JP2007121800A - カラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板 - Google Patents

カラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板 Download PDF

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靖丈 堀内
Yasuhiro Shima
康裕 島
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Abstract

【課題】ブラックマトリクス21a上に形成される着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差を減少させるために、透過領域の端部に半透過領域が形成された露光マスクを用いてパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成するカラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のカラーフィルタ基板100は、透過領域の端部に半透過領域が形成された露光マスクを用いてパターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成しているので、ブラックマトリクス21a上に形成される着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差を0.5μm以下にすることができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板に関し、特に、IPS(In Plane Switching)モード液晶表示装置用カラーフィルタ基板及びカラーフィルタ基板の製造方法に関する。
近年、大型カラーテレビ、ノートパソコン、携帯用電子機器の増加に伴い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイパネルの需要の増加はめざましいものがある。
一般に、液晶表示ディスプレイパネルにおいて、現在最も広く使用されている液晶セル駆動方式は、TN(ねじれネマティック)方式とSTN(超ねじれネマティック)方式による縦電界駆動型であり、近年、横電界駆動型(IPS:In Plane Switching)による液晶セル駆動方式の開発も進んでいる。
カラー液晶ディスプレイパネルに用いられるカラーフィルタ基板として、透明基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタ等からなる着色フィルタ、透明電極及びオーバーコート層が形成されたIPSモード液晶表示装置用カラーフィルタが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
カラー液晶ディスプレイパネルに用いられるカラーフィルタ基板は、透明基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタ等からなる着色フィルタ、透明電極及びオーバーコート層等がフォトリソグラフィーを用いた各種のプロセスを経て形成される。
以下カラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
図6(a)〜(f)は、カラーフィルタ基板の製造方法の一例を示す部分模式構成断面図である。
まず、透明基板11上にアクリル系樹脂にカーボンブラックを分散した黒色の感光性樹脂をスピンナー等にて塗布し、黒色感光性樹脂層21を形成し(図6(a)参照)、パターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って、ブラックマトリクス21aを形成する(図6(b)参照)。
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料を分散した赤色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス21aが形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、赤色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、赤色フィルタ31r’を形成する(図6(c)参照)。
次に、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料を分散した緑色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス21a及び赤色フィルタ31r’が形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、緑色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、緑色フィルタ32g’を形成する(図6(d)参照)。
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料を分散した青色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス21a、赤色フィルタ31r’及び緑色フィルタ32g’が形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、青色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ33b’を形成し、ブラックマトリクス21aが形成された透明基板11上に赤色フィルタ31r’、緑色フィルタ32g’及び緑色フィルタ33b’からなる着色フィルタ3
0を形成する(図6(e)参照)。
次に、アクリル系のクリアレジストをスピンナー等を用いて塗布し、加熱硬化してオーバーコート層51を形成し、透明基板11上にブラックマトリクス21aと、赤色フィルタ31r’、緑色フィルタ32g’及び緑色フィルタ33b’からなる着色フィルタ30と、オーバーコート層51とが形成されたカラーフィルタ基板200を得ることができる(図6(f)参照)。
上記カラーフィルタ基板の製造工程のパターン露光工程においては、パターン露光時の共通欠陥発生を防止したり、スループットを向上させるために、近接露光法(プロキシミティー)が採用されている。
このため、ブラックマトリクス21a上に形成される着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差が、0.7μm前後発生し、オーバーコート層51が形成される場合は、かなり軽減されるが、最近のカラーフィルタ基板では、オーバーコート層なしで十分な性能を確保できる横電解方式のIPS(In Plane Switching)モード液晶表示装置が展開されており、このブラックマトリクス21a上に形成される着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差が、パネル化した際の輝度ムラとなり、問題となっている。
ブラックマトリクス21a上に発生する着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差の発生メカニズムについて説明する。
図5(a)〜(g)に、透明基板上に着色フィルタを形成する際ブラックマトリクス21a上の着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差の発生状況を示す説明図である。
まず、透明基板11上にブラックマトリクス21aを形成する(図5(a)参照)。
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料を分散した赤色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス21aが形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、赤色感光性樹脂層31rを形成する(図5(b)参照)。
ここで、ブラックマトリクス21a上にも所定厚の赤色感光性樹脂層が形成される。
次に、透明基板12上に透過領域61と遮光領域63が形成された露光マスク60rをプロキシミティー露光機にセットし、透明基板11上に形成された赤色感光性樹脂層31rを所定の露光量でパターン露光する(図5(c)参照)。
ここで、プロキシミティー露光法では、露光マスク60rと赤色感光性樹脂層31rが形成された透明基板11との間には100〜300μmの露光ギャップが設定される。
次に、パターン潜像が形成された赤色感光性樹脂層31rを専用の現像液で現像処理することにより、透明基板11上に赤色フィルタ31r’が形成される(図5(d)参照)。
図5(d)からも分かるように、ブラックマトリクス21a上には赤色フィルタ31r’の一部が残った状態のオーバーラップ(重なり)段差が形成される。
これは、パターン露光の際の100〜300μmの露光ギャップにて発生する回折光により、ブラックマトリクス21a上の赤色感光性樹脂層31rの一部が露光されるためである。
次に、ブラックマトリクス21aと赤色フィルタ31r’とが形成された透明基板11上にスピンナー等を用いてアクリル系の感光性樹脂に緑色顔料を分散した緑色感光性樹脂溶液を塗布し、緑色感光性樹脂層32gを形成する(図5(e)参照)。
ここで、ブラックマトリクス21a上のオーバーラップ段差上にも所定厚の緑色感光性樹脂層が形成される。
次に、透明基板12上に透過領域61と遮光領域63が形成された露光マスク60gをプロキシミティー露光機にセットし、透明基板11上の緑色感光性樹脂層32gを所定の露光量でパターン露光する(図5(f)参照)。
ここで、プロキシミティー露光法では、露光マスク60gと緑色感光性樹脂層31gが形成された透明基板11との間には100〜300μmの露光ギャップが設定される。
次に、パターン潜像が形成された緑色感光性樹脂層32gを専用の現像液で現像処理することにより、透明基板11上に緑色フィルタ32g’を形成する(図5(g)参照)。図5(g)からも分かるように、ブラックマトリクス21a上には、赤色フィルタ31r’と緑色フィルタ32g’の一部が残った状態のオーバーラップ(重なり)段差δhが形成される。
これは、パターン露光の際の100〜180μmの露光ギャップにて発生する回折光により、ブラックマトリクス21a上の緑色感光性樹脂層32gの一部が露光されるためである。
このブラックマトリクス21a上に形成される着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差δhが0.7μm前後発生して、横電解方式のIPS(In Plane Switching)モード液晶表示パネルを作製し、パネル表示した際に輝度ムラを発生させ、問題となっている。
特開2003−75819号公報
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、ブラックマトリクス21a上に形成される着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差を減少させるために、透過領域の端部に半透過領域が形成された露光マスクを用いてパターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成するカラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板を提供することを目的とする。
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項1においては、少なくとも透明基板上に黒色感光性樹脂層をパターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、着色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成する着色フィルタ形成工程と、オーバーコート層形成工程とを有するカラーフィルタ基板の製造方法において、前記着色感光性樹脂層をパターン露光して複数の着色フィルタを形成する際、透過領域の端部に半透過領域が形成された露光マスクを用いてパターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法としたものである。
また、請求項2においては、前記ブラックマトリクス上に形成される前記着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差δhが、0.5μm以下であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板の製造方法したものである。
さらにまた、請求項3においては、請求項1または2に記載のカラーフィルタ基板の製造方法にて作製されたことを特徴とするカラーフィルタ基板としたものである。
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法によると、ブラックマトリクス21a上に形成
される着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差を減少させることができるので、本発明のカラーフィルタ基板を用いて横電解方式のIPS(In Plane Switching)モード液晶表示パネルを作製し、パネル表示した際の輝度ムラの発生を防止することができる。
また、赤色フィルタ、緑色フィルタ及び青色フィルタからなる着色フィルタ30が形成された状態でも表面の平滑性を確保できる。
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
図1は、本発明のカラーフィルタ基板の一実施例を、図2(a)〜(f)、図3(g)〜(j)及び図4(k)〜(o)は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施例を示す模式構成部分断面図をそれぞれ示す。
本発明のカラーフィルタ基板100は、図1に示すように、透過領域の端部に半透過領域が形成された露光マスクを用いてパターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成しているので、ブラックマトリクス21a上に形成される着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差を0.5μm以下にすることができる。
また、赤色フィルタ31R’、緑色フィルタ32G’及び青色フィルタ33B’からなる着色フィルタ30が形成された状態でも表面の平滑性を確保できる。
以下本発明のカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
まず、透明基板11上にアクリル系樹脂にカーボンブラックを分散した黒色感光性樹脂溶液をスピンナー等により塗布、乾燥して、黒色感光性樹脂層21を形成する(図2(a)参照)。
ここで、透明基板11としては、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス等のガラス基板及びプラスチックフィルム等が利用できる。
次に、黒色感光性樹脂層21をパターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って、透明基板11の所定位置にブラックマトリクス21aを形成する(図2(b)参照)。
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料(例えば、ジアントラキノン系顔料)を分散した赤色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス21aが形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、赤色感光性樹脂層31Rを形成する(図2(c)参照)。
次に、透明基板12上にスパッタリング等によりクロム膜、酸化クロム膜等を成膜し、パターニング処理して透過領域61と、遮光領域63とを形成し、さらにスパッタリング等により所定の透過率(濃度)を有するクロム膜、酸化クロム膜等からなる半透過膜を成膜し、パターニング処理して透過領域61の端部に半透過領域62を形成し、透明基板12上に透過領域61と、遮光領域63と、透過領域61の端部に半透過領域62とが形成された赤色フィルタ形成用の露光マスク60HRを作製する(図2(d)参照)。
ここで、半透過領域62のパターン幅は、プロキシミティー露光の露光ギャップ、着色感光性樹脂層の感度等によって異なるが、3〜5μmである。
また、半透過領域62の透過率は、プロキシミティー露光の露光ギャップ、着色感光性樹脂層の感度等によって異なるが、10〜90%の範囲で適宜設定する。
次に、赤色フィルタ形成用の露光マスク60HRをプロキシミティー露光機にセットし、透明基板11上の赤色感光性樹脂層31Rを所定の露光量でパターン露光する(図2(e)参照)。
ここで、プロキシミティー露光法では、露光マスク60HRと赤色感光性樹脂層31Rが
形成された透明基板11との間には100〜300μmの露光ギャップが設定される。
次に、パターン潜像が形成された緑色感光性樹脂層32Rを専用の現像液で現像、ポストベーク処理することにより、透明基板11上に赤色フィルタ31R’を形成する(図2(f)参照)。
図2(f)からも分かるように、ブラックマトリクス21a上の赤色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差は、透過領域61の端部に適正な半透過領域62を形成することにより0.5μm以下にすることができる。
次に、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料(例えば、フタロシアニングリーン系顔料)を分散した緑色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス21a及び赤色フィルタ31R’が形成された透明基板11上にスピンナー等を用いて塗布し、緑色感光性樹脂層32Gを形成する(図3(g)参照)。
次に、透明基板12上にスパッタリング等によりクロム膜、酸化クロム膜等を成膜し、パターニング処理して透過領域61と、遮光領域63とを形成し、さらにスパッタリング等により所定の透過率(濃度)を有するクロム膜、酸化クロム膜等からなる半透過膜を成膜し、パターニング処理して透過領域61の端部に半透過領域62とを形成し、透明基板12上に透過領域61と、遮光領域63と、透過領域61の端部に半透過領域62とが形成された緑色フィルタ形成用の露光マスク60HGを作製する(図3(h)参照)。
ここで、半透過領域62のパターン幅は、プロキシミティー露光の露光ギャップ、着色感光性樹脂層の感度等によって異なるが、3〜5μmである。
また、半透過領域62の透過率は、プロキシミティー露光の露光ギャップ、着色感光性樹脂層の感度等によって異なるが、10〜90%の範囲で適宜設定する。
次に、緑色フィルタ形成用の露光マスク60HGをプロキシミティー露光機にセットし、透明基板11上の緑色感光性樹脂層32Gを所定の露光量でパターン露光する(図3(i)参照)。
ここで、プロキシミティー露光法では、露光マスク60HGと緑色感光性樹脂層31Gが形成された透明基板11との間には100〜300μmの露光ギャップが設定される。
次に、パターン潜像が形成された緑色感光性樹脂層32Gを専用の現像液で現像、ポストベーク処理することにより、透明基板11上に緑色フィルタ32G’を形成する(図3(j)参照)。
図3(j)からも分かるように、ブラックマトリクス21a上の赤色フィルタと緑色フィルタとのオーバーラップ段差はわずかで、透過領域61の端部に適正な半透過領域62を形成することにより0.5μm以下にすることができる。
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料(例えば、フタロシアニンブルー系顔料)を分散した青色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス21a、赤色フィルタ31R’ 及び緑色フィルタ32G’が形成された透明基板11上にスピンナー等を用いて塗布し、青色感光性樹脂層33Bを形成する(図4(k)参照)。
次に、透明基板12上にスパッタリング等によりクロム膜、酸化クロム膜等を成膜し、パターニング処理して透過領域61と、遮光領域63とを形成し、さらにスパッタリング等により所定の透過率(濃度)を有するクロム膜、酸化クロム膜等からなる半透過膜を成膜し、パターニング処理して透過領域61の端部に半透過領域62とを形成し、透明基板12上に透過領域61と、遮光領域63と、透過領域61の端部に半透過領域62とが形成された青色フィルタ形成用の露光マスク60HBを作製する(図4(l)参照)。
ここで、半透過領域62のパターン幅は、プロキシミティー露光の露光ギャップ、着色感
光性樹脂層の感度等によって異なるが、3〜5μmである。
また、半透過領域62の透過率は、プロキシミティー露光の露光ギャップ、着色感光性樹脂層の感度等によって異なるが、10〜90%の範囲で適宜設定する。
次に、青色フィルタ形成用の露光マスク60HBをプロキシミティー露光機にセットし、透明基板11上の青色感光性樹脂層33Bを所定の露光量でパターン露光する(図4(m)参照)。
ここで、プロキシミティー露光法では、露光マスク60HBと緑色感光性樹脂層33Bが形成された透明基板11との間には100〜300μmの露光ギャップが設定される。
次に、パターン潜像が形成された青色感光性樹脂層33Bを専用の現像液で現像、、ポストベーク処理することにより、透明基板11上に青色フィルタ33B’を形成する(図4(n)参照)。
図4(n)からも分かるように、ブラックマトリクス21a上の青色フィルタと緑色フィルタ及び青色フィルタと赤色フィルタとのオーバーラップ(重なり)段差はわずかで、透過領域61の端部に適正な半透過領域62を形成することにより0.5μm以下にすることができる。
次に、アクリル系のクリアレジストをスピンナー等を用いて塗布し、加熱硬化してオーバーコート層51を形成し、透明基板11上にブラックマトリクス21a、赤色フィルタ31R’、緑色フィルタ31G’、青色フィルタ31B’からなる着色フィルタ30及びオーバーコート層51が形成された本発明のカラーフィルタ基板100を得る(図4(o)参照)。
さらに必要で有れば、柱状スペーサ等を形成しても良い。
上記したように、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、ブラックマトリクス21a上に形成される着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差を0.5μm以下にすることができるので、本発明のカラーフィルタ基板を用いて横電解方式のIPS(In
Plane Switching)モード液晶表示パネルを作製し、パネル表示した際の輝度ムラの発生を防止することができる。
また、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、赤色フィルタ31R’、緑色フィルタ31G’、青色フィルタ31B’からなる着色フィルタ30が形成された状態でも表面の平滑性を確保できる。
本発明のカラーフィルタ基板の一実施例を示す模式構成断面図である。 (a)〜(f)は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の工程の一部を示す模式構成断面図である。 (g)〜(j)は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の工程の一部を示す模式構成断面図である。 (k)〜(o)は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の工程の一部を示す模式構成断面図である。 (a)〜(g)は、ブラックマトリクス上の着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差の発生状況を示す説明図である。 (a)〜(f)は、カラーフィルタ基板の製造方法の製造工程の一例を示す模式構成断面図である。
符号の説明
11、12……透明基板
21……黒色感光性樹脂層
21a……ブラックマトリクス
30……着色フィルタ
31R、31r……赤色感光性樹脂層
31R’、31r’……赤色フィルタ
32G、32g……緑色感光性樹脂層
32G’、31g’……緑色フィルタ
33B……青色感光性樹脂層
33B’、33b’……青色フィルタ
51……オーバーコート層
60HR、60HG、60HB……半透過領域が形成された露光マスク
60r、60g……露光マスク
61……透過領域
62……半透過領域
63……遮光領域
100、200……カラーフィルタ基板
δh……オーバーラップ(重なり)段差

Claims (3)

  1. 少なくとも透明基板上に黒色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、着色感光性樹脂層をパターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成する着色フィルタ形成工程と、オーバーコート層形成工程とを有するカラーフィルタ基板の製造方法において、前記着色感光性樹脂層をパターン露光して複数の着色フィルタを形成する際、透過領域の端部に半透過領域が形成された露光マスクを用いてパターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
  2. 前記ブラックマトリクス上に形成される前記着色フィルタのオーバーラップ(重なり)段差δhが、0.5μm以下であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
  3. 請求項1または2に記載のカラーフィルタ基板の製造方法にて作製されたことを特徴とするカラーフィルタ基板。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010020146A (ja) * 2008-07-11 2010-01-28 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示装置
KR101541542B1 (ko) 2008-08-19 2015-08-04 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터, 이를 구비한 액정표시장치

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009175556A (ja) * 2008-01-25 2009-08-06 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその製造方法、ならびに液晶表示装置
JP2010020146A (ja) * 2008-07-11 2010-01-28 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示装置
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