CN104280805A - 用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法 - Google Patents

用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104280805A
CN104280805A CN201410517437.2A CN201410517437A CN104280805A CN 104280805 A CN104280805 A CN 104280805A CN 201410517437 A CN201410517437 A CN 201410517437A CN 104280805 A CN104280805 A CN 104280805A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
substrate
color film
region
black
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201410517437.2A
Other languages
English (en)
Inventor
甄娟
彭建中
任慧
郭景
雷志刚
尹翠芳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NANJING CEC PANDA LCD MATERIAL TECHNOLOGY Co Ltd
Original Assignee
NANJING CEC PANDA LCD MATERIAL TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NANJING CEC PANDA LCD MATERIAL TECHNOLOGY Co Ltd filed Critical NANJING CEC PANDA LCD MATERIAL TECHNOLOGY Co Ltd
Priority to CN201410517437.2A priority Critical patent/CN104280805A/zh
Publication of CN104280805A publication Critical patent/CN104280805A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
    • G02B5/286—Interference filters comprising deposited thin solid films having four or fewer layers, e.g. for achieving a colour effect
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
    • G03F1/32—Attenuating PSM [att-PSM], e.g. halftone PSM or PSM having semi-transparent phase shift portion; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133521—Interference filters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明是用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法，包括1）在基板上涂覆黑色矩阵材料；2）用半色调掩膜对材料进行曝光、显影、高温烘烤固化，形成四区域，第一~三区域形成具有高度差的凸字型黑色矩阵图案，并保留在基板上；3）在基板上的四区域上涂覆彩膜；4）对彩膜进行曝光、显影、固化，形成所需的彩膜图案，该图案位于所述的第一、第三、第四区域上，重复三次；5）所有的彩色膜层形成后溅度透明导电层ITO；6）在基板上涂覆一层透明绝缘材料层；7）对的基板全面进行一次曝光、显影、固化，形成所需要高度的PS层，做为支撑LCD两层基板之间Gap的共用柱子。优点：无需更改材料，提高了生产效率，减化了生产流程。

Description

用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法
技术领域
本发明涉及的是一种利用半色调掩膜（Half Tone Mask）改善画素端差（牛角）高度的彩色滤光片制造方法，属于显示器滤光片生产技术领域。 
背景技术
彩色滤光片（Colour Filter）的结构包含玻璃基板、黑色矩阵、彩色层、ITO导电膜层、PS层。为防止彩色像素和底层黑色矩阵BM之间漏光，设计时彩色像素和黑色矩阵BM之间有合适重叠量，即Overlay，此处由于光阻量多于像素其它部位，高度也比像素其它部位高，通常叫端差（牛角）, 如图1所示，TN产品对于像素上的端差（牛角）要求很高，如果端差（牛角）很高就会影响PI摩擦不能形成统一的沟槽，在像素边缘端差（牛角）处的液晶分子就不能很好配方，像素边缘就会产生漏光现象。所以控制端差（牛角）高度在合理范围内非常重要。目前有通过更改光阻材料对温度的敏感性来实现，也有通过采用半色调掩膜（Half Tone Mask）透光量不同来实现改善像素端差（牛角）的。
如图1所示，现有技术中彩膜基板的制造方法，包括如下工艺步骤：    
1）在玻璃基板上涂覆黑色矩阵材料，采用普通MASK构图工艺形成一层边缘和中间高度一样的黑色矩阵图案；     
2）在步骤1）后的玻璃基板上依次涂覆n层所需要的彩色膜层材料，按照构图工艺形成所需要的n种彩色图案边缘重叠在黑色矩阵边缘的所需彩色图案。
由于黑色矩阵边缘和中间一样高，彩色图案又叠加在上面，导致重叠部分比彩色画素中间高很多。致使后面PI层磨擦的沟槽不一样，影响液晶扭曲角，不能很好挡光，最后成品LCD画素边缘产生漏光现象。 
发明内容
本发明提出的是一种用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法，其目的旨在通过控制端差高度在合理范围内，解决因为端差太高所引起的PI摩擦不均导致液晶配向不良及引发的画素边缘漏光现象。
本发明的技术解决方案：用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法，包括如下工艺步骤：     
1）在玻璃基板上涂覆黑色矩阵材料；
2）用半色调掩膜对此黑色矩阵材料进行一次曝光、显影、高温烘烤固化，形成第一、第二、第三三个区域，第一、第三区域的黑色矩阵材料部分被剥离去，部分被保留在基板上，第二区域的黑色矩阵材料被完全保留在基板上；第一、第二、第三区域连接在一起，形成两边低中间高，具有一定高度差的凸字型黑色矩阵图案被保留在基板上；     对上述所涂覆的黑色矩阵材料进行的一次曝光、显影、高温烘烤固化，还形成第四区域，第四区域的黑色矩阵材料层被剥离去；
3）对上述保留有凸字型黑色矩阵的基板上的第一、第二、第三、第四区域再涂覆第一层彩色膜层材料；     
4）对上述所涂覆的第一层彩膜基板的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第一层彩膜形成所需要的第一彩膜图案，此图案位于上所述的第一、第三、第四区域上；    
5）在上述所形成的第一层彩膜基板上的第一、第二、第三、第四区域涂覆第二层彩色膜层；     
6）对上述所涂覆的第二层彩膜的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第二层彩膜形成所需要的第二彩膜图案，此图案位于上所述的第一、第三、第四区域上；     
7）在上述所形成的第二层彩膜的基板上的第一、第二、第三、第四区域涂覆第三层彩色膜层；     
8）对上述所涂覆的第三层彩膜的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第三层彩膜形成所需要的第三彩膜图案，此图案位于上所述的第一、第三、第四区域上；     
9）在所有的彩色膜层形成后，在形成的所有彩膜图案和黑色矩阵上面溅度透明导电层ITO做为公共电极；     
10）在上述溅度过透明导电层ITO的基板上再涂覆一层透明绝缘材料层；     
11）对上述基板全面进行一次曝光、显影、固化，形成所需要的一定高度的PS层，做为支撑LCD两层基板之间Gap 的共用柱子；
12）完成彩色滤光片的制造。
本发明的优点：本发明通过一次曝光显影膜固化，同时形成具有一定高度差的凸字型黑色矩阵图案，使后继依次成形的彩色图案边缘重叠在凸形图案的左右两边，实现了降低端差（黑色矩阵和彩色层边缘重叠部分）的高度功能；解决了因为端差太高引起的PI摩擦不均导致液晶配向不良，引发的LCD 画素边缘漏光现象；更改了以往只能通过更改材料，生产工艺方法降低端差方法，节省了采购新材料带来一系列的工作流程，提高了生产效率，而生产线也不需要因产品材料不同而重新增加产品工艺，大大降低了产品风险系数，本方案制造工艺简单，提高生产效率。
附图说明
图1为现有技术制造的彩色滤光片的端差高度示意图。
图2为本发明制造的彩色滤光片的端差高度示意图。
图3a~图3c为本发明黑色矩阵形成凸形图案的制造方法示意图。
图4为本发明实施例中三种彩膜图形完全形成的彩膜示意图。
具体实施方式
为使本方案要解决的问题、技术方案和优点更加清楚明了，下面将结合附图及实施例进行详细阐述。
如图2所示，本发明用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法，包括如下工艺步骤：     
1）在玻璃基板上涂覆黑色矩阵材料；
2）用半色调掩膜对此黑色矩阵材料进行一次曝光、显影、高温烘烤固化，形成第一、第二、第三三个区域，第一、第三区域的黑色矩阵材料部分被剥离去，部分被保留在基板上，第二区域的黑色矩阵材料被完全保留在基板上；第一、第二、第三区域连接在一起，形成两边低中间高，具有一定高度差的凸字型黑色矩阵图案被保留在基板上；     
对上述所涂覆的黑色矩阵材料进行的一次曝光、显影、高温烘烤固化，还形成第四区域，第四区域的黑色矩阵材料层被完全剥离去；
3）对上述保留有凸字型黑色矩阵的基板上的第一、第二、第三、第四区域再涂覆第一层彩色膜层材料；     
4）对上述所涂覆的第一层彩膜基板的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第一层彩膜形成所需要的第一彩膜图案，此图案位于上所述的第一、第三、第四区域上；     
5）在上述所形成的第一层彩膜基板上的第一、第二、第三、第四区域涂覆第二层彩色膜层；     
6）对上述所涂覆的第二层彩膜的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第二层彩膜形成所需要的第二彩膜图案，此图案位于上所述的第一、第三、第四区域上；     
7）在上述所形成的第二层彩膜的基板上的第一、第二、第三、第四区域涂覆第三层彩色膜层；     
8）对上述所涂覆的第三层彩膜的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第三层彩膜形成所需要的第三彩膜图案，此图案位于上所述的第一、第三、第四区域上；    
9）在所有的彩色膜层形成后，在形成的所有彩膜图案和黑色矩阵上面溅度透明导电层ITO做为公共电极；     
10）在上述溅度过透明导电层ITO的基板上再涂覆一层透明绝缘材料层；     
11）对上述基板全面进行一次曝光、显影、固化，形成所需要的一定高度的PS层，做为支撑LCD两层基板之间Gap 的共用柱子；
12）完成彩色滤光片的制造。
本方案通过对黑色矩阵形特殊设计曝光，一次性形成凸形图案，彻底解决了黑色矩阵层和彩色层边缘重叠部分与彩色图案中间高度差偏大问题，生产制造工艺简单，提高了生产效率。
实施例
下面结合具体实施例和图3a~图3c对本说明的制造方法进行具体介绍。
本发明具体是在用半色调掩膜使黑色矩阵边缘形成特殊的凸型，然后彩色层依次形成在基板上。具体包括如下工艺步骤：     
1）如图3a所示，在基板300上涂覆黑色矩阵材料层301；
2）如图3b所示，用半色调掩膜302（部分透过功能不一样的）对涂覆黑色矩阵材料层301进行曝光，在基板300上形成完全被除去区域，部分保留区域和完全保留区域，其中部分保留区域为第一、第三区域，第二部分完全保留区域、第四部分为完全被除去区域；     
3）如图3c所示，对步骤2）中用半色调掩膜302曝光过的基板进行显影操作，部分保留叠加区域303、完全保留区域304、完全被除去区域305黑色矩阵均形成在基板上，形成凸型黑色矩阵；     
4）在已形成凸型黑色矩阵基板上涂覆第一层彩色膜层；
5）用掩模板对上述基板进行曝光，形成完全除去区域和被保留区，接着进行显影操作，完全被保留区域边缘搭在凸型黑色矩阵边缘，形成所需要图案保留在基板上，完全被除去区域被从基板上剥离掉；
6）在已形成凸型黑色矩阵基板上和第一层彩膜基板上涂覆第二层彩色膜层；     
7）用掩模板对上述基板进行曝光，形成完全除去区域和被保留区，接着进行显影操作，完全被保留区域边缘搭在凸型黑色矩阵边缘形成所需要图案保留在基板上，完全被除去区域被从基板上剥离掉；
8）在已形成凸型黑色矩阵基板上和两层彩膜基板上涂覆第三层彩色膜层。     
9）用掩模板对上述基板进行曝光，形成完全除去区域和被保留区，接着进行显影操作，完全被保留区域边缘搭在凸型黑色矩阵边缘形成所需要图案保留在基板上，完全被除去区域被从基板上剥离掉。如图4 所示，可以看到在基板300上形成有黑色矩阵，部分保留叠加区域303、完全保留区域304形成一定高度差，第一彩膜图形305、第二彩膜图形306、第三彩膜图形307；     
10）此后在所述所有的彩色膜层形成的基板上面溅度一层透明导电层ITO 做为公共电极；     
11）在上述溅度过透明导电层ITO的基板上再涂覆一层透明绝缘材料层；     
12）对上述基板全面进行一次曝光、显影、固化，形成所需要的一定高度的PS 层，做为支撑LCD两层基板之间Gap 的共用柱子；
13）至此上述流程结束，此种彩色滤光片的制造工作已全部完成。

Claims (1)

1.用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法，其特征是包括如下工艺步骤：     
1）在玻璃基板上涂覆黑色矩阵材料；
2）用半色调掩膜对此黑色矩阵材料进行一次曝光、显影、高温烘烤固化，形成第一、第二、第三、第四四个区域，其中第一、第三区域的黑色矩阵材料部分被剥离去、部分被保留在基板上，第二区域的黑色矩阵材料被完全保留在基板上，第四区域的黑色矩阵材料被完全剥离去；第一、第二、第三区域连接在一起，形成两边低中间高，具有高度差的凸字型黑色矩阵图案，该图案被保留在基板上；
3）将保留在基板上的第一、第二、第三、第四区域上再涂覆第一层彩色膜层；     
4）涂覆第一层彩膜的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第一层彩膜形成所需要的第一彩膜图案，该图案位于所述的第一、第三、第四区域上；     
5）在步骤4）所形成的第一层彩膜基板上的第一、第二、第三、第四区域上涂覆第二层彩色膜层；     
6）对步骤5）涂覆第二层彩膜的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第二层彩膜形成所需要的第二彩膜图案，该图案位于上所述的第一、第三、第四区域上；     
7）在步骤6）所形成的第二层彩膜的基板上的第一、第二、第三、第四区域上涂覆第三层彩色膜层；     
8）对步骤7）涂覆第三层彩膜的第四区域进行曝光、显影、固化，被保留的第三层彩膜形成所需要的第三彩膜图案，该图案位于上所述的第一、第三、第四区域上；     
9）所有的彩色膜层形成后，在形成的所有彩膜图案和黑色矩阵上面溅度透明导电层ITO做为公共电极；     
10）在步骤9）溅度过透明导电层ITO的基板上再涂覆一层透明绝缘材料层；     
11）对步骤10）的基板全面进行一次曝光、显影、固化，形成所需要有高度的PS层，做为支撑LCD两层基板之间Gap 的共用柱子；
12）完成彩色滤光片的制造。
CN201410517437.2A 2014-09-30 2014-09-30 用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法 Pending CN104280805A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410517437.2A CN104280805A (zh) 2014-09-30 2014-09-30 用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410517437.2A CN104280805A (zh) 2014-09-30 2014-09-30 用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104280805A true CN104280805A (zh) 2015-01-14

Family

ID=52255861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410517437.2A Pending CN104280805A (zh) 2014-09-30 2014-09-30 用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104280805A (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105388661A (zh) * 2015-12-21 2016-03-09 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN106932955A (zh) * 2017-05-17 2017-07-07 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示装置
WO2017133097A1 (zh) * 2016-02-02 2017-08-10 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法以及显示面板
CN107564920A (zh) * 2017-07-31 2018-01-09 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种阵列基板及其制造方法
WO2019153910A1 (zh) * 2018-02-12 2019-08-15 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009069224A (ja) * 2007-09-10 2009-04-02 Fujifilm Corp 樹脂製薄膜及びその製造方法、並びに液晶用カラーフィルタ及びその製造方法
CN102654675A (zh) * 2011-08-19 2012-09-05 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片及其制作方法
CN102707359A (zh) * 2012-03-26 2012-10-03 京东方科技集团股份有限公司 一种彩色滤光片的制作方法及模板
CN102866532A (zh) * 2012-09-29 2013-01-09 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光基板以及其相关制作方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009069224A (ja) * 2007-09-10 2009-04-02 Fujifilm Corp 樹脂製薄膜及びその製造方法、並びに液晶用カラーフィルタ及びその製造方法
CN102654675A (zh) * 2011-08-19 2012-09-05 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片及其制作方法
CN102707359A (zh) * 2012-03-26 2012-10-03 京东方科技集团股份有限公司 一种彩色滤光片的制作方法及模板
CN102866532A (zh) * 2012-09-29 2013-01-09 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光基板以及其相关制作方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105388661A (zh) * 2015-12-21 2016-03-09 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
WO2017107439A1 (zh) * 2015-12-21 2017-06-29 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN105388661B (zh) * 2015-12-21 2019-01-04 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
US10241361B2 (en) 2015-12-21 2019-03-26 Boe Technology Group Co., Ltd. Color film substrate, manufacturing method thereof and display device
WO2017133097A1 (zh) * 2016-02-02 2017-08-10 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法以及显示面板
CN106932955A (zh) * 2017-05-17 2017-07-07 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示装置
CN106932955B (zh) * 2017-05-17 2020-03-10 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示装置
CN107564920A (zh) * 2017-07-31 2018-01-09 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种阵列基板及其制造方法
WO2019153910A1 (zh) * 2018-02-12 2019-08-15 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置
JP2021513665A (ja) * 2018-02-12 2021-05-27 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Ｂｏｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｇｒｏｕｐ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． カラーフィルタ基板及びその製造方法、表示パネル及び表示装置
US11036074B2 (en) 2018-02-12 2021-06-15 Boe Technology Group Co., Ltd. Color film substrate, manufacturing method thereof, display panel and display device
JP7248591B2 (ja) 2018-02-12 2023-03-29 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 カラーフィルタ基板及びその製造方法、表示パネル及び表示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20140085578A1 (en) Color filter substrate, method of fabricating the same, and lcd panel
CN104280805A (zh) 用半色调掩膜改善画素端差高度的彩色滤光片制造方法
CN103246154B (zh) 一种用于封框胶固化遮挡的掩模板的制造方法
CN105527744B (zh) 彩膜基板的制作方法
US20140125931A1 (en) Half-transmitting and half-reflecting color film substrate, manufacture method thereof and liquid crystal display device
CN104698521B (zh) 彩色滤光片及其制作方法及液晶显示装置
CN104865735A (zh) 彩膜基板及其制作方法、液晶显示面板
CN102799017B (zh) 彩膜基板、液晶显示面板及其制造方法
CN106842687B (zh) 彩膜基板及其制作方法
CN102681068A (zh) 彩色滤光片及其制作方法
CN102681246A (zh) 一种彩膜基板及其制造方法、以及液晶显示器
EP2525250B1 (en) Color filter substrate and method of manufacturing the same
CN102854656A (zh) 彩色滤光基板以及其相关制作方法
CN104749674A (zh) 滤光片的制作方法及曝光掩膜板
CN103149730A (zh) 彩膜基板及其制作方法、液晶显示屏
CN102866532A (zh) 彩色滤光基板以及其相关制作方法
CN108363233A (zh) 彩色滤光片基板及其制作方法
US20130301153A1 (en) Color filter and manufacturing method thereof
CN102819057B (zh) 一种显示装置、彩色滤光片及其制作方法
KR101007207B1 (ko) 액정표시장치용 기판 제조방법
CN103592798B (zh) 一种具有设定高度的隔垫物及其制作方法
CN105652512A (zh) 彩色滤光片及其制造方法
US20200174311A1 (en) Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
CN102650757B (zh) 彩膜基板、其制备方法及液晶显示面板
EP3200015B1 (en) Array substrate, display panel, display apparatus, and method for repairing display panel

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20150114