JP4844000B2 - カラーフィルタ基板の製造方法 - Google Patents
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Description
一般に、液晶表示ディスプレイパネルにおいて、現在最も広く使用されている液晶セル駆動方式は、TN(ねじれネマティック)方式とSTN(超ねじれネマティック)方式による縦電界駆動型であり、近年、横電界駆動型(IPS)による液晶セル駆動方式の開発も進んでいる。
図3(a)〜(e)及び図4(f)〜(h)は、カラーフィルタ基板の製造方法の一例を示す模式構成断面図である。
まず、透明基板11上にアクリル系樹脂にカーボンブラックを分散した黒色の感光性樹脂をスピンナーにて塗布し、黒色感光性樹脂層21を形成し(図3(a)参照)、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、ブラックマトリクス21b及び遮光層額縁21aを形成する(図3(b)参照)。
塗布し、加熱硬化してオーバーコート層51を形成する。
さらに、アクリル系樹脂を主成分とする感光性樹脂をスピンナーで塗布し、透明樹脂感光層を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、加熱硬化してスペーサー柱61を形成する(図3(e)参照)。
次に、透明導電膜71を加熱処理して透明電極71aを形成し、透明基板11の一方の面にブラックマトリクス21b、着色フィルタ層30及び遮光額縁21aが、透明基板11の他方の面に透明電極71aが形成されたカラーフィルタ基板を得ることができる(図4(h)参照)。
もし、透明基板の側面及び透明基板の一方の面の着色フィルタ層30及び遮光額縁21上に廻り込んだ回り込み透明導電薄膜が形成され状態のカラーフィルタ基板を用いてカラー液晶パネル化したとすると、カラー液晶パネルの電気特性の不具合が発生するという問題があり、この透明基板の側面及び透明基板の一方の面の着色フィルタ層30及び遮光額縁21上に廻り込んだ廻り込み透明導電薄膜を除去する必要がある。
前記透明基板(11)の一方の面に少なくとも複数のカラーフィルタからなる着色フィルタ層(30)を形成した後、透明基板(11)の他方の面にスパッタリングにて酸化インジウム錫膜からなる透明導電膜(71)を形成する工程、
前記他方の面の透明導電膜(71)と前記透明基板(11)の側面及び着色フィルタ層(30)上に廻り込んだ廻りこみ透明導電薄膜をシュウ酸を主成分とするエッチング液にて同時エッチングを行って、他方面の透明導電膜(71)が残るよう透明基板(11)の側面及び着色フィルタ層(30)上に廻り込んだ廻りこみ透明導電薄膜を除去する工程、
前記他方の面の透明導電膜(71)を加熱処理して、透明基板(11)の他方の面のみに透明電極(71a)を形成する工程、とを有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法としたものである。
また、着色フィルタ層への廻りこみ透明導電薄膜による残渣を除去できる。
請求項1に係る本発明のカラーフィルタ基板は、図1に示すように、透明基板11の一方の面にブラックマトリクス21bと、赤色フィルタ31R、緑色フィルタ31G、青色フィルタ31Bからなる着色フィルタ層30と、遮光層額縁21aと、オーバーコート層51と、スペーサー柱61とが、透明基板11の他方の面に透明電極71aが形成されたものである。
このカラーフィルタ基板を用いて液晶パネル化した場合、廻りこみ透明導電薄膜による駆動動作不良を防止できる。
また、このように透明導電膜71と廻りこみ透明導電薄膜との同時エッチングにて廻りこみ透明導電薄膜を除去しているため、着色フィルタ層30、遮光層額縁21a、オーバーコート層51及びスペーサー柱61上への廻りこみ透明導電薄膜による残渣を除去できる。
膜を除去して透明基板11の一方の面に透明電極72aを形成した後透明基板11の他方の面に、ブラックマトリクス21bと、赤色フィルタ31R、緑色フィルタ31G、青色フィルタ31Bからなる着色フィルタ層30と、遮光層額縁21aと、オーバーコート層51と、スペーサー柱61とを形成したものである。
図3(a)〜(e)及び図4(f)〜(h)は、請求項1に係る本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施例を示す模式構成断面図である。
まず、透明基板11上にアクリル系樹脂にカーボンブラック等を分散した黒色の感光性樹脂をスピンナーにて塗布し、黒色感光性樹脂層21を形成し(図3(a)参照)、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、ブラックマトリクス21b及び遮光層額縁21aを形成する(図3(b)参照)。
ここで、透明基板11としては、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス等のガラス基板及びプラスチックフィルム等が利用できる。
さらに、アクリル系樹脂を主成分とする感光性樹脂をスピンナーで塗布し、透明樹脂感光層を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、加熱硬化してスペーサー柱61を形成する(図3(e)参照)。
透明導電膜71の膜厚としては1000Å前後である。
て透明基板11の側面及び透明基板11の一方の面の着色フィルタ層30、オーバーコート層51及びスペーサー柱61面に廻り込んだ廻りこみ透明導電薄膜を除去し、230〜240℃で30分加熱処理して、透明基板11の他方の面に透明電極71aを形成する(図4(h)参照)。
ここで、シュウ酸を主成分とするエッチング液のシュウ酸濃度は3.4%で、23℃の液温で15秒間のエッチング条件は、廻りこみ透明導電薄膜の膜厚が200Åの場合である。廻りこみ透明導電薄膜の膜厚が異なれば、エッチング条件も変わってくる。
また、上記のエッチング条件では、エッチングレートも遅いことから、透明基板11の他方の面に形成された透明導電膜71の抵抗値変動にはほとんど影響を及ぼさない。
まず、酸化インジウム錫系の合金ターゲットを用いてパッタリングして(図5(a)参照)、透明基板11の一方の面に酸化インジウム錫膜からなる所定厚の透明導電膜72を形成する(図5(b)参照)。
透明導電膜72の膜厚としては1400Å前後である。
ここで、シュウ酸を主成分とするエッチング液のシュウ酸濃度は3.4%で、23℃の液温で15秒間のエッチング条件は、廻りこみ透明導電薄膜の膜厚が300Åの場合である。廻りこみ透明導電薄膜の膜厚が異なれば、エッチング条件も変わってくる。
また、上記のエッチング条件では、エッチングレートも遅いことから、透明導電膜52の抵抗値変動にはほとんど影響を及ぼさない。
ここで、透明基板11としては、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス等のガラス基板及びプラスチックフィルム等が利用できる。
を形成し、透明導電膜52を接地した状態で、所定の露光マスクを使って露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、緑色フィルタ31Gを形成する。
さらに、アクリル系樹脂を主成分とする感光性樹脂をスピンナーで塗布し、透明樹脂感光層を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、加熱硬化してスペーサー柱61を形成する(図6(h)参照)。
21……遮光層
21a……遮光層額縁
21b……ブラックマトリクス
30……着色フィルタ層
31R……赤色フィルタ
31G……緑色フィルタ
31B……青色フィルタ
51……オーバーコート層
61……スペーサー柱
71、72……透明導電膜
71a、72a……透明電極
100、200……カラーフィルタ基板
Claims (3)
- 透明基板の一方の面に複数のカラーフィルタからなる着色フィルタ層が、他方の面に透明電極が形成されたカラーフィルタ基板の製造方法において、
前記透明基板(11)の一方の面に少なくとも複数のカラーフィルタからなる着色フィルタ層(30)を形成した後、透明基板(11)の他方の面にスパッタリングにて酸化インジウム錫膜からなる透明導電膜(71)を形成する工程、
前記他方の面の透明導電膜(71)と前記透明基板(11)の側面及び着色フィルタ層(30)上に廻り込んだ廻りこみ透明導電薄膜をシュウ酸を主成分とするエッチング液にて同時エッチングを行って、他方面の透明導電膜(71)が残るよう透明基板(11)の側面及び着色フィルタ層(30)上に廻り込んだ廻りこみ透明導電薄膜を除去する工程、
前記他方の面の透明導電膜(71)を加熱処理して、透明基板(11)の他方の面のみに透明電極(71a)を形成する工程、とを有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 透明基板の一方の面に複数のカラーフィルタからなる着色フィルタ層が形成され、遮光層とオーバーコート層のうちいずれか一方が形成された透明基板に対して、他方の面にスパッタリングにて酸化インジウム錫膜が形成されることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 透明基板(11)の一方の面にスパッタリングにて酸化インジウム錫膜からなる透明導電膜(72)を形成する工程、前記透明導電膜(72)と透明基板(11)の側面及び他方の面に廻り込んだ廻りこみ透明導電薄膜とをシュウ酸を主成分とするエッチング液にて同時エッチングを行って、一方の面の透明導電膜(71)が残る様透明基板(11)の側面及び裏面に廻り込んだ廻りこみ透明導電薄膜を除去する工程、前記一方の面の透明導電膜(71)を加熱処理して、透明基板(11)の一方の面に透明電極(72a)を形成した後、透明基板(11)の他方の面に少なくとも複数のカラーフィルタからなる着色フィルタ層(30)を形成する工程とを有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
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