JPH06295057A - ペリクル付ガラスマスク - Google Patents
ペリクル付ガラスマスクInfo
- Publication number
- JPH06295057A JPH06295057A JP8320393A JP8320393A JPH06295057A JP H06295057 A JPH06295057 A JP H06295057A JP 8320393 A JP8320393 A JP 8320393A JP 8320393 A JP8320393 A JP 8320393A JP H06295057 A JPH06295057 A JP H06295057A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- glass mask
- film
- thin film
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ペリクル外部の気圧の変動によるペリクル膜
の形状変化を防止し、信頼性の高いペリクル付ガラスマ
スクを提供することである。 【構成】 主表面に遮光性のパターンが形成されたガラ
ス板１３と、ペリクルフレーム１１との間に、欠落部１
５を有する金属薄膜１４を形成する。
の形状変化を防止し、信頼性の高いペリクル付ガラスマ
スクを提供することである。 【構成】 主表面に遮光性のパターンが形成されたガラ
ス板１３と、ペリクルフレーム１１との間に、欠落部１
５を有する金属薄膜１４を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造工程
のうちのフォトリソグラフィー工程に用いられるペリク
ル付ガラスマスクに関するものである。
のうちのフォトリソグラフィー工程に用いられるペリク
ル付ガラスマスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程には、ガラスマス
クのパターンを半導体ウェーハに転写してパターンを形
成するフォトリソグラフィー工程が必要である。この工
程でガラスマスクのパターン面に塵埃等の異物が付着し
ていると、これがウェーハにも転写され、パターン欠陥
が生じ、結果的に半導体装置の製造歩留りが低下する。
このようなことを防ぐために、従来はペリクル付ガラス
マスクを用いていた。
クのパターンを半導体ウェーハに転写してパターンを形
成するフォトリソグラフィー工程が必要である。この工
程でガラスマスクのパターン面に塵埃等の異物が付着し
ていると、これがウェーハにも転写され、パターン欠陥
が生じ、結果的に半導体装置の製造歩留りが低下する。
このようなことを防ぐために、従来はペリクル付ガラス
マスクを用いていた。
【０００３】図２は従来のペリクル付ガラスマスクを模
式的に示した正面図で、２１はペリクルフレーム、２２
はペリクル膜、２３は主表面に遮光性のパターンが形成
されたガラス板である。ペリクルフレーム２１の上面に
は、粘着剤を用いて透光性のペリクル膜２２を張設して
いる。ペリクルフレーム２１の下面にも粘着剤を塗布
し、ガラス板２３上にペリクルフレーム２１を装着して
いる。
式的に示した正面図で、２１はペリクルフレーム、２２
はペリクル膜、２３は主表面に遮光性のパターンが形成
されたガラス板である。ペリクルフレーム２１の上面に
は、粘着剤を用いて透光性のペリクル膜２２を張設して
いる。ペリクルフレーム２１の下面にも粘着剤を塗布
し、ガラス板２３上にペリクルフレーム２１を装着して
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】図２に示すように従来
のペリクル付ガラスマスクは、ペリクル外部の気圧の変
動に応じて、ペリクル膜２２が凸状になったり、凹状に
なったりするので、凸状のペリクル膜２２がガラスマス
クのケースに触れて傷ついたり、破れることがあり、ガ
ラスマスクのパターン面への塵埃等の付着防止というペ
リクル本来の機能を果さなくなるという問題点があっ
た。
のペリクル付ガラスマスクは、ペリクル外部の気圧の変
動に応じて、ペリクル膜２２が凸状になったり、凹状に
なったりするので、凸状のペリクル膜２２がガラスマス
クのケースに触れて傷ついたり、破れることがあり、ガ
ラスマスクのパターン面への塵埃等の付着防止というペ
リクル本来の機能を果さなくなるという問題点があっ
た。
【０００５】本発明の目的は、ペリクル外部の気圧の変
動によるペリクル膜の形状変化を防止し、信頼性の高い
ペリクル付ガラスマスクを提供することである。
動によるペリクル膜の形状変化を防止し、信頼性の高い
ペリクル付ガラスマスクを提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明におけるペリクル
付ガラスマスクは、主表面に遮光性のパターンが形成さ
れたガラス板と、ペリクルフレームとの間に、欠落部を
有する金属薄膜を形成することを特徴とするものであ
る。
付ガラスマスクは、主表面に遮光性のパターンが形成さ
れたガラス板と、ペリクルフレームとの間に、欠落部を
有する金属薄膜を形成することを特徴とするものであ
る。
【０００７】
【実施例】図１は、実施例のペリクル付ガラスマスクを
模式的に示した図で、（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は（Ａ）
のｂ方向から見た正面図である。
模式的に示した図で、（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は（Ａ）
のｂ方向から見た正面図である。
【０００８】本実施例が図２の従来例と異なる点は、主
表面に遮光性のパターンが形成されたガラス板１３とペ
リクルフレーム１１との間に金属薄膜１４を形成し、し
かもこの金属薄膜１４に欠落部１５を設けたことであ
る。この金属薄膜１４のパターンの幅は、ペリクルフレ
ーム１１の幅より若干太目にするのが望ましい。ペリク
ルフレーム１１へのペリクル膜１２や金属薄膜１４付ガ
ラス板１３の設置方法は、従来例と同様である。
表面に遮光性のパターンが形成されたガラス板１３とペ
リクルフレーム１１との間に金属薄膜１４を形成し、し
かもこの金属薄膜１４に欠落部１５を設けたことであ
る。この金属薄膜１４のパターンの幅は、ペリクルフレ
ーム１１の幅より若干太目にするのが望ましい。ペリク
ルフレーム１１へのペリクル膜１２や金属薄膜１４付ガ
ラス板１３の設置方法は、従来例と同様である。
【０００９】以上のように、金属薄膜１４の欠落部１５
がペリクル内部と外部の通気孔の役割を果たすので、ペ
リクル外部の気圧の変動によるペリクル膜１２の形状変
化は生じない。
がペリクル内部と外部の通気孔の役割を果たすので、ペ
リクル外部の気圧の変動によるペリクル膜１２の形状変
化は生じない。
【００１０】尚、上記実施例では、金属薄膜に欠落部を
１個設けたが、これに限るものではなく、複数個設けて
もよい。
１個設けたが、これに限るものではなく、複数個設けて
もよい。
【００１１】
【発明の効果】本発明では、主表面に遮光性のパターン
が形成されたガラス板と、ペリクルフレームとの間に、
欠落部を有する金属薄膜を形成しているため、ペリクル
外部の気圧の変動によるペリクル膜の形状変化を防止
し、信頼性の高いペリクル付ガラスマスクを提供するこ
とができる。
が形成されたガラス板と、ペリクルフレームとの間に、
欠落部を有する金属薄膜を形成しているため、ペリクル
外部の気圧の変動によるペリクル膜の形状変化を防止
し、信頼性の高いペリクル付ガラスマスクを提供するこ
とができる。
【図１】本発明の実施例のペリクル付ガラスマスクを模
式的に示した図である。
式的に示した図である。
【図２】従来例を模式的に示した正面図である。
１１………ペリクルフレーム １３………ガラス板 １４………金属薄膜 １５………欠落部
Claims (2)
- 【請求項１】 主表面に遮光性のパターンが形成された
ガラス板と、ペリクルフレームとの間に、欠落部を有す
る金属薄膜を形成したことを特徴とするペリクル付ガラ
スマスク。 - 【請求項２】 金属薄膜がクロムによって形成されてい
ることを特徴とする請求項１に記載のペリクル付ガラス
マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8320393A JPH06295057A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | ペリクル付ガラスマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8320393A JPH06295057A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | ペリクル付ガラスマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06295057A true JPH06295057A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=13795776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8320393A Withdrawn JPH06295057A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | ペリクル付ガラスマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06295057A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100878723B1 (ko) * | 2001-07-30 | 2009-01-14 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 펠리클 |
-
1993
- 1993-04-09 JP JP8320393A patent/JPH06295057A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100878723B1 (ko) * | 2001-07-30 | 2009-01-14 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 펠리클 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000704 |