めに調節することによって奥行き長さLが短くなる。したがって、アンダーカット部分21が狭空間となって、ポストベーク処理を行うと曲線部分P1の曲率半径が大きめ、逆に曲線部分P3の曲率半径は小さめになるため、図示のように膜厚が漸増する領域は短くなる。ただし、曲線部分P1と曲線部分P2との間の膜厚は接線Qを越えない範囲に抑えられるため、マイクロカラーフィルタ12を積層する際には、実用し得るオーバーラップ許容幅Sを得ることができる。
図5(B)の例は、そのエッジ部分の断面形状線が標準的なものであるが、同図(A)と比較して、図4で説明したアンダーカット部分21の特徴量である上方厚みDを小さく、また奥行き長さLを大きくした場合に相当する。同図(C),(D)は、その順に上方厚みDをさらに小さく、奥行き長さLを大きくした例を示している。マイクロカラーフィルタ12を積層するときのオーバーラップ許容幅Sは、図5(D)の例が最も有利であるが、曲線部分P1の曲率半径が小さくなって、それに連なる領域で膜厚が薄くなり、ブラックマトリクス10に必要とされる遮光性が弱くなることが懸念される。したがって、必要とされる遮光性が保たれるような膜厚が確保できるように、上方厚みDを調節しておくことが必要となる。
なお、図5(D)の例では、膜厚が漸増する領域内に、曲線部分P1に連なる傾斜の緩い直線部分と、曲線部分P3から開口縁10aに向かって強く傾斜した直線部分とが現れている。このように、エッジ部分の断面形状線が傾斜角度の異なる2種類の斜線を含む形態であっても同様の作用効果が得られる。
このように、本発明によれば、図4に示すアンダーカット部分21の特徴量となる上方厚みDと奥行き長さLとが上述した各種の処理条件を調節することによって適宜に設定することができるようになる。このため、マイクロカラーフィルタ12の積層工程でどの程度の精度が確保できるかに応じてブラックマトリクス10のエッジ部分の形状を調節することが可能となるから、例えばマイクロカラーフィルタ12をフォトリソグラフィで作るか、あるいはインクジェット法または印刷法で作るかなどに応じて最適のものを選択することができ、液晶用カラーフィルタの製造が容易になり歩留りも大幅に向上させることができるようになる。
また、図5(D)に示すように、ブラックマトリクス10の遮光性が保たれる範囲で膜厚を薄くしておけば、膜厚の漸増領域を大きくして余裕のあるオーバーラップ許容幅Sを得ることができるから、フォトリソグラフィによりマイクロカラーフィルタ12を積層する場合でも、そのオーバーラップ精度を緩くすることが可能となり、製造コストを低く抑えることができる。
以上、液晶用カラーフィルタに用いるブラックマトリクス10をもとにして本発明について説明してきたが、本発明はブラックマトリクスに限らず、他の樹脂製薄膜についても適用することができる。例えば、樹脂製薄膜を用いてフォトリソグラフィによりマイクロカラーフィルタを形成する場合には、マイクロカラーフィルタとブラックマトリクスとの違いは、技術的には合成樹脂基材に遮光性の顔料を混合するか着色用の顔料を混合するかということだけである。したがって、透明基板に最初に3種類のマイクロカラーフィルタをマトリクス状に離散的に配列形成し、その後でマイクロカラーフィルタ相互間の隙間をブラックマトリクスで埋める場合には、マイクロカラーフィルタの形成時に本発明を等しく適用することが可能である。
液晶用カラーフィルタの部分拡大断面図である。 ブラックマトリクスの製造工程を示す説明図である。 ブラックマトリクスとマイクロカラーフィルタとの境界部分を示す部分拡大断面図である。 薄膜材料に形成されるアンダーカット部分の概念図である。 ブラックマトリクスのエッジ部分の断面形状線のいくつかの例を示す概略断面図である。 液晶表示素子の構成の概略を示す模式図である。
符号の説明
3 透明基板
6 液晶層
10 ブラックマトリクス
12 マイクロカラーフィルタ
20 薄膜材料層
21 アンダーカット部分
P1,P2,P3 曲線部分

Claims (10)

  1. 下地面に所定の平面パターンで略一定の膜厚をもって形成され、前記平面パターンと下地面との境界となる端縁から前記略一定の膜厚となる平坦部までの膜厚が漸増する樹脂製薄膜において、
    前記膜厚が漸増する領域での断面形状線が、前記端縁及び前記平坦部との境界で上凸となる曲線部分をもち、かつこれらの曲線部分の間では、これらの曲線部分に共通に接する接線を越えないことを特徴とする樹脂製薄膜。
  2. 前記断面形状線が少なくとも2つの変曲点を含むことを特徴とする請求項1記載の樹脂製薄膜。
  3. 前記断面形状線が下地面と略平行となる直線部を含むことを特徴とする請求項1記載の樹脂製薄膜。
  4. 前記断面形状線が傾斜角度の異なる2種類の斜線を含むことを特徴とする請求項1記載の樹脂製薄膜。
  5. 下地面に所定の平面パターンで略一定の膜厚をもって形成され、前記平面パターンと下地面との境界となる端縁から前記略一定の膜厚となる平坦部までの膜厚が漸増する樹脂製薄膜の製造方法において、
    下地面に前記樹脂製薄膜を構成する光硬化性の樹脂材料を前記略一定の膜厚で塗布する第1工程と、
    前記樹脂材料に含まれる有機溶剤が下地面に接する下層側に残存するようにプリベークする第2工程と、
    前記樹脂材料の表面側から前記平面パターンに対応するパターン露光を与え、樹脂材料を上層側から所定深さまで光硬化させる第3工程と、
    前記樹脂材料を現像処理して前記平面パターンをもつ樹脂製薄膜を下地面に残すとともに、前記樹脂製薄膜と下地面との間に前記平面パターンの端縁から前記平坦部に向かうアンダーカットを入れる第4工程と、
    前記アンダーカットにより形成された隙間を塞ぐようにアンダーカットの上方にある樹脂製薄膜の一部を軟化させ、前記端縁から平坦部までの断面形状線が、前記端縁及び前記平坦部との各々の境界で上凸となる曲線部分をもち、かつこれらの曲線部分の間では、これらの曲線部分に共通に接する接線を越えない連続線に変形させる第5工程とからなることを特徴とする樹脂製薄膜の製造方法。
  6. 透明基板上に遮光剤を含む樹脂材料製のブラックマトリクスが形成され、前記ブラックマトリクスの開口を塞ぐとともに開口縁を越えてマイクロカラーフィルタが積層された液晶用カラーフィルタにおいて、
    前記マイクロカラーフィルタが積層された領域におけるブラックマトリクスの断面形状線が、上凸となる2つの曲線部分をもち、かつこれらの曲線部分の間では、これらの曲線部分に共通に接する接線を越えない連続線であることを特徴とする液晶用カラーフィルタ。
  7. 前記断面形状線が透明基板の表面と略平行となる直線部を含むことを特徴とする請求項6記載の液晶用カラーフィルタ。
  8. 前記断面形状線が傾斜角度の異なる2種類の斜線を含むことを特徴とする請求項6記載の液晶用カラーフィルタ。
  9. 透明基板上に樹脂製のブラックマトリクスとこのブラックマトリクスの開口を覆うマイクロカラーフィルタとが形成された液晶用カラーフィルタの製造方法において、
    前記透明基板の表面に前記ブラックマトリクスを構成する光硬化製の樹脂材料を略一定の膜厚で塗布する第1工程と、
    前記樹脂材料に含まれる有機溶剤が前記透明基板に接する下層側に残存するようにプリベークする第2工程と、
    前記樹脂材料の表面側からブラックマトリクスの格子状パターンに対応するパターン露光を与え、樹脂材料を上層側から所定深さまで光硬化させる第3工程と、
    現像処理により前記樹脂材料の未露光部分を除去して透明基板上に格子状パターンをもつブラックマトリクスを残すとともに、ブラックマトリクスの開口縁から奥に向かうアンダーカットを入れる第4工程と、
    前記アンダーカットによりブラックマトリクスと透明基板との間に形成された隙間を塞ぐようにアンダーカットの上方にあるブラックマトリクスの一部を軟化させ、この軟化部分での断面形状線が、上凸となる2つの曲線部分と、これらの曲線部分の間では、これらの曲線部分に共通に接する接線を越えない連続線となるように変形させる第5工程と、
    固化されたブラックマトリクスの開口を覆うとともに前記軟化部分に重なるようにマイクロカラーフィルタを色ごとに順次に積層する第6工程とからなることを特徴とする液晶用カラーフィルタの製造方法。
  10. 前記パターン露光を行う際に、露光用光源からの光にj線及びk線を含ませることを特徴とする請求項9記載の液晶用カラーフィルタの製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104280805A (zh) * 2014-09-30 2015-01-14 南京中电熊猫液晶材料科技有限公司 用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法
JP2015219526A (ja) * 2014-05-20 2015-12-07 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 光硬化パターンの形成方法
US20160252766A1 (en) * 2014-09-03 2016-09-01 Boe Technology Group Co., Ltd. Color film substrate, method for fabricating the same touch display device
US9991145B2 (en) 2010-10-21 2018-06-05 Ebara Corporation Plating apparatus and plating method

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5406161B2 (ja) * 2010-10-20 2014-02-05 アルプス電気株式会社 入力装置及び入力装置の製造方法
CN102681246B (zh) * 2012-04-12 2014-12-17 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板及其制造方法、以及液晶显示器
CN106103094B (zh) * 2014-03-07 2018-11-09 富士胶片株式会社 带有装饰材料的基板及其制造方法、触控面板、以及信息显示装置
US9829740B2 (en) 2014-07-23 2017-11-28 Apple Inc. Display with reduced color mixing
CN109031769B (zh) * 2018-09-18 2021-03-23 南京中电熊猫平板显示科技有限公司 一种彩膜基板及其制作方法
CN112904945A (zh) * 2021-03-15 2021-06-04 蓝思科技(长沙)有限公司 显示器件一体黑工艺、一体黑显示器件及其制造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06331815A (ja) * 1993-05-25 1994-12-02 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ
JP2003057673A (ja) * 2001-08-13 2003-02-26 Obayashi Seiko Kk アクティブマトリックス表示装置とその製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4252711B2 (ja) * 2000-07-31 2009-04-08 富士フイルム株式会社 カラーフィルターの製造方法
JP3962801B2 (ja) * 2003-08-06 2007-08-22 Nec液晶テクノロジー株式会社 カラーフィルタ基板、液晶表示装置、及び、カラーフィルタ基板の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06331815A (ja) * 1993-05-25 1994-12-02 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ
JP2003057673A (ja) * 2001-08-13 2003-02-26 Obayashi Seiko Kk アクティブマトリックス表示装置とその製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9991145B2 (en) 2010-10-21 2018-06-05 Ebara Corporation Plating apparatus and plating method
JP2015219526A (ja) * 2014-05-20 2015-12-07 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 光硬化パターンの形成方法
US20160252766A1 (en) * 2014-09-03 2016-09-01 Boe Technology Group Co., Ltd. Color film substrate, method for fabricating the same touch display device
CN104280805A (zh) * 2014-09-30 2015-01-14 南京中电熊猫液晶材料科技有限公司 用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法

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