JPH0545710U - ペリクル用フレーム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本考案はペリクル用フレームのサイズが大きく
なっても、反り、ゆがみがなく、少なくともフレーム内
側に無反射性の薄膜を形成し、露光の際の乱反射防止加
工を施した、フレームを提供することを目的とするもの
である。 【構成】プロジェクションアライナー、ステッパ用フォ
トマスクやレティクルに用いる防塵用ペリクル（２）形
成の際、光線透過率の高い薄膜を形成したペリクル用の
フレーム（１）において、少なくともフレーム内側に酸
化クロムを単層もしくは複数層に施してなる、ガラス基
材を用いたフレームである。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

プロジェクションアライナー、ステッパ用のフォトマスク、レティクルに用い る防塵用に使用するペリクルを形成する際のフレームに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

従来からフォトマスクやレティクルなどの透明基板（以下マスクと記す）の防 塵用に光線透過率の高い薄膜（０．８５μｍ〜１０μｍ程度の透明フィルム）を 設けたペリクル用のフレームは、金属製やプラスチック製のフレームが使用され ている。例えば、アルミニウム合金やプラスチック製のフレームの四隅を４ｍｍ 〜２０ｍｍ程度コーナーをカットして、ニトロセルロースやセロースアセテート 等の光線透過率の高い素材を形成したペリクルとして実開平２−２９０４４号公 報で公開されている。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、前述のアルミニウム合金やプラスチックフレームにおいてはマ スクサイズが２００ｍｍを超える場合に、フレーム加工時の残留歪み、内部応力 を除去できず、フレームの反り、歪みが生じペリクルの成膜に悪い影響を与えて いる。又アルミニウム合金やプラスチックフレームは傷がつき易いため傷の部分 にパーティクル（微細なチリやゴミ）が附着し、フレームからのチリやゴミの落 下が問題となっている。そこで本考案は、サイズが大きくなってもフレームに反 りや歪みがなく、露光の際も乱反射を起こさない無反射性のコーティングを施し た、ガラス基材によるペリクル用のフレームを提供することを目的とするもので ある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】

本考案はプロジェクションアライナー、ステップ用のフォトマスクやレティク ルに用いる光線透過率の高い薄膜を設けたペリクルにおいて、少なくとも、フレ ーム内側に、酸化クロムを単層もしくは複数層に施してなるガラス基材を用いた フレームである。

【０００５】 本考案を詳細に説明すると、ペリクル用のフレーム基材として、石英ガラス、 低膨張ガラス等が使用することができるが、例えば、石英ガラスは、熱膨張率が 他に比べ１桁小さく（熱膨張係数、７．５×１０^-7以下）、剛性が高く、歪みに よる成膜時の不良発生を防ぎフレーム品質を向上させるものである。 又、マスクを用いて紫外光による露光の際、光に対しての反射防止用の加工を 施すが、これには、酸化クロムを単層もしくは複数層（２乃至３層が適当である ）に、フレーム内側又は両面にイオンプレーティング、スパッタリング、真空蒸 着等より適宜選択して無反射性にしたものである。この理由は光が反射すると安 定した露光が防げられるためである。

【０００６】

【作用】

本考案の石英ガラスによるペリクル用フレームによって、ペリクル（厚さ０． ８５μｍ〜１０μｍ程度）の成膜が正確にでき、大きなマスクのために、フレー ムを大きくしても、フレームに反り、ゆがみが発生しないのでウエハーに対して も正確な露光精度が保持することができ、高い精度の微細パターンの再現が可能 となる。

【０００７】

【実施例】

本考案を図に基づき実施例を説明する。図１は本考案の一実施例による石英ガ ラスを用いたペリクル用フレームの斜視図である。 ペリクル用フレーム（１）の基材として、石英ガラス、低膨張ガラス等が用い ることが可能であるが、前述したように本考案においては熱膨張率が小さく、耐 久性の高い石英ガラスを使用した。フレーム（１）の高さは、３ｍｍ〜７ｍｍ程 度、厚さは５ｍｍ〜１０ｍｍ程度がよく、また、フレームの大きさはマスクの大 きさに合わせて形成する。 このフレーム（１）に厚さ０．８５μｍ〜１０μｍ程度で、光線透過率９８％ 以上のニトロセロース又はセルロースアセテートをスピンコート法等により成膜 してペリクル（２）とする。図２は一実施例によるマスクのパターン面を内側に して、上方より紫外光によりペリクルを通してウエハー上に露光、パターニング をしている説明図である。この場合、紫外光線（５）がペリクル用フレーム内で 乱反射等が起きないよう、予め、酸化クロムを単層もしくは２層乃至３層にイオ ンプレーティング等により薄膜を形成しておくことにより安定した精度のよい露 光が可能となる。

【０００８】

【考案の効果】

本考案のペリクル用フレームは基材として、石英ガラスを使用することにより フレームが大きくなっても、反り、歪み、を防止することができるとともに、傷 がつきにくく、フレームからのパーティクル等の落下の心配がない。又、工程中 あるいは使用前に薬品等による洗浄が可能であり、長時間使用しても変化が少な いのでペリクルを張りかえることにより再利用ができるフレームである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例による石英ガラスを用いたペ
リクル用フレームの斜視図である。

【図２】本考案のペリクル用フレームを用いてのウエハ
ーへの露光パターニングを示す一実施例の説明図であ
る。

【符号の説明】

１ … 石英ガラスによるペリクル用フレーム ２ … ペリクル ３ … マスク ４ … パターン ５ … 紫外光線 ６ … ウエハー

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】プロジェクションアライナー、ステップ用
   のフォトマスクやレティクルに用いる光線透過率の高い
   薄膜を設けたペリクルにおいて、少なくともフレーム内
   側に、酸化クロムを単層もしくは複数層に施してなるガ
   ラス基材を用いたフレーム。