JP6135347B2 - カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ - Google Patents

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本発明は、液晶表示装置用のカラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタに関する。
一般的に、カラー液晶表示装置のカラー表示ディスプレイパネルなどに用いられるカラーフィルタ10は、図2に示すように、ガラスまたはプラスチックフィルム等の透明基材1の一方の面に、ブラックマトリックス層2、着色画素層3及びオーバーコート層4から形成されている。
前記着色画素層3は、例えば、ストライプ状、四角型ドット状、多角型ドット状などのマトリックス状の画素パターンで、着色層としては赤色、緑色、青色着色層として形成され、それぞれ赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものである。またそれぞれの着色画素層3の画素境界はブラックマトリックス層2で囲われている。
一方、前記ブラックマトリックス層2は遮光性を有するものであり、前記着色画素層3の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、液晶表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、液晶表示装置の画像をムラのない均一な、且つ、コントラストを向上させた画像にする機能を有している。
前記オーバーコート層4は、前記着色層3を構成する顔料や樹脂等の各種組成物の液晶層への移行を防止することで液晶表示装置の品質劣化を防ぐ機能を有している。また、カラーフィルタ10の平坦性を確保し、液晶表示装置への安定した組み込みを可能にする機能も有している。
前記ブラックマトリックス層5の形成方法としては、一般的には、気相法によるドライ薄膜法と感光性樹脂組成物を用いたウエット薄膜法に大別される。
前記ドライ薄膜法によるブラックマトリックス層2の形成方法は、例えば、クロム、酸化クロムなどの金属もしくは金属化合物を、スパッタリング等のドライ薄膜形成装置を用いて成膜する。次に、この成膜した薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを塗布し、マスク露光した後に現像してエッチングレジストパターンを形成する。そしてその後、金属薄膜の露出部分をエッチングし、さらにエッチングレジストパターンを剥離することでブラックマトリックス層2を形成する。
一方、感光性樹脂組成物を用いた前記ウエット薄膜法によるブラックマトリックス層2の形成方法は、例えば、黒色感光性樹脂組成物を塗布し、その後、マスク露光、現像及び洗浄工程を経て、樹脂によるブラックマトリックス層2を形成する。
従来、樹脂によるブラックマトリックス層2(樹脂ブラックマトリックス層)は、高輝度なバックライトを用いた際の液晶表示装置での内部反射を制御する場合や、ISP(In Plane Switching)方式における液晶表示装置での電界の乱れを制御する必要がある場合に用いられていた。しかしながら、最近では大型テレビの普及により、量産性や低コスト化への対応や、さらには環境に配慮してクロムなどの金属を用いることを回避する傾向から、樹脂ブラックマトリックス層が主流となっている。
樹脂ブラックマトリックス層は金属薄膜層からなるブラックマトリックス層に比べて、同等の膜厚では遮光性が劣るために厚くする必要がある。そのために、樹脂ブラックマト
リックス層2の膜厚は前記着色画素層の膜厚より厚くなる。
前記着色画素層3は赤色、緑色、青色などの着色顔料と感光性樹脂を含む着色感光性樹脂組成物からなり、前記樹脂ブラックマトリックス層2の空隙領域に形成される。
この時、前記着色画素層3が露出した状態では、不純物が液晶層に侵入し品質の低下を招くので、それを防ぐための保護層として、また、上記の着色層を含めて平坦性を得るために、前記ブラックマトリックス層2と前記着色画素層3の全体にオーバーコート層4が形成されている(特許文献1)。
一般的には、ガラス基板上にブラックマトリックス層や着色画素層を形成すると、最表面には微細な凹凸形状が形成される。そのために、その状態でオーバーコート層を積層すると、下地である微細な凹凸形状の影響を受け、オーバーコート層の最表面も微細な凹凸形状となる。この微細な凹凸形状は、その上に積層される液晶分子の配向にネジレや不揃いを発生させ、液晶分子の配向欠陥を誘発させたり、あるいは光の偏光状態に悪影響を及ぼし、液晶表示装置の品質を低下させる要因となる。
上記のような問題を解決する方法として、オーバーコート層の平坦性を向上させる研磨方法が開発されている。例えば、特許文献2では、ポリウレタン発泡布の研磨パッドと、微細なアルミナ研磨剤を分散させた研磨液による方法が提案されている。
しかしながら、これらの方法ではオーバーコート層の平坦性は得られても、着色画素層3の形成時に形成される着色層の突起領域をカバーするために、オーバーコート層4の膜厚が厚くなる。その結果、各着色画素3を区分するブラックマトリックス層2の遮光性が不十分となり、バックライトの透過光20が隣接する着色画素層にまで侵入して適正な色を表現することができなくなり、斜め視認性の低下が生じる可能性がある。
特開平7−294720号公報 特開2000−28819号公報
本発明は、カラー液晶表示装置に具備されるカラーフィルタであって、斜め視認性に優れたカラーフィルタの提供を目的とする。
本発明の請求項1に係る発明は、透明基板の一方の面上に、ブラックマトリックス層を形成する工程と、複数の着色画素層を形成する工程と、それらの上面にオーバーコート層を形成する工程と、遮光層を形成する工程とを順次経ることからなるカラーフィルタの製造方法であって、
前記オーバーコート層を形成する工程は、フォトリソグラフ法を用いて、オーバーコート層形成用の透明な感光性樹脂組成物を塗布、乾燥した後、幅1〜6μmのスリットライン形状を有するフォトマスクを介して露光、現像し、前記ブラックマトリックス層が形成された位置の上部延長上に、楔形の溝を形成するオーバーコート層の形成工程であり、
また、次工程の前記遮光層を形成する工程は、前記楔形の溝に遮光層形成用組成物を埋め込み硬化する工程からなることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
また、請求項2に係る発明は、透明基板の一方の面上に、複数の着色画素層を形成する
工程と、それらの上面にオーバーコート層を形成する工程と、遮光層を形成する工程とからなるカラーフィルタの製造方法であって、
前記オーバーコート層を形成する工程は、フォトリソグラフ法を用いて、オーバーコート層形成用の透明な感光性樹脂組成物を塗布、乾燥した後、幅1〜6μmのスリットライン形状を有するフォトマスクを介して露光、現像し、隣接する着色画素層の双方の領域をオーバーラップする位置の延長上に、楔形の溝を形成するオーバーコート層の形成工程であり、
また、次工程の前記遮光層を形成する工程は、前記楔形の溝に遮光層形成用組成物を埋め込み硬化する工程からなることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
また、請求項3に係る発明は、請求項1または2に記載の製造方法により、楔形の遮光層が形成されたことを特徴とするカラーフィルタ。
本発明の請求項1に係る発明によれば、透明基板の一方の面上に形成したブラックマトリックス層と着色画素層の上に、オーバーコート層とオーバーコート層に隣接する楔型の溝に埋め込まれた形状で遮光層が形成されるため、均一なセルギャップが得られ、かつ、斜め視認性に優れたカラーフィルタを製造することができる。
なお、前記楔形の溝は、前記オーバーコート層を形成する工程で幅1〜6μmのスリットライン形状を有するフォトマスクを用いることで、局所的な光強度分布差が生じ、オーバーコート層に楔型の溝を形成することができる。その後、この溝に遮光性の樹脂組成物を埋め込むことで遮光層を形成することができ、下地のブラックマトリックス層に加えてより優れた斜め視認性を得ることができる。
また、請求項2の発明によれば、ブラックマトリックス層のない透明基板の一方の面上に形成した着色画素層の上に、オーバーコート層とオーバーコート層に埋め込まれた形状で楔形の遮光層が形成されるため、均一なセルギャップが得られ、かつ、斜め視認性に優れたカラーフィルタの製造工程を短縮することができる。
また、請求項3の発明によれば、オーバーコート層に埋め込まれた形状で楔形の遮光層が形成されるため、前記オーバーコート層と遮光層が平坦な同一面となり、その後の工程であるセルギャップが均一となり、高品位な画像が形成できるカラーフィルタを提供することができる。また、従来よりも高さのある遮光層が形成されるため斜め視認性に優れた特性を提供することができる。
本発明のカラーフィルタの一実施形態の断面図を示す。 従来のカラーフィルタの一実施形態の断面図を示す。 本発明のカラーフィルタの一実施形態の製造フローを示す。
以下、図に基づいて本発明のカラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタについて詳細に説明する。
本発明に係るカラーフィルタの一実施形態は、図1(a)に示すように透明基板1の一方の面に、ブラックマトリックス層2と複数の着色画素層3、例えば一色目の赤色画素層(R)、二色目の緑色画素層(G)、三色目の青色画素層(B)が形成されている。
そして、上記のブラックマトリックス層2と着色画素層3との上に、それを保護するた
めのオーバーコート層4と楔形の遮光層5が所定の位置に形成され、さらにその上の所定の位置にフォトスペーサ6が形成されてなるカラーフィルタ10である。
また、本発明に係るカラーフィルタは、図1(b)に示すような別の一実施形態も可能である。具体的には、透明基板の一方の面上に、複数の着色画素層3が形成され、それらの上面にオーバーコート層4が形成され、さらに隣接する着色画素層3の双方の領域をオーバーラップする位置の延長上に、楔形の遮光層5が形成されてなるカラーフィルタ10である。
以下、本発明に係るカラーフィルタ10の製造方法を図3に基づいて詳細に説明する。
図3は本発明のカラーフィルタの一実施形態である図1(a)の製造フローを示す。
図3(a)に示すように、先ず、透明基板1の一方の面に、ブラックマトリックス層2(以下、BM層と記す)を形成する。このBM層2の形成方法は特に限定するものではないが、フォトリソグラフ法(以下、フォトリソ法と記す)が好ましい。
次に、図3(b)に示すように、フォトリソ法により、赤色画素層(R)を形成するための赤色感光性樹脂組成物を塗布、乾燥、マスク露光、現像、洗浄、乾燥等の工程を経て、赤色画素層(R)を形成する。その後、同様の方法を順次繰り返して、緑色画素層(G)、青色画素層(B)を形成して着色画素層3の形成を完了する。
次に、図3(c)に示すように、上記着色画素層3の全面に透明な感光性樹脂組成物を塗布、乾燥してオーバーコート層4を積層する。
次に、図3(d)に示すように、幅1〜6μmのスリットライン形状を有するフォトマスク30を用いて露光し、その後、現像、洗浄、乾燥工程を経て、前記BM層が形成された位置の上部延長上に、図3(e)に示す楔形の溝を形成する。
この工程に用いるフォトマスク30は、幅1〜6μmのスリットライン形状を有することで、局所的な光強度分布差が生じ、オーバーコート層に楔型の溝を形成することができる。
次に、上記で形成された楔形の溝に、遮光性を有する感光性樹脂組成物を埋め込み、その後紫外線を照射して硬化させて、図3(f)に示す遮光層5を形成する。
本発明に係る透明基板1は、透明性、耐熱性、化学的安定性、物理的安定性などを有するものであれば特に限定するものではない。例えば、一般的なガラス板やプリエチレンテレフタレート(PET)などに代表されるプラスチック基材を用いることが出来る。
また、BM層2は、黒色感光性樹脂組成物を用いて、フォトリソ法により形成することで得られる。前記黒色感光性樹脂組成物は、一般的には黒色顔料、感光性樹脂、光重合開始剤、添加剤、溶剤等からなり、特に限定するものではない。
また、着色画素層3は、着色感光性樹脂組成物を用いてフォトリソ法により形成することが好ましい。前記着色感光性樹脂組成物は、一般的には赤色、緑色、青色等の着色顔料、感光性樹脂、光重合開始剤、添加剤、溶剤などからなり、特に限定するものではない。
また、オーバーコート層4は、液晶層と着色画素層が直接接触することを防ぐためと、カラーフィルタ10の平坦性を付与するためのものであり、一般的には、透明な感光性樹脂、光重合開始剤、添加剤、溶剤等からなり、特に限定するものではない。
オーバーコート層4に楔型の溝を形成する手段として用いるフォトマスク30は、幅1〜6μmのスリットライン形状を有することを特徴とする。スリット幅が1〜6μmの範囲であれば、局所的な光強度分布差を生じることができ、その結果、楔形の未露光領域ができ、その後の現像工程で溝を形成することができる。スリット幅が1μm未満であると光の透過が困難となり、また、6μmを超えると局所的な光強度分布差を生じることができない。
前記遮光層5を形成するための感光性樹脂組成物としては、前記BM層を形成するための黒色感光性樹脂組成物を用いることができる。また、別の遮光性を有する感光性樹脂組成物であってもよく、特に限定するものではない。
以下、本発明のカラーフィルタを実施例にてより具体的に説明する。
<実施例1>
ガラス基板の一方の面に、下記の黒色感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が3μmになるように全面に塗布した後、BM層形成用のフォトマスク(線幅20μm)を用いて露光、現像、洗浄、乾燥してBM層を形成した。
(黒色感光性樹脂組成物)
カーボンブラック分散液(御国色素製:EX−2806) 25重量部
樹脂(新日鐵化学社製:V259−ME) 7重量部
モノマー(日本化薬社製:DPHA) 1重量部
光重合開始剤(イルガキュアー379) 1重量部
溶剤(プロピレングリコールモノメチルアセテート) 30重量部
溶剤(エチル−3−エトキシプロピオネート) 36重量部
次に、前記BM層を形成した側の全面に、感光性樹脂からなる下記の赤色感光性樹脂組成物を塗布し、赤色画素層形成用のフォトマスクを用いて露光し、その後、現像、洗浄、乾燥して、膜厚1.5μmの赤色画素層を形成した。
(赤色感光性樹脂組成物)
アクリル樹脂の20重量%シクロヘキサノン溶液 40重量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 10重量部
C.I.Pigment Red 177 7重量部
光重合開始剤 2重量部
顔料分散剤 2重量部
2−メトキシエタノール 39重量部
上記の赤色画素層の形成と同様にして、下記の組成からなる緑色感光性樹脂組成物及び青色感光性樹脂組成物を用いて、順次、膜厚1.5μmの緑色画素層及び青色画素層を形成した。
(緑色感光性樹脂組成物)
アクリル樹脂の20重量%シクロヘキサノン溶液 40重量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 10重量部
C.I.Pigment Green 36 8重量部
光重合開始剤 2重量部
顔料分散剤 2重量部
2−メトキシエタノール 38重量部
(青色感光性樹脂組成物)
アクリル樹脂の20重量%シクロヘキサノン溶液 40重量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 10重量部
C.I.Pigment Blue 15:6 6重量部
光重合開始剤 2重量部
顔料分散剤 2重量部
2−メトキシエタノール 40重量部
次に、赤、緑、青色着色層を形成したガラス基板の全面に、下記組成からなるオーバーコート層形成用の透明な感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が2.0μmになるように塗布した。
(オーバーコート層形成用の透明な感光性樹脂組成物)
アクリル樹脂の20重量%シクロヘキサノン溶液 40重量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 10重量部
光重合開始剤 2重量部
2−メトキシエタノール 48重量部
次に、幅3μmのスリットラインが形成されたフォトマスクを用いて露光、現像、洗浄、乾燥工程を経て、オーバーコート層を形成した。また同時に前記BM層が形成された位置の上部延長上に、楔形の溝を形成した。
次に、上記楔形の溝に前記BM層形成用組成物を埋め込み、その後、紫外線を照射して硬化させ、遮光層を形成した。
フォトスペーサ形成用の感光性樹脂組成物を用いてパターン形成し、その後、紫外線を照射して硬化させ、フォトスペーサを有するカラーフィルタを作製した。
<比較例1>
幅10μmのスリットラインが形成されたフォトマスクを用いた以外は、実施例1と同様にしてカラーフィルタを作製した。
<評価>
実施例1及び比較例1で得られた、カラーフィルタを用いて液晶表示装置を作製し、目視にて画像評価を行った。
<比較結果>
実施例1で得られた楔型の遮光層を有するカラーフィルタは、斜め視認性に優れた結果を示した。これは、従来のBM層に加えて、高深度の楔型の遮光層の効果によるものと推定される。一方、比較例1で得られたカラーフィルタは、遮光層が幅の広い長方形となり、画像表示領域を狭め、効果的な斜め視認性は得られなかった。
本発明によれば、斜め視認性に優れた表示品位を有するカラーフィルタの製造方法、及びそれを用いて作製したカラーフィルタとそれを具備した液晶表示装置を提供することができる。
1・・・・透明基板
2・・・・ブラックマトリックス層
3・・・・着色画素層
4・・・・オーバーコート層
5・・・・遮光層
6・・・・スペーサ
10・・・カラーフィルタ
20・・・光源
30・・・フォトマスク

Claims (3)

  1. 透明基板の一方の面上に、ブラックマトリックス層を形成する工程と、複数の着色画素層を形成する工程と、それらの上面にオーバーコート層を形成する工程と、遮光層を形成する工程とを順次経ることからなるカラーフィルタの製造方法であって、
    前記オーバーコート層を形成する工程は、フォトリソグラフ法を用いて、オーバーコート層形成用の透明な感光性樹脂組成物を塗布、乾燥後、幅1〜6μmのスリットライン形状を有するフォトマスクを介して露光、現像し、前記ブラックマトリックス層が形成された位置の上部延長上に、楔形の溝を形成するオーバーコート層の形成工程であり、
    また、次工程の前記遮光層を形成する工程は、前記楔形の溝に遮光層形成用組成物を埋め込み硬化する工程からなることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
  2. 透明基板の一方の面上に、複数の着色画素層を形成する工程と、それらの上面にオーバーコート層を形成する工程と、遮光層を形成する工程とからなるカラーフィルタの製造方法であって、
    前記オーバーコート層を形成する工程は、フォトリソグラフ法を用いて、オーバーコート層形成用の透明な感光性樹脂組成物を塗布、乾燥した後、幅1〜6μmのスリットライン形状を有するフォトマスクを介して露光、現像し、隣接する着色画素層の双方の領域をオーバーラップする位置の延長上に、楔形の溝を形成するオーバーコート層の形成工程であり、
    また、次工程の前記遮光層を形成する工程は、前記楔形の溝に遮光層形成用組成物を埋め込み硬化する工程からなることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
  3. 請求項1または2に記載の製造方法により、楔形の遮光層が形成されたことを特徴とするカラーフィルタ。
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