JPS6087327A - クロムマスクの製造方法 - Google Patents

クロムマスクの製造方法

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Publication number
JPS6087327A
JPS6087327A JP58195818A JP19581883A JPS6087327A JP S6087327 A JPS6087327 A JP S6087327A JP 58195818 A JP58195818 A JP 58195818A JP 19581883 A JP19581883 A JP 19581883A JP S6087327 A JPS6087327 A JP S6087327A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
mask
protective film
chromium
desired pattern
Prior art date
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Pending
Application number
JP58195818A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiteru Urino
売野　芳輝
Yoshio Sato
良男 佐藤
Kiyoshi Matsui
清 松井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Akai Electric Co Ltd
Original Assignee
Akai Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Akai Electric Co Ltd filed Critical Akai Electric Co Ltd
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Publication of JPS6087327A publication Critical patent/JPS6087327A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/48—Protective coatings

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、マスク寿命を向上させるためなされたクロム
マスクの製造方法に関するものである。
半導体素子や各種電子部品の製造工程において各種基板
あるいは薄膜を微細加工するためにフォトリソグラフィ
ー技術が利用されているが、このフォトリソグラフィー
技術の実施に当ってはクロムマスクを欠かすことができ
ない。
このクロムマスクは従来においてはガラス等の透明な基
板表面にスパッター法等により全面にクロム膜を形成し
た後、レジスト膜をスピンナー法によって塗布し次いで
露光、現象、エツチング処理を行って所望のパターンの
クロム膜が残されるようにして製造され又いる。
しかしこのようにして製造されたクロムマスクはガラス
基板表面から約１，０００大の厚さのクロムパターンが
突出された構造になっているために。
被処理体表面に密着露光されて使用される時クロムパタ
ーンが傷付き易くなりマスクとしての寿命が短くなる欠
点があった。
本発明は以上の問題に対処してなされたもので。
マスク基板表面にクロム膜を覆うように保護膜を形成し
次いでこの保護膜表面を平坦化処理づるように構成して
従来欠点を除去するようにしたクロムマスクの製造方法
を提供することを目的とするものである。以下図面を参
照して本発明実施例を説明する。
第１図乃至第４図は本発明実施力によるクロムマスクの
製造方法を示す断面図で、以下工程順に説ｇＡ″ｆ、る
。
工程Ａ：第１図のように、ガラス等のような透明なマス
ク基板１を用意しその一表面にクロム膜２をスパッター
法等により全面に約１，０００＾の厚さに形成する。
工程Ｂ：第２図のように、周知のフォトリソグラフィー
技術を適用してクロム＃２の不要部を除去し、所望パタ
ーンのクロム膜２′ヲ形成する。
工程Ｃ：第３図のように、マスク基板１の一表面に上記
クロム膜２′を榎うよ５　Ｋ　５ｉＯｚ　（酸化シリコ
ン膜）等の保護膜３をスパッター法等により全面に約５
，０００〜１０．０００１の厚さに形成する。
この時クロム膜２′の上部は突出して形成される。
工程Ｄ＝第４図のように、保５ｒＩＡａに対し研磨法等
により平坦化処理を施こし上記突出部を除去する。以上
によりクロムマスクが製造される。
このようにして得られたクロムマスクは所望パターンの
クロム族２′はマヌク基板六面から突出していす保醤膜
３によって榎われた構造になっている。したかつて密着
露光に使用される時傷を付けられるおそれはなく、マス
クとしての寿命を向上させることができる。またマスク
の洗浄処理を容易に行うことができる。さらに保護膜３
表面は平坦化されているので’ｓ’ｌｒ元の際散乱され
る元素を減少させる利点も得られる。
保護膜としては露光の際の紫外線、赤外線、Ｘ線等の九
の通過に対し悪影響を与えるものでなければ任意の材料
を選択することができる。また保護膜を平坦化処理する
手段としては研磨性以外の手段を用いてもよい。
以上述べて明らかなように本発明によれば−マスク基板
表面にクロム膜な徨うように保護膜ン形成し次いでこの
保護膜表面を平坦化処理するように構成したものである
から、従来欠点を除去することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図乃至第４図は本発明実施列を工程順に示す断面図
である。 ｌ・・・マスク基板、２．２′・・・クロム膜、３−・
・保護膜。 特許出願人　赤井電機株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. マスク基板の一表面に所望パターンのクロム膜を形成し
    、上記マスク基板−表面に上記りｎム膜を覆うように保
    護膜を形成した後この保護膜表面を平坦化処理すること
    を特徴とするクロムマスクの製造方法。
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