JP2012013840A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

カラーフィルタの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2012013840A
JP2012013840A JP2010148941A JP2010148941A JP2012013840A JP 2012013840 A JP2012013840 A JP 2012013840A JP 2010148941 A JP2010148941 A JP 2010148941A JP 2010148941 A JP2010148941 A JP 2010148941A JP 2012013840 A JP2012013840 A JP 2012013840A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
exposure
color filter
black matrix
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010148941A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideki Kainuma
英樹 海沼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2010148941A priority Critical patent/JP2012013840A/ja
Publication of JP2012013840A publication Critical patent/JP2012013840A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

【課題】樹脂のブラックマトリクスの形成において額縁部と線パターンの接続部分における線パターンの線幅細りを無くす。
【解決手段】基板上に形成した黒色感光性樹脂層に、フォトマスクを用いてブラックマトリクスのパターンを露光する露光工程を第1回目の露光工程と第2回目の露光工程で構成し、前記第1回目の露光工程と前記第2回目の露光工程では、前記フォトマスクと前記黒色感光性樹脂層との間隙を異ならせ、かつ、前記フォトマスクの面方向の位置を、カラーフィルタの画素のピッチの整数倍のピッチでずらして配置して露光することでブラックマトリクスを有するカラーフィルタを製造する。
【選択図】図5

Description

本発明は、黒色感光性樹脂にフォトマスクのパターンを投影露光して現像することでブラックマトリクスを形成する工程を有する、液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関する。
一般に液晶表示装置は、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ、パチンコ遊技台、自動車ナビゲーションシステム、小型テレビ等に搭載され、近年需要が増大している。しかしながら、液晶表示装置は価格が高く、そのコストダウンに対する要求は年々強まっている。
液晶表示装置を構成するカラーフィルタは、特許文献1のように、ガラス基板上に、表示コントラストを高めるために、光遮蔽するためのブラックマトリクスが形成され、そのブラックマトリクスの格子の間の空き領域に、赤(R)、緑(G)、青(B)などの各着色画素が形成され、その上層に透明導電膜が形成される。特に、そのブラックマトリクスは近年、環境問題などからパターン構成材料が従来のクロムに替わり、黒色顔料を分散させた感光性樹脂ペーストを用い、露光マスクでパターン化することによって形成する方法が多く用いられている。
近年液晶表示装置の高精細化が進み、液晶表示装置を構成するカラーフィルタにおいて、その各着色画素同士を仕切るブラックマトリクスの線幅の細線化が進み、その線幅は10μm以下、特に近年では6μm以下が一般的になっている。今後もさらなる細線化が進む一方、線幅の公差低減も強く要求されている。
特開平11−052564号公報
図1は、黒色感光性樹脂層に露光・現像することでブラックマトリクスを形成する場合の、光学シミュレーションにより得られた、露光強度を等高線で示した露光強度分布図である。図1は、ブラックマトリクスを形成する露光強度分布のうち、特に、カラーフィルタの周辺の額縁部と、幅が5.5μmの線パターンとのつなぎ目の部分の露光強度分布を示す。このシミュレーションの結果、図1に示すように、額縁部とブラックマトリクス線パターンとのつなぎ目でブラックマトリクス線パターンの線幅が細くなる部分(図中A部)が発生する現象が生じる知見を得た。
このように、フォトマスクの額縁部を成す広い開口部と、ブラックマトリクス線パターンを成す細いパターン開口部の交差部にて光の強度が弱まる。そのため、この露光強度分布で黒色感光性樹脂層に露光・現像すると、ブラックマトリクス線パターンと額縁部との接続部分の黒色感光性樹脂層のパターンの露光量が不十分なためブラックマトリクス線パターンの線幅が細くなってしまうと考えられる。
本発明の目的は、上記のような問題点を解決することにあり、即ち、樹脂のブラックマトリクスの形成において額縁部と線パターンの接続部分における線パターンの線幅細りを無くすカラーフィルタの製造方法を提供することにある。
本発明は、上記課題を解決するために、ブラックマトリクスを有するカラーフィルタの製造方法であって、基板上に形成した黒色感光性樹脂層に、フォトマスクを用いてブラックマトリクスのパターンを露光する露光工程を第1回目の露光工程と第2回目の露光工程で構成し、前記第1回目の露光工程と前記第2回目の露光工程では、前記フォトマスクと前記黒色感光性樹脂層との間隙を異ならせ、かつ、前記フォトマスクの面方向の位置を、カラーフィルタの画素のピッチの整数倍のピッチでずらして配置して露光することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
また、本発明は、上記のカラーフィルタの製造方法であって、前記第1回目の露光工程において、前記フォトマスクと前記黒色感光性樹脂層の間隙を100μm隔てて配置して紫外線を照射して露光し、前記第2回目の露光工程において、前記フォトマスクと前記黒色感光性樹脂層の間隙を300μm隔てて配置して前記第1回目の露光工程と同じ光密度の紫外線を照射して露光することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
本発明によれば、基板上に形成した黒色感光性樹脂層に、フォトマスクを用いてブラックマトリクスのパターンを露光する露光工程を第1回目の露光工程と第2回目の露光工程で構成し、1度目(第1回目)の露光工程と2度目(第2回目)の露光工程では、フォトマスクと黒色感光性樹脂層との間隙を異ならせ、かつ、フォトマスクの面方向の位置を、カラーフィルタの画素部のピッチの整数倍のピッチでずらして配置して露光することで、ブラックマトリクスの額縁部と線パターンの接続部分における線パターンの線幅細りを無くすことができる効果がある。
ブラックマトリクスの額縁部と線パターンとのつなぎ目の部分の露光強度分布を示す平面図である。 フォトマスクを用いて、カラーフィルタ上にブラックマトリクスのパターンを形成するための露光方法を説明する側断面図である。 本発明の実施形態のブラックマトリクスのパターンを示す平面図である。 本発明の実施形態のフォトマスクのパターンを示す平面図である。 本発明の実施形態のカラーフィルタの製造方法を示す側断面図である。 本発明の実施形態のカラーフィルタの製造方法を示す側断面図である。 本発明の実施形態における、黒色感光性樹脂層へのフォトマスクの1度目に投影露光されるパターンと2度目に投影露光されるパターンを示す平面図である。
<第1の実施形態>
本発明のブラックマトリクス形成用フォトマスク10を一実施形態に基づいて以下に説明する。図2は、本発明のブラックマトリクス30のパターンの形成用のフォトマスク10、及びそのフォトマスク10を用いて、カラーフィルタ20上にブラックマトリクス30のパターンを形成するための露光方法を説明する側断面図である。図2(a)は、ブラックマトリクス30形成用フォトマスク10の断面図を示す。ブラックマトリクス形成用フォトマスク10は、透明なフォトマスク用透明基板11の片面に遮光パターン12と、その間の開ロパターン13が設けられている。フォトマスク10の透明基板11の上面側から紫外線を露光して、その光をカラーフィルタ20に投影することにより、開ロパターン13を透過した光がカラーフィルタ20の黒色感光性樹脂層22に投影される。
図2(b)は、カラーフィルタ20の断面を示し、フォトマスク10のパターンを、カ
ラーフィルタ用透明基板21上の黒色感光性樹脂層22に投影・露光し、露光された黒色感光性樹脂層22の部分に酸23が発生することを示す。遮光パターン12を形成したフォトマスク10のパターンを黒色感光性樹脂層22に投影・露光し現像して、図3の平面図のようなブラックマトリクス30のパターンを得る。図3の平面図のように、ブラックマトリクス30は、カラーフィルタ30の表示領域部に形成した、幅(W)が3〜30μm程度のブラックマトリクス線パターン32と、その表示領域部の周辺に形成した額縁部33のパターンからなる。ブラックマトリクス30の線パターン32の間に、各画素部31R、31G、31Bとして空き領域が形成される。
フォトマスク10の透明基板11の材料は、石英ガラス(以下QZと記す)からなる。遮光パターン12は、露光光を遮蔽する金属薄膜又は酸化金属薄膜からなる。その材料として、例えばCr(金属クロム)を用い、1層目はCr、その上の2層目はCrO(酸化金属クロム)の2層膜から形成する。
フォトマスク10の平面図を図4に示す。このブラックマトリクス形成用フォトマスク10の遮光パターン12の間に線状の開口パターン13が形成され、遮光パターン12の外側の周辺に額縁パターン14が形成される。フォトマスク10の線状の開口パターン13がカラーフィルタ20に投影されることによってブラックマトリクス30の線パターン32が形成される。フォトマスク10の額縁パターン14がカラーフィルタ20に投影されることによってカラーフィルタ20の周辺にブラックマトリクス30の額縁部33が形成される。また、フォトマスク10のパターンをカラーフィルタ20に投影・露光する際に、1度目の投影・露光後に、フォトマスク10を列方向と行方向に2画素分づつずらして2度目の投影・露光をする。そのために、フォトマスク10の遮光パターン12の列の数と行の数を、カラーフィルタ20のブラックマトリクス30の画素部31の列の数と行の数より2つづつ多く形成する。
尚、図4のフォトマスク10のパターンは、露光対象であるカラーフィルタ20の黒色感光性樹脂層22がネガ型かポジ型かで、フォトマスク10の遮光部と透過部のパターンの白黒が逆になる。
次に、図5と図6の断面図と図7の平面図を参照してカラーフィルタ20の製造方法を説明する。カラーフィルタ20の製造方法の概要は、先ず、図5(a)から(f)の工程で、カラーフィルタ20の透明基板21の片面に、遮光膜パターン(ブラックマトリクス)30を形成する。
次に、図6(a)の工程で、ブラックマトリクス線パターン32の間の空き領域の画素部31R、31G、31BにカラーフィルタのR画素51R、G画素51G、B画素51Bを形成する。この工程は、光硬化性の顔料分散樹脂層を形成する工程と、該顔料分散樹脂層にカラーフィルタ用マスクを介して水銀ランプの露光光を照射する工程と、露光された顔料分散樹脂層を現像及びベーク処理する工程とでR画素51Rを形成し、該工程を繰り返し実行し、更にG画素51GとB画素51Bを形成する。
次に、図6(b)の工程で、ブラックマトリクス30のパターン及びRGB画素51の表面に所定の形状の透明電極層52を形成する。
カラーフィルタ20の製造方法を以下で詳しく説明する。
(透明基板準備工程)
図5(a)に示すように、LCD用のカラーフィルタ20用の、ガラス板またはプラスチック板若しくはプラスチックフィルム等からなる透明基板21をロット形成し、透明基板21を投入ケースに載置する。カラーフィルタ用基板21は、規定の寸法で形成され、
板厚は0.7mmを中心に1.1mm〜0.35mmのものを準備し、投入ケース毎に工程へ投入する。この工程では、表面の洗浄等の処理が主体である。
(黒色感光性樹脂組成物)
ブラックマトリクス30を形成する黒色感光性樹脂組成物には、架橋可能な樹脂系材料と架橋剤と光酸発生剤とポリマーグラフト化されたカーボンブラックとを含有した黒色感光性樹脂組成物を用いる。これにより、高感度の黒色感光性樹脂組成物が得られ、また、膜強度が優れ且つ高遮光性のブラックマトリクス30が得られる。また、光酸発生剤から発生する酸23を利用し架橋する感光性樹脂組成物を用いることにより、感度特性曲線の傾きが大きくなり、ある露光量以上の領域で急に現像後の残膜率が大きくなるため、低露光量で所定のブラックマトリクス30を形成することが可能になる。
(ブラックマトリクス形成工程)
この黒色感光性樹脂組成物を用い、まず、図5(b)に示すように、透明基板1上に、黒色感光性樹脂組成物をスピンナー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法等を用いて均一に塗布し、乾燥して1〜3μm厚の黒色感光性樹脂層22を形成する。尚、黒色感光性樹脂層22と透明基板21を密着させる場合には、70℃〜100℃程度の熱を加えてもかまわない。
(第1の露光工程)
次に、図5(c)又は図2のように、フォトマスク10を、その遮光パターン12がカラーフィルタ20の黒色感光性樹脂層22から100μmの間隔を隔てて対向するように配置し、高圧水銀灯、超高圧水銀灯等を用いて50mJ/cmの光密度の紫外線を照射する。これにより、黒色感光性樹脂層22にフォトマスク10のパターンが投影・露光され、紫外線が照射された黒色感光性樹脂層22に酸23が発生し、その部分が、後の現像処理後にブラックマトリクス30のパターンとして残る箇所になる。図7の平面図に、今回(1度目)の投影露光と2度目の投影露光で、黒色感光性樹脂層22にフォトマスク10の遮光パターン12が投影されるパターンを大きめの矩形の集合であらわす。今回(1度目)の投影露光では、図7において大きめの矩形の集合であらわした遮光パターン12aがカラーフィルタ20の黒色感光性樹脂層22に投影され、それに対して、後に、小さめの矩形の集合であらわした2度目の投影露光のパターンが重ねられる。
(第2の露光工程)
次に、図5(d)のように、フォトマスク10を、その遮光パターン12がカラーフィルタ20の黒色感光性樹脂層22から300μmの間隙を隔てて対向するように配置し、高圧水銀灯、超高圧水銀灯等を用いて1回目と同じ50mJ/cmの光密度の紫外線の照射により、2度目の投影露光を行う。図7の平面図のように、今回(2度目)の投影露光でフォトマスク10を画素部31のピッチの整数倍ずらして、黒色感光性樹脂層22に投影する。図7では、第2の露光工程で遮光パターン12bが投影される位置を小さめの矩形の集合であらわす。すなわち、今回(2度目)の投影露光では、フォトマスク10と透明基板21の相対位置を、1度目の投影露光のパターンから、画素部31のピッチの2倍で、縦方向及び横方向にずらして投影露光する。図7に、1度目と2度目の投影露光で黒色感光性樹脂層22に光が投影されない、遮光パターン12aと遮光パターン12bの重なる部分を網点であらわす。この網点の領域以外の領域に酸23のパターンが形成され、そこが、後の現像処理時にブラックマトリクス30のパターンとして残る箇所になる。
(2回露光による効果)
このように、露光を2回に分けて実施して、後に現像してブラックマトリクス30を形成した結果、露光を1回で実施するよりも膜減り率が少な<、ブラックマトリクス30の直線性、断面形状は何れも良好な結果が得られた。この効果が得られたのは、(1)1度
目の露光において、フォトマスク10の遮光パターン12をカラーフィルタ20の黒色感光性樹脂層22から100μmの間隙を隔てて紫外線を照射して露光することと、(2)2度目の露光において、フォトマスク10の遮光パターン12をカラーフィルタ20の黒色感光性樹脂層22から300μmの広めの間隙を隔てて紫外線を照射して露光することに因る。
すなわち、1度目(第1回目)の露光工程と2度目(第2回目)の露光工程では、フォトマスク10と黒色感光性樹脂層22との間隙を異ならせ、かつ、フォトマスク10の面方向の位置を、カラーフィルタ20の画素部31のピッチの整数倍のピッチでずらして配置して、1度目と2度目で同じ光強度の紫外線を露光する。このように、ブラックマトリクス線パターン32のぼかし量を変えて黒色感光性樹脂層22に投影する2度の露光を行う。本実施形態では、フォトマスク10と黒色感光性樹脂層22との間隙が狭い1度目の露光によるブラックマトリクス線パターン32の線幅の細り部分を、両者の間隙が広い2度目の露光により解消する効果が得られた。
また、本実施形態とは逆に、1度目の露光において、フォトマスク10と黒色感光性樹脂層22との間隙を広くし、2度目の露光において、フォトマスク10と黒色感光性樹脂層22との間隙を狭くしても、同様な効果が得られると考える。
次に、図5(e)のように、カラーフィルタ20の透明基板21をホットプレート40上に載せ、温度70℃〜150℃、時間15秒〜5分の加熱処理にて酸23の触媒反応を利用して、複数色の画素部31R、31G、31Bの間隙とカラーフィルタ20の周辺部の黒色感光性樹脂層22に架橋反応を起こさせてブラックマトリクス30の線パターン32と額縁部33と成す部分を形成させる。
(ブラックマトリクス現像工程)
次に、図5(f)のように、アルカリ現像液を用いて、未架橋部の黒色樹脂を除去して、図5(f)に示すように、厚さ0.5〜3μmのブラックマトリクス30の線パターン32と額縁部33を形成する。現像液には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機アルカリ溶液、トリエチルアミン等のアルキルアミン類、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド等の第4級アンモニウム塩等が適用できる。
(RGB画素形成工程)
次に、図6(a)のように、ブラックマトリクス30の線パターン32の間の画素部31R、31G、31Bに、赤色着色層(R画素51R)、緑色着色層(G画素51G)、青色着色層(B画素51B)のRGB画素51を、0.5〜3μm程度の厚さに形成する。そのために、先ず、赤色(R)の画素の形成工程でR画素を形成する。この工程では、フォトプロセス法、例えば、レジスト塗布法による顔料分散樹脂層4の形成工程と、該顔料分散樹脂層への前加熱処理(プリベーク処理)と、本発明のカラーフィルタ用マスクを用いてパターン転写するパターン露光処理と、顔料分散樹脂層の現像処理と、顔料分散樹脂層のR画素への後加熱処理(ポストベーク処理)とによりR画素32を形成する。次に、R画素の形成と同様の工程により、緑色(G)の画素G画素を形成する。次に、同様の工程により、青色(B)の画素B画素を形成する。以上により、カラーフィルタ用基板21上にブラックマトリクスのパターン層13と、その開口部に、RGB画素(51)が形成される。
(焼成工程)
こうしてブラックマトリクス30及びRGB画素51を形成した後、熱処理を施して硬化させる硬膜工程を設ける。熱処理方法としてはコンベクションオーブン、ホットプレー
ト、ハロゲンヒータ、IRオーブンによる加熱等が利用でき、特に限定されるものではない。ここで、焼成条件は、200〜2500Cで10分〜60分間加熱することが好ましい。
(透明電極形成工程)
図6(b)のように、カラーフィルタ20のブラックマトリクス30の線パターン32及びRGB画素51及び透明電極52の引出端子部に相当する部分のみ開口部を区画形成したメタルマスクを介して、真空蒸着法により、導電性の透明電極52、具体的には金属酸化物、例えば通常、ITOの透明電極52を区画形成する。
以下に実施例を示す。
<実施例1>
幅が5.5μmの線パターン32を有するブラックマトリクス30の製造において、第1回目のブラックマトリクス30の露光工程において、フォトマスク10と黒色感光性樹脂層22の間隙を100μm隔てて配置して50mJ/cmの光密度の紫外線を照射して露光し、第2回目のブラックマトリクス30の露光工程において、フォトマスク10と黒色感光性樹脂層22の間隙を300μm隔てて配置して50mJ/cmの光密度の紫外線を照射して露光した。これにより形成したカラーフィルタ30では、線パターン32の剥がれが無い良好なブラックマトリックス30が得られた。
<比較例1>
幅が5.5μmの線パターン32を有するブラックマトリクス30の製造において、第1回目のブラックマトリクス30の露光工程において、フォトマスク10と黒色感光性樹脂層22の間隙を100μm隔てて配置して70mJ/cmの光密度の紫外線を照射して露光し、第2回目のブラックマトリクス30の露光工程において、フォトマスク10と黒色感光性樹脂層22の間隙を300μm隔てて配置して30mJ/cmの光密度の紫外線を照射して露光した。これにより形成したカラーフィルタ30では、ブラックマトリックス30の線パターン32が2箇所で剥がれる不具合があった。この比較例と実施例1の結果から、1回目の露光と2回目の露光は紫外線の強度を同じ強度にして露光することが望ましいことがわかった。
<比較例2>
幅が5.5μmの線パターン32を有するブラックマトリクス30の製造において、露光回数を1回のみでブラックマトリクス30を形成した。フォトマスク10と黒色感光性樹脂層22の間隙を100μm隔てて配置して100mJ/cmの光密度の紫外線を照射して露光した。これにより形成したカラーフィルタ30では、ブラックマトリックス30の線パターン32が広い領域にわたって多数箇所で剥がれる不具合があった。この比較例2と比較例1及び実施例1の結果を比較すると、露光工程を2回に分けることで、露光により得られるブラックマトリックス30の線パターン32の品質が改善される効果があることがわかる。
10・・・フォトマスク
11・・・フォトマスクの透明基板
12、12a、12b・・・遮光パターン
13・・・線状の開ロパターン
14・・・額縁パターン
20・・・カラーフィルタ
21・・・カラーフィルタ用透明基板
22・・・黒色感光性樹脂層
23・・・酸
30・・・遮光膜パターン(ブラックマトリクス)
31R、31G、31B・・・画素部
32・・・ブラックマトリクス線パターン
33・・・額縁部
40・・・ホットプレート
51・・・RGB画素
51R・・・R画素
51G・・・G画素
51B・・・B画素
52・・・透明電極
A・・・ブラックマトリクス線パターンの線幅が細くなる部分

Claims (2)

  1. ブラックマトリクスを有するカラーフィルタの製造方法であって、基板上に形成した黒色感光性樹脂層に、フォトマスクを用いてブラックマトリクスのパターンを露光する露光工程を第1回目の露光工程と第2回目の露光工程で構成し、前記第1回目の露光工程と前記第2回目の露光工程では、前記フォトマスクと前記黒色感光性樹脂層との間隙を異ならせ、かつ、前記フォトマスクの面方向の位置を、カラーフィルタの画素のピッチの整数倍のピッチでずらして配置して露光することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
  2. 請求項1記載のカラーフィルタの製造方法であって、前記第1回目の露光工程において、前記フォトマスクと前記黒色感光性樹脂層の間隙を100μm隔てて配置して紫外線を照射して露光し、前記第2回目の露光工程において、前記フォトマスクと前記黒色感光性樹脂層の間隙を300μm隔てて配置して前記第1回目の露光工程と同じ光密度の紫外線を照射して露光することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
JP2010148941A 2010-06-30 2010-06-30 カラーフィルタの製造方法 Pending JP2012013840A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010148941A JP2012013840A (ja) 2010-06-30 2010-06-30 カラーフィルタの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010148941A JP2012013840A (ja) 2010-06-30 2010-06-30 カラーフィルタの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012013840A true JP2012013840A (ja) 2012-01-19

Family

ID=45600367

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010148941A Pending JP2012013840A (ja) 2010-06-30 2010-06-30 カラーフィルタの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012013840A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104076598A (zh) * 2013-03-25 2014-10-01 北京京东方光电科技有限公司 一种UV Mask及其制作方法
JP2015146019A (ja) * 2012-08-06 2015-08-13 アヴァンストレート コリア インコーポレイテッド カラーフィルタ用ガラスシートの製造方法、カラーフィルタパネルの製造方法、および、ディスプレイ用ガラス基板
US9823567B2 (en) 2013-04-11 2017-11-21 Boe Technology Group Co., Ltd. Manufacturing method of mask plate for shielding during sealant-curing
CN111694188A (zh) * 2020-06-16 2020-09-22 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 一种用于彩膜基板的曝光方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000214309A (ja) * 1999-01-25 2000-08-04 Asahi Glass Co Ltd ブラックマトリックス薄膜付き基板、カラ―フィルタ基板、ブラックマトリックス薄膜形成用タ―ゲットおよび基板の製造方法
JP2001013311A (ja) * 1999-07-02 2001-01-19 Toppan Printing Co Ltd 耐熱性カラーフィルタ
JP2007304209A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその製造方法並びに表示装置
WO2008078707A1 (ja) * 2006-12-26 2008-07-03 Asahi Kasei E-Materials Corporation 光重合性樹脂積層体及びブラックマトリックスパターン付き基板の製造方法
JP2008225074A (ja) * 2007-03-13 2008-09-25 Fujifilm Corp 遮光膜、遮光画像付き基板および液晶表示装置
JP2009146682A (ja) * 2007-12-13 2009-07-02 Panasonic Corp プラズマディスプレイパネルの製造方法
JP2009244523A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Toray Ind Inc カラーフィルタの製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000214309A (ja) * 1999-01-25 2000-08-04 Asahi Glass Co Ltd ブラックマトリックス薄膜付き基板、カラ―フィルタ基板、ブラックマトリックス薄膜形成用タ―ゲットおよび基板の製造方法
JP2001013311A (ja) * 1999-07-02 2001-01-19 Toppan Printing Co Ltd 耐熱性カラーフィルタ
JP2007304209A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその製造方法並びに表示装置
WO2008078707A1 (ja) * 2006-12-26 2008-07-03 Asahi Kasei E-Materials Corporation 光重合性樹脂積層体及びブラックマトリックスパターン付き基板の製造方法
JP2008225074A (ja) * 2007-03-13 2008-09-25 Fujifilm Corp 遮光膜、遮光画像付き基板および液晶表示装置
JP2009146682A (ja) * 2007-12-13 2009-07-02 Panasonic Corp プラズマディスプレイパネルの製造方法
JP2009244523A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Toray Ind Inc カラーフィルタの製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015146019A (ja) * 2012-08-06 2015-08-13 アヴァンストレート コリア インコーポレイテッド カラーフィルタ用ガラスシートの製造方法、カラーフィルタパネルの製造方法、および、ディスプレイ用ガラス基板
CN105481265A (zh) * 2012-08-06 2016-04-13 安瀚视特韩国有限公司 彩色滤色用玻璃片
CN104076598A (zh) * 2013-03-25 2014-10-01 北京京东方光电科技有限公司 一种UV Mask及其制作方法
US20150226891A1 (en) * 2013-03-25 2015-08-13 Boe Technology Group Co., Ltd. Uv mask and fabrication method thereof
US9638845B2 (en) * 2013-03-25 2017-05-02 Boe Technology Group Co., Ltd. UV mask and fabrication method thereof
US9823567B2 (en) 2013-04-11 2017-11-21 Boe Technology Group Co., Ltd. Manufacturing method of mask plate for shielding during sealant-curing
CN111694188A (zh) * 2020-06-16 2020-09-22 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 一种用于彩膜基板的曝光方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009163036A (ja) フォトマスク及びフォトスペーサの製造方法及びカラーフィルタ基板の製造方法
KR20100052500A (ko) 수지 박막과 그 제조방법, 및 액정 디스플레이용 컬러필터와 그 제조방법
CN108196421B (zh) 灰阶掩膜版制作方法
JP5622052B2 (ja) カラーフィルタ、液晶表示装置、カラーフィルタの製造方法
JP2012013840A (ja) カラーフィルタの製造方法
WO2016086452A1 (zh) 用于制作彩色滤光片的方法、彩色滤光片及液晶面板
TW201314389A (zh) 感光性間隙物及液晶顯示器的製作方法與陣列基板
JP2003131020A (ja) カラーフィルタの製造方法
JP2009151150A (ja) カラーフィルタおよびフォトマスク
JP4715337B2 (ja) カラーフィルタの製造方法
JP2004361933A (ja) カラーフィルタ基板およびその製造方法、ならびに表示装置
JP2021002033A (ja) カラーフィルタ基板、液晶表示装置、及び、カラーフィルタ基板の製造方法
JP2009216996A (ja) フォトマスクおよびフォトマスクを用いるカラーフィルタの製造方法
JP2008058579A (ja) カラーフィルタの製造方法
JP2001222003A (ja) パターン形成方法およびカラーフィルタ
JP5565771B2 (ja) マイクロレンズの製造方法および撮像素子
JPH08278498A (ja) カラーフィルタ
CN109491131B (zh) 滤光片的制备方法、滤光片及显示面板
JP2010008532A (ja) ハーフトーンフォトマスク及びそれを用いて製造したカラーフィルタ基板
JP2000347021A (ja) カラーフィルタおよびその製造方法
JPH0954209A (ja) カラーフィルタの形成方法
TWI260431B (en) Color filter substrate and fabricating method thereof
JP2009069223A (ja) 樹脂製薄膜の製造方法
JP2008309985A (ja) カラーフィルタ用フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法
JP2013238711A (ja) カラーフィルタの製造方法及びフォトマスク

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130521

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140319

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140401

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140515

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20141125