JP2016122099A - ペリクル - Google Patents

Abstract

【課題】
本発明の目的は、貼付後のフォトマスクの形状に与える影響が極めて小さく、フォトマスクの歪を大幅に抑制することができるペリクルを提供することである。
【解決手段】
本発明は、長辺と短辺からなる矩形のペリクルフレーム１１から構成されるペリクル１０であって、そのペリクルフレーム１１にマスク粘着層１２が少なくとも２か所に形成されているとともに、そのマスク粘着層１２の間の領域には非粘着性の樹脂からなる弾性体層１３が隙間なく形成されていることを特徴とする。
そして、本発明のマスク粘着層１２は、ペリクルフレーム１１の角部を含んで形成されていることが好ましいが、ペリクルフレームの直線部だけに形成されていてもよい。また、このマスク粘着層は、そのペリクルフレーム内側に沿った長さの総和がペリクルフレーム１１の内周長の１０〜７０％の範囲であることが好ましい。
【選択図】図１

Description

本発明は、半導体デバイス、ＩＣパッケージ、プリント基板、液晶ディスプレイあるいは有機ＥＬディスプレイ等を製造する際のゴミよけとして使用されるペリクルに関するものである。

ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体或は液晶ディスプレイ等の製造においては、半導体ウエハあるいは液晶用ガラス板に紫外光を照射してパターンを作製するが、この時に用いるフォトマスクにゴミが付着していると、このゴミが紫外光を遮ったり、反射するために、転写したパターンの変形、短絡などが発生し、品質が損なわれるという問題があった。

このため、これらの作業は、通常クリーンルームで行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことが難しい。そこで、フォトマスク表面にゴミよけとしてペリクルを貼り付けした後に露光を行っている。この場合、異物はフォトマスクの表面には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。

一般に、ペリクルは、光を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロースあるいはフッ素樹脂などからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、ステンレス鋼、エンジニアリングプラスチックなどからなるペリクルフレームの枠状を成す一面に接着して構成される。また、ペリクルフレームのもう一面にはフォトマスクに装着するためのポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなる粘着層及び粘着層の保護を目的とした離型層（セパレータ）が設けられる。

近年、露光パターンの微細化に伴って、ペリクルを貼り付けることによるフォトマスクの歪みが問題視されるようになってきた。フォトマスクとペリクルフレームがマスク粘着材を介して締結されることにより、ペリクルフレームの形状がフォトマスクの形状に影響を与え、フォトマスク表面に描画されていたパターンが本来のものから変形してしまうために、装着後のフォトマスク形状に与える影響が極めて小さいペリクルが要望されている。

この解決策として、例えば、マスク粘着材を柔らかくしたり、ペリクルフレームの平面度を向上させたりといった提案がなされてきた。これらの提案では、ペリクルフレームのフォトマスク形状に与える影響を低減することができるが、必ずしも十分ではない。何故なら、ペリクルフレームおよびフォトマスクの平面度は、ともに完全ではないために、それらの組み合わせ次第でその影響が大きくも小さくもなりうるからである。

そこで、本質的にはペリクルフレームの剛性をできるだけ小さくして、フォトマスクの形状に追随させることが良いために、例えば、樹脂などの剛性の低い材質を使用したり、またはペリクルフレームの高さを本来よりも低くしたり、断面形状を工夫して、例えば、断面積を減らして剛性を低下させるなどの方法が提案されている（特許文献１、２および３参照）。

特開２０１１−７９３３ 特開２０１１−７９３４ 特開２０１１−７９３５

しかしながら、ペリクル膜の張り具合を維持するとともに、製造から貼り付けまでの作業中に変形やペリクル膜のシワなどの不具合を生じさせないためには、ペリクルフレームの剛性は高いほど好ましいので、剛性を過大に低下させることは、製造や取り扱いに支障を来たすという問題が生じる。そのため、この対策では、実際にはペリクルフレームの剛性をさほど低下させることができないという問題がある。

また、ペリクルフレームの高さを低くすることは、フォトマスク形状への追従性を向上させる上で有効な手段であるが、この場合には、ペリクル膜とフォトマスクのパターン面との距離が近くなるために、本来のデフォーカス性能が得られないという問題がある。さらに、断面積を減らして剛性を低下させるために、ペリクルフレームの内面に窪みなどを設けると、そこが異物の発生源となる可能性がある。

したがって、現在、特に求められているのは、適度なフレーム剛性を維持して製造や使用上の不具合が無く、できるだけ高いスタンドオフを維持しつつも、貼付後のフォトマスクの形状に与える影響が極めて小さいペリクルである。

そこで、本発明は、上記のような事情に鑑みなされたものであり、その目的は、フォトマスクの形状に与える影響が極めて小さく、フォトマスクの歪を抑制することができるペリクルを提供することである。

本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討を重ねたところ、マスク粘着層をペリクルフレームの枠を成す面の全面に連続的に配置すると、粘着層を介してフォトマスクに作用する締結力が強すぎるために、貼付け後のフォトマスクが大きく歪むことが判明した。そこで、さらに検討を進めたところ、ペリクルフレームにマスク粘着層を部分的に形成するとともに、そのマスク粘着層の間の領域に非粘着性の弾性体層を隙間なく形成すれば、マスク粘着層を全周に渡って連続的に形成する従来の場合と比べて、フォトマスクに作用する締結力が緩和されるために、フォトマスクの形状に与える影響を極めて小さく抑えることができることを知見し、本発明に至ったものである。

すなわち、本発明のペリクルは、長辺と短辺からなる矩形のペリクルフレームから構成されるものであって、そのペリクルフレームにマスク粘着層が少なくとも２か所に形成されているとともに、そのマスク粘着層の間の領域には非粘着性の樹脂からなる弾性体層が隙間なく形成されていることを特徴とする。そして、このマスク粘着層は、長辺と短辺の何れか一方または両方の各辺の少なくとも１箇所に形成されていることが好ましい。

また、本発明のマスク粘着層は、ペリクルフレームの角部を含んで形成されていることが好ましく、ペリクルフレームの直線部だけに形成されていてもよい。そして、このマスク粘着層は、そのペリクルフレーム内側に沿った長さの総和がペリクルフレームの内周長の１０〜７０％の範囲であることが好ましい。

さらに、本発明のマスク粘着層は、其々の表面が平面度３０μｍ以下の平面に加工されていることが好ましく、其々の厚さも、最大値と最低値の差が０．１ｍｍ以下であることが好ましい。

一方、本発明の弾性体層は、その表面が平面度３０μｍ以下の平面に加工されているとともに、マスク粘着層の表面と面一であることが好ましく、その硬度は、デュロメータ硬度Ａ５０以下であり、その材質は、ＳＢＳ樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂およびフッ素変性シリコーン樹脂からなる群より選択されることが好ましい。

本発明によれば、少なくとも２か所に形成したマスク粘着層の間の領域に非粘着性の樹脂からなる弾性体層が形成されているために、マスク粘着層がペリクルフレームの全周に連続的に形成されている従来の場合と比べて、ペリクルフレームとフォトマスクとの締結状態が緩く、ペリクルフレームがフォトマスクの形状へ与える影響を低減させることができる。そのために、ペリクルの装着後のフォトマスクの歪を大幅に抑制することができるという効果を奏する。

本発明のペリクルの一実施形態を示す斜視図である。 本発明のペリクルの一実施形態を示す平面図である。

以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。

本発明のペリクルは、フォトマスクの歪が特に問題となる半導体の製造のための用途に適用した際に特に効果は大きいが、その用途に限定されるものではない。例えば、一辺が１５０ｍｍ前後の半導体の製造のための用途のみならず、一辺２００〜３００ｍｍのプリント基板の製造のための用途および一辺が５００〜２０００ｍｍ近い液晶、有機ＥＬディスプレイの製造のための用途まで、ペリクル貼付けによるフォトマスクの変形が問題となるような全てのペリクルに適用することが可能である。

図１は、本発明のペリクル１０の一実施形態を示す斜視図であり、ペリクル１０のマスク粘着層１２側から見たものである。通常、マスク粘着層１２の表面には、保護のためのセパレータが取り付けられるが、図１では、セパレータの図示が省略されている。

図１の態様例は、矩形のペリクルフレーム１１の枠を成す長辺および短辺の境界である角部の４箇所にマスク粘着層１２を形成し、各マスク粘着層１２との間の領域には弾性体層１３を隙間なく形成したものである。

また、このマスク粘着層１２を形成する実施形態としては、図１の実施形態例の外にも様々な形態が可能であり、マスク粘着層１２をペリクルフレーム１１の長辺と短辺の何れか一方または両方に形成することもできる。

例えば、図２は、それら他の形態例を示すものである。図２（ａ）は、マスク粘着層１２を少なくとも２か所に、すなわち長辺の一方の辺とその対辺にそれぞれ形成した形態例であり、図２（ｂ）は、同様に、短辺の一方の辺とその対辺にそれぞれ形成した形態例である。そして、マスク粘着層１２の間の領域には、非粘着性の弾性体層１３が隙間なく形成されている。

また、図２（ｃ）は、長辺と短辺の両方の中央付近にそれぞれマスク粘着層１２を形成した形態例であり、４か所のマスク粘着層１２の間の領域には、それぞれ非粘着性の弾性体層１３が隙間なく形成されている。さらに、図２（ｄ）は、長辺と短辺の両方の中央付近と４か所の角部にマスク粘着層１２をそれぞれ形成した形態例であり、この８か所のマスク粘着層１２の間の領域には、非粘着性の弾性体層１３が隙間なく形成されている。

長辺および／または短辺の面上にマスク粘着層１２を形成する場合は、マスク粘着層１２を介してフォトマスクに対して作用する締結力がバランス良く影響することが好ましいので、長辺および／または短辺のマスク粘着層１２は、対辺においても対称な位置に形成されていることが好ましい。

また、マスク粘着層１２は、図１および図２（ｄ）の実施形態例では、ペリクルフレーム１１の角部を含むように形成されているから、フォトマスクに与える影響を低減させることができるとともに、マスク粘着層１２の剥離またはペリクル１０の脱落の起点となりやすい角部が接着されているために信頼性が高いという利点がある。特に、露光機での水平設置中にフォトマスクの撓み量が大きい大型のフォトマスクやペリクルの場合においては、これら図１および図２（ｄ）の実施形態例のように、マスク粘着層１２が少なくとも角部を含むように形成されているとより効果的である。

また、辺長が５００ｍｍを超えるような大型のペリクルの場合においては、ペリクルフレーム１１自身の自重による撓みが大きくなるため、図２（ｄ）のように、辺の内部にもマスク粘着層１２を形成し、自重撓みにより弾性体層１３とフォトマスクの間に間隙ができないよう配慮することが好ましい。図２（ｄ）の実施形態例では、各辺の内部の中央付近と角部にそれぞれマスク粘着層１２を形成している。

マスク粘着層１２の形成箇所の数や形成位置は、特にこれに限定されたものではなく、必要に応じて適宜設定すればよい。もっとも、マスク粘着層１２を介した締結力をバランスよく（片寄りなく）フォトマスクに作用させるために、ペリクルフレーム１１の長辺または短辺の少なくとも２か所に形成することが好ましい。また、長辺または短辺のマスク粘着層１２は、図２に示すように、対辺においても対称な位置に形成されていることがより好ましい。

一方、図２（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の実施形態は、マスク粘着層１２がペリクルフレーム１１の角部を含まない直線部にだけ形成されている例である。大型のフォトマスクまたはペリクルの場合は、フォトマスクの自重撓みによりペリクルフレーム１１の角が剥離しやすくなるために、このような形態例は採用しにくいが、半導体の用途など辺長が２００ｍｍ以下の小型のフォトマスクの場合は、フォトマスクの自重撓みの問題が少ないので適用することができる。

図２（ａ）や図２（ｂ）の実施形態例では、長辺と短辺の何れか一方の各辺にマスク粘着層１２を１か所だけ形成し、ペリクルフレーム１１全体でも２か所と少なく、マスク粘着層１２と弾性体層１３の継ぎ目も少ないために、その製造が容易であり平面度も高くしやすいという利点がある。

また、図２（ｃ）の実施形態例では、長辺と短辺の両方にマスク粘着層１２を１か所だけ形成し、ペリクルフレーム１１全体で４か所に形成しているから、マスク粘着層１２の面積を多くすることが必要な場合に適している。

このマスク粘着層１２の形成に要する領域としては、ペリクルフレーム１１の自重を長期間安定して支持するだけの面積が必要であるから、マスク粘着層１２に使用する粘着剤の粘着力との兼ね合いで決定すればよい。すなわち、マスク粘着剤の粘着力が大きければ少ない面積で済むが、粘着力が小さければ大きな面積が必要となる。

もっとも、上述した実施形態例の何れの場合においても、ペリクルフレーム１１の内側に沿ったマスク粘着層１２の長さの総和は、ペリクルフレーム１１の内周長（角部の湾曲部を含む）の１０〜７０％の範囲内とすることが好ましい。

マスク粘着層１２の長さの総和が１０％を下回るような場合は、フォトマスクからの剥離等の恐れがあり、信頼性に懸念が生じるからであり、また、７０％を超えるとフォトマスクとペリクルフレーム１１との締結力が強まり、所望の効果が得られないからである。

このマスク粘着剤１２の材質としては、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、アクリル系粘着剤、ＳＥＢＳ粘着剤、ＳＥＰＳ粘着剤、シリコーン粘着剤などの公知のものを使用することができる。

また、フォトマスクの貼付け後の安定性確保とフォトマスクへ与えるペリクル１０の影響をさらに低減させるために、マスク粘着層１２の其々の表面は、平面度が３０μｍ以下の平面に加工されていることが好ましく、その高さまたは厚さは、其々の箇所の最大値と最低値の差が０．１ｍｍ以下であることが好ましい。

一方、弾性体層１３は、各マスク粘着層１２の間の領域に隙間なく形成されている。そして、この弾性体層１３は、粘着力を有していないためにこの弾性体層１３とマスク粘着層１２との継ぎ目に凹凸があると、ペリクル内外を通気してしまうことになるため、例えば隙間のようなわずかな平面の乱れもないように形成されていることが好ましい。

また、弾性体層１３の表面も、マスク粘着層１２と同様に、その平面度が３０μｍ以下の平面に加工されているとともに、その表面は、マスク粘着層１２の表面と同じ高さをなして、一つの平面を形成していることが好ましい。この弾性体層１３の硬度は、デュロメータ硬度Ａ５０以下であることが好ましく、貼り付け後の反発力が小さくなることからフォトマスクへ与える影響が小さくなり、また、フォトマスクへの密着性が向上して信頼性が向上するからである。

この弾性体層１３の材質としては、ＳＢＳ樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂およびフッ素変性シリコーン樹脂からなる群より選択されることがよい。ＳＢＳ樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂などの熱可塑性樹脂は加工性が良く、他の粘着剤と組み合わせがしやすいという利点がある。

また、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂およびフッ素変性シリコーン樹脂は、極めて耐光性に優れるという利点がある。シリコーン樹脂またはフッ素変性シリコーン樹脂を選択した場合には、特に硬度の低い材料として、例えば、針入度で５０以上となるようなゲルを選択することができ、フォトマスクへ与える影響を低減させることもできる。

そして、マスク粘着層１２や弾性体層１３の材質の選択にあたっては、マスク粘着剤がペリクルフレーム１１の重量に対して十分な接着力を有していることはもちろんであるが、マスク粘着層１２や弾性体層１３を形成する際に組み合わせて使用しやすいものを選択することが好ましい。

次に、マスク粘着層１２や弾性体層１３の形成手順については、使用するそれぞれの材質に応じて最適なものを選択すればよい。例えば、マスク粘着層１２としてアクリル系粘着剤を、また弾性体層１３としてＳＥＰＳ樹脂を其々選択した場合では、始めにマスク粘着層１２としてペリクルフレーム１１の一部にアクリル系粘着剤を塗布し、平坦化処理を行うとともに溶媒を乾燥させて硬化処理を行う。次に、ペリクルフレーム１１の残部に弾性体層１３としてＳＥＰＳ樹脂を加熱塗布し、そして、加熱しながら平坦化処理を行えば、先に平坦化したマスク粘着層１２と弾性体層１３を面一に形成することができる。

また、別の例として、マスク粘着層１２にシリコーン粘着剤を、また弾性体層１３にフッ素変性シリコーン樹脂を其々選択した場合では、始めにマスク粘着層１２としてペリクルフレーム１１の一部にシリコーン粘着剤を塗布し、流動しない程度に溶媒を乾燥させる。次いで、ペリクルフレーム１１の残部に弾性体層１３としてフッ素変性シリコーン樹脂を塗布し、両方を合わせて平坦化処理を行う。その後、加熱して溶媒を完全除去するとともに、硬化させてマスク粘着層１２と弾性体層１３を同時に形成することができる。

ペリクルフレーム１１の材質としては、アルミニウム合金、鉄鋼、ステンレス鋼、黄銅などの金属、ＰＥ、ＰＡ、ＰＥＥＫなどのエンジニアリングプラスチック、ＧＦＲＰ，ＣＦＲＰなどの繊維複合材料など公知のものを用いることができる。また、その表面は黒色となるよう処理されるとともに、必要に応じて発塵防止のための塗装などの表面処理が施されていることが好ましい。例えば、アルミニウム合金を使用した場合には、アルマイト処理や化成処理などの表面処理を施すことが好ましく、鉄鋼、ステンレス鋼などの場合は黒色クロムメッキ等の表面処理を施すことが好ましい。

図１の実施形態例では、ペリクルフレーム１１の断面形状は、一般的な矩形形状となっているが、剛性を低下させてフォトマスクへの影響を低減させるために、ペリクルフレーム１１の側面に面取りや掘り込みを施して断面積を減じるなどの工夫を組み合わせることもよい。

マスク粘着層１２の表面は、通常は保護のために厚さ５０〜３００μｍ程度のＰＥＴ製フィルムなどの表面に剥離性を付与したセパレータ（図示しない）を取り付けるが、ペリクルのケースまたはペリクルの支持手段等の工夫によりこれを省略することが好ましい。

ペリクルフレーム１１の内面には、浮遊異物の捕捉や固定のため、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤などの粘着性物質を塗布することも好ましい（図示しない）。また、ペリクルフレーム１１の内面のみ、またはその全面に、発塵防止を目的として、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂などの非粘着性樹脂の被膜を形成することも好ましい（図示しない）。これら粘着性樹脂、非粘着性樹脂の被膜の形成は、スプレー、ディッピング、紛体塗装、電着塗装などの公知の方法によって施工することができる。

また、ペリクルフレーム１１の外面には、ハンドリングなどの用途のために、複数個所の治具孔１６や溝など（図示しない）を複数設けてもよく、また、型番、製造番号やバーコードなどの表示を機械刻印またはレーザマーキングにより施すことも好ましい（図示しない）。

さらに、ペリクル１０の貼り付け後の内部の気圧調整のために、通気孔１７を設けて、その外側に異物の侵入を防止するためにＰＴＦＥなどの多孔質薄膜からなるフィルタ１８を取り付けてもよい。この際のフィルタ１８の取り付けは、適切な材質の粘着層などを設けてペリクルフレーム１１の外面に直接貼り付けるなどしてもよい。そして、これら通気孔１７やフィルタ１８の配置位置や個数、その形状は、要求される通気性やハンドリングの都合などを考慮して決定することができる。

ペリクル膜１５は、使用する露光光源に応じて、セルロース系樹脂、フッ素系樹脂などの材料から最適なものを選択し、透過率、機械的強度などの観点から０．１〜１０μｍ程度の範囲から最適な膜厚を選択して製作するとともに、必要に応じて、反射防止層を付与してもよい。そして、このペリクル膜１５の接着層１４は、アクリル系接着剤、フッ素系接着剤、シリコーン系接着剤などの公知の接着剤を用いて形成することができる。

本発明では、マスク粘着層１２は、ペリクルフレーム１１に少なくとも２か所に形成されているとともに、その少なくとも２か所のマスク粘着層１２との間の領域には非粘着性の樹脂からなる弾性体層が隙間なく形成されているために、マスク粘着層１２を介したフォトマスクとの締結力は、ペリクルフレーム１１の全周に連続的にマスク粘着層１２が形成されている従来の場合よりも緩和されている。したがって、ペリクルフレーム１１の形状がフォトマスクへ与える影響を低減させることができるので、ペリクル１０の装着後のフォトマスクの歪を大幅に抑制することができる。

また、各マスク粘着層１２との間のマスク粘着層１２が形成されていない領域には、粘着性が無く柔軟性を有する弾性体層１３がマスク粘着層１２と面一で形成されており、しかも、この弾性体層１３は、フォトマスク表面に密着してフォトマスク内を密閉する機能を有しているため、ペリクルフレーム１１がフォトマスク形状へ与える影響を低減させるとともに、ペリクル１０内への異物の侵入を防止する機能をも有している。

また、本発明によれば、フォトマスクへの追従性を高めるためにペリクルフレーム１１自体の高さを低くするとか、またはその剛性を小さくするとかの必要性が少ないために、異物のデフォーカス性能を高く維持することもできる。

<実施例１>
以下、本発明の実施例について具体的に説明するが、実施例１では、先ず、図１に示す斜視図のペリクル１０を製作したので、その製作手順について説明する。

ペリクルフレーム１１は、Ａ５０５２アルミニウム合金を機械切削により加工したもので、外寸１４９ｘ１１３ｍｍ、内寸１４５ｘ１０９ｍｍ、角部の内側Ｒ３ｍｍ、角部の外側Ｒ５ｍｍ、高さ４．７ｍｍとした。

また、ペリクルフレーム１１の長辺の中央部には、直径０．５ｍｍの通気孔１７と、各辺の角部付近にハンドリング用として非貫通の直径１．６ｍｍ、深さ１．２ｍｍの治具孔１６を設けた。そして、稜部にはＣ０．２ｍｍ程度の面取り（図示しない）を施し、その表面には、全面をＲａ０．６程度にサンドブラストした後に黒色アルマイト処理を施した。

次いで、このような処理を施したペリクルフレーム１１を界面活性剤と純水で良く洗浄し、乾燥した。その後に、図１の態様例のように、ペリクルフレーム１１の長辺および短辺を含む角部の４か所に、マスク粘着剤１２としてシリコーン粘着剤（商品名；ＫＲ３７００、信越化学工業（株）製）を３軸直交ロボット上に搭載したエア加圧式ディスペンサを用いて塗布した。

このときに、このマスク粘着層１２は、長辺と短辺とも角部から２０ｍｍの範囲に渡って塗布されており、そのペリクルフレーム１１の内側に沿った長さの総和は、１５４．８４ｍｍである。一方、ペリクルフレーム１１の内周長さは、５０２．８４ｍｍであるので、マスク粘着層１２のペリクルフレーム１１の内側に沿った長さの総和は、ペリクルフレーム１１の内周長に対して約３０．８％である。

次いで、塗布したマスク粘着層１２は、そのまま１．５ｈの風乾を行い、溶媒を自然乾燥させた。また、ペリクルフレーム１１の同じ面上でマスク粘着層１２が設けられていない領域においては、弾性体層１３としてフッ素変性シリコーン樹脂（商品名；ＳＩＦＥＬ、信越化学工業（株）製）をエア加圧式ディスペンサを用いて塗布した。

このマスク粘着層１２と弾性体層１３を一緒に離型剤を塗布した厚さ１２５μｍのＰＥＴ製シートを介して、平面度が５μｍのステンレス製平板に押し付けて平坦化処理を行った後に、そのまま１１０℃に加熱してマスク粘着層１２と弾性体層１３を半硬化させた。その後、マスク粘着層１２と弾性体層１３から平坦化処理で用いたセパレータを剥離除去するとともに、１５０℃に加熱して完全に硬化させて、仕上がったマスク粘着層１２と弾性体層１３の平面度を測定したところ、平面度は２０μｍであった。

次いで、マスク粘着層１２と弾性体層１３を設けたペリクルフレーム１１の面の反対の面上に、ペリクル膜接着層としてフッ素系樹脂（商品名；サイトップ、旭硝子（株）製）を３軸直交ロボット上に搭載したエア加圧式ディスペンサによって塗布し、溶媒を乾燥させてペリクル膜接着層１４を形成した。また、長辺中央の通気孔１７を覆うように、ＰＴＦＥ多孔質膜からなるフィルタ１８をアクリル粘着シートで接着した。

この実施例１では、ペリクル膜材料として、フッ素系樹脂（商品名；サイトップ、旭硝子（株）製）を成膜基板（３００ｍｍシリコンウェハ）上にスピンコート法にて成膜し、溶媒を乾燥させた後に、基板外形と同寸の仮枠を接着して成膜基板から剥離し、厚さ０．２８μｍの剥離膜を得た。この剥離膜をペリクルフレーム１１上のペリクル膜接着層１４に加熱接着してペリクル膜１５とし、ペリクルフレーム１１の外側の余剰膜をカッターで切断除去してペリクル１０を完成させた。

なお、この実施例１では、マスク粘着層１２の表面保護のためのセパレータを省略しているが、必要に応じて設けてもよい。その場合は、厚さ１００〜２００μｍ程度のＰＥＴフィルムなどの表面に粘着層材質に応じた離型剤を塗布し、所望の形状に切断加工したものを使用することができる。

最後に、このペリクル１０の評価として、１５０ｘ１５０ｘ厚さ６ｍｍ、平面度０．３μｍの石英ガラス製フォトマスクを用意し、ペリクル１０を貼り付けた。このときのペリクル１０の貼付けの加圧力は、５ｋｇｆであり、加圧時間は３ｍｉｎとした。

そして、フォトマスクとペリクル１０との接着後に、フォトマスクの裏面からマスク粘着層１２と弾性体層１３の接着状態を目視確認したところ、ペリクルフレーム１１の全周に渡って、フォトマスクとペリクル１０とが十分な幅で接着（密着）した良好な接着状態であった。

また、マスク粘着層１２と弾性体層１３の８か所の継ぎ目についても目視確認したところ、接着幅に若干のうねりがみられたものの、エア溜りや幅の細りなどのペリクル内外の通気につながるような危険な兆候は見られなかった。さらに、このペリクル付きフォトマスク基板について、その平面度を確認したところ、ペリクル貼付け前のフォトマスク単体での値が０．３μｍであったのに対して、接着後の値が０．３１μｍであったので、平面度も非常に小さな変化量に収まっていることが確認された。

<実施例２>
実施例２では、上記実施例１と同様に製作した同仕様のペリクルフレーム１１を用いて、同様の工程にてペリクル１０を製作した。そして、実施例２では、実施例１と異なる図２（ｃ）に示す態様例のように、マスク粘着層１２をペリクルフレーム１１の各長辺の中央部に１００ｍｍに渡って、また、各短辺の中央部にも６０ｍｍに渡ってそれぞれ形成し、ペリクルフレーム全体で４か所に形成するとともに、各マスク粘着層１２の間の角部を含む残部の４か所には弾性体層１３を形成した。

そして、この実施例２では、マスク粘着層１２のペリクルフレーム１１の内側に沿った長さは３２０ｍｍであり、ペリクルフレーム１１の内周長は５０２．８４ｍｍであるので、マスク粘着層１２のペリクルフレーム１１の内側に沿った長さの総和は、ペリクルフレーム１１の内周長に対して約６３．６％である。また、この完成したペリクル１０のマスク粘着層１２と弾性体層１３の平面度を確認したところ、２０μｍであった。

そして、この実施例２でも、このペリクル１０の評価として、１５０ｘ１５０ｘ厚さ６ｍｍ、平面度０．２８μｍの石英ガラス製フォトマスクを用意し、上記実施例１と同様にしてペリクル１０を貼り付けた後に、フォトマスクの裏面からマスク粘着層１２と弾性体層１３の接着状態を目視確認したところ、ペリクルフレーム１１の全周に渡って十分な幅で接着（密着）した良好な接着状態であった。

また、マスク粘着層１２と弾性体層１３の８か所の継ぎ目についても目視確認したところ、良好な接着状態が維持されていた。さらに、フォトマスクの平面度についても確認したところ、ペリクル１０の貼付前のフォトマスク単体での平面度０．２９μｍであったのに対して、接着後の値が０．３１μｍであったので、平面度も小さな変化量に収まっていることが確認された。

比較例

比較例では、上記実施例１および実施例２と同仕様のペリクルフレーム１１を用い、同様の工程にてペリクル１０を製作したが、この比較例のペリクル１０では、ペリクルフレーム１１の全周に渡ってマスク粘着層１２を形成して、上記実施例１および実施例２の場合の弾性体層１３は設けなかった。この比較例では、マスク粘着層１２が全周に渡って連続的に形成されているだけであるから、実施例１および実施例２とは、弾性体層１３が設けられていない点で大きく異なっている。そして、この比較例の完成したマスク粘着層１２の平面度を測定したところ、その値は、上記実施例１および２実施例と同じく２０μｍであった。

次いで、上記実施例１および実施例２と同様に、ペリクル１０をフォトマスクへ貼り付けて、フォトマスクの裏面からマスク粘着層１２の接着状態を目視確認したところ、ペリクルフレーム１１の全周に渡って均一な接着幅が確保されて良好な接着状態であったが、このペリクル１０付きのフォトマスク基板について、その平面度を確認したところ、比較例では、フォトマスク単体での値が０．３μｍに対して、ペリクル１０の貼付後の値が０．３６μｍであった。なお、このときに用いた石英ガラス製フォトマスクは、上記実施例１および実施例２と同等のもので、１５０ｘ１５０ｘ厚さ６ｍｍで、平面度０．３μｍのものとした。

したがって、比較例では、その平坦度が上記実施例１および実施例２の値の０．３１μｍと比べて、大きく変化していることが確認された。

１０ ペリクル
１１ ペリクルフレーム
１２ マスク粘着層
１３ 弾性体層
１４ ペリクル膜接着層
１５ ペリクル膜
１６ 治具孔
１７ 通気孔
１８ フィルタ

Claims (10)

1. 長辺と短辺からなる矩形のペリクルフレームから構成されるペリクルであって、該ペリクルフレームにマスク粘着層が少なくとも２か所に形成されているとともに、各マスク粘着層の間の領域には非粘着性の樹脂からなる弾性体層が隙間なく形成されていることを特徴とするペリクル。
2. 前記マスク粘着層は、前記長辺と前記短辺の何れか一方または両方の各辺の少なくとも１箇所に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のペリクル。
3. 前記マスク粘着層は、前記ペリクルフレームの角部を含んで形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のペリクル。
4. 前記マスク粘着層は、前記ペリクルフレームの直線部だけに形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のペリクル。
5. 前記マスク粘着層は、そのペリクルフレーム内側に沿った長さの総和が前記ペリクルフレームの内周長の１０〜７０％の範囲であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のペリクル。
6. 前記マスク粘着層は、其々の表面が平面度３０μｍ以下の平面に加工されていることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載のペリクル。
7. 前記マスク粘着層は、其々の厚さが最大値と最低値の差が０．１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載のペリクル。
8. 前記弾性体層は、その表面が平面度３０μｍ以下の平面に加工されているとともに、前記マスク粘着層の表面と面一であることを特徴とする請求項１〜７の何れかに記載のペリクル。
9. 前記弾性体層は、その硬度がデュロメータ硬度Ａ５０以下であることを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載のペリクル。
10. 前記弾性体層は、その材質がＳＢＳ樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂およびフッ素変性シリコーン樹脂からなる群より選択されることを特徴とする請求項１〜９の何れかに記載のペリクル。
    
    

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