JP2009151150A - カラーフィルタおよびフォトマスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】感光硬化性樹脂をカラーフィルタ基板に一括塗布する。その後、開口部とグレートーン部とハーフトーン部というように相異なる3以上の領域を有するフォトマスクを用いて、平面パターンを一括露光描画、現像を行う。これにより、オーバーコート層とフォトスペーサとサブフォトスペーサとを、順次別個にパターン形成するのではなく一括形成し、工程数を削減する。
【選択図】図3
Description
、カラーフィルタ(特にBMや着色画素等)から基板間の液晶層(液晶セル)へ汚染物質が浸入することで、液晶や対向基板上の回路等の誤動作、反応等の原因となることがある。そこでオーバーコート層を配することにより、CF表面から汚染物質が放出されることを防止するのである。
て描画する部分と、開口部(完全開口部)として描画する部分とを使い分けすることにより、露光時のフォトレジストへの照射光強度を2段階設定できる(ただし、フォトレジストのネガポジ特性によっては、グレートーン部として描画する部分と、遮光部として描画する部分との使い分けをすることにより、露光時のフォトレジストへの照射光強度を2段階設定する。)。
本発明の実施の形態では、カラーフィルタのオーバーコート層を、フォトスペーサ、サブフォトスペーサと一括形成する。つまり、オーバーコート層とフォトスペーサとサブフォトスペーサとは、一括塗布された同一材料を、フォトリソグラフィー工程で一括露光して一括描画し、現像も一括で行われる。前記一括塗布された同一材料には、感光硬化性樹脂を使用する。
211B上に一括塗布する。
ここからは、感光硬化性樹脂214の全面一括露光に用いるフォトマスクの最良の形態について、図6〜図8を用いて説明する。感光硬化性樹脂214の全面一括露光に用いるフォトマスクの最良の形態では、フォトスペーサ用の平面パターンが開口部として描画され、サブフォトスペーサ用の平面パターンがグレートーン部として描画され、オーバーコート層の平面パターンがハーフトーン部として描画されるものである。よって、フォトマスク表面には、開口部とグレートーン部とハーフトーン部とが存在する。場合によっては、さらに遮光部が存在してもよい。
部313と第一ハーフトーン部314、第二ハーフトーン部315以外の場所には、遮光膜311が塗工されている。素材として代表的なものは、基板が各種ガラス、遮光膜が低反射クロム、第一ハーフトーン部材と第二ハーフトーン部材とがITO(インジウム錫酸化物)であるが、これに限定される訳ではない。第一ハーフトーン部材と第二ハーフトーン部材とが全く異なる元素や化学組成からなる素材であってもよい。
102・・・(カラーフィルタの)ブラックマトリックス
103R、103G、103B、211R、211G、211B、261R、261G、261B・・・着色画素
111、234、284・・・オーバーコート層
112、238、288・・・フォトスペーサ
113、239、289・・・サブフォトスペーサ
101・・・対向基板
122・・・対向基板上にある電極、配線など
131・・・基板間ギャップ(セルギャップ。液晶を封入する。)
214、264・・・感光硬化性樹脂材料
220、270・・・露光
225、313、323、333、343・・・(フォトマスクの)開口部
226・・・(フォトマスクの)グレートーン部
227・・・(フォトマスクの)ハーフトーン部
276・・・(フォトマスクの)第一ハーフトーン部
277・・・(フォトマスクの)第二ハーフトーン部
310、320、330、340、401、501、601、701・・・(フォトマスクの)基板
311、321、331、341、402、502、602、702・・・(フォトマスクの)ブラックマトリックス(遮光部、遮光膜)
314、324、334・・・(フォトマスクの)第一ハーフトーン部
315、325、335・・・(フォトマスクの)第二ハーフトーン部
344・・・(フォトマスクの)グレートーン部
345・・・(フォトマスクの)ハーフトーン部
316、326、336、506、604、705・・・第一層ITO
404・・・ハーフトーン膜
317、327、337、504、605、707・・・第二層ITO
403、405、503、505、507、603、606、607、703、704、706・・・フォトレジスト
Claims (11)
- オーバーコート層とフォトスペーサとサブフォトスペーサとを有するカラーフィルタであって、前記フォトスペーサと前記サブフォトスペーサとが、前記オーバーコート層と同一の材料からなることを特徴とする、カラーフィルタ。
- オーバーコート層とフォトスペーサとサブフォトスペーサとを有するカラーフィルタであって、前記オーバーコート層と前記フォトスペーサと前記サブフォトスペーサとが、同一の工程で一括形成されることを特徴とする、カラーフィルタ。
- 前記オーバーコート層と前記フォトスペーサと前記サブフォトスペーサの原材料が樹脂材料である場合において、前記フォトスペーサと前記サブフォトスペーサの原材料が、前記オーバーコート層の原材料と同時に塗布成膜されることを特徴とする、請求項1に記載のカラーフィルタ。
- 前記オーバーコート層と前記フォトスペーサと前記サブフォトスペーサは、光透過率が異なる複数の部分を有するフォトマスクを通して一括露光することにより水平パターンが一括描画されることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載のカラーフィルタ。
- 開口部とグレートーン部とハーフトーン部とを有するフォトマスク。
- 開口部と第一ハーフトーン部と第二ハーフトーン部とを有するフォトマスク。
- 遮光部と第一ハーフトーン部と第二ハーフトーン部とを有するフォトマスク。
- 遮光部とグレートーン部とハーフトーン部とを有するフォトマスク。
- 開口部を有することを特徴とする、請求項7または8に記載のフォトマスク。
- カラーフィルタ製造に使用されることを特徴とする、請求項5から9のいずれか1項に記載のフォトマスク。
- 請求項5から10のいずれか1項に記載の前記フォトマスクを使用して製造することを特徴とする、カラーフィルタ。
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