JP2951337B2 - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
- Publication number
- JP2951337B2 JP2951337B2 JP22822989A JP22822989A JP2951337B2 JP 2951337 B2 JP2951337 B2 JP 2951337B2 JP 22822989 A JP22822989 A JP 22822989A JP 22822989 A JP22822989 A JP 22822989A JP 2951337 B2 JP2951337 B2 JP 2951337B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- film
- present
- transmittance
- ring structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は特性の優れた新規なペリクルを提供するもの
であり、さらに詳しくいえば、特に、短波長のUV（紫外
線）透過性に優れたメンブレン膜を有することを特徴と
するペリクルに関する。
であり、さらに詳しくいえば、特に、短波長のUV（紫外
線）透過性に優れたメンブレン膜を有することを特徴と
するペリクルに関する。
（従来の技術） ペリクルは、フォトリソグラフィープロセスにより高
度集積回路（LSI）を作製する際に、微細なゴミやホコ
リの付着に依り、回路パターンに不具合が生じることを
防ぐために多用されている。従来のペリクルとしては、
特開昭63−15250号、特開昭62−127801号、特開昭61−1
06243号、特開昭63−64048号、特開昭59−206406号、特
開昭59−164356号などに開示されているものがある。
度集積回路（LSI）を作製する際に、微細なゴミやホコ
リの付着に依り、回路パターンに不具合が生じることを
防ぐために多用されている。従来のペリクルとしては、
特開昭63−15250号、特開昭62−127801号、特開昭61−1
06243号、特開昭63−64048号、特開昭59−206406号、特
開昭59−164356号などに開示されているものがある。
（発明が解決しようとする課題） これら従来技術において、ペリクルの膜材料として
は、主に酢酸セルロース系材料が使用されている。しか
し、従来のセルロース系膜は、ｉ線、ｇ線およびｈ線の
UV光に対する透過性は比較的良好であるが、短波長とく
に300nmより短い波長域においては、その透過性は十分
ではなかった。例えば特開昭61−106243号に明記されて
いるように、この膜は200〜300nmのUV短波長域における
光透過性が不十分であった。そのため、今後の一層の高
集積化に対応する技術である、エキシマレーザー露光に
おいて用いられる300nm以下のUV光には使えないという
重大な欠点があった。また多数回使用時において、従来
のセルロース系材料はUV光により劣化するという実用面
での難点があった。本発明は、このような従来の膜材料
の欠点を解消した高性能の新規なメンブレン膜を有する
ペリクルを提供することを目的とする。
は、主に酢酸セルロース系材料が使用されている。しか
し、従来のセルロース系膜は、ｉ線、ｇ線およびｈ線の
UV光に対する透過性は比較的良好であるが、短波長とく
に300nmより短い波長域においては、その透過性は十分
ではなかった。例えば特開昭61−106243号に明記されて
いるように、この膜は200〜300nmのUV短波長域における
光透過性が不十分であった。そのため、今後の一層の高
集積化に対応する技術である、エキシマレーザー露光に
おいて用いられる300nm以下のUV光には使えないという
重大な欠点があった。また多数回使用時において、従来
のセルロース系材料はUV光により劣化するという実用面
での難点があった。本発明は、このような従来の膜材料
の欠点を解消した高性能の新規なメンブレン膜を有する
ペリクルを提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段） 本発明者らは上記の従来のペリクルの膜材料の難点を
克服するため種々検討を重ねた結果、光学透過性に優れ
る、主鎖に環構造を有するフッ素樹脂を用いることによ
りその目的を達成しうることを見出し、この知見に基づ
き本発明をなすに至った。
克服するため種々検討を重ねた結果、光学透過性に優れ
る、主鎖に環構造を有するフッ素樹脂を用いることによ
りその目的を達成しうることを見出し、この知見に基づ
き本発明をなすに至った。
すなわち本発明は、非結晶質性であって、厚さ100μ
ｍの膜におけるUV光の透過率が、波長200nmから300nmの
全範囲において50％以上の透過率である、主鎖に環構造
を有するフッ素樹脂の膜から作成された、波長300nm以
下のエキシマレーザー露光処理用ペリクルを提供するも
のである。
ｍの膜におけるUV光の透過率が、波長200nmから300nmの
全範囲において50％以上の透過率である、主鎖に環構造
を有するフッ素樹脂の膜から作成された、波長300nm以
下のエキシマレーザー露光処理用ペリクルを提供するも
のである。
本発明において、“光学的透過性に優れる”とは、
“膜厚が100μｍのフィルムにて、波長200nmから300nm
のUV光の全波長範囲において、透過率（Transmittanc
e）が50％以上を示す”ことを意味する。したがって、
例えば、150μｍの厚さのフィルムで50％以上の透過率
を示すものは、本発明にいう“光学的透過性に優れる”
フィルムであることはもちろんである。このような光学
的透過性は前記の、主鎖に環構造を有するフッ素樹脂の
加工において劣化や分解をおこさない条件のもとで、ピ
ンホールのない表面平滑な薄膜とすることにより達成で
きる。
“膜厚が100μｍのフィルムにて、波長200nmから300nm
のUV光の全波長範囲において、透過率（Transmittanc
e）が50％以上を示す”ことを意味する。したがって、
例えば、150μｍの厚さのフィルムで50％以上の透過率
を示すものは、本発明にいう“光学的透過性に優れる”
フィルムであることはもちろんである。このような光学
的透過性は前記の、主鎖に環構造を有するフッ素樹脂の
加工において劣化や分解をおこさない条件のもとで、ピ
ンホールのない表面平滑な薄膜とすることにより達成で
きる。
本発明に用いられる主鎖に環構造を有するフッ素樹脂
としては、例えば次のようなものがある。これらのもの
のうち非結晶質のものが好ましい。
としては、例えば次のようなものがある。これらのもの
のうち非結晶質のものが好ましい。
（ｄ）上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を構成する単量体の
一種もしくは二種以上と他の共重合性の含フッ素単量体
との共重合体。
一種もしくは二種以上と他の共重合性の含フッ素単量体
との共重合体。
これらのうち、次にような主鎖に環構造を有するフッ
素樹脂が代表的なものである。
素樹脂が代表的なものである。
共重合体。
主鎖に環構造を有するフッ素樹脂は、例えば、一般式 CF2＝CFCF2 nOCF2 mCF＝CF2 （ただし、ｎ＝０〜５、ｍ＝０〜５でｍ＋ｎ＝１〜６で
ある。）で表わされる末端二重結合を二つ有するパーフ
ルオロエーテルやパーフルオロー2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソールをラジカル重合せしめて得られる。また共
重合体は、上記のパーフルオロエーテル又は、パーフル
オロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソールとフルオロオ
レフィンやフルオロビニルエーテルなどの含フッ素単量
体との共重合により得られる。単量体としては、例え
ば、テトラフルオロエチレン、パーフルオロビニルエー
テル、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン
などである。
ある。）で表わされる末端二重結合を二つ有するパーフ
ルオロエーテルやパーフルオロー2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソールをラジカル重合せしめて得られる。また共
重合体は、上記のパーフルオロエーテル又は、パーフル
オロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソールとフルオロオ
レフィンやフルオロビニルエーテルなどの含フッ素単量
体との共重合により得られる。単量体としては、例え
ば、テトラフルオロエチレン、パーフルオロビニルエー
テル、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン
などである。
さらに、本発明にて用いる樹脂は、結晶を持たないわ
ゆる非晶質のものが好ましい。それは微結晶による光の
透過阻害がおこらないからである。
ゆる非晶質のものが好ましい。それは微結晶による光の
透過阻害がおこらないからである。
主鎖に環構造を有するフッ素樹脂としては、例えばDu
Pont社の製造になる主鎖に環構造を有するフッ素樹脂
「FPX」又は「テフロンAF」（商品名）や旭硝子（株）
の製造になる主鎖に環構造を有するフッ素樹脂「CYTO
P」（登録商標）等を例示することができる。
Pont社の製造になる主鎖に環構造を有するフッ素樹脂
「FPX」又は「テフロンAF」（商品名）や旭硝子（株）
の製造になる主鎖に環構造を有するフッ素樹脂「CYTO
P」（登録商標）等を例示することができる。
本発明に用いられるフッ素樹脂のメンブレン膜の厚さ
は特に制限はなく、その要求特性に応じて比較的自由に
選定できる。好ましくはおおよそ0.1μｍから100μｍの
範囲にある。より好ましくは、0.5〜20μｍである。本
発明のペリクルは従来のものより厚くても、優れた光学
的透過性を有する特徴がある。
は特に制限はなく、その要求特性に応じて比較的自由に
選定できる。好ましくはおおよそ0.1μｍから100μｍの
範囲にある。より好ましくは、0.5〜20μｍである。本
発明のペリクルは従来のものより厚くても、優れた光学
的透過性を有する特徴がある。
本発明のペリクルでは、膜の透過性が高いので、通常
必須とされる膜表面の反射防止膜のコーティングはなく
てもよい。もちろん、反射防止膜を形成することは何ら
構わないが、不可欠ではない。
必須とされる膜表面の反射防止膜のコーティングはなく
てもよい。もちろん、反射防止膜を形成することは何ら
構わないが、不可欠ではない。
また、本発明のペリクルは、まだその理由は定かでは
ないが、光学的干渉現象がおこりにくいためか、300nm
より長い波長域にては、透過率がフラットである特徴を
有する。
ないが、光学的干渉現象がおこりにくいためか、300nm
より長い波長域にては、透過率がフラットである特徴を
有する。
（実施例） 次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
実施例１ 主鎖に環構造を有するフッ素樹脂である「CYTOP」
（非結晶質性、厚さ200μｍの膜におけるUV光の透過率
は、波長200nmから300nmの全範囲において50％以上の透
過率である）を用いペリクル用に厚さ2.8μｍのメンブ
レン膜を作製した。膜の作製は、この樹脂の特殊フッ素
系溶剤を用い、キャスト製膜した。この膜の上に、反射
防止のために、フッ化マグネシウムの膜（厚さ;300nm）
を蒸着したのち、アルミ合金製のフレームの片面に張り
つけた。そして、フレームの他の片面上に、粘着剤を塗
布して、ペリクルを作った。このペリクルをホトマスク
に張りつけ、その性能を確認した。このペリクルのスペ
クトル透過特性を第１図に示した。
（非結晶質性、厚さ200μｍの膜におけるUV光の透過率
は、波長200nmから300nmの全範囲において50％以上の透
過率である）を用いペリクル用に厚さ2.8μｍのメンブ
レン膜を作製した。膜の作製は、この樹脂の特殊フッ素
系溶剤を用い、キャスト製膜した。この膜の上に、反射
防止のために、フッ化マグネシウムの膜（厚さ;300nm）
を蒸着したのち、アルミ合金製のフレームの片面に張り
つけた。そして、フレームの他の片面上に、粘着剤を塗
布して、ペリクルを作った。このペリクルをホトマスク
に張りつけ、その性能を確認した。このペリクルのスペ
クトル透過特性を第１図に示した。
また、このペリクルをArF（139nm）およびKrF（249n
m）のエキシマレーザー光を用いて露光テストしたとこ
ろ、10万回の露光に対してペリクルに要求される役割を
果たし、何ら不具合が生じなかった。
m）のエキシマレーザー光を用いて露光テストしたとこ
ろ、10万回の露光に対してペリクルに要求される役割を
果たし、何ら不具合が生じなかった。
比較のために、テトラフロロエチレンと弗化ビニリデ
ンの共重合体を用い、上記「CYTOP」の場合と同様に薄
膜化して作製した厚さ2.8μｍのメンブレン膜を用いた
以外は、上記と全く同様にしてペリクルを作った。
ンの共重合体を用い、上記「CYTOP」の場合と同様に薄
膜化して作製した厚さ2.8μｍのメンブレン膜を用いた
以外は、上記と全く同様にしてペリクルを作った。
このペリクルを上記と同様にしてArF（193nm）および
KrF（249nm）エキシマレーザー光について試験したとこ
ろ、光透過率が著しく低くペリクルとして使えない性能
のものであり、また露光処理では、露光１万回以下にお
いて性能劣化して継続使用不能となった。
KrF（249nm）エキシマレーザー光について試験したとこ
ろ、光透過率が著しく低くペリクルとして使えない性能
のものであり、また露光処理では、露光１万回以下にお
いて性能劣化して継続使用不能となった。
このように、本発明のペリクルは、今後一層進展する
高集積化LSIに対応して要求されるエキシマレーザー露
光に使用されるのに好適な性能を有する。
高集積化LSIに対応して要求されるエキシマレーザー露
光に使用されるのに好適な性能を有する。
（発明の効果） 本発明のペリクルは300nmより短い波長域における透
過性が高く、膜表面の反射防止膜のコーティグは不要と
ある。また、300nmより長い波長域においてもフラット
な透過率を示しｇ線用とｉ線用でペリクルを使い分け
る、という煩雑な処理、管理が全く不要である。さらに
本発明のペリクルは膜強度に優れエキシマレーザー光に
よる多数回使用においても劣化することがない。
過性が高く、膜表面の反射防止膜のコーティグは不要と
ある。また、300nmより長い波長域においてもフラット
な透過率を示しｇ線用とｉ線用でペリクルを使い分け
る、という煩雑な処理、管理が全く不要である。さらに
本発明のペリクルは膜強度に優れエキシマレーザー光に
よる多数回使用においても劣化することがない。
第１図は本発明のペリクルのスペクトル透過特性を示
す。
す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 1/00 - 1/16
Claims (1)
- 【請求項１】非結晶質性であって、厚さ100μｍの膜に
おけるUV光の透過率が、波長200nmから300nmの全範囲に
おいて50％以上の透過率である、主鎖に環構造を有する
フッ素樹脂の膜から作成された、波長300nm以下のエキ
シマレーザー露光処理用ペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22822989A JP2951337B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-09-05 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-95186 | 1989-04-17 | ||
| JP9518689 | 1989-04-17 | ||
| JP22822989A JP2951337B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-09-05 | ペリクル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0339963A JPH0339963A (ja) | 1991-02-20 |
| JP2951337B2 true JP2951337B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=26436457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22822989A Ceased JP2951337B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-09-05 | ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2951337B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6548129B2 (en) | 2000-03-15 | 2003-04-15 | Asahi Glass Company, Limited | Pellicle |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5256747A (en) * | 1991-05-20 | 1993-10-26 | Leo Ojakaar | Soluble perfluoroelastomers |
| US6342292B1 (en) | 1997-12-16 | 2002-01-29 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Organic thin film and process for producing the same |
| WO2002088216A1 (fr) | 2001-04-27 | 2002-11-07 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymeres cycloolefiniques fluores, procedes de preparation de monomeres cycloolefiniques fluores et polymeres associes, et leur application |
| CN1315817C (zh) * | 2002-08-21 | 2007-05-16 | 旭硝子株式会社 | 紫外光透过性含氟聚合物及由该聚合物制成的表膜 |
| JP4396525B2 (ja) * | 2003-03-28 | 2010-01-13 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素化合物および含フッ素重合体 |
| WO2005054336A1 (ja) | 2003-12-03 | 2005-06-16 | Asahi Glass Company, Limited | ペリクルおよび新規な含フッ素重合体 |
| US7674532B2 (en) * | 2004-07-19 | 2010-03-09 | Honeywell International Inc | Security taggants in adhesive plastic film laminate for pharmaceutical packaging |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6083032A (ja) * | 1983-10-13 | 1985-05-11 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光透過性に優れたフオトマスク用防塵カバ− |
| JPS6325658A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | フイルム供給装置 |
| JPH01191852A (ja) * | 1988-01-27 | 1989-08-01 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | ペリクル膜 |
| JPH0792601B2 (ja) * | 1987-07-10 | 1995-10-09 | 三井石油化学工業株式会社 | 反射防止型ペリクル膜とその製法 |
| JPH02272551A (ja) * | 1989-04-14 | 1990-11-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ペリクル用薄膜 |
| JP2952962B2 (ja) * | 1989-05-31 | 1999-09-27 | 旭硝子株式会社 | 汚染防止保護器具 |
-
1989
- 1989-09-05 JP JP22822989A patent/JP2951337B2/ja not_active Ceased
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6548129B2 (en) | 2000-03-15 | 2003-04-15 | Asahi Glass Company, Limited | Pellicle |
| US6660346B2 (en) | 2000-03-15 | 2003-12-09 | Asahi Glass Company, Limited | Pellicle |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0339963A (ja) | 1991-02-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RVOP | Cancellation by post-grant opposition |