JPH0339963A - ペリクル - Google Patents

ペリクル

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JPH0339963A
JPH0339963A JP1228229A JP22822989A JPH0339963A JP H0339963 A JPH0339963 A JP H0339963A JP 1228229 A JP1228229 A JP 1228229A JP 22822989 A JP22822989 A JP 22822989A JP H0339963 A JPH0339963 A JP H0339963A
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pellicle
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Hiroyuki Nakae
中江 博之
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Furukawa Electric Co Ltd
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Furukawa Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は特性の優れた新規なペリクルを提供するもので
あり、さらに詳しくいえば、特に、短波長のUV(紫外
線)透過性に優れたメンブレン膜を有することを特徴と
するペリクルに関する。
(従来の技術) ペリクルは、フォトリソグラフィープロセスにより高度
集積回路(LSI)を作製する際に、微細なゴミやホコ
リの付着に依り、回路パターンに不具合が生じることを
防ぐために多用されている。従来のペリクルとしては、
特開昭63−15250号、特開昭62−127801
号、特開昭61−106243号、特開昭63−640
48号、特開昭59−206406号、特開昭59−1
64356号などに開示されているものがある。
(発明が解決しようとする課題) これら従来技術において、ペリクルの膜材料としては、
主に酢酸セルロース系材料が使用されている。しかし、
従来のセルロース系膜は、i線、g線およびh線のUV
光に対する透過性は比較的良好であるが、短波長とくに
300nmより短い波長域においては、その透過性は十
分ではなかった。例えば特開昭61−106243号に
明記されているように、この膜は200〜300nmの
UV短波長域における光透過性が不十分であった。その
ため、今後の一層の高集積化に対応する技術である、エ
キシマレーザ−露光において用いられる300nm以下
のUV光には使えないという重大な欠点があった。また
多数回使用時において、従来のセルロース系材料はUV
光により劣化するという実用面での難点があった0本発
明は、このような従来の膜材料の欠点を解消した高性能
の新規なメンブレン膜を有するペリクルを提供すること
を目的とする。
(課題を解決するための手段) 本発明者らは上記の従来のペリクルの膜材料の難点を克
服するため種々検討を重ねた結果、光学透過性の主鎖に
環構造を有するフッ素樹脂を用いることによりその目的
を達成しうることを見出し、この知見に基づき本発明を
なすに至った。
すなわち本発明は、(1)光学的透過性に優れるフッ素
樹脂の薄膜を有することを特徴とするペリクル、(2)
フッ素樹脂が主鎖に環構造を有することを特徴とする(
1)項記載のペリクル、及び(3)フッ素樹脂が主鎖に
環構造を有し非結晶質であることを特徴とする(1)項
記載のペリクルを提供するものである。
本発明において、“光学的透過性に優れろ”とは、゛膜
厚が100μmのフィルムにて、波長200nmから3
00nmのUV光の全波長範囲において、透過率(Tr
ansmittance)が50%以上を示す”ことを
意味する。したがって、例えば、150μmの厚さのフ
ィルムで50%以上の透過率を示すものは、本発明にい
う“光学的透過性に優れる”フィルムであることば6ち
るんである。
このような光学的透過性は例えば主鎖に環構造を有する
フッ素樹脂の加工において劣化や分解をおこさない条件
のもとで、ピンホールのない表面平滑な薄膜とすること
により達成できる。
本発明において、好ましく用いられる主鎖に環構造を有
するフッ素樹脂としては、例えば次のようなものがある
(d)上記(a)、(b)、(c)を構成する単量体の
一種もしくは二種以上と他の共重合性の含フツ素単量体
との共重合体。
これらのうち、 次のような主鎖に環構造を有す るフッ素樹脂が代表的なものである。
本発明に用いられる、 主鎖に環構造を有する フッ素樹脂は、例えば、−数式 CF 、= CF+ CF * +−0→CF汁−CF
”CF!(ただし、n=O〜5、m=0〜5でm+n=
1〜6である。)で表わされる末端二重結合を二つ有す
るパーフルオロエーテルやパーフルオロ−2,2−ジメ
チル−1,3−ジオキソールをラジカル重合せしめて得
られる。また共重合体は、上記のパーフルオロエーテル
又は、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオ
キソールとフルオロオレフィンやフルオロビニルエーテ
ルなどの含フツ素単量体との共重合により得られる。単
量体としては、例えば、テトラフルオロエチレン、パー
フルオロビニルエーテル、フッ化ビニリデン、クロロト
リフルオロエチレンなどである。
さらに、本発明にて用いる樹脂は、結晶を持たないいわ
ゆる非晶質のものが好ましい、それは微結晶による光の
透過阻害がおこらないからである。
本発明において特に好ましい主鎖に環構造を有するフッ
素樹脂としては、例えばDu Pont社の製造になる
主鎖に環構造を有するフッ素樹脂rFPXJ又は「テフ
ロンAFJ  (商品名)や旭硝子■の製造になる主鎖
に環構造を有するフッ素樹脂rcYTOPJ  (商品
名)等を例示することができる。
本発明に用いられるフッ素樹脂のメンブレン膜の厚さは
特に制限はなく、その要求特性に応じて比較的自由に選
定できる。好ましくはおおよそ0.11Lmから100
μmの範囲にある。より好ましくは、0.5〜20um
である。本発明のペリクルは従来のものより厚くても、
優れた光学的透過性を有する特徴がある。
本発明のペリクルでは、膜の透過性が高いので、通常必
須とされる膜表面の反射防止膜のコーティングはなくて
もよい。もちろん、反射防止膜を形成することは何ら構
わないが、不可欠ではない。
また、本発明のペリクルは、まだその理由は定かではな
いが、光学的干渉現象がおこりにくいためか、300n
mより長い波長域にては、透過率がフラットである特徴
を有する。そのため従来のセルロース系膜で行われてい
た、glil用とi線用とでペリクルを使い分けるとい
う煩雑な処理、管理が全く不要になる。
(実施例) 次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが本
発明はこれに限定されるものではない。
実施例1 主鎖に環構造を有するフッ素樹脂であるrcYTOPJ
  (非結晶質性、厚さ200umの膜におけるU■光
の透過率は、波長200nmから300nmの全範囲に
おいて50%以上の透過率である)を用いペリクル用に
厚さ2.8μmのメンブレン膜を作製した。膜の作製は
、この樹脂の特殊フッ素系溶剤を用い、キャスト製膜し
た。
この膜の上に、反射防止のために、フッ化マグネシウム
の膜(厚さ;300nm)を蒸着したのち、アルミ合金
製のフレームの片面に張りつけた。そして、フレームの
他の片面上に、粘着剤を塗布して、ペリクルを作った。
このペリクルをホトマスクに張りつけ、その性能を確認
した。このペリクルのスペクトル透過特性を第1図に示
した。
また、このペリクルをA r F (193nm)およ
びK r F (249nm)のエキシマレーザ−光を
用いて露光テストしたところ、10万回の露光に対して
ペリクルに要求される役割を果たし、何ら不具合が生じ
なかった。
実施例2 パーフルオロアクリルビニルエーテル (CF、=CF−0−CFt−CF=CF、)を原料と
して、常法による主鎖に環構造を有するフッ素樹脂(屈
折率1.34)を得た。このフッ素樹脂をフロリナート
FC−75 (商品名、3M社製のフッ素系溶媒)に溶
かし、スピンコーターを用いて、厚さ7μmの平滑膜を
作成した。この膜に反射防止膜として、デュポン社製の
テフロンAF2400 (屈折率1.29)の薄膜を形
成せしめた。膜厚は365nmの透過が最大値(99,
5%以上)となるよう実験的に決定した。この膜を用い
て実施例1と同様にペリクルを作成し、365nmの光
源に対する寿命テストをし、10万回以上の露光に十分
耐えるものであった。
このように、本発明のペリクルは、今後−層進展する高
集積化LSIに対応して要求されるエキシマレーザ−露
光に使用されるのに好適な性能を有する。
(発明の効果) 本発明のペリクルは300nmより短い波長域における
透過性が高く、膜表面の反射防止膜のコーティングは不
要となる。また、300nmより長い波長域においても
フラットな透過率を示しg線用とi線用でペリクルを使
い分ける、という煩雑な処理、管理が全く不要である。
さらに本発明のペリクルは膜強度に優れエキシマレーザ
−光による多数回使用においても劣化することがない。
4、
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のペリクルのスペクトル透過特性を示す

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光学的透過性の優れるフッ素樹脂膜を有してなる
    ことを特徴とするペリクル。
  2. (2)フッ素樹脂が主鎖に環構造を有することを特徴と
    する請求項(1)に記載のペリクル。
  3. (3)フッ素樹脂が主鎖に環構造を有し非結晶質である
    ことを特徴とする請求項(1)に記載のペリクル。
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