JPS6339703Y2 - - Google Patents

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JPS6339703Y2
JPS6339703Y2 JP1984125270U JP12527084U JPS6339703Y2 JP S6339703 Y2 JPS6339703 Y2 JP S6339703Y2 JP 1984125270 U JP1984125270 U JP 1984125270U JP 12527084 U JP12527084 U JP 12527084U JP S6339703 Y2 JPS6339703 Y2 JP S6339703Y2
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frame
mask
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thin film
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JP1984125270U
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【考案の詳細な説明】 〔考案の技術分野〕 本考案は、集積回路の製造工程などで使用され
るマスクあるいはレチクル(以下「マスク」と総
称する)に対する塵埃付着等を防止するマスク保
護装置に関するものである。
〔考案の背景〕 従来のマスク保護装置としては、例えば所定の
基板上に形成されたマスクパターン部分よりも広
い開口部を有するフレームの一方の開口面に、ペ
リクルと称される薄膜を張設し、該フレームの他
方の開口面をパターン部分が含まれるように基板
に対して適宜の接着手段により接着したものがあ
る。この装置によれば、薄膜は、マスク表面から
一定の距離をもつてフレームにより支持される。
なお、必要に応じてマスクの表裏のいずれの面に
対しても薄膜の張設された枠が接着される。この
ような保護装置は、塵埃などのマスクへの付着を
防止してマスクを保護する機能を有しており、集
積回路等の生産性向上に寄与するものである。
例えば、半導体製造用のフオトマスクに塵埃等
が付着すると、フオトリソグラフイの工程中にお
いて該塵埃等のパターンが半導体ウエハに投影さ
れることがあり、これによつて製造された半導体
素子の動作不良などの信頼性の低下を招くことと
なる。上述した保護装置を用いれば、フレームと
このフレームに張設した薄膜とによつてマスク上
の雰囲気と外気とがしや断されることとなり、か
かる不都合が低減される。
ところで、以上のようなマスク保護装置では、
薄膜を張設したフレームを基板に対して接着剤な
どを用いて取り付けていたため、内部は極めて気
密性のよい状態となつている。従つて、航空機に
よる輸送あるいは高所への移動などを行う場合に
おいては、内圧と外気圧との圧力差によりフレー
ムに張設された薄膜が膨出したりあるいは窪んだ
りする。このような薄膜の出没変形は、膜自体の
光学的特性を変化させるのみならず、程度によつ
ては薄膜がマスク面に接触したり、あるいはマス
ク搬送中に、周囲の金物に薄膜が接触して膜が破
損し異物がマスクに付着して使用不能となるなど
の不都合を招く。
〔考案の目的〕
本考案は、かかる点に鑑みてなされたものであ
り、上述した不都合を解消し、気圧変動を原因と
する薄膜の出没変形を防止するマスク保護装置を
提供することをその目的とする。
〔考案の概要〕
本考案によれば、マスク基板100上に設けら
れたマスク保護装置104,204,304,4
04の枠部材108,208,308,408に
少なくとも1つの通気孔116,216,31
6,416が設けられ、該通気孔には、塵埃等の
通過を阻止するフイルタ部材122,322,4
22が設けられている。
〔実施例〕
以下、本考案にかかるマスク保護装置を添附図
面に示す実施例に基づいて詳細に説明する。
第1図には、本考案の第一実施例が示されてお
り、この図の装置−線に沿つた断面が第2図
に示されている。これら第1図及び第2図におい
て、マスクのガラス基板100のうち、例えば表
面には、所定のパターンがクロムなどの材料によ
つて形成されている。この部分は、パターン領域
102としてハツチングにより図示されている。
マスク保護装置(以下単に「ペリクル」とい
う)104は、前述したパターン領域102を十
分にカバーできる開口部106を有するフレーム
108を中心に構成されている。この実施例で
は、ほぼ四角形状にフレーム108が形成されて
いる。
フレーム108のうち、ガラス基板100側と
反対側の端部には、薄膜110が張設されてお
り、ガラス基板100側の端部は、接着剤112
によつてガラス基板100に接着されている。す
なわち、ガラス基板100、フレーム108、薄
膜110及び接着剤112によつて閉空間114
が形成されている。
次に、フレーム108の各辺には、通気孔11
6が各々設けられている。詳述すると、通気孔1
16は、例えば0.5ないし2mm程度の径を有して
おり、フレーム108の外側において拡径部11
8に連続している。また、通気孔116と拡径部
118との接合部分には、段部120が形成され
ている。この段部120には、フレーム108の
外側からフイルタ122が接着剤124によつて
通気孔116に固定されるように接着されてい
る。このフイルタ122は、拡径部118と略同
一の径を有しており、段部120から剥れても通
気孔116の方向に侵入しないように、すなわち
フレーム108、ガラス基板100及び薄膜11
0で囲まれた空間内に脱落しないよう配慮されて
いる。
フイルタ122としては、空気は通すものの塵
埃は通さないものが使用され、メンプランタイプ
のものが好適である。例えば、日本ミリポア・リ
ミテツド社により輸入・販売されているMFミリ
ポアフイルター(商品名)、等が使用される。こ
れらのうち、MFミリポアフイルターは、セルロ
ース混合エステルを材料として通気性のあるフイ
ルターに形成したものである。なお、縮小投影型
露光装置等においてレチクルを装着使用する際に
おいては、投影レンズの縮小倍率と解像力の関係
から、一定以下例えば0.5ないし1μm程度の大き
さのゴミはデフオーカスして解像されない。従つ
て、このような露光時にデフオーカスされる程度
の大きさの塵埃を空気とともに通すようなフイル
タであつても実用上は差し支えないこともある。
次に上記実施例の全体的作用について説明す
る。フイルタ122は、フレーム108の外側す
なわち拡径部118側から接着剤124により段
部120に接着される。上述したようにガラス基
板100、フレーム108、薄膜110及び接着
剤112によつて閉空間114が形成されている
が、この閉空間114は、フイルタ122を介し
て外部空間と連設されることとなる。このため、
閉空間114内の圧力PIと外部空間すなわち外
気の圧力PO(第2図参照)との間に不均衡が生じ
てもフイルタ122を空気が通過して圧力の不均
衡が是正され、閉空間114内の圧力PIと外部
空間の圧力POとは薄膜110の変形を伴うこと
なく均衡することとなる。
従つて、気圧変動等を原因とする薄膜110の
出没変形が防止され、薄膜110自体の光学的特
性の変化や損傷等が防止されることとなる。
次に、第3図を参照しながら本考案の第2実施
例について説明する。この実施例は、両面ペリク
ルの場合であり、ガラス基板100の表面には、
前述した第1実施例と同様にペリクル104が取
付けられており、またガラス基板100の裏面に
は、ペリクル104と同様のペリクル204が取
付けられている。ペリクル104が矢印FAの如
くガラス基板100に取付けられたときに形成さ
れる閉空間114と、ペリクル204が矢印FB
の如くガラス基板100に取付けられたときに形
成される閉空間214とは、連通していないの
で、ペリクル204にも通気孔216、拡径部2
18が形成され、その段部(図示せず)には、フ
イルタ(図示せず)がペリクル104と同様に接
着されている。
次に、本考案の第3の実施例について説明す
る。第4図には第3実施例が示されており、この
図の−線に沿つた断面が第5図に示されてい
る。なお、前述した実施例と同様の構成部材につ
いては、同一符号を用いることとする。第4図及
び第5図において、ガラス基板100の表面に
は、パターン領域102を内包するようにペリク
ル304が接着剤312により接着して取付けら
れている。薄膜310が張設されたフレーム30
8の各辺には、通気孔316が各々設けられてい
る。この実施例では、フレーム308の各辺の内
角付近に通気孔316が設けられており、上述し
た拡径部118及び段部120は形成されていな
い。
通気孔316のうち、フレーム308の外側に
は、通気孔316の径より大きく通気孔316を
十分にカバーできる大きさのフイルタ322が接
着剤324によつて通気孔316をふさぐように
接着されている。すなわち、この実施例では、フ
イルタ322がフレーム308からはみ出してい
るが、第1ないし第2の実施例では、拡径部11
8及び段部120によりフイルタ122がフレー
ム308からはみ出すことがないよう考慮されて
いる。
この実施例でもフイルタ322の通気性により
薄膜310の変形を伴うことなくペリクル304
の内部の圧力と、外気の圧力とが均衡する点では
共通する。しかしながら、ペリクル304が取付
けられたマスクあるいはレチクルに対応できる露
光装置、検査装置などにおいて適宜の搬送手段に
より自動搬送を行う場合においては、搬送中にフ
イルタ322が剥れるおそれがある。しかし、第
1及び第2の実施例ではかかる不都合は生じな
い。
第6図は本考案の第4の実施例である。
本実施例のペリクル404においては、薄膜4
10が張設されたフレーム408の一部(又は全
部)を内フレームと外フレームとに分離された構
造とし、内フレームと外フレームとの間にフイル
タ422を挾み込むようにする。その内フレーム
と外フレームには対向して通気孔416が設けら
れている。それら内フレーム、外フレーム、フイ
ルター422はともに接着剤によつて固定され
る。
なお、上記いずれの実施例においても、通気孔
は、フレームの各辺のいずれかに少なくとも1つ
形成すれば目的を達成できる。また、その位置も
適宜でよい。更に、上記実施例は、いずれもペリ
クルが四角形状のフレームにより構成されている
場合であるが、その他の形状であつても本考案は
適用できるものである。
付言するに、ペリクルの内側にフイルタを取付
けるようにしても圧力を均衡させることはでき
る。しかしながら、この場合には、何らかの原因
でフイルタがはずれると、ペリクル全体をマスク
基板から取り外してフイルタを除去しなければな
らないという不都合がある。従つて上記各実施例
のように、フイルタは、ペリクルの内側に落ち込
まないように取付けるようにした方が好ましい。
また、フイルタは、必要に応じて1つの通気孔
に2以上設けるようにしてもよく、2以上のフイ
ルタの通気特性を異ならしめるようにしてもよ
い。
〔考案の効果〕
以上説明したように本考案によるマスク保護装
置によれば、フレームに少なくとも1つの通気孔
を設け、この通気孔にフイルタを設けることとし
たので、塵埃等の装置内への侵入を防止しつつ圧
力の均衡が図られることとなり、これによつて気
圧変動による薄膜の出没変形を防止して薄膜の光
学的特性の低下あるいは薄膜自体の接触、破損等
を防止することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案にかかるペリクルの第1実施例
を示す斜視図、第2図は第1図の装置の−線
に沿つた断面図、第3図は本考案の第2実施例を
示す分解斜視図、第4図は本考案の第3実施例を
示す斜視図、第5図は第4図の装置の−線に
沿つた断面図、第6図は第4実施例を示す断面図
である。 主要部分の符号の説明、100……ガラス基
板、102……パターン領域、104,204,
304……ペリクル、108,208,308…
…フレーム、110,210,310……薄膜、
116,216,316……通気孔、118,2
18……拡径部、120……段部、122,32
2……フイルタ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) マスク基板のパターン領域を含むように枠部
    材の一方の縁部が該マスク基板上に当接すると
    ともに、マスク基板の表面に対して一定の間隔
    を有するように枠部材の他方の縁部に膜手段が
    張設されたマスク保護装置において、 前記枠部材には少なくとも1つの通気孔が形
    成され、該通気孔には塵埃等の通過を阻止する
    フイルタ部材が、前記枠部材、マスク基板及び
    膜手段で囲まれた空間内に脱落しないように設
    けられていることを特徴とするマスク保護装
    置。 (2) 前記フイルタ部材は、前記通気孔の断面より
    も大きな形状を有する実用新案登録請求の範囲
    第1項記載のマスク保護装置。 (3) 前記フイルタ部材は、前記枠部材の外側から
    取付けられる実用新案登録請求の範囲第1項又
    は第2項記載のマスク保護装置。 (4) 前記フイルタ部材は、前記枠部材の中に埋設
    するように取付けられる実用新案登録請求の範
    囲第1項ないし第3項のいずれかに記載のマス
    ク保護装置。
JP1984125270U 1984-08-20 1984-08-20 マスク保護装置 Granted JPS6141255U (ja)

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JPS6141255U JPS6141255U (ja) 1986-03-15
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