CN105739234B - 防尘薄膜组件 - Google Patents

Abstract

提供一种给予贴附后的光掩模的形状的影响极小，可大幅度抑制光掩模的变形的防尘薄膜组件。本发明为，由长边和短边形成的矩形的防尘薄膜组件框架11构成的防尘薄膜组件10，在其防尘薄膜组件框架11上掩模粘着层12至少在2处上形成的同时，其掩模粘着层12之间的领域中无间隙地形成非粘着性的树脂形成的弹性体层13。然后，本发明的掩模粘着层12在包括角部的防尘薄膜组件框架11上的部位形成为优选，也可进在防尘薄膜组件框架的直线部形成。再者，该掩模粘着层，其沿着防尘薄膜组件框架内侧的长度的总和为防尘薄膜组件框架11的内周长的10％至70％的范围为优选。

Description

防尘薄膜组件

技术领域

本发明涉及在半导体装置，IC封装，印刷基板，液晶面板或有机EL面板等的制造中作为防尘器使用的防尘薄膜组件。

背景技术

在LSI，超LSI等的半导体或液晶面板等的制造中，要对半导体晶片或液晶用玻璃板上进行紫外光照射，来进行图案的制作，此时如使用的光掩模上有灰尘附着，该灰尘就会将紫外光遮蔽，反射，由此就会发生转印的图案的变形，短路等，使品质受损。

因此，这些的作业通常无尘室中进行，但是即使如此也难总是保持光掩模的清洁。因此，要在光掩模表面上将作为防尘器的防尘薄膜组件贴附后再进行曝光。在该场合，异物不在光掩模的表面上直接附着，而是在防尘薄膜组件上附着，这样，光刻时只要将焦点对准光掩模的图案，防尘薄膜组件上的异物就与转印没有关系了。

一般，防尘薄膜组件，是将透光良好的由硝酸纤维素，醋酸纤维素或氟树脂等构成的透明的防尘膜接着于由铝，不锈钢，工程塑料等构成的防尘薄膜组件框架的一个面上而形成。然后，在防尘薄膜组件框架的另一个面上，设置为了将防尘薄膜组件安装在光掩模上的由聚丁烯树脂，聚醋酸乙烯基树脂，丙烯酸树脂，有机硅树脂等构成的粘着层以及以保护粘着层为目的的离模型层(分离片)。

近年，伴随着曝光图案的细微化，防尘薄膜组件的贴附所造成的光掩模的变形也就成了问题。光掩模和防尘薄膜组件框架通过掩模粘着剂材料结合在一起，防尘薄膜组件框架的形状对光掩模的形状施加影响，由此，光掩模表面描绘的图案就会发生变形，所以期望得到一种对安装后的光掩模形状影响极小的防尘薄膜组件。

作为上述课题的解决方法，有例如可以使掩模粘着剂材料变得柔软以及使防尘薄膜组件框架的平面度变高的提议。但是，这些的提议，虽然可以将防尘薄膜组件框架对光掩模形状的影响减少，但是不充分。其原因为，防尘薄膜组件框架以及光掩模的平面度，都不完美，所以根据它们的组合方式，其影响可以变大，也可以变小。

因此，也就有了从根本上解决问题的提议，即使防尘薄膜组件框架的刚性尽量变小，使其对光掩模的形状的追从性变好，例如，可以使用树脂等的刚性低的材质，使防尘薄膜组件框架的高度变低或者对截面形状进行改变，例如，使截面积减小(专利文献1，2以及3参照)。

先行技术文献

专利文献

【专利文献1】日本特开2011－7933

【专利文献2】日本特开2011－7934

【专利文献3】日本特开2011－7935

但是，为了在对防尘膜的贴附状况进行维持的同时又要从制造到贴附的作业中不发生变形以及防尘膜的褶皱，防尘薄膜组件框架的刚性越高越优选，刚性过大地降低，对制造以及处理会造成障碍。因此，这些提议在实际中不能使防尘薄膜组件框架的刚性实质性降低。

再者，为使防尘薄膜组件框架的高度变低，不失为提高对光掩模变形的追从性的有效的手段，但是在该场合，有因为防尘膜和光掩模的图案面的距离变近，从而不能得到本来的散焦性的问题。再者，如为了将截面积减小使刚性降低，在防尘薄膜组件框架的内面设置凹洞等，有可能产生异物。

因此，现在，特别需要的是，提供一种在维持适度的框架刚性以及没有制造以及使用上的问题的同时，尽可能维持高的散焦距离以及在贴附后对光掩模的形状的影响极小的防尘薄膜组件。

因此，本发明，就是鉴于上述情况而成的，本发明的目的为，提供以一种对光掩模的形状影响极小，从而对光掩模的变形进行抑制的防尘薄膜组件。

本发明的发明人，为达成上述的目的，进行了深入的研究，得知如果将掩模粘着层在防尘薄膜组件框架的框面的全部连续地配置的话，对光掩模的缔结力过强，贴附后的光掩模的变形大。通过进一步的研究，发现如仅在防尘薄膜组件框架一部分上形成掩模粘着层，同时，在掩模粘着层之间的领域无间隙地形成非粘着性的弹性体层的话，与掩模粘着层在全周上连续地形成的以往的场合相比，对光掩模的缔结力减缓，从而可以将对光掩模的形状的影响抑制在极小，从而完成了本发明。

发明内容

即，本发明的防尘薄膜组件，由具有长边和短边的矩形的防尘薄膜组件框架构成，其特征在于，掩模粘着层在该防尘薄膜组件框架上的至少2处上形成，同时，在掩模粘着层与掩模粘着层之间的领域，无间隙地形成由非粘着性的树脂形成的弹性体层。

另外，所述该掩模粘着层，优选在长边和短边的任一方或者其两方的各边的至少1处上形成。

再者，本发明的掩模粘着层形成部位优选含有防尘薄膜组件框架的角部，但是仅在防尘薄膜组件框架的直线部分上形成也可。然后，该掩模粘着层，优选其沿防尘薄膜组件框架内侧上的长度的总和为在防尘薄膜组件框架的内周长的10％至70％的范围。

进一步，本发明的掩模粘着层，各个的表面优选进行平面度为30μm以下的平面加工，各个的厚度也以最大值和最小值的差为0.1mm以下为优选。

另外，本发明的弹性体层优选为在对其进行表面为平面度30μm以下的平面上加工的同时，与掩模粘着层的表面为同一平面，其硬度为硬度计硬度(Durometer-hardness)A50以下，其材质优选从由SBS树脂，SEBS树脂，SEPS树脂，氟系树脂，有机硅树脂以及氟改性有机硅树脂形成的群中选择。

发明的效果

根据本发明，由于在至少2处形成的掩模粘着层之间的领域上形成非粘着性的由树脂形成的弹性体层，与掩模粘着层在防尘薄膜组件框架的全周上连续地形成的以往的场合相比，防尘薄膜组件框架和光掩模的缔结状态柔和，防尘薄膜组件框架对光掩模的形状的影响可以减少，因此，可以得到对防尘薄膜组件的安装后的光掩模的变形进行大幅度抑制的效果。

附图说明

图1本发明的防尘薄膜组件的一实施方式的斜视图。

图2本发明的防尘薄膜组件的一实施方式的平面图。

具体实施方式

以下，对本发明的一实施方式基于附图进行详细说明，但是本发明并不限于此。

本发明的防尘薄膜组件，在光掩模的变形特别成问题的半导体的制造的用途上适用时，特别有效果，但是其用途不限定于此。例如，它不仅适用一条边为150mm前后的半导体的制造，在一条边为200至300mm的印刷基板的制造用途以及一条边达到500至2000mm的液晶，有机EL面板的制造用途中，只要具有由于防尘薄膜组件贴附为原因的光掩模的变形问题，都可以使用本发明的防尘薄膜组件。

图1为，本发明的防尘薄膜组件10的一实施方式的斜视图，是从防尘薄膜组件10的掩模粘着层12侧观测的图。通常，在掩模粘着层12的表面上，安装保护用的分离片，图1中，分离片的图示被省略。

图1的具体例为，在构成矩形的防尘薄膜组件框架11的框的长边以及短边的交界的4个角部形成掩模粘着层12，各掩模粘着层12之间的领域，弹性体层13无间隙地形成。

再者，作为有该掩模粘着层12形成的实施方式，在图1的实施方式例以外，也可有各种各样的方式，可以是掩模粘着层12在防尘薄膜组件框架11的长边和短边的任一方或者两方上形成。

例如，图2为其他的方式例。图2(a)为，掩模粘着层12在至少2处上，即在一个长边和其对边上分别形成的方式例，图2(b)为，在一条短边和其对边上分别形成的方式例。然后，掩模粘着层12之间的领域，有非粘着性的弹性体层13无间隙地形成。

再者，图2(c)为，长边和短边的两方的各边的中央附近分别有掩模粘着层12形成的方式例，在4处的掩模粘着层12之间的领域，分别有非粘着性的弹性体层13无间隙地形成。进一步，图2(d)为，长边和短边的两方的各边的中央附近和4个角部上有掩模粘着层12分别形成的方式例，在该例的8处形成的掩模粘着层12之间的领域，有非粘着性的弹性体层13无间隙地形成。

长边以及/或者短边的面上形成掩模粘着层12的场合，由于通过掩模粘着层12作用于光掩模上的缔结力的分布性良好，更令人满意，所以优选长边以及/或者短边的掩模粘着层12，在相对边上的对称的位置上也形成。

再者，掩模粘着层12，在图1以及图2(d)的实施方式例中，由于在包含防尘薄膜组件框架11的角部的部位形成，由此在给予光掩模的影响减少的同时，由于在容易变成掩模粘着层12的剥离或者防尘薄膜组件10的脱落的起点的角部接着，所以具有可信性高的优点。特别是，在曝光机的水平设置时光掩模的挠曲量大的大型的光掩模以及防尘薄膜组件的场合，如果与图1以及图2(d)的实施方式例那样，掩模粘着层12在至少含有角部的部位设置，更具有良好的效果。

再者，在边长超过500mm的那样的大型的防尘薄膜组件的场合，由于防尘薄膜组件框架11自身的自重造成的挠曲大，如果象图2(d)那样，在边的内部也有掩模粘着层12形成，以便不使由于自重挠曲在再弹性体层13和光掩模之间形成间隙，优选。图2(d)的实施方式例，为各边的内部的中央附近和角部上分别有掩模粘着层12形成。

掩模粘着层12的形成处的个数以及形成位置，并不特别限定上述，可以根据需要适宜设定。但是，为了使通过掩模粘着层12传导的缔结力具有良好的兼具性(无偏向)施加于光掩模上，优选掩模粘着层12在防尘薄膜组件框架11的长边或者短边的至少2处上形成为优选。再者，长边或者短边的掩模粘着层12，如图2上所示的样，在相对的边上对称的位置上也形成为更优选。

另外，图2(a)，(b)以及(c)的实施方式为，掩模粘着层12是仅在不包含防尘薄膜组件框架11的角部的直线部分上形成的例子。大型的光掩模或者防尘薄膜组件的场合，由于光掩模的自重挠曲会造成防尘薄膜组件框架11的角部易于剥离，这样的方式例採用困难，半导体等的用途中的边长为200mm以下的小型光掩模的场合，没有光掩模的自重挠曲的问题，可以适用。

在图2(a)以及图2(b)的实施方式例中，在长边和短边的任一方的各边上掩模粘着层12仅在1处形成，防尘薄膜组件框架11全体也仅为2处，少，但是掩模粘着层12和弹性体层13的接缝也少，所以具有制造容易，平面度也可以提高的优点。

再者，图2(c)的实施方式例中，仅在长边和短边的各边的1处形成掩模粘着层12，由于在防尘薄膜组件框架11全体上有4处形成，所以适用于掩模粘着层12的面积需要多的的场合。

作为有必要形成所述掩模粘着层12的形成的领域，由于只需要能够将防尘薄膜组件框架11的自重进行长期间安定支持的面积，所以可以兼顾掩模粘着层12使用的粘着剂的粘着力来进行决定。即，掩模粘着剂的粘着力大的场合，小的面积即可；粘着力小的场合，需要大的面积。

但是，上述的实施方式例的任一场合，沿着防尘薄膜组件框架11的内侧的掩模粘着层12的长度的总和，以防尘薄膜组件框架11的内周长(包括角部的弯曲部)的10％至70％的范围为优选。

掩模粘着层12的长度的总和比10％小的场合，有从光掩模上剥离等的危险，可信性上有问题，再者，如超过70％，光掩模和防尘薄膜组件框架11的缔结力变强，不能得到所期望的效果。

作为所述掩模粘着剂12的材质，可以使用橡胶系粘着剂，聚氨酯系粘着剂，丙烯酸系粘着剂，SEBS粘着剂，SEPS粘着剂，有机硅粘着剂等公知的粘着剂。

再者，为了光掩模的贴附后的安定性的确保和为了进一步使给予光掩模的防尘薄膜组件10的影响进一步减少，掩模粘着层12的各个表面，以进行平面度为30μm以下的平面上加工为优选，它们的高度或者厚度在各处的最大值和最低值的差以0.1mm以下为优选。

另一方面，弹性体层13，在各掩模粘着层12之间的领域无间隙地形成。然后，该弹性体层13，由于没有粘着力，如该弹性体层13和掩模粘着层12的接缝如为凹凸状，则防尘薄膜组件内外会通气，所以其形成优选连例如间隙的那样的微小的平面的不平也没有。

再者，弹性体层13的表面，与掩模粘着层12同样，优选进行对其进行平面度在30μm以下的平面上加工同时，将其表面加工为与掩模粘着层12的表面相同的高度，形成同一平面。所述弹性体层13的硬度优选为硬度计硬度A50以下，由此，由于贴附后的反弹力小，给予光掩模的影响变小，再者，由于与光掩模的密着性被提高，所以可信性也被提高。

作为所述弹性体层13的材质，以从由SBS树脂，SEBS树脂，SEPS树脂，氟系树脂，有机硅树脂以及氟改性有机硅树脂形成的群中选择为好。SBS树脂，SEBS树脂，SEPS树脂等的热可塑性树脂加工性良好，具有易于与其他粘着剂组合的优点。

再者，氟系树脂，有机硅树脂以及氟改性有机硅树脂，具有极好的耐光性的优点。在选择有机硅树脂或者氟改性有机硅树脂的场合，可以选择硬度的低的材料，例如，针入度50以上的凝胶，这样还可以减少对光掩模的影响。

然后，关于掩模粘着层12以及弹性体层13的材质的选择，当然，掩模粘着剂应当对防尘薄膜组件框架11的重量具有充分的接着力，但是优选在掩模粘着层12以及弹性体层13形成时，易于组合使用之物。

关于掩模粘着层12以及弹性体层13的形成方法，可以根据使用的不同材质，进行最适的选择即可。例如，作为掩模粘着层12选择丙烯酸系粘着剂，作为弹性体层13选择SEPS树脂的场合，首先作为掩模粘着层12，在防尘薄膜组件框架11的一部分上将丙烯酸系粘着剂涂布，在进行平坦化处理的同时进行溶媒干燥硬化处理。然后，在防尘薄膜组件框架11的剩余部分上，作为弹性体层13将SEPS树脂加热涂布，然后，一边加热一边进行平坦化处理，如此，就可以使弹性体层13形成为与在先平坦化的掩模粘着层12呈同一平面。

再者，作为另一个例子，掩模粘着层12选择有机硅粘着剂，弹性体层13选择氟改性有机硅树脂的场合，首先，作为掩模粘着层12在防尘薄膜组件框架11的一部分上将有机硅粘着剂涂布，将溶剂干燥至不流动程度。然后，在防尘薄膜组件框架11的剩余部分上作为弹性体层13将氟改性有机硅树脂涂布，两方一起进行平坦化处理。其后，加热将溶媒完全除去，硬化，同时得到掩模粘着层12和弹性体层13。

作为防尘薄膜组件框架11的材质，可以使用铝合金，钢铁，不锈钢，黄铜等的金属，PE，PA，PEEK等的工程塑料，GFRP，CFRP等的纤维复合材料等公知物。再者，优选在其表面进行黒色处理的同时，根据需要进行防止发尘的涂装等的表面处理。例如，使用铝合金的场合，优选进行氧化膜处理以及化成处理等的表面处理，在铁，不锈钢等的场合优选进行黒色镀铬等的表面处理。

在图1的实施方式例中，防尘薄膜组件框架11的截面形状，为一般的矩形形状，但是也可以为了降低刚性以减少对光掩模的影响，辅以在防尘薄膜组件框架11的侧面进行切角以及挖坑来减少截面积。

在掩模粘着层12的表面，通常为了保护的目的设置厚度为50μm至300μm程度的PET制薄膜等的表面赋予剥离性的分离片(未图示)，但是优选通过对防尘薄膜组件的盛装盒子或者对防尘薄膜组件的支持装置等进行改进来将该分离片省略。

防尘薄膜组件框架11的内面，为了对浮遊异物进行捕捉以及进行固定，优选涂布丙烯酸系粘着剂，有机硅系粘着剂等的粘着性物质(未图示)。再者，优选仅在防尘薄膜组件框架11的内面，或者在其全面上，为了防止发尘，形成丙烯酸系树脂，氟系树脂等的非粘着性树脂的被膜(未图示)。这些粘着性树脂，非粘着性树脂的被膜的形成方法为，喷雾，浸渍，粉体涂装，电涂装等的公知的方法。

再者，在防尘薄膜组件框架11的外面，为了便于操作等目的，优选设置多个夹具孔16以及沟等(未图示)，再者，优选通过机械刻印或激光刻印，刻印上模型号，制造号以及条形码等的标记(未图示)。

进一步，为了进行防尘薄膜组件10的贴附后的内部的气压调整，可设置通气孔17，其外侧，为了防止异物的侵入，可设置由PTFE等的多孔质薄膜形成的过滤器18。此时该过滤器18的安装，可以通过设置由适宜的材质构成的粘着层等，然后在防尘薄膜组件框架11的外面上直接贴附等来进行。这些通气孔17以及过滤器18的配置位置，个数以及其形状，可以对要求的通气性以及操作的情况等进行综合考量来决定。

防尘膜15，根据使用的曝光光源，从纤维素系树脂，氟系树脂等的材料中进行最适的选择，膜厚从透过率，机械的强度等的观点，优选从0.1至10μm程度的范围选择来进行制作，同时，根据需要，赋予反射防止层也可。然后，该防尘膜15的接着层14，可以使用丙烯酸系接着剂，氟系接着剂，有机硅系接着剂等公知的接着剂来形成。

本发明，掩模粘着层12，在防尘薄膜组件框架11的至少2处形成的同时，由于在至少2处的掩模粘着层12之间的领域，无间隙地形成由非粘着性的树脂形成的弹性体层，这样通过掩模粘着层12得到的与光掩模的缔结力，与防尘薄膜组件框架11的全周上连续地形成掩模粘着层12的以往的场合相比，变得缓和。因此，防尘薄膜组件框架11的形状给光掩模的影响减少，所以可以对防尘薄膜组件10的安装后的光掩模的变形进行大幅度的地抑制。

再者，各掩模粘着层12之间没有形成掩模粘着层12的领域，没有粘着性但具有柔软性的弹性体层13与掩模粘着层12以同一平面形成，并且，该弹性体层13，具有在光掩模表面上密着，将光掩模内密闭的功能，因此，在防尘薄膜组件框架11所给予光掩模形状的影响被减少的同时，也具有防止异物向防尘薄膜组件10内的侵入的功能。

再者，本发明的场合，对为了提高对光掩模的追从性从而将防尘薄膜组件框架11本身的高度减低或者使其刚性变小的必要性就变小了，所以可维持高的异物散焦性能。

实施例

<实施例1>

以下，用实施例来对本发明进行具体地说明，在实施例1中，首先要制作由图1所示的斜视图的防尘薄膜组件10，对该制作过程进行说明。

防尘薄膜组件框架11，为将A5052铝合金进行机械切削而制成的，外尺寸149x113mm，内尺寸为145x109mm，角部的内侧R3mm，角部的外侧R5mm，高度4.7mm。

再者，在防尘薄膜组件框架11的长边的中央部，设置直径0.5mm的通气孔17和，在各边的角部附近设置操作用的非貫通的直径1.6mm，深1.2mm的夹具孔16。然后，在稜部进行C0.2mm程度的切角(未图示)，对该表面，进行喷砂得到全面为Ra0.6程度后，进行黒色氧化膜处理。

然后，将如此处理的防尘薄膜组件框架11用界面活性剂和纯水进行良好洗净，干燥。其后，如图1的实施方式的那样的具有长边以及短边的防尘薄膜组件框架11的角部的4处上，将作为掩模粘着剂12的有机硅粘着剂(商品名；KR3700，信越化学工业(株)制)用搭载在3轴直交机器人的空气加压式分布器进行涂布。

此时，所述掩模粘着层12，在长边和短边，都从角部进行20mm的范围的涂布，沿着该防尘薄膜组件框架11的内侧的长度的总和为154.84mm。另一方面，由于防尘薄膜组件框架11的内周长度502.84mm，所以掩模粘着层12的沿着防尘薄膜组件框架11的内侧的长度的总和为，防尘薄膜组件框架11的内周长的约30.8％。

然后，涂布的掩模粘着层12，原封不动地进行1.5h的风干，使溶媒自然干燥。再者，在防尘薄膜组件框架11的相同的面上，掩模粘着层12没有设置领域上，将作为弹性体层13的氟改性有机硅树脂(商品名；SIFEL，信越化学工业(株)制)用空气加压式分布器涂布。

将所述掩模粘着层12和弹性体层13一起，介于涂有离型剂的厚度125μm的PET制片，压在平面度为5μm的不锈钢制的平板上，进行平坦化处理，然后原封不动地加热至110℃，使掩模粘着层12和弹性体层13半硬化。其后，从掩模粘着层12和弹性体层13将平坦化处理时使用的分离片剥离除去的同时，加热至150℃，使其完全硬化，对该完成的掩模粘着层12和弹性体层13的平面度进行测定，平面度为20μm。

然后，在设置掩模粘着层12和弹性体层13的防尘薄膜组件框架11的面的相反的面上，将作为防尘膜接着层的氟系树脂(商品名；CYTOP，旭硝子(株)制)用搭载在3轴直交机器人上的空气加压式分布器涂布，将溶媒干燥得到防尘膜接着层14。再者，将由PTFE多孔质膜形成的过滤器18用丙烯酸粘着片进行接着，使其将长边中央的通气孔17覆盖。

在实施例1中，作为防尘膜材料的氟系树脂(商品名；CYTOP，旭硝子(株)制)在成膜基板(300mm有机硅晶片)用旋涂法成膜，溶媒干燥后，将膜与基板外形同尺寸的暂用框接着，从成膜基板剥离，得到厚度0.28μm的剥离膜。将该剥离膜在防尘薄膜组件框架11上的防尘膜接着层14上加热接着，成为防尘膜15，将防尘薄膜组件框架11的外侧的多余膜用刀切断除去，得到防尘薄膜组件10。

另外，在实施例1中，省略了保护掩模粘着层12的表面的分离片，但是根据需要也可以设置。在该场合，可以使用在厚度100至200μm范围的PET薄膜等的表面上，涂布与粘着层材质适应的离型剂，按所希望的形状进行切断加工得到之物。

最后，对该防尘薄膜组件10进行检测，准备150x150x厚度6mm，平面度0.3μm的石英玻璃制光掩模，将防尘薄膜组件10贴附。此时的防尘薄膜组件10的贴附加压力为5kgf，加压时间为3min。

然后，光掩模和防尘薄膜组件10接着后，从光掩模的里面对掩模粘着层12和弹性体层13的接着状态进行目视确认，得知防尘薄膜组件框架11的全周上，光掩模和防尘薄膜组件10以充分的宽被接着(密着)，处于良好的接着状态。

再者，对掩模粘着层12和弹性体层13的8处接缝也进行目视确认，得知，虽然接着宽有若干不同一，但是，没有空气潴留以及宽度变细等的有可能使防尘薄膜组件内外的通气危险的征兆。进一步，对于该具有防尘薄膜组件的光掩模基板，对其平面度进行了确认，得知，防尘薄膜组件贴附前的光掩模单独时的值为0.3μm，接着后的值为0.31μm，因此平面度也仅有非常小的变化量。

<实施例2>

在实施例2中，使用与上述实施例1同样地制作的同规格的防尘薄膜组件框架11，以同样的工序制作防尘薄膜组件10。然后，在实施例2中，使用与实施例1不同的图2(c)所示的例子，将掩模粘着层12，在防尘薄膜组件框架11的各长边的中央部100mm的长度上设置，再者，在各短边的中央部也在60mm的长度上也进行设置，在防尘薄膜组件框架全体4处上形成的同时，各掩模粘着层12之间的包括角部的剩余的4处上设置弹性体层13。

然后，该实施例2中，掩模粘着层12的沿着防尘薄膜组件框架11的内侧的长度为320mm，由于防尘薄膜组件框架11的内周长为502.84mm，掩模粘着层12的沿着防尘薄膜组件框架11的内侧的长度的总和，约为防尘薄膜组件框架11的内周的63.6％。再者，对该完成的防尘薄膜组件10的掩模粘着层12和弹性体层13的平面度进行了确认，得知为20μm。

然后，准备在本实施例2中也用来进行防尘薄膜组件10的评价用的150x150x厚度6mm，平面度0.28μm的石英玻璃制光掩模，与上述实施例1同样，将防尘薄膜组件10贴附后，从光掩模的里面对掩模粘着层12和弹性体层13的接着状态进行目视确认，得知为在膜组件框架11的全周上都以充分的宽度接着(密着)的良好的接着状态。

再者，对掩模粘着层12和弹性体层13的8处接缝也进行目视确认，可以得知处于良好的接着状态。进一步，对光掩模的平面度也进行了确认，防尘薄膜组件10的贴附前的光掩模单独时的平面度0.29μm，接着后的值为0.31μm，平面度的变化量也小。

比较例

在比较例中，使用与上述实施例1以及实施例2同规格的防尘薄膜组件框架11，用同样的工序制作防尘薄膜组件10，在该比较例的防尘薄膜组件10中，在防尘薄膜组件框架11的全周上形成掩模粘着层12，没有述实施例1以及实施例2的场合的弹性体层13。在本比较例中，仅在全周上连续地形成掩模粘着层12，所以与实施例1以及实施例2比较，在弹性体层13没有设置这一点上差异大。然后，对该比较例制成的掩模粘着层12的平面度进行测定，得知其值为上述实施例1以及2实施例相同，为20μm。

然后，与上述实施例1以及实施例2同样，将防尘薄膜组件10贴附于光掩模，从光掩模的里面对掩模粘着层12的接着状态进行目视确认，得知虽然在防尘薄膜组件框架11的全周上确保均一的接着宽度，具有良好的接着状态，但是，在对具有该防尘薄膜组件10的光掩模基板上的平面度进行确认，得知在比较例中，光掩模单独时的值为0.3μm，而防尘薄膜组件10贴附后的值为0.36μm。另外，此时，使用的石英玻璃制光掩模，与上述实施例1以及实施例2相同，为150x150x厚度6mm，平面度为0.3μm。

因此，在比较例中，其平坦度与上述实施例1以及实施例2的值0.31μm相比，具有大的变化。

符号的说明

10 防尘薄膜组件

11 防尘薄膜组件框架

12 掩模粘着层

13 弹性体层

14 防尘膜接着层

15 防尘膜

16 夹具孔

17 通气孔

18 过滤器

Claims (10)

1.一种防尘薄膜组件，由长边和短边形成的矩形的防尘薄膜组件框架构成，其特征在于，在所述防尘薄膜组件框架上掩模粘着层至少在2处形成的同时，各掩模粘着层之间的领域无间隙地形成由非粘着性的树脂构成的弹性体层。

2.根据权利要求1的防尘薄膜组件，其特征在于，所述掩模粘着层在所述长边和所述短边的任一方或者两方的各边的至少1处上形成。

3.根据权利要求1或者2上所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述掩模粘着层的形成部位含有防尘薄膜组件框架的角部。

4.根据权利要求1或者2上所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述掩模粘着层，仅在所述防尘薄膜组件框架的直线部分形成。

5.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述掩模粘着层，其沿着防尘薄膜组件框架内侧的长度的总和为所述防尘薄膜组件框架的内周长的10％至70％的范围。

6.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述掩模粘着层，其各个表面被加工为平面度30μm以下。

7.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述掩模粘着层，各个的厚度为最大值和最低值的差为0.1mm以下。

8.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述弹性体层，在将其表面加工为平面度30μm以下的同时，与所述掩模粘着层的表面为同一平面。

9.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述弹性体层，所述弹性体层，其硬度为硬度计硬度A50以下。

10.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述弹性体层，其材质从由SBS树脂，SEBS树脂，SEPS树脂，氟系树脂，有机硅树脂以及氟改性有机硅树脂构成的群中选择。